JP4563990B2 - 分布解析方法および装置、異常設備推定方法および装置、上記分布解析方法または異常設備推定方法をコンピュータに実行させるためのプログラム、並びに上記プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - Google Patents
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Description
平面に沿って分布した特性値をもつ解析対象データが特定の分布形状パターンに類似しているかどうかを評価する分布解析方法であって、
上記分布形状パターンを、上記解析対象データを定めた平面に対応する平面を格子状に複数の矩形領域に区画するとともに、上記各矩形領域毎に、或る数値範囲内で多値を取り得る濃度値を付与して定義し、
所定の分布形状パターン調整用特性データ群の特性値を用いて、その特性データ群の特性値の大きさが上記評価に反映されるように上記分布形状パターンの濃度値を調整し、
上記濃度値の調整は、
上記解析対象データがなす解析対象データ群から、上記特性値の分布が上記分布形状パターンの濃度値の分布と類似しているようなデータを上記分布形状パターン調整用特性データ群として抽出する第1ステップと、
上記第1ステップで得られた上記分布形状パターン調整用特性データ群の特性値の分布の統計量と上記分布形状パターンの濃度値の分布の統計量とを用いて、上記分布形状パターンの濃度値を調整する第2ステップを備え、この第2ステップにおける上記分布形状パターン調整用特性データ群の特性値の分布の統計量は、その特性データ群をなす特性値の各解析対象データ毎の平均値の標準偏差であり、上記分布形状パターンの濃度値の分布の統計量は、上記分布形状パターンの濃度値の標準偏差であり、
上記解析対象データと上記調整後の分布形状パターンとを比較して、上記解析対象データの特性値の分布と上記調整後の分布形状パターンの濃度値の分布との定量的な類似度を求めることを特徴とする。
平面に沿って分布した特性値をもつ解析対象データが特定の分布形状パターンに類似しているかどうかを評価する分布解析方法であって、
上記分布形状パターンを、上記解析対象データを定めた平面に対応する平面を格子状に複数の矩形領域に区画するとともに、上記各矩形領域毎に、或る数値範囲内で多値を取り得る濃度値を付与して定義し、
所定の分布形状パターン調整用特性データ群の特性値を用いて、その特性データ群の特性値の大きさが上記評価に反映されるように上記分布形状パターンの濃度値を調整し、
上記濃度値の調整は、
上記解析対象データがなす解析対象データ群から、上記特性値の分布が上記分布形状パターンの濃度値の分布と類似しているようなデータを上記分布形状パターン調整用特性データ群として抽出する第1ステップと、
上記第1ステップで得られた上記分布形状パターン調整用特性データ群の特性値の分布の統計量と上記分布形状パターンの濃度値の分布の統計量とを用いて、上記分布形状パターンの濃度値を調整する第2ステップを備え、この第2ステップにおける上記分布形状パターン調整用特性データ群の特性値の分布の統計量は、その特性データ群をなす特性値の各解析対象データ毎の平均値であり、上記分布形状パターンの濃度値の分布の統計量は、上記分布形状パターンの濃度値の標準偏差であり、
上記解析対象データと上記調整後の分布形状パターンとを比較して、上記解析対象データの特性値の分布と上記調整後の分布形状パターンの濃度値の分布との定量的な類似度を求めることを特徴とする。
上記類似度を求めるために、
上記解析対象データの特性値の相対的な大小関係が上記分布形状パターンの濃度値の相対的な大小関係と類似しているかどうかを判定する第3ステップと、
上記第3ステップによる判定結果を用いて上記類似度を評価する第4ステップを備えることを特徴とする。
基板に対して順次実行される複数の製造工程でそれぞれ用いられる製造装置の中から、異常が発生した製造装置を推定する異常設備推定方法であって、
上記分布解析方法を実施して上記類似度を求め、
上記各基板を上記各製造工程で処理した製造装置を表す処理履歴に基づいて、上記類似度が予め定めた閾値以上であるような基板に共通して用いられた製造装置を抽出することを特徴とする。
平面に沿って分布した特性値をもつ解析対象データが特定の分布形状パターンに類似しているかどうかを評価する分布解析装置であって、
上記分布形状パターンを、上記解析対象データを定めた平面に対応する平面を格子状に複数の矩形領域に区画するとともに、上記各矩形領域毎に、或る数値範囲内で多値を取り得る濃度値を付与して定義するパターン登録部と、
所定の分布形状パターン調整用特性データ群の特性値を用いて、その特性データ群の特性値の大きさが上記評価に反映されるように上記分布形状パターンの濃度値を調整するパターン調整部を備え、
上記パターン調整部は、
