JP4556566B2 - Electro-optical device and electronic apparatus - Google Patents
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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- H10K59/10—OLED displays
- H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
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Description
本発明は、有機薄膜を用いて構成される電気光学装置および半導体装置に関するものである。また、電気光学装置を用いた電子機器にも関するものである。 The present invention relates to an electro-optical device and a semiconductor device configured using an organic thin film. The present invention also relates to an electronic device using an electro-optical device.
近年、有機エレクトロルミネッセンス素子や発光ポリマー素子などと呼ばれる有機発光ダイオード素子（Organic Light Emitting Diode、以下適宜「ＯＬＥＤ素子」と略称する）を画素として用いた電気光学装置の開発が進められている。ＯＬＥＤ素子は、陽極と陰極との間に発光層等の有機機能層を挟持した構成を備えており、最近では、有機物材料を溶解した液体材料をインクジェット法によって基板上パターン配置する方法を採用した電気光学装置の開発が行われている。このような電気光学装置では、画素毎を区画する隔壁部材を基板上に設け、この隔壁部材で囲まれた領域内に上記液体材料を吐出するならば、基板上に正確に上記有機機能層を形成することが可能である。 In recent years, an electro-optical device using an organic light emitting diode element (Organic Light Emitting Diode, hereinafter abbreviated as “OLED element” as appropriate) called an organic electroluminescence element or a light emitting polymer element has been developed. The OLED element has a configuration in which an organic functional layer such as a light emitting layer is sandwiched between an anode and a cathode. Recently, a method of arranging a liquid material in which an organic material is dissolved on a substrate by an ink jet method is adopted. An electro-optical device is being developed. In such an electro-optical device, if the partition member for partitioning each pixel is provided on the substrate and the liquid material is discharged into a region surrounded by the partition member, the organic functional layer is accurately formed on the substrate. It is possible to form.
例えば特許文献１では、材質の異なる２層構造の隔壁部材の表面に撥液処理を施し、それらと液体材料との親和性の差異によって液体材料を電極上に均一に配置することが提案されている。
For example,
図１８は、従来の電気光学装置の一部断面図であり、図１９は、従来の電気光学装置における有機機能層の乾燥工程を模式的に示す図である。ＯＬＥＤ素子は、基板上に所定のパターンで区分された画素ごとに作製される。隣接する画素にインクジェットプロセスによって吐出されたインクが流出しないように、仕切部材（以下、隔壁という）２４２が互いに隣接する画素間に設けられている。この隔壁２４２は、基板２１０上に形成された図示しない画素電極上の液滴吐出領域ＲSを囲むように形成される第１の隔壁２４３と、その上部に形成される第２の隔壁２４４と、から構成される。ここで、第１の隔壁２４３の上面の開口部よりも第２の隔壁２４４の下面の開口部の方が大きくなるように、その断面が段差状に構成されている。また、第１の隔壁２４３と画素電極は、親液性を有する無機材料によって形成され、第２の隔壁２４４は、撥液性を有する有機材料によって形成される。このような隔壁２４２によって囲まれた各液滴吐出領域ＲSには、インクジェットプロセスで吐出された液滴の表面が、図１９の線Ｌ１に示されるように、第２の隔壁２４４の上面よりも盛り上がるように盛られる。そして、この液滴を乾燥させることで、液滴の表面が線Ｌ１〜Ｌ４に示されるように徐々に下がり、最終的に乾燥によって表面が線Ｌ４のような有機ＥＬ薄膜２４５が形成される。
FIG. 18 is a partial cross-sectional view of a conventional electro-optical device, and FIG. 19 is a diagram schematically illustrating a drying process of an organic functional layer in the conventional electro-optical device. The OLED element is manufactured for each pixel divided in a predetermined pattern on the substrate. A partition member (hereinafter referred to as a partition) 242 is provided between adjacent pixels so that ink ejected by the inkjet process does not flow out to adjacent pixels. The
しかしながら、第１の隔壁２４３の上面の一部には、第２の隔壁２４４が形成されていない平坦部２５１が存在する。この平坦部２５１は、第１の隔壁２４３によって形成されるので、親液性を有する。そのため、隔壁２４２に囲まれる液滴吐出領域ＲS内に盛られた液滴が乾燥によってその表面が低下する際に、上記平坦部２５１に液滴２４５ａが残留してしまうという問題点があった。その結果、液滴が乾燥した有機ＥＬ薄膜２４５の膜厚は、液滴吐出領域ＲSの周縁部では薄くなってしまい、膜厚が一様にならない。また、第１の隔壁２４３と有機ＥＬ薄膜２４５とが接触する部分の周縁において、有機ＥＬ薄膜２４５の膜厚が不均一となる問題があった。
However, a
また、従来の電気光学装置では、発光領域となる面積を増加させるためには、液滴吐出領域を純粋な矩形状とする必要があるが、矩形状の液滴吐出領域に基板の表面からの高さが一様な有機ＥＬ薄膜を作製することは困難であった。以上のように、これらの有機ＥＬ薄膜の膜厚や表面の高さの不均一性が、発光輝度の不均一性の原因となってしまっていた。 In addition, in the conventional electro-optical device, in order to increase the area serving as the light emitting region, the droplet discharge region needs to be a pure rectangular shape. However, the rectangular droplet discharge region from the surface of the substrate is necessary. It was difficult to produce an organic EL thin film having a uniform height. As described above, the nonuniformity of the film thickness and the surface height of these organic EL thin films has caused the nonuniformity of the light emission luminance.
