JP4558186B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
この発明は半導体装置に係り、特に複数のワード線が昇圧されるテストモードを有する半導体装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、多数のトランジスタを集積化した半導体装置が、ワークステーションやパーソナルコンピュータをはじめとした、様々な電気製品に使用されている。半導体装置の製造においては、信頼性のテストとスクリーニングのために高温雰囲気中でこの半導体装置の電源に通常時よりも高い電圧を与えて動作試験するバーンインが必要とされる。バーンインによるストレスによって、半導体装置中に含まれる絶縁膜等に潜在していた欠陥箇所の劣化を加速させて不良の半導体装置をスクリーニングすることができる。このバーンインとして、半導体チップをアセンブリした後に実施される通常のバーンインと、アセンブリ前の複数の半導体チップを備えるウェハの状態で実施されるウェハレベルバーンイン(WBI)とが知られている。
【0003】
ウェハレベルバーンインについては、例えば文献T. Furuyama et al., "Wafer Burn-in (WBI) Technology for RAM's", 1993 IEDM Tech. Digest, pp.639-642に記載されている。ウェハレベルバーンインは通常のバーンインに比べて、次のようなメリットがある。第1に、半導体チップがパッケージまたはモールドに封入されていない。ゆえに、パッケージまたはモールドの耐熱よりも高い温度でバーンインを実行できる。また、ストレス電界も高く設定できるので、バーンインの時間が短縮される。第2に、レーザトリミング等によって不良をスペアと置き換えるためのリペアテスト前に実施される。ゆえに、バーンイン後に発生する不良の救済をその後のリペアテストで救済することが可能となる。第3に、ウェハ上の不良が検出された半導体チップの位置を知ることができる。そのため、この不良情報を製造ラインへフィードバックして改善をはかることが容易におこなえる。
【0004】
DRAMはパーソナルコンピュータのメインメモリとして利用されている。このDRAMは複数行および複数列に配置される複数のメモリセルを含んでいる。このメモリセルの各々に、"0"または"1"の1ビットの情報が格納される。メモリセルはメモリセルトランジスタとメモリセルキャパシタとで構成される。メモリセルキャパシタの一方の電極はセルプレートで構成される。メモリセルの複数行にそれぞれ対応して複数のワード線が配置される。メモリセルの複数列にそれぞれ対応してビット線対が配置される。メモリセルトランジスタのゲートは対応のワード線で構成される。メモリセルトランジスタは対応のビット線とメモリセルキャパシタの他方の電極との間に接続される。
【0005】
ウェハレベルバーンインでは、全てのワード線を同時に選択したり、または1本おきのワード線をストライプ状に同時に選択した後、ビット線およびセルプレートに外部から電圧を与える。これにより、メモリセルトランジスタのゲート酸化膜、メモリセルキャパシタの絶縁膜、隣接したワード線間の絶縁膜、隣接したメモリセル間の絶縁膜等にストレス電圧が与えられる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
図8は例えば米国特許公報第5,513,142号に開示された、DRAMの一部を示す回路図である。この図8に示された構成では、昇圧信号ドライバRXDが昇圧信号RXを電源電位よりも高い昇圧電位VPPにドライブする。この昇圧電位VPPは、ウェハレベルバーンイン時に通常動作時よりも高いバーンイン電位とされる。ウェハレベルバーンイン時に、各ワードドライバDRVに含まれているPチャネルトランジスタP1を介して、128本のワード線が同時にドライブされる。
【0007】
しかし、昇圧信号ドライバRXDのドライブ能力は、1本のワード線を所望の速さで接地電位GNDから昇圧電位VPPにドライブするように設計されている。従って、128本のワード線を同時にドライブしようとすると、これらのワード線の容量負荷の合計は昇圧信号ドライバRXDのドライブ能力に比べて大きくなり過ぎており、さらに、ワード線への充電電流が大きいことから昇圧電位VPPを伝達する電源配線抵抗における電圧降下もあいまって、昇圧信号RXはゆっくりと上昇してインバータINVの論理しきい値を越えていく。その結果、インバータINVの出力信号ZRXはゆっくりと低下するため、NチャネルトランジスタN2はゆっくりとオフとなる。その間、昇圧信号RXからPチャネルトランジスタP1を通ってワード線WLに充電される電荷の一部がNチャネルトランジスタN2を通って接地電位GNDに抜けていく。このため、昇圧電位VPPがゆっくりと上昇するときに一時的に所望の電位と接地電位の間の中間電位に停留してしまう。
【0008】
インバータINVの論理しきい値は、製造プロセスの変動等によって、Nチャネルトランジスタおよび/またはPチャネルトランジスタのしきい値がずれることで、設計値からずれて高くなることがある。この図8に示された構成では、昇圧電位VPPが一時的に停留する中間電位が、高くずれたインバータINVの論理しきい値よりも低くなると、インバータINVの出力信号ZRXの電位はハイレベルに固定される場合がある。このような場合、ワードドライバDRVのNチャネルトランジスタN2がオンのままとなる。そのため、昇圧信号RXからワード線WLへの充電電流の大部分が接地電位GNDに抜けてしまう。その結果、昇圧信号RXはインバータINVのしきい値を越えられず、インバータINVの論理しきい値付近の電位で飽和してしまう。
【0009】
このように、従来の構成では、ウェハバーンイン時にワード線WLの電位がバーンイン電位に上昇しなくなるという問題が生じていた。
【0010】
この発明の目的は、ウェハレベルバーンイン時に確実にワード線をバーンイン電位にドライブする半導体装置を得ることにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】