上記解析対象データがなす解析対象データ群から、上記特性値の分布が上記分布形状パターンの濃度値の分布と類似しているようなデータを上記分布形状パターン調整用特性データ群として抽出する第1部分と、
上記第1部分で得られた上記分布形状パターン調整用特性データ群の特性値の分布の統計量と上記分布形状パターンの濃度値の分布の統計量とを用いて、上記分布形状パターンの濃度値を調整する第2部分を有し、この第2部分における上記分布形状パターン調整用特性データ群の特性値の分布の統計量は、その特性データ群をなす特性値の各解析対象データ毎の平均値の標準偏差であり、上記分布形状パターンの濃度値の分布の統計量は、上記分布形状パターンの濃度値の標準偏差であり、
上記解析対象データと上記調整後の分布形状パターンとを比較して、上記解析対象データの特性値の分布と上記調整後の分布形状パターンの濃度値の分布との定量的な類似度を求める類似度評価部とを備えたことを特徴とする。
平面に沿って分布した特性値をもつ解析対象データが特定の分布形状パターンに類似しているかどうかを評価する分布解析装置であって、
上記分布形状パターンを、上記解析対象データを定めた平面に対応する平面を格子状に複数の矩形領域に区画するとともに、上記各矩形領域毎に、或る数値範囲内で多値を取り得る濃度値を付与して定義するパターン登録部と、
所定の分布形状パターン調整用特性データ群の特性値を用いて、その特性データ群の特性値の大きさが上記評価に反映されるように上記分布形状パターンの濃度値を調整するパターン調整部を備え、
上記パターン調整部は、
上記解析対象データがなす解析対象データ群から、上記特性値の分布が上記分布形状パターンの濃度値の分布と類似しているようなデータを上記分布形状パターン調整用特性データ群として抽出する第1部分と、
上記第1部分で得られた上記分布形状パターン調整用特性データ群の特性値の分布の統計量と上記分布形状パターンの濃度値の分布の統計量とを用いて、上記分布形状パターンの濃度値を調整する第2部分を有し、この第2部分における上記分布形状パターン調整用特性データ群の特性値の分布の統計量は、その特性データ群をなす特性値の各解析対象データ毎の平均値であり、上記分布形状パターンの濃度値の分布の統計量は、上記分布形状パターンの濃度値の標準偏差であり、
上記解析対象データと上記調整後の分布形状パターンとを比較して、上記解析対象データの特性値の分布と上記調整後の分布形状パターンの濃度値の分布との定量的な類似度を求める類似度評価部とを備えたことを特徴とする。
上記類似度評価部は、
上記解析対象データの特性値の相対的な大小関係が上記分布形状パターンの濃度値の相対的な大小関係と類似しているかどうかを判定する第3部分と、
上記第3部分による判定結果を用いて上記類似度を評価する第4部分を備えたことを特徴とする。
基板に対して順次実行される複数の製造工程でそれぞれ用いられる製造装置の中から、異常が発生した製造装置を推定する異常設備推定装置であって、
上記分布解析装置を備え、この分布解析装置によって上記類似度を求め、
上記各基板を上記各製造工程で処理した製造装置を表す処理履歴に基づいて、上記類似度が予め定めた閾値以上であるような基板に共通して用いられた製造装置を抽出する異常設備推定部を備えたことを特徴とする。
ここで、cは(ti−tav)と(pi−pav)との正負が等しく、絶対値が大きいときに大きな値となる。つまり、分布形状パターンで濃度値が高い領域の特性値の大きな特性データPほど大きな値となるので、図12の類似度の概念を満たす。しかしながら、解析対象の基板の特性値が大きいほど特性値の平均値pavと各領域の特性値piの差は大きくなる傾向があるので、ある分布形状パターンに該当する基板が図6(a)に示す分布を持つ場合と図6(b)に示す分布を持つ場合には、図6(a)の分布形状パターンに該当する基板の共分散cは全体的に高い値となる。また、分布形状パターンによって領域毎の特性値の分布が異なるので、分布形状パターン毎に(ti−tav)の値がばらばらである。これらの理由から、共分散cでは、分布形状パターンが異なったり、分布形状パターンに該当する基板の特性データの分布が異なったりすると定量的な評価ができない。そこで、上記基板の分布による(pi−pav)の違いを抑制するために、ステップS103で抽出した類似特性データ群の分布を用いる。n個の特性データからなる類似特性データ群LはL=(L1,…,Ln)で表され、j番目の特性データはLj=(lj1,…,ljg)で表されるとする。このとき、この類似特性データ群Lの特性値の平均値Lavは次の(数3)で表される。
2100 異常設備推定装置
Claims (17)
- 平面に沿って分布した特性値をもつ解析対象データが特定の分布形状パターンに類似しているかどうかを評価する分布解析方法であって、