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、隔壁に囲まれる液滴吐出領域内に盛られた液滴が乾燥させてなる薄膜の膜厚を均一とすることが可能な電気光学装置を提供することを目的とする。さらに、上記電気光学装置を使用した電子機器を提供することも目的とする。 The present invention has been made in view of the above, and is an electro-optical device capable of making the thickness of a thin film formed by drying droplets accumulated in a droplet discharge region surrounded by a partition wall uniform. The purpose is to provide. It is another object of the present invention to provide an electronic apparatus using the electro-optical device.
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の電気光学装置は、有機発光ダイオードを備える電気光学装置であって、基板上に設けられた第１電極と、前記第１電極上における所定の領域を囲むように設けられた隔壁と、前記所定の領域において前記第１電極上に設けられ、少なくとも有機の発光層を含む機能層と、前記機能層の上及び前記隔壁の上に連続して設けられた第２電極と、を備え、前記隔壁は、前記第１電極の周縁部の上に設けられるとともに、前記所定の領域を囲むように設けられた第１の隔壁と、前記第１の隔壁の上に形成され、前記所定の領域を囲むように設けられた第２の隔壁と、を有し、前記第１の隔壁は、前記機能層を形成するための組成物に対して親液性であり、前記第２の隔壁は、前記機能層を形成するための組成物に対して撥液性であり、前記第２の隔壁は、断面において前記基板に近づくにつれて幅が広くなる形状であり、前記第１の隔壁は、第２電極側から見たとき、前記第２の隔壁により覆われるように設けられている、ことを特徴とする。
また、本発明の電気光学装置は、上記の電気光学装置であって、前記第１の隔壁の厚さは、前記機能層の厚さに比して厚く、前記第１の隔壁の前記機能層と接する面が前記基板表面となす角度は、垂直または鈍角であることを特徴とする。
また、本発明の電気光学装置は、上記の電気光学装置であって、前記機能層は、前記発光層の下層として形成され、かつ、該発光層による発光を補助する補助層をさらに備え、前記第１の隔壁の厚さは前記補助層と比して厚く、前記第１の隔壁は、断面において前記基板に近づくにつれて幅が広くなる形状であり、前記第１の隔壁と前記補助層とが接する部位は、第２電極側から見たとき、前記第２の隔壁により覆われるように設けられている、
ことを特徴とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の電気光学装置の製造方法は、有機発光ダイオードを備える電気光学装置の製造方法であって、基板上に複数の第１電極に形成する工程と、前記複数の第１電極の周縁部の上に第１の隔壁を形成する工程と、断面において前記基板に近づくにつれて幅が広くなる形状となるとともに、前記基板とは反対側から見たとき前記第１の隔壁を覆うように、前記第１の隔壁の上に第２の隔壁を形成する工程と、前記第１及び第２の隔壁で囲まれた領域に、機能層を形成するための材料を含む組成物をインクジェットプロセスにより塗布する工程と、前記組成物を乾燥させ、機能層を形成する工程と、前記機能層の上及び前記隔壁の上に連続する第２電極を形成する工程と、を備え、前記第１の隔壁は、前記組成物に対して親液性であり、前記第２の隔壁は、前記組成物に対して撥液性である、ことを特徴とする。
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、上記の電気光学装置の製造方法であって、前記側面部が前記基板表面となす角度は、垂直または鈍角であることを特徴とする。
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、上記の電気光学装置の製造方法であって、前記第１の隔壁は、断面において前記基板に近づくにつれて幅が広くなる形状であることを特徴とする。
また、本発明の電気光学装置の製造方法は、上記の電気光学装置の製造方法であって、前記組成物をインクジェットプロセスにより塗布する工程の前に、前記第２の隔壁をフッ素プラズマに曝す工程をさらに含むことを特徴とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明は、基板上に複数の領域を形成するために各領域間を分離し、側面部と上面部からなり親液性を有する前記領域を囲む第１の隔壁と、該第１の隔壁の上面部の少なくとも一部に形成され撥液性を有する第２の隔壁とからなる隔壁と、前記隔壁に囲まれる領域内に形成される少なくとも発光層を含む機能層と、前記機能層を挟む一対の電極とを備える電気光学装置であって、前記第１の隔壁の厚さは、前記機能層の厚さに比して厚く、前記第２の隔壁は前記第１の隔壁の上面部のすべてを覆って形成されることを特徴とする。この発明によれば、第１の隔壁の上面が現れないので、隔壁によって囲まれる領域に滴下される液滴が乾燥する際に、前記第１の隔壁の上面に液滴が引きずられることがない。また、第１の隔壁の下面によって囲まれる領域に形成される機能層の厚さが均一となる。したがって、機能層の厚さが一様となるので、１つの隔壁によって囲まれる領域における発光輝度も一様となるという効果を有する。
なお、電気光学装置とは、電気光学素子を備える表示装置を意味する。電気光
学素子とは、電気的な作用により光学特性が変化する素子の意であり、例えば、液晶、有機ＥＬ発光ダイオード等が含まれる。