第1および第2の発明にかかる半導体装置は、昇圧信号を発生する昇圧信号発生器と、昇圧信号とウェハバーンイン信号とを受けてドライブ信号を出力するドライブ信号発生器と、複数のワード線と、複数のワード線それぞれと昇圧信号発生器の出力とに接続される複数のワードドライバとを備える。
複数のワードドライバは、各々、ワード線選択信号に従って昇圧信号を対応したワード線に伝えるための第1のドライブトランジスタと、対応したワード線とワード線用のロウレベルの電位が与えられるノードとの間に接続され、ドライブ信号を受けるゲートを有し該ゲートの電位に従って選択的に該ロウレベル電位を対応のワード線に伝達するとともに該ゲート電位がロウレベルのときにオフする第2のドライブトランジスタとを含む。
ドライブ信号発生器は、昇圧信号が電源電位よりも高い昇圧電位に向けて上昇するのに従いロウレベルの電位となるドライブ信号を出力し、ウェハバーンイン信号の活性化時昇圧信号に応答してドライブ信号をロウレベルの電位とする。
【0012】
第1の発明に係る半導体装置においては、ドライブ信号発生器は、ドライブ信号を出力するための出力ノードとロウレベルの電位が与えられるノードとの間に接続され、昇圧信号を受けるゲートを有するNチャネルトランジスタと、出力ノードとハイレベルの電位が与えられるノードとの間に直列に接続されるカットオフトランジスタおよびPチャネルトランジスタを含む。カットオフトランジスタはウェハバーンイン信号の活性化に応答してオフとなり、Pチャネルトランジスタは昇圧信号を受けるゲートを有する。
【0013】
好ましくは、カットオフトランジスタは、Pチャネルトランジスタよりも薄いゲート絶縁膜を有する。
【0014】
第2の発明に係る半導体装置においては、ドライブ信号発生器は、ドライブ信号を出力するための出力ノードとロウレベルの電位が与えられるノードとの間に接続され、昇圧信号を受けるゲートを有する第1のNチャネルトランジスタ、出力ノードとハイレベルの電位が与えられるノードとの間に接続され、昇圧信号を受けるゲートを有するPチャネルトランジスタ、および、出力ノードとロウレベルの電位が与えられるノードとの間に第1のNチャネルトランジスタと並列に接続され、ウェハバーンイン信号の活性化に応答してオンする第2のNチャネルトランジスタを含む。
【0015】
好ましくは、第2のNチャネルトランジスタを、第1のNチャネルトランジスタよりも薄いゲート絶縁膜を有するものとする。
【0016】
第3および第4の発明に係る半導体装置は、第1の方向に延びる複数のメインワード線、第1の方向と交差する第2の方向に沿って延びる複数のビット線対、第1の方向に沿って配置され、複数のビット線対にそれぞれ接続される複数のセンスアンプを含むセンスアンプバンド、第1の方向に沿って延びるとともに各メインワード線に対応して所定数配置される複数のサブワード線、および、センスアンプバンドと交差する方向に配置され、第2の方向に沿って複数のサブワード線に対応して配置される複数のサブワードドライバを含む。各サブワードドライバは、複数のメインワード線の対応する1つに接続されるゲートを有し、該ゲート電位に従って複数の昇圧信号の対応の1つを対応のサブワード線に伝えるための第1のドライブトランジスタと、対応のサブワード線とサブワード線用のロウレベルの電位が与えられるノードとの間に接続され、複数の昇圧信号にそれぞれ対応した複数のドライブ信号の対応の1つを受けるゲートを有し、該ゲート電位に従って該ノードのロウレベル電位を対応のサブワード線に伝達し、該ゲート電位がロウレベルの時にオフする第2のドライブトランジスタとを含む。
第3および第4の発明に係る半導体装置は、さらに、複数のビット線対と複数のサブワード線との交差部に対応して配置される複数のメモリセルを含むサブメモリブロック、および、センスアンプバンドとサブワードドライババンドとの交差領域に配置される昇圧ドライバを備える。この昇圧ドライバは、複数の昇圧信号を発生する昇圧信号発生器と、複数の昇圧信号とウェハバーンイン信号とを受け、与えられた昇圧信号が電源電位よりも高い昇圧電位に向けて上昇するのに従い対応のドライブ信号をドライブ信号用のロウレベルの電位とし、与えられたウェハバーンイン信号の活性化に応答して該対応のドライブ信号を前記ドライブ信号用のロウレベルの電位とするドライブ信号発生器とを含む。
【0017】
第3の発明に係る半導体装置において、ドライブ信号発生器は、各対応のドライブ信号を出力するための出力ノードとドライブ信号用のロウレベルの電位が与えられるノードとの間に接続され、対応の昇圧信号を受けるゲートを有するNチャネルトランジスタ、および該出力ノードとハイレベルの電位が与えられるノードとの間に直列に接続されるカットオフトランジスタおよびPチャネルトランジスタを含む。カットオフトランジスタはウェハバーンイン信号の活性化に応答してオフとなり、Pチャネルトランジスタは対応の昇圧信号を受けるゲートを有する。
【0018】
好ましくは、カットオフトランジスタは、Pチャネルトランジスタよりも薄いゲート絶縁膜を有する。
【0019】
第4の発明に係る半導体装置においては、ドライブ信号発生器は、対応のドライブ信号を出力するための出力ノードとドライブ信号用のロウレベルの電位が与えられるノードとの間に接続され、対応の昇圧信号を受けるゲートを有する第1のNチャネルトランジスタと、出力ノードとハイレベルの電位が与えられるノードとの間に接続され、対応の昇圧信号を受けるゲートを有するPチャネルトランジスタと、該出力ノードとドライブ信号用のロウレベルの電位が与えられるノードとの間に第1のNチャネルトランジスタと並列に接続され、与えられたウェハバーンイン信号の活性化に応答してオンする第2のNチャネルトランジスタを含む。
【0020】
好ましくは、第2のNチャネルトランジスタは、第1のNチャネルトランジスタよりも薄いゲート絶縁膜を有する。また、カットオフトランジスタは、Pチャネルトランジスタからなる。
【0021】
【発明の実施の形態】
実施の形態1.