上記分布形状パターンを、上記解析対象データを定めた平面に対応する平面を格子状に複数の矩形領域に区画するとともに、上記各矩形領域毎に、或る数値範囲内で多値を取り得る濃度値を付与して定義し、
所定の分布形状パターン調整用特性データ群の特性値を用いて、その特性データ群の特性値の大きさが上記評価に反映されるように上記分布形状パターンの濃度値を調整し、
上記濃度値の調整は、
上記解析対象データがなす解析対象データ群から、上記特性値の分布が上記分布形状パターンの濃度値の分布と類似しているようなデータを上記分布形状パターン調整用特性データ群として抽出する第1ステップと、
上記第1ステップで得られた上記分布形状パターン調整用特性データ群の特性値の分布の統計量と上記分布形状パターンの濃度値の分布の統計量とを用いて、上記分布形状パターンの濃度値を調整する第2ステップを備え、この第2ステップにおける上記分布形状パターン調整用特性データ群の特性値の分布の統計量は、その特性データ群をなす特性値の各解析対象データ毎の平均値の標準偏差であり、上記分布形状パターンの濃度値の分布の統計量は、上記分布形状パターンの濃度値の標準偏差であり、
上記解析対象データと上記調整後の分布形状パターンとを比較して、上記解析対象データの特性値の分布と上記調整後の分布形状パターンの濃度値の分布との定量的な類似度を求めることを特徴とする分布解析方法。 - 平面に沿って分布した特性値をもつ解析対象データが特定の分布形状パターンに類似しているかどうかを評価する分布解析方法であって、
上記分布形状パターンを、上記解析対象データを定めた平面に対応する平面を格子状に複数の矩形領域に区画するとともに、上記各矩形領域毎に、或る数値範囲内で多値を取り得る濃度値を付与して定義し、
所定の分布形状パターン調整用特性データ群の特性値を用いて、その特性データ群の特性値の大きさが上記評価に反映されるように上記分布形状パターンの濃度値を調整し、
上記濃度値の調整は、
上記解析対象データがなす解析対象データ群から、上記特性値の分布が上記分布形状パターンの濃度値の分布と類似しているようなデータを上記分布形状パターン調整用特性データ群として抽出する第1ステップと、
上記第1ステップで得られた上記分布形状パターン調整用特性データ群の特性値の分布の統計量と上記分布形状パターンの濃度値の分布の統計量とを用いて、上記分布形状パターンの濃度値を調整する第2ステップを備え、この第2ステップにおける上記分布形状パターン調整用特性データ群の特性値の分布の統計量は、その特性データ群をなす特性値の各解析対象データ毎の平均値であり、上記分布形状パターンの濃度値の分布の統計量は、上記分布形状パターンの濃度値の標準偏差であり、
上記解析対象データと上記調整後の分布形状パターンとを比較して、上記解析対象データの特性値の分布と上記調整後の分布形状パターンの濃度値の分布との定量的な類似度を求めることを特徴とする分布解析方法。 - 請求項1または2に記載の分布解析方法において、
上記第1ステップは上記各解析対象データの上記各矩形領域に対応する特性値と上記分布形状パターンの上記各矩形領域に付与された濃度値との相関係数が予め定めた閾値以上であるようなデータを上記分布形状パターン調整用特性データ群として抽出することを特徴とする分布解析方法。 - 請求項1または2に記載の分布解析方法において、
上記類似度は、上記調整後の分布形状パターンの上記各矩形領域に付与された濃度値と上記解析対象データの上記各矩形領域に対応する特性値との共分散で与えられることを特徴とする分布解析方法。 - 請求項1または2に記載の分布解析方法において、
上記類似度を求めるために、
上記解析対象データの特性値の相対的な大小関係が上記分布形状パターンの濃度値の相対的な大小関係と類似しているかどうかを判定する第3ステップと、
上記第3ステップによる判定結果を用いて上記類似度を評価する第4ステップを備えることを特徴とする分布解析方法。 - 請求項5に記載の分布解析方法において、
上記第3ステップは、上記解析対象データの上記各矩形領域に対応する特性値と、上記分布形状パターンまたは上記調整後の分布形状パターンの上記各矩形領域に付与された濃度値との相関係数が予め定めた閾値以上であるような解析対象データを上記分布形状パターンと類似していると判定することを特徴とする分布解析方法。 - 請求項1または2に記載の分布解析方法において、
上記解析対象データの特性値は基板の表面に沿って分布していることを特徴とする分布解析方法。 - 基板に対して順次実行される複数の製造工程でそれぞれ用いられる製造装置の中から、異常が発生した製造装置を推定する異常設備推定方法であって、
請求項7に記載の分布解析方法を実施して上記類似度を求め、
上記各基板を上記各製造工程で処理した製造装置を表す処理履歴に基づいて、上記類似度が予め定めた閾値以上であるような基板に共通して用いられた製造装置を抽出することを特徴とする異常設備推定方法。 - 平面に沿って分布した特性値をもつ解析対象データが特定の分布形状パターンに類似しているかどうかを評価する分布解析装置であって、