In order to solve the above-described problems and achieve the object, an electro-optical device of the present invention is an electro-optical device including an organic light emitting diode, and includes a first electrode provided on a substrate, and the first electrode. A partition provided so as to surround a predetermined region, a functional layer provided on the first electrode in the predetermined region and including at least an organic light emitting layer, and on the functional layer and the partition A second electrode provided continuously, and the partition is provided on a peripheral portion of the first electrode, and the first partition provided so as to surround the predetermined region; And a second partition wall formed on the first partition wall so as to surround the predetermined region, wherein the first partition wall is formed with respect to the composition for forming the functional layer. Lyophilic and the second partition forms the functional layer Liquid repellent with respect to the composition for the above, the second partition has a shape that becomes wider in the cross section as it approaches the substrate, and the first partition is viewed from the second electrode side. And is provided so as to be covered by the second partition wall.
The electro-optical device according to the aspect of the invention is the electro-optical device described above, wherein the thickness of the first partition is larger than the thickness of the functional layer, and the functional layer of the first partition. The angle between the surface in contact with the substrate surface and the substrate surface is vertical or obtuse.
The electro-optical device of the present invention is the above-described electro-optical device, wherein the functional layer is further formed as a lower layer of the light-emitting layer, and further includes an auxiliary layer that assists light emission by the light-emitting layer, The first partition wall is thicker than the auxiliary layer, and the first partition wall has a shape that increases in width as it approaches the substrate in cross section. The first partition wall and the auxiliary layer are The contact portion is provided so as to be covered with the second partition when viewed from the second electrode side.
It is characterized by that.
In order to solve the above-described problems and achieve the object, an electro-optical device manufacturing method of the present invention is an electro-optical device manufacturing method including an organic light emitting diode, and is formed on a plurality of first electrodes on a substrate. A step of forming first partition walls on the peripheral edge portions of the plurality of first electrodes, and a shape that increases in width as it approaches the substrate in cross section, and is viewed from the opposite side of the substrate. Forming a second partition on the first partition so as to cover the first partition, and forming a functional layer in a region surrounded by the first and second partitions. A step of applying a composition containing a material for forming by an inkjet process, a step of drying the composition to form a functional layer, and forming a second electrode continuous on the functional layer and on the partition wall A first step. Is lyophilic with respect to the composition, the second partition is liquid repellent with respect to the composition, characterized in that.