以下、この発明の実施の形態であるDRAM(Dynamic Random Access Memory)について、図1から図6に基づき説明する。図1はDRAM 100の概略ブロック図である。図1を参照して、DRAM 100はコマンドデコーダ110を備える。コマンドデコーダ110は、外部から与えられる各種の制御信号(例えばクロックイネーブル信号CKE、チップセレクト信号/CS、ロウアドレスストローブ信号/RAS、コラムアドレスストローブ信号/CAS、ライトイネーブル信号/WEおよびデータマスク信号DM)を、外部から与えられるクロック信号CLKに同期してラッチし、これらの制御信号をデコードする。これらの制御信号の論理の組み合わせによりオペレーションコマンドが指定される。コマンドにはバンク活性コマンド、リードコマンド、ライトコマンド、プリチャージコマンド、CBRリフレッシュコマンドおよびセルフリフレッシュコマンドなどが含まれる。コマンドデコーダ110は与えられたコマンドをデコードして、このコマンドに応答してDRAM 100の動作を制御するための、複数種の内部制御信号を出力する。
【0022】
また、DRAM 100は、ロウアドレスバッファおよびリフレッシュカウンタ120を備える。ロウアドレスバッファおよびリフレッシュカウンタ120は、外部から与えられる複数ビットを含むアドレス信号A0-A12および複数ビットを含むバンクアドレス信号BA0-BA1を受けてロウアドレス信号および内部のバンクアドレス信号を出力する。ロウアドレスバッファおよびリフレッシュカウンタ120は、コマンドデコーダ110からの内部制御信号が、コマンドデコーダ110にバンク活性コマンドが与えられたことを示すと、外部から与えられるアドレス信号A0-A12およびバンクアドレス信号BA0-BA1をロウアドレス信号および内部バンクアドレス信号として供給する。
【0023】
ロウアドレスバッファおよびリフレッシュカウンタ120はまた、コマンドデコーダ110からの内部制御信号が、コマンドデコーダ110にリフレッシュコマンド(例えばCBRリフレッシュコマンドまたはセルフリフレッシュコマンド)が与えられたことを示すと、外部から与えられるアドレス信号A0-A12およびバンクアドレス信号BA0-BA1とは関係なしに、自らロウアドレス信号および内部のバンクアドレス信号を生成して供給する。
【0024】
DRAM 100はさらに、コラムアドレスバッファおよびレイテンシ/バーストコントローラ130を備える。コラムアドレスバッファおよびレイテンシ/バーストコントローラ130は、外部から与えられるアドレス信号A0-A12およびバンクアドレス信号BA0-BA1を受けてコラムアドレス信号および内部のバンクアドレス信号を出力する。コラムアドレスバッファおよびレイテンシ/バーストコントローラ130は、コマンドデコーダ110からの内部制御信号が、コマンドデコーダ110にリードコマンドまたはライトコマンドが与えられたことを示すと、外部から与えられるアドレス信号A0-A12およびバンクアドレス信号BA0-BA1をコラムアドレス信号および内部バンクアドレス信号として供給する。
【0025】
コラムアドレスバッファおよびレイテンシ/バーストコントローラ130はまた、コマンドデコーダ110からの内部制御信号が、コマンドデコーダ110にモードレジスタセットコマンドが与えられたことを示すと、外部から与えられるアドレス信号A0-A12の所定のビット(例えばA4-A6)に応答して/CASレイテンシをセットし、他の所定のビット(例えばA0-A2)に応答してバースト長をセットする。
【0026】
さらに、DRAM 100は、バンクA,B,CおよびDと称される複数のバンク140を備える。各バンクは複数のメモリセルが複数行および複数列に配置されるメモリアレイ141、メモリアレイ141の行を選択するためのロウデコーダ142、メモリアレイ141の列に現われるメモリセルデータを検知増幅するためのセンスアンプ群143、およびメモリアレイ141の列を選択するためのコラムデコーダ144を備える。各バンク140は他のバンクで選択されるメモリセルのアドレスとは独立したアドレスのメモリセルが選択できるように構成されている。つまり、他のバンクでどのメモリセルが選択されていようと、各バンクの任意のメモリセルが選択できる。
【0027】
ロウデコーダ142は、ロウアドレスバッファおよびリフレッシュカウンタ120からのロウアドレス信号および内部バンクアドレス信号をデコードする。そして、内部バンクアドレス信号に応じた(従ってバンクアドレス信号BA0-BA1にも応じた)バンク140の、ロウアドレス信号に応じた(従ってアドレス信号A0-A12にも応じた)行のメモリセルを選択する。
【0028】
センスアンプ群143は、メモリアレイ141の列に現われる、ロウデコーダ142により選択された行のメモリセルのデータを検知増幅する。コラムデコーダ144は、コラムアドレスバッファおよびレイテンシ/バーストコントローラ130からのコラムアドレス信号および内部バンクアドレス信号をデコードする。そして、センスアンプ群143により増幅されるデータのうち、内部バンクアドレス信号に応じた(従ってバンクアドレス信号BA0-BA1にも応じた)バンク140の、コラムアドレス信号に応じた(従ってアドレス信号A0-A12にも応じた)列のデータを選択する。
【0029】
さらにまた、DRAM 100はデータコントローラおよび入出力バッファ150を備える。データコントローラおよび入出力バッファ150は、コマンドデコーダ110からの内部制御信号と、コラムアドレスバッファおよびレイテンシ/バーストコントローラ130にセットされた/CASレイテンシおよびバースト長に応答して、クロック信号CLKに同期して、メモリアレイ141から外部へデータDQを出力する。また、データコントローラおよび入出力バッファ150は、コマンドデコーダ110からの内部制御信号と、コラムアドレスバッファおよびレイテンシ/バーストコントローラ130にセットされたバースト長に応答して、クロック信号CLKに同期して外部から与えられるデータDQをメモリアレイ141に与える。
【0030】
データコントローラおよび入出力バッファ150は、コマンドデコーダ110からの内部制御信号が、コマンドデコーダ110にリードコマンドが与えられたことを示すと、リードコマンドが与えられて/CASレイテンシの値に応じたクロック信号CLKのサイクルが経過した時点からリードデータDQの出力を始める。リードデータの出力は、バースト長の値ぶんのデータが複数(例えば4つ)あるDQピンの各々に対し、シリアルに出力される。データコントローラおよび入出力バッファ150は、コラムデコーダ144により選択されたメモリアレイ141からのデータを各DQピンにシリアルに出力することができる。
【0031】
また、データコントローラおよび入出力バッファ150は、コマンドデコーダ110からの内部制御信号が、コマンドデコーダ110にライトコマンドが与えられたことを示すと、外部から各DQピンにシリアルに与えられるバースト長ぶんのライトデータをクロック信号CLKに同期して順次内部に取り込み、コラムデコーダ144により選択されたメモリアレイの列にライトデータを与える。また、データマスク信号DMによりシリアルに与えられるライトデータの一部を取り込まないようにすることが可能である。