上記分布形状パターンを、上記解析対象データを定めた平面に対応する平面を格子状に複数の矩形領域に区画するとともに、上記各矩形領域毎に、或る数値範囲内で多値を取り得る濃度値を付与して定義するパターン登録部と、
所定の分布形状パターン調整用特性データ群の特性値を用いて、その特性データ群の特性値の大きさが上記評価に反映されるように上記分布形状パターンの濃度値を調整するパターン調整部を備え、
上記パターン調整部は、
上記解析対象データがなす解析対象データ群から、上記特性値の分布が上記分布形状パターンの濃度値の分布と類似しているようなデータを上記分布形状パターン調整用特性データ群として抽出する第1部分と、
上記第1部分で得られた上記分布形状パターン調整用特性データ群の特性値の分布の統計量と上記分布形状パターンの濃度値の分布の統計量とを用いて、上記分布形状パターンの濃度値を調整する第2部分を有し、この第2部分における上記分布形状パターン調整用特性データ群の特性値の分布の統計量は、その特性データ群をなす特性値の各解析対象データ毎の平均値の標準偏差であり、上記分布形状パターンの濃度値の分布の統計量は、上記分布形状パターンの濃度値の標準偏差であり、
上記解析対象データと上記調整後の分布形状パターンとを比較して、上記解析対象データの特性値の分布と上記調整後の分布形状パターンの濃度値の分布との定量的な類似度を求める類似度評価部とを備えたことを特徴とする分布解析装置。 - 平面に沿って分布した特性値をもつ解析対象データが特定の分布形状パターンに類似しているかどうかを評価する分布解析装置であって、
上記分布形状パターンを、上記解析対象データを定めた平面に対応する平面を格子状に複数の矩形領域に区画するとともに、上記各矩形領域毎に、或る数値範囲内で多値を取り得る濃度値を付与して定義するパターン登録部と、
所定の分布形状パターン調整用特性データ群の特性値を用いて、その特性データ群の特性値の大きさが上記評価に反映されるように上記分布形状パターンの濃度値を調整するパターン調整部を備え、
上記パターン調整部は、
上記解析対象データがなす解析対象データ群から、上記特性値の分布が上記分布形状パターンの濃度値の分布と類似しているようなデータを上記分布形状パターン調整用特性データ群として抽出する第1部分と、
上記第1部分で得られた上記分布形状パターン調整用特性データ群の特性値の分布の統計量と上記分布形状パターンの濃度値の分布の統計量とを用いて、上記分布形状パターンの濃度値を調整する第2部分を有し、この第2部分における上記分布形状パターン調整用特性データ群の特性値の分布の統計量は、その特性データ群をなす特性値の各解析対象データ毎の平均値であり、上記分布形状パターンの濃度値の分布の統計量は、上記分布形状パターンの濃度値の標準偏差であり、
上記解析対象データと上記調整後の分布形状パターンとを比較して、上記解析対象データの特性値の分布と上記調整後の分布形状パターンの濃度値の分布との定量的な類似度を求める類似度評価部とを備えたことを特徴とする分布解析装置。 - 請求項9または10に記載の分布解析装置において、
上記類似度評価部は、
上記解析対象データの特性値の相対的な大小関係が上記分布形状パターンの濃度値の相対的な大小関係と類似しているかどうかを判定する第3部分と、
上記第3部分による判定結果を用いて上記類似度を評価する第4部分を備えたことを特徴とする分布解析装置。 - 請求項9または10に記載の分布解析装置において、
上記解析対象データの特性値は基板の表面に沿って分布していることを特徴とする分布解析装置。 - 基板に対して順次実行される複数の製造工程でそれぞれ用いられる製造装置の中から、異常が発生した製造装置を推定する異常設備推定装置であって、
請求項12に記載の分布解析装置を備え、この分布解析装置によって上記類似度を求め、
上記各基板を上記各製造工程で処理した製造装置を表す処理履歴に基づいて、上記類似度が予め定めた閾値以上であるような基板に共通して用いられた製造装置を抽出する異常設備推定部を備えたことを特徴とする異常設備推定装置。 - 請求項1または2に記載の分布解析方法をコンピュータに実行させるための分布解析プログラム。
- 請求項8に記載の異常設備推定方法をコンピュータに実行させるための異常設備推定プログラム。
- 請求項14に記載の分布解析プログラムを記録したことを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
- 請求項15に記載の異常設備推定プログラムを記録したことを特徴とするコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
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