The electro-optical device manufacturing method of the present invention is the above-described electro-optical device manufacturing method, wherein the angle formed by the side surface portion with the substrate surface is vertical or obtuse.
The electro-optical device manufacturing method of the present invention is the above-described electro-optical device manufacturing method, characterized in that the first partition wall has a shape whose width increases as it approaches the substrate in cross section. To do.
The electro-optical device manufacturing method of the present invention is the above-described electro-optical device manufacturing method, wherein the second partition wall is exposed to fluorine plasma before the step of applying the composition by an inkjet process. Is further included.
In order to solve the above-described problems and achieve the object, the present invention separates each region in order to form a plurality of regions on the substrate, and the region having a lyophilic property composed of a side surface portion and an upper surface portion. A first partition wall surrounding the first partition wall, a partition wall formed on at least a part of the upper surface of the first partition wall and having liquid repellency, and at least formed in a region surrounded by the partition wall An electro-optical device comprising a functional layer including a light emitting layer and a pair of electrodes sandwiching the functional layer, wherein the thickness of the first partition is larger than the thickness of the functional layer, The second partition wall is formed to cover the entire upper surface of the first partition wall. According to the present invention, since the upper surface of the first partition wall does not appear, when the droplet dropped on the region surrounded by the partition wall is dried, the droplet is not dragged on the upper surface of the first partition wall. . In addition, the thickness of the functional layer formed in the region surrounded by the lower surface of the first partition is uniform. Therefore, since the thickness of the functional layer is uniform, the light emission luminance in the region surrounded by one partition wall is uniform.
Note that the electro-optical device means a display device including an electro-optical element. Electric light
The term “scientific element” means an element whose optical characteristics are changed by an electrical action, and includes, for example, a liquid crystal, an organic EL light emitting diode, and the like.
また、本発明の好ましい態様によれば、上記の発明において、前記第１の隔壁の前記領域を囲む側面部の傾斜角は、前記第２の隔壁の前記領域を囲む側面部の傾斜角よりも小さいことを特徴とする。この発明によれば、機能層の第１の隔壁と接触する先端部分は、上方に引きずられるが、その部分の基板表面からの高さを、他の機能層の基板表面からの高さに比して同等の高さとすることができる。また、第１の隔壁の下面によって囲まれる領域に形成される機能層の厚さが均一となる。したがって、隔壁によって囲まれる領域における発光輝度も一様となるという効果を有する。 According to a preferred aspect of the present invention, in the above invention, the inclination angle of the side surface surrounding the region of the first partition is greater than the inclination angle of the side surface surrounding the region of the second partition. It is small. According to the present invention, the tip portion of the functional layer that contacts the first partition is dragged upward, but the height of the portion from the substrate surface is compared with the height of the other functional layer from the substrate surface. And can be made the same height. In addition, the thickness of the functional layer formed in the region surrounded by the lower surface of the first partition is uniform. Therefore, the light emission luminance in the region surrounded by the partition walls is uniform.
また、本発明の好ましい態様によれば、上記の発明において、前記第１の隔壁は、側面部と上面部からなり親液性を有する前記領域を囲む第３の隔壁と、該第３の隔壁の上面部の少なくとも一部に形成され親液性を有する第４の隔壁とからなることを特徴とする。この発明によれば、補助層の第３の隔壁の下面部によって囲まれる領域における厚さが均一となるとともに、第３の隔壁によって囲まれる領域における基板表面からの高さが一様になる。その結果、この補助層の上部に形成される発光層の厚さも均一にすることができる。したがって、機能層での発光輝度を一様とすることができるという効果を有する。 According to a preferred aspect of the present invention, in the above invention, the first partition wall includes a third partition wall that includes a side surface portion and an upper surface portion and surrounds the lyophilic region, and the third partition wall. And a fourth partition wall having a lyophilic property, which is formed on at least a part of the upper surface portion of the substrate. According to this invention, the thickness of the region surrounded by the lower surface portion of the third partition wall of the auxiliary layer becomes uniform, and the height from the substrate surface in the region surrounded by the third partition wall becomes uniform. As a result, the thickness of the light emitting layer formed on the auxiliary layer can be made uniform. Therefore, there is an effect that the light emission luminance in the functional layer can be made uniform.