【0032】
DRAM 100はさらに、電源電位VCCを昇圧した昇圧電位VPP、電源電位VCCと接地電位VSSの間の中間電位(VCC+VSS)/2であるビット線のプリチャージ電位VBLおよびセルプレート電位VCPを出力するための内部電位発生回路群160を備える。DRAM 100はさらに、パッド161を備える。パッド161は昇圧電位VPPを伝達する電源配線に接続されており、ウェハバーンイン時にこのパッド161にバーンイン電位を与えることで、昇圧電位VPPを通常動作時よりも高いバーンイン電位とすることができる。
【0033】
図2はメモリアレイ141およびセンスアンプ群143の構成を示す概略図である。図2を参照して、メモリアレイ141は複数のメモリブロックMB1-MBnを含む。メモリブロックMB1-MBnの各々は複数のビット線対141aを含む。また、センスアンプ群143は複数のセンスアンプバンドSB1-SBn+1を含む。センスアンプバンドSB1-SBn+1の各々は複数のセンスアンプ143aを含む。メモリブロックの間に位置するセンスアンプバンドは、その両側のメモリブロックに共通に設けられる。つまり、このDRAMでは、いわゆるシェアードセンスアンプ構成が採用されている。
【0034】
ビット線対141aはメモリセルの列に沿って延びる。ビット線対141aの各々は、対応のメモリブロックのメモリセルの列に対応して配置される。また、センスアンプバンドSB1-SBn+1の各々に含まれるセンスアンプ143aは、メモリセルの行に沿って配置される。
【0035】
図3はメモリブロックMB1-MBnのうちの1つのメモリブロックMBiとロウデコーダ142の構成を示す概略図である。図3を参照して、複数(この実施の形態では128本)のメインワード線141bがメモリブロックMBi上に配置される。メインワード線141bの各々はメモリセルの行に沿って延びる。ロウデコーダ142はメモリブロックMBiに対応して設けられるメインロウデコーダMRDiを含む。
【0036】
メインロウデコーダMRDiは、通常動作時、対応のメモリブロックが選択されたときにアドレス信号に従って複数のメインワード線141bのうち1本を選択レベル(ロウレベル)にする。また、残りのメインワード線141bを非選択レベル(昇圧電位VPP)にする。他方、メインロウデコーダMRDiは、ウェハレベルバーンイン時、ウェハバーンイン信号WBIがウェハレベルバーンインを示すハイレベルになるのに応答して、全てのメインワード線141bを選択レベルのロウレベルにする。このウェハバーンイン信号WBIは図1に示されたコマンドデコーダ110により生成される。外部制御信号および外部アドレス信号の組み合わせによりウェハレベルバーンインが指定されると、このウェハバーンイン信号WBIはハイレベルとなる。
【0037】
ロウデコーダ142はまた、複数のサブワードドライババンドSWDB1-SWDB5を含む。メモリブロックMBiはサブワードドライババンドSWDB2-SWDB4によって複数のサブメモリブロックSMB1-SMB4に分割される。サブメモリブロックSMB1-SMB4の各々は、複数のサブワード線141cを含む。サブワード線141cは対応のサブメモリブロック中のメモリセルの行に対応して配置される。サブワード線141cはメモリセルの行に沿って延びる。サブワードドライババンドSWDB1-SWDB5の各々は、メモリセルの列に沿って配置される複数のサブワードドライバ142aを含む。サブワードドライバ142aはサブワード線141cにそれぞれ接続される。
【0038】
サブメモリブロックSMB1-SMB4のうち1つに着目すると、1本のメインワード線141bに4本の隣接したサブワード線141cが対応している。この4本のサブワード線141cに接続されるサブワードドライバ142aは、共通に対応のメインワード線141bに接続される。それとともに、このサブワードドライバ142aの各々は、隣接した4本のサブワード線141cのいずれかを選択するための複数の昇圧信号BT0 +-BT3 +のうち対応の1つを受ける。ここで、右上の+の添字はハイレベルが電源電位VCCよりも高い昇圧電位VPPであることを示す。各サブワードドライバ142aは、対応のメインワード線141bの電位が選択レベルのロウレベルとなり、対応の昇圧信号が選択レベルの昇圧電位VPPのとき、この昇圧電位VPPの昇圧信号を対応のサブワード線141cに伝達する。
【0039】
ロウデコーダ142はさらに、サブロウデコーダSRDを含む。サブロウデコーダSRDは複数のメモリブロックMB1-MBnに共通してバンク140に対してそれぞれ設けられる。サブロウデコーダSRDは、通常動作時、対応のバンク140が活性化されるときは、アドレス信号に従ってサブデコード信号/X0 +-/X3 +のうち1つを選択レベルのロウレベルとする。この実施の形態では、サブロウデコーダSRDはロウアドレス信号の下位2ビットに従ってサブデコード信号/X0 +-/X3 +のうち1つを選択レベルのロウレベルとし、残りは非選択レベルの昇圧電位VPPとする。
【0040】
サブロウデコーダSRDは、ウェハレベルバーンイン時、ウェハバーンイン信号WBIEおよびWBIOに応答して、サブデコード信号/X0 +-/X3 +のうちの偶数番/X0 +および/X2 +のみ、奇数番/X1 +および/X3 +のみ、またはその両方/X0 +-/X3 +を選択レベルのロウレベルとする。詳述すると、ウェハバーンイン信号WBIEがハイレベルでWBIOがロウレベルのとき、サブロウデコーダSRDはサブデコード信号/X0 +-/X3 +のうちの偶数番/X0 +および/X2 +のみロウレベルとする。また、ウェハバーンイン信号WBIEがロウレベルでWBIOがハイレベルのとき、サブロウデコーダSRDはサブデコード信号/X0 +-/X3 +のうちの奇数番/X1 +および/X3 +のみロウレベルとする。さらに、ウェハバーンイン信号WBIEおよびWBIOが共にハイレベルのとき、サブロウデコーダSRDはサブデコード信号/X0 +-/X3 +を全てロウレベルとする。
【0041】
ウェハバーンイン信号WBIEおよびWBIOは図1に示されたコマンドデコーダ110により生成される。外部制御信号および外部アドレス信号の組み合わせにより、ウェハバーンイン信号WBIEおよびWBIOは制御される。このウェハバーンイン信号WBIEおよびWBIOの少なくとも一方がハイレベルとなるとき、ウェハバーンイン信号WBIはハイレベルとなる。ウェハバーンイン信号WBIEおよびWBIOはそれぞれ偶数番のサブワード線および奇数番のサブワード線を同時に選択するための信号である。従って、ウェハレベルバーンイン時に偶数番のサブワード線のみを同時に選択するときは、ウェハバーンイン信号WBIおよびWBIEが活性状態のハイレベル、WBIOが非活性状態のロウレベルとなる。また、奇数番のサブワード線のみを同時に選択するときは、ウェハバーンイン信号WBIおよびWBIOが活性状態のハイレベル、WBIEが非活性状態のロウレベルとなる。さらに、全てのサブワード線を同時に選択するときは、ウェハバーンイン信号WBI,WBIEおよびWBIOが全て活性状態のハイレベルとなる。また、通常動作時はウェハバーンイン信号WBI,WBIEおよびWBIOは全て非活性状態のロウレベルとなる。