また、本発明の好ましい態様によれば、上記の発明において、前記機能層は、前記発光層の下層として形成され、該発光層による発光を補助する補助層を備え、前記第３の隔壁の厚さは、前記補助層の厚さに比して厚く、前記第２の隔壁の前記領域を囲む側面部の傾斜角は、前記第３及び第４の隔壁の前記領域を囲む側面部の傾斜角よりも大きいことを特徴とする。この発明によれば、補助層の第３の隔壁と接触する先端部分は上方に引きずられるが、その部分の基板表面からの高さが、他の補助層の基板表面からの高さに比して同等の高さに保たれる。また、第３の隔壁の下面部によって囲まれる領域の補助層の厚さは一様となる。同様に補助層上に形成される発光層の第４の隔壁と接触する先端部分は上方に引きずられるが、その部分の基板表面からの高さが、他の発光層の基板表面からの高さに比して同等の高さに保たれ、補助層の上部に積層される部分の発光層の厚さも一様となる。その結果、隔壁によって囲まれる領域における発光輝度を一様にすることができるという効果を有する。 According to a preferred aspect of the present invention, in the above invention, the functional layer is formed as a lower layer of the light emitting layer, and includes an auxiliary layer that assists light emission by the light emitting layer, and the thickness of the third partition wall. The inclination angle of the side surface portion surrounding the region of the second partition wall is larger than the thickness of the auxiliary layer, and the inclination angle of the side surface portion surrounding the region of the third and fourth partition walls. It is characterized by being larger than. According to the present invention, the tip portion of the auxiliary layer contacting the third partition is dragged upward, but the height of the portion from the substrate surface is higher than the height of the other auxiliary layer from the substrate surface. Are kept at the same height. Further, the thickness of the auxiliary layer in the region surrounded by the lower surface portion of the third partition wall is uniform. Similarly, the tip portion of the light emitting layer formed on the auxiliary layer that is in contact with the fourth partition is dragged upward, and the height of the portion from the substrate surface is the height of the other light emitting layer from the substrate surface. The thickness of the light emitting layer in the portion laminated on the auxiliary layer is also uniform. As a result, the light emission luminance in the region surrounded by the partition walls can be made uniform.
また、本発明の好ましい態様によれば、上記の発明において、前記機能層は、前記発光層の下層として形成され、該発光層による発光を補助する補助層を備え、前記第３の隔壁の厚さは、前記補助層の厚さに比して厚く、前記第１の隔壁の厚さは、前記機能層の厚さに比して厚い有することを特徴とする。この発明によれば、補助層の第３の隔壁と接触する先端部分は上方に引きずられるが、その部分の基板表面からの高さが、他の補助層の基板表面からの高さに比して同等の高さに保たれる。また、第４の隔壁の下面部によって囲まれる領域の補助層の厚さは一様となる。同様に、機能層の第３の隔壁あるいは第４の隔壁と接触する先端部分は上方に引きずられるが、その部分の基板表面からの高さが、機能層の基板表面からの高さに比して同等の高さに保たれる。また、第３の隔壁の下面部によって囲まれる領域の機能層の厚さは一様となる。そのため、発光層の厚さが一様となる。その結果、隔壁によって囲まれる領域における発光輝度を一様にすることができるという効果を有する。 According to a preferred aspect of the present invention, in the above invention, the functional layer is formed as a lower layer of the light emitting layer, and includes an auxiliary layer that assists light emission by the light emitting layer, and the thickness of the third partition wall. The thickness of the first partition is thicker than the thickness of the auxiliary layer, and the thickness of the first partition is thicker than the thickness of the functional layer. According to the present invention, the tip portion of the auxiliary layer contacting the third partition is dragged upward, but the height of the portion from the substrate surface is higher than the height of the other auxiliary layer from the substrate surface. Are kept at the same height. Further, the thickness of the auxiliary layer in the region surrounded by the lower surface portion of the fourth partition wall is uniform. Similarly, the tip portion of the functional layer in contact with the third partition wall or the fourth partition wall is dragged upward, but the height of the portion from the substrate surface is higher than the height of the functional layer from the substrate surface. Are kept at the same height. Further, the thickness of the functional layer in the region surrounded by the lower surface portion of the third partition wall is uniform. Therefore, the thickness of the light emitting layer is uniform. As a result, the light emission luminance in the region surrounded by the partition walls can be made uniform.