【0042】
サブワードドライババンドSWDB1-SWDB5は、センスアンプバンドSBi+1と、交差領域CRが形成されるように交差している。ロウデコーダ142はさらにまた、交差領域CRに配置される昇圧ドライバ142bを含む。
【0043】
図4はサブワードドライバ142aの具体的回路図である。図4を参照して、サブワードドライバ142aはPチャネルのドライブトランジスタ142aaを含む。このドライブトランジスタ142aaは複数のメインワード線141bのうちの対応する1つに接続されるゲートを有する。ドライブトランジスタ142aaのゲートは対応のメインワード線141bにより伝達される信号/MWLmを受ける。ドライブトランジスタ142aaのソースは複数の昇圧信号BT0 +-BT3 +のうち対応の1つBTk +を受ける。ドライブトランジスタ142aaのドレインはサブワード線141cに接続される。さらに、ドライブトランジスタ142aaのバックゲートには昇圧電位VPPが与えられる。ドライブトランジスタ142aaは、対応のメインワード線141bにより伝達される信号/MWLmがロウレベルになると、対応の昇圧信号BTk +を対応のサブワード線141cに伝える。
【0044】
サブワードドライバ142aはまた、サブワード線141cとワード線用のロウレベルの電位が与えられるノード142abとの間に接続されるNチャネルのドライブトランジスタ142acを含む。ドライブトランジスタ142acのゲートは対応のメインワード線141bに接続され、信号/MWLmを受ける。この実施の形態ではノード142abには接地電位VSSが与えられるが、メモリセルのサブスレッショルドリーク電流を抑制するために、接地電位よりも低い負の電位が与えられても良い。
【0045】
サブワードドライバ142aはさらに、対応のサブワード線141cとノード142abとの間に接続されるNチャネルのドライブトランジスタ142adを含む。ドライブトランジスタ142adのゲートは、複数の昇圧信号BT0 +-BT3 +にそれぞれ対応した複数のドライブ信号/DV0-/DV3のうちから対応の1つ/DVkを受ける。このドライブ信号/DVkは、対応の昇圧信号BTk +が昇圧電位VPPに向けて上昇するのに従い、ドライブ信号用のロウレベルの電位となる。この実施の形態では、ドライブ信号用のロウレベルの電位はワード線用のロウレベルの電位と同じく、接地電位VSSである。しかし、このドライブ信号用のロウレベルの電位をワード線用のロウレベルの電位よりも低くして、互いに異ならせてもよい。
【0046】
ドライブ信号/DV0-/DV3の各々は、ウェハバーンイン信号WBIEまたはWBIOに応答してドライブ信号用のロウレベルとされる。詳述すると、ウェハバーンイン信号WBIEがハイレベルのとき、偶数番のドライブ信号/DV0および/DV2がロウレベルとされる。また、ウェハバーンイン信号WBIOがハイレベルのとき、奇数番のドライブ信号/DV1および/DV3がロウレベルとされる。
【0047】
図5は昇圧ドライバ142bの構成を示す回路図である。図5を参照して、昇圧ドライバ142bは昇圧信号BT0 +およびBT2 +、またはBT1 +およびBT3 +を発生する昇圧信号発生器142baを含む。昇圧信号発生器142baはサブデコード信号/X0 +-/X3 +を反転して昇圧信号BT0 +-BT3 +を発生する。従って、昇圧信号BT0 +-BT3 +はサブデコード信号/X0 +-/X3 +に従うとともに、アドレス信号にも従う。また、昇圧信号BT0 +-BT3 +の各々は、ウェハバーンイン信号WBIEまたはWBIOにも従う。昇圧信号発生器142baは、PチャネルトランジスタPT1およびPT2を含む。昇圧信号発生器142baはまた、NチャネルトランジスタNT1およびNT2を含む。PチャネルトランジスタPT1およびPT2のソースは、電源配線の抵抗R1を介して昇圧電位VPPを受けている。
【0048】
PチャネルトランジスタPT1とNチャネルトランジスタNT1とが、サブデコード信号/X0 +または/X1 +に応答して昇圧信号BT0 +またはBT1 +を出力するインバータを構成している。また、PチャネルトランジスタPT2とNチャネルトランジスタNT2とが、サブデコード信号/X2 +または/X3 +に応答して昇圧信号BT2 +またはBT3 +を出力するインバータを構成している。
【0049】
昇圧ドライバ142bはまた、ドライブ信号/DV0および/DV2、または/DV1および/DV3を発生するドライブ信号発生器142bbを含む。ドライブ信号発生器142bbは、ドライブ信号/DV0または/DV1が出力される出力ノードND1とドライブ信号用のロウレベルの電位が与えられるノードND2との間に接続されるNチャネルトランジスタNT3を含む。NチャネルトランジスタNT3は昇圧信号BT0 +またはBT1 +を受けるゲートを有する。この実施の形態では、ノードND2にはワード線用のロウレベルの電位と同じ接地電位VSSを与えている。
【0050】
ドライブ信号発生器142bbはまた、出力ノードND1とハイレベルの電位が与えられるノードND3との間に直列に接続されるカットオフトランジスタCTおよびPチャネルトランジスタPT3を含む。このカットオフトランジスタCTはPチャネルトランジスタからなる。ノードND3には電源配線の抵抗R2を介して電源電位VCCが与えられている。ノードND3に与えられるハイレベルの電位は、電源電位VCCの代わりに昇圧電位VPPであってもかまわない。カットオフトランジスタCTのゲートはウェハバーンイン信号WBIEまたはWBIOを受ける。カットオフトランジスタCTは、ウェハバーンイン信号WBIEまたはWBIOに応答してオフとなる。PチャネルトランジスタPT3は昇圧信号BT0 +またはBT1 +を受けるゲートを有する。
【0051】
ドライブ信号発生器142bbはさらに、PチャネルトランジスタPT4およびNチャネルトランジスタNT4を含む。PチャネルトランジスタPT3およびNチャネルトランジスタNT3が昇圧信号BT0 +またはBT1 +に従いドライブ信号/DV0または/DV1を出力するインバータを構成する。また、PチャネルトランジスタPT4およびNチャネルトランジスタNT4が昇圧信号BT2 +またはBT3 +に従いドライブ信号/DV2または/DV3を出力するインバータを構成する。カットオフトランジスタCTは、ウェハバーンイン信号WBIEまたはWBIOがハイレベルのときは、これらのインバータへのハイレベルの電位の供給をカットオフする。カットオフトランジスタCTはこれらのインバータに共通に設けられる。カットオフトランジスタCTはこれらのインバータごとに設けられていても良い。共通に設けられたほうが面積の増大を抑制できる。
【0052】
カットオフトランジスタCTは、NチャネルトランジスタNT3とは別に設けられ、ウェハバーンイン信号WBIEまたはWBIOに応答してドライブ信号/DV0-/DV3をロウレベルの電位にするのを補助するための回路を構成する。
【0053】
ドライブ信号/DV0-/DV3の各々は、昇圧信号BT0 +-BT3 +のうちの対応の信号が昇圧電位VPPに向けて上昇するのに従いロウレベルの電位となる。ウェハバーンイン信号WBIEまたはWBIOがハイレベルのときは、PチャネルトランジスタPT3およびPT4へのハイレベルの電位の供給がカットオフされる。従って、ドライブ信号/DV0-/DV3は確実にロウレベルの電位とされるので、図4に示されたドライブトランジスタ142adが確実にオフとなる。その結果、サブワード線141cの電位が確実に昇圧電位VPPに上昇する。
【0054】
図5に示された昇圧ドライバ142bにおいては、カットオフトランジスタCTのゲートに与えられるウェハバーンイン信号WBIEまたはWBIOが電源電位VCCまでしか上昇しないので、カットオフトランジスタCTのゲート絶縁膜は、PチャネルトランジスタPT1-PT4の絶縁膜に比べて薄くしている。このように絶縁膜を薄くすることで、カットオフトランジスタCTを挿入したことによるドライブ信号/DV0-/DV3の上昇の遅れを抑制することができる。つまり、図4に示されたサブワード線141cの、ドライブトランジスタ142adを通しての接地電位VSSへのリセットタイミングの遅れを抑制することができる。
【0055】
図6はメモリアレイ141、ロウデコーダ142およびセンスアンプ143の一部を示した回路図である。図6を参照して、メモリブロックMBiは、複数行および複数列に配置される複数のメモリセル141dを含む。メモリセル141dは、ビット線対141aとサブワード線141cとの交点に対応して配置される。メモリブロックMBiは、複数列のメモリセル141dを含むサブメモリブロックSMB1-SMB4に分割されている。サブメモリブロックSMB1-SMB4の各々は、メモリセル141dの行にそれぞれ対応して設けられる複数のサブワード線141cを含む。各サブワード線141cは対応の行のメモリセル141dに接続される。サブメモリブロックSMB1-SMB4の各々はまた、メモリセル141dの列にそれぞれ対応して設けられる複数のビット線対141aを含む。各ビット線対141aは対応の列のメモリセル141dに接続される。サブメモリブロックSMB1-SMB4の各々を挟んで両側にサブワード線141cのそれぞれに接続される複数のサブワードドライバ142aが設けられる。
【0056】
各メモリセル141dは、一方の電極にセルプレート電位VCPを受けるメモリキャパシタCPと、メモリキャパシタCPの他方電極とビット線対141aを構成するビット線BLまたは/BLとの間に接続され、ゲートがサブワード線141cに接続されるNチャネルトランジスタからなるメモリトランジスタTRとを有する。
【0057】
センスアンプバンドSBi+1は、電源電位VCCが供給される電源線143b、接地電位VSSが供給される電源線143c、共通ソース線143d、共通ソース線143e、およびビット線プリチャージ電位VBLを伝達するプリチャージ電位線143fを含む。センスアンプバンドSBi+1はまた、センスアンプイネーブル信号/PSEi+1に応じて共通ソース線143dを電源電位VCCに充電するためのPチャネルトランジスタ143gを含む。
センスアンプバンドSBi+1はさらに、センスアンプイネーブル信号NSEi+1に応じて共通ソース線143eを接地電位VSSに放電するためのNチャネルトランジスタ143hを含む。
【0058】
センスアンプバンドSBi+1は、ビット線対141aの電位差を増幅し、ビット線の一方の電位を電源電位VCCに、他方の電位を接地電位VSSにするための複数のセンスアンプ143aを含む。センスアンプ143aの各々は、クロスカップル接続され、ビット線BLまたは/BLのうち電位の高い方のビット線の電位を電源電位VCCに増幅するためのPチャネルトランジスタPT11およびPT12を含む。センスアンプ143aの各々はまた、クロスカップル接続され、ビット線BLまたは/BLのうち電位の低い方のビット線の電位を接地電位VSSに増幅するためのNチャネルトランジスタNT11およびNT12を含む。センスアンプ143aは、電源線143bおよび143cから電源電位VCCおよび接地電位VSSを供給される。
【0059】
センスアンプバンドSBi+1はさらに、ビット線イコライズ信号BLEQi+1に応じてビット線BLおよび/BLの電位をイコライズ/プリチャージするためのビット線プリチャージ/イコライズ回路143iを含む。ビット線プリチャージ/イコライズ回路143iは、ビット線イコライズ信号BLEQi+1に応じてビット線BLおよび/BLの電位をイコライズするためのNチャネルトランジスタNT13を含む。ビット線プリチャージ/イコライズ回路143iはまた、ビット線イコライズ信号BLEQi+1に応じてビット線BLおよび/BLの電位をビット線プリチャージ電位VBLにプリチャージするためのNチャネルトランジスタNT14およびNT15を含む。
【0060】
また、センスアンプバンドSBi+1は、ビット線対141aとセンスアンプ143aとの間に接続される分離ゲート回路143jを含む。分離ゲート回路143jはNチャネルトランジスタNT16およびNT17を含む。この対をなすNチャネルトランジスタNT16およびNT17は、ビット線分離(isolation)信号BLI2iまたはBLI2i+1を受けるゲートを有する。このビット線分離信号BLI2iおよびBLI2i+1はアドレス信号に応答して昇圧電位VPPまたは接地電位VSSとなる。分離ゲート回路143jの各々は、ビット線分離信号BLI2iまたはBLI2i+1に応答して、対応のビット線対141aをセンスアンプ143aおよびビット線プリチャージ/イコライズ回路143iから分離する。
【0061】
さらに、センスアンプバンドSBi+1は、メモリアレイ141からのデータを伝達するためのデータバス143kを含む。データバス143kの各々は、データバスラインの対を含む。さらにまた、センスアンプバンドSBi+1の各々は、コラム選択信号CSLp(p=0,1,...)に応じてビット線対141aとデータバス143kとを選択的に接続するためのデータ転送回路143mを含む。このデータ転送回路143mは、NチャネルMOSトランジスタNT18およびNT19を含む。
【0062】
さらにまた、センスアンプバンドSBi+1は、ビット線イコライズ信号BLEQi+1に応じて共通ソース線143dおよび143eの電位をイコライズ/プリチャージするための共通ソース線プリチャージ/イコライズ回路143nを含む。共通ソース線プリチャージ/イコライズ回路143nは、ビット線イコライズ信号BLEQi+1に応じて共通ソース線143dおよび143eの電位をイコライズするためのNチャネルトランジスタNT20を含む。共通ソース線プリチャージ/イコライズ回路143nはまた、ビット線イコライズ信号BLEQi+1に応じて共通ソース線143dおよび143eの電位をビット線プリチャージ電位VBLにプリチャージするためのNチャネルトランジスタNT21およびNT22とを含む。
【0063】
実施の形態2.
以下、この発明の他の実施の形態であるDRAMについて、図7に基づき説明する。この実施の形態2のDRAMが実施の形態1のDRAMと異なっているのは、昇圧ドライバ142bの構成である。以下、この異なっている点について説明する。図7を参照して、この実施の形態2ではカットオフトランジスタCTに代えて、NチャネルトランジスタトランジスタNT5およびNT6が配置される。NチャネルトランジスタNT5は、出力ノードND1とロウレベルの電位が与えられるノードND2の間に接続される。NチャネルトランジスタNT5およびNT6は、NチャネルトランジスタNT3およびNT4にそれぞれ並列に接続される。
【0064】
NチャネルトランジスタNT5およびNT6は、NチャネルトランジスタNT3およびNT4とは別に設けられ、ウェハバーンイン信号WBIEまたはWBIOに応答してドライブ信号/DV0-/DV3をロウレベルの電位にするのを補助するための回路を構成する。
【0065】
NチャネルトランジスタNT5およびNT6は、ウェハバーンイン信号WBIEまたはWBIOに応答してオンする。ウェハバーンイン信号WBIEまたはWBIOがハイレベルのときは、NチャネルトランジスタNT5およびNT6がオンする。従って、ドライブ信号/DV0-/DV3は強制的にロウレベルの電位とされるので、図4に示されたドライブトランジスタ142adが確実にオフとなる。その結果、サブワード線141cの電位が確実に昇圧電位VPPに上昇する。
【0066】
図7に示された昇圧ドライバ142bにおいては、NチャネルトランジスタNT5およびNT6に与えられるウェハバーンイン信号WBIEまたはWBIOが電源電位VCCまでしか上昇しないので、NチャネルトランジスタNT5およびNT6のゲート絶縁膜は、NチャネルトランジスタNT1-NT4の絶縁膜に比べて薄くしている。このように絶縁膜を薄くすることで、スイッチ速度が早くなり、ドライブ信号/DV0-/DV3の上昇および下降の遅れを抑制することができる。
【0067】
【発明の効果】
以上のようにこの発明によれば、ウェハレベルバーンイン時に確実にワード線を昇圧電位VPPにドライブする半導体装置を得ることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1のDRAMのチップ概観図である。
【図2】 この発明の実施の形態1のメモリアレイの概略図である。
【図3】 この発明の実施の形態1のロウデコーダおよびメモリブロックの概略図である。
【図4】 この発明の実施の形態1のサブワードドライバの回路図である。
【図5】 この発明の実施の形態1の昇圧ドライバの回路図である。
【図6】 この発明の実施の形態1のメモリアレイの回路図である。
【図7】 この発明の実施の形態2の昇圧ドライバの回路図である。
【図8】 従来のワードドライバの回路図である。
【符号の説明】
142ba 昇圧信号発生器、 142bb ドライブ信号発生器
141c サブワード線
142aa ドライブトランジスタ、 142ab ノード
142ad ドライブトランジスタ
142a サブワードドライバ
NT3,NT4 Nチャネルトランジスタ
ND1 出力ノード、 ND2,ND3 ノード
CT カットオフトランジスタ
PT3,PT4 Pチャネルトランジスタ
NT5,NT6 Nチャネルトランジスタ
141b メインワード線
143a センスアンプ
141a ビット線対
SB1-SBn+1 センスアンプバンド
SWDB1-SWDB5 サブワードドライババンド
141d メモリセル、 SMB1-SMB4 サブメモリブロック
142b 昇圧ドライバ
Claims (9)
- 昇圧信号を発生する昇圧信号発生器、
前記昇圧信号とウェハバーンイン信号とを受け、前記昇圧信号が電源電位よりも高い昇圧電位に向けて上昇するのに従いロウレベルの電位となるドライブ信号を出力し、ウェハバーンイン信号の活性化時前記昇圧信号に応答して前記ドライブ信号を前記ロウレベルの電位とするドライブ信号発生器、
複数のワード線、および
前記複数のワード線それぞれと前記昇圧信号発生器の出力とに接続され、各々が、ワード線選択信号に従って前記昇圧信号を対応したワード線に伝えるための第1のドライブトランジスタと、前記対応したワード線とワード線用のロウレベルの電位が与えられるノードとの間に接続され、前記ドライブ信号を受けるゲートを有し前記ドライブ信号がロウレベルのときにオフする第2のドライブトランジスタとを含む複数のワードドライバを備え、
前記ドライブ信号発生器は、前記ドライブ信号を出力するための出力ノードと前記ロウレベルの電位が与えられるノードとの間に接続され、前記昇圧信号を受けるゲートを有するNチャネルトランジスタ、および前記出力ノードとハイレベルの電位が与えられるノードとの間に直列に接続されるカットオフトランジスタおよびPチャネルトランジスタを含み、前記カットオフトランジスタは前記ウェハバーンイン信号の活性化に応答してオフとなり、前記Pチャネルトランジスタは前記昇圧信号を受けるゲートを有する、半導体装置。 - 前記カットオフトランジスタは、前記Pチャネルトランジスタよりも薄いゲート絶縁膜を有する請求項1記載の半導体装置。
- 昇圧信号を発生する昇圧信号発生器、
前記昇圧信号とウェハバーンイン信号とを受け、前記昇圧信号が電源電位よりも高い昇圧電位に向けて上昇するのに従いロウレベルの電位となるドライブ信号を出力し、ウェハバーンイン信号の活性化時前記昇圧信号に応答して前記ドライブ信号を前記ロウレベルの電位とするドライブ信号発生器、
複数のワード線、および
前記複数のワード線それぞれと前記昇圧信号発生器の出力とに接続され、各々が、対応のワード線を指定するワード線選択信号に従って前記昇圧信号を対応したワード線に伝えるための第1のドライブトランジスタ、および前記対応したワード線とワード線用のロウレベルの電位が与えられるノードとの間に接続され、前記ドライブ信号を受けるゲートを有し、該ゲート電位に従って選択的に前記ロウレベル電位を対応のワード線に伝達するとともに該ゲート電位がロウレベルの時にオフする第2のドライブトランジスタを含む複数のワードドライバを備え、
前記ドライブ信号発生器は、前記ドライブ信号を出力するための出力ノードと前記ロウレベルの電位が与えられるノードとの間に接続され、前記昇圧信号を受けるゲートを有する第1のNチャネルトランジスタと、前記出力ノードとハイレベルの電位が与えられるノードとの間に接続され、前記昇圧信号を受けるゲートを有するPチャネルトランジスタと、前記出力ノードと前記ロウレベルの電位が与えられるノードとの間に前記第1のNチャネルトランジスタと並列に接続され、前記ウェハバーンイン信号の活性化に応答してオンする第2のNチャネルトランジスタを含む、半導体装置。 - 前記第2のNチャネルトランジスタは、前記第1のNチャネルトランジスタよりも薄いゲート絶縁膜を有する、請求項3記載の半導体装置。
- 第1の方向に延びる複数のメインワード線、
前記第1の方向に沿って配置され、前記第1の方向と交差する第2の方向に沿って延びる複数のビット線対にそれぞれ接続される複数のセンスアンプを含むセンスアンプバンド、
前記第1の方向に沿って延びるとともに各前記メインワード線に対応して所定数配置される複数のサブワード線、
第2の方向に沿って前記複数のサブワード線に対応して配置され、各々が、前記複数のメインワード線の対応する1つに接続されるゲートを有し、該ゲート電位に従って複数の昇圧信号の対応の1つを対応のサブワード線に伝えるための第1のドライブトランジスタと、前記対応のサブワード線とサブワード線用のロウレベルの電位が与えられるノードとの間に接続され、前記複数の昇圧信号にそれぞれ対応した複数のドライブ信号の対応の1つを受けるゲートを有し、該ゲート電位に従って前記ノードのロウレベル電位を対応のサブワード線に伝達し、該ゲート電位がロウレベルの時にオフする第2のドライブトランジスタとを含む複数のサブワードドライバを含む、前記センスアンプバンドと交差する方向に配置されるサブワードドライババンド、
前記複数のビット線対と前記複数のサブワード線との交差部に対応して配置される複数のメモリセルを含むサブメモリブロック、および
前記センスアンプバンドとサブワードドライババンドとの交差領域に配置され、前記複数の昇圧信号を発生する昇圧信号発生器と、前記複数の昇圧信号とウェハバーンイン信号とを受け、与えられた昇圧信号が電源電位よりも高い昇圧電位に向けて上昇するのに従い対応のドライブ信号をドライブ信号用のロウレベルの電位とし、与えられたウェハバーンイン信号の活性化に応答して該対応のドライブ信号を前記ドライブ信号用のロウレベルの電位とするドライブ信号発生器とを含む昇圧ドライバを備え、
前記ドライブ信号発生器は、各対応のドライブ信号を出力するための出力ノードと前記ドライブ信号用のロウレベルの電位が与えられるノードとの間に接続され、対応の昇圧信号を受けるゲートを有するNチャネルトランジスタ、および前記出力ノードとハイレベルの電位が与えられるノードとの間に直列に接続されるカットオフトランジスタおよびPチャネルトランジスタを含み、前記カットオフトランジスタは前記ウェハバーンイン信号の活性化に応答してオフとなり、前記Pチャネルトランジスタは前記対応の昇圧信号を受けるゲートを有する、半導体装置。 - 前記カットオフトランジスタは、前記Pチャネルトランジスタよりも薄いゲート絶縁膜を有する、請求項5記載の半導体装置。
- 第1の方向に延びる複数のメインワード線、
前記第1の方向に沿って延在するように配置され、各前記メインワード線に対応して所定数が配置される複数のサブワード線、
前記第1の方向と交差する第2の方向に沿って延在するように配置される複数のビット線対、
第1の方向に沿って配置され、前記複数のビット線対にそれぞれ接続される複数のセンスアンプを含むセンスアンプバンド、
前記第2の方向に沿って配置されるとともに前記複数のサブワード線それぞれに対応して配置されて、各々が、前記複数のメインワード線の対応する1つに接続されるゲートを有し、該ゲート電位に従って選択的に複数の昇圧信号の対応の1つを対応のサブワード線に伝えるための第1のドライブトランジスタと、前記対応のサブワード線とサブワード線用のロウレベルの電位が与えられるノードとの間に接続され、前記複数の昇圧信号にそれぞれ対応した複数のドライブ信号の対応の1つを受けるゲートを有し、該ゲート電位に従って選択的に前記ロウレベル電位を対応のワード線に伝達するとともに該ゲート電位がロウレベルの時にオフする第2のドライブトランジスタとを含む複数のサブワードドライバを含み、前記センスアンプバンドと交差するサブワードドライババンド、
前記複数のビット線対と前記複数のサブワード線との交差部に対応して配置される複数のメモリセルを含むサブメモリブロック、および
前記センスアンプバンドとサブワードドライババンドとの交差領域に配置され、前記複数の昇圧信号を発生する昇圧信号発生器と、前記複数の昇圧信号とウェハバーンイン信号とを受け、与えられた昇圧信号が電源電位よりも高い昇圧電位に向けて上昇するのに従い対応のドライブ信号をドライブ信号用のロウレベルの電位とし、与えられたウェハバーンイン信号の活性化時該対応のドライブ信号を前記ドライブ信号用のロウレベルの電位とするドライブ信号発生器とを含む昇圧ドライバを備え、
前記ドライブ信号発生器は、対応のドライブ信号を出力するための出力ノードと前記ドライブ信号用のロウレベルの電位が与えられるノードとの間に接続され、対応の昇圧信号を受けるゲートを有する第1のNチャネルトランジスタと、前記出力ノードとハイレベルの電位が与えられるノードとの間に接続され、前記対応の昇圧信号を受けるゲートを有するPチャネルトランジスタと、前記出力ノードと前記ドライブ信号用のロウレベルの電位が与えられるノードとの間に前記第1のNチャネルトランジスタと並列に接続され、前記与えられたウェハバーンイン信号の活性化に応答してオンする第2のNチャネルトランジスタを含む、半導体装置。 - 前記第2のNチャネルトランジスタは、前記第1のNチャネルトランジスタよりも薄いゲート絶縁膜を有する、請求項7記載の半導体装置。
- 前記カットオフトランジスタは、Pチャネルトランジスタからなる、請求項1または2記載の半導体装置。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH07201197A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-04 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
JPH08339698A (ja) * | 1995-05-31 | 1996-12-24 | United Memories Inc | メモリデバイスのメモリセルアクセス方法及びアクセス回路 |
JPH11260054A (ja) * | 1998-01-08 | 1999-09-24 | Mitsubishi Electric Corp | ダイナミック型半導体記憶装置 |
Family Cites Families (1)
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07201197A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-08-04 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体記憶装置 |
JPH08339698A (ja) * | 1995-05-31 | 1996-12-24 | United Memories Inc | メモリデバイスのメモリセルアクセス方法及びアクセス回路 |
JPH11260054A (ja) * | 1998-01-08 | 1999-09-24 | Mitsubishi Electric Corp | ダイナミック型半導体記憶装置 |
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