また、上記の発明において、前記第３の隔壁は、前記第４の隔壁に比して親液性が高く、前記第２の隔壁は前記第４の隔壁と比して撥液性が高いことを特徴とする。機能層が複数の層から構成される場合、機能層第１層を形成する際に第３の隔壁は親液性を示し第２隔壁あるいは第４隔壁は撥液性を示すと共に、機能層第２層以降を形成する際に第４の隔壁は親液性を示し第２隔壁は撥液性を示す。この発明によれば、機能層第１層の厚さを一様とできる。そのため、機能層第２層以降の機能層の厚さが一様となる。 In the above invention, the third partition wall is higher in lyophilicity than the fourth partition wall, and the second partition wall is higher in liquid repellency than the fourth partition wall. It is characterized by. When the functional layer is composed of a plurality of layers, when the first functional layer is formed, the third partition wall is lyophilic and the second partition wall or the fourth partition wall is lyophobic. When forming two or more layers, the fourth partition wall is lyophilic and the second partition wall is liquid repellent. According to this invention, the thickness of the functional layer first layer can be made uniform. Therefore, the thickness of the functional layer after the second functional layer is uniform.
また、本発明の好ましい態様によれば、上記の発明において、前記第３の隔壁及び前記第４の隔壁からなる前記第１の隔壁は、前記機能層の厚さに比して十分な厚さを有し、前記第２の隔壁は、前記第４の隔壁の上面部のすべてを覆って形成されることを特徴とする。この発明によれば、親液性の第４の隔壁部分に液滴が取り残されず機能層の表面の高さ方向ばらつきが抑えることができる。 According to a preferred aspect of the present invention, in the above invention, the first partition composed of the third partition and the fourth partition is sufficiently thicker than a thickness of the functional layer. The second partition wall is formed so as to cover the entire upper surface of the fourth partition wall. According to this invention, liquid droplets are not left in the lyophilic fourth partition wall portion, and variations in the height direction of the surface of the functional layer can be suppressed.
また、本発明の好ましい態様によれば、上記の発明において、前記機能層は、前記発光層の下層として形成され、該発光層による発光を補助する補助層を備え、前記第３の隔壁の厚さは、前記補助層の厚さに比して厚く、前記第４の隔壁は、前記第３の隔壁の上面部のすべてを覆って形成されることを特徴とする。この発明によれば、親液性の第３の隔壁部分に液滴が取り残されず補助層の表面の高さ方向ばらつきが抑えることができる。 According to a preferred aspect of the present invention, in the above invention, the functional layer is formed as a lower layer of the light emitting layer, and includes an auxiliary layer that assists light emission by the light emitting layer, and the thickness of the third partition wall. The fourth partition wall is formed to cover the entire upper surface of the third partition wall, and is thicker than the auxiliary layer. According to this invention, liquid droplets are not left in the lyophilic third partition wall portion, and variations in the height direction of the surface of the auxiliary layer can be suppressed.
また、本発明の好ましい態様によれば、上記の発明において、前記第１の隔壁の第１開口部が前記第２の隔壁の第２開口部より広く形成されていることを特徴とする。この発明によれば、隔壁が形成される側から基板を観察した場合に、前記領域に形成された機能層の一部が隠される。この隠される部分は、機能層の第１の隔壁と接触する部分であり、基板表面からの高さが他の部分に比べてわずかに不均一性を有する部分である。この部分は一対の電極間に流す電流経路ではないので隔壁によって囲まれる領域における発光輝度も一様となるという効果を有する。 According to a preferred aspect of the present invention, in the above invention, the first opening of the first partition is formed wider than the second opening of the second partition. According to this invention, when the substrate is observed from the side where the partition walls are formed, a part of the functional layer formed in the region is hidden. This hidden portion is a portion in contact with the first partition wall of the functional layer, and is a portion where the height from the substrate surface is slightly non-uniform compared to other portions. Since this portion is not a current path flowing between the pair of electrodes, the light emission luminance in the region surrounded by the partition wall is uniform.
また、本発明の好ましい態様によれば、上記の発明において、前記第１の隔壁は、前記機能層の厚さに比して十分な厚さを有し、前記第２の隔壁の前記領域を囲む側面部が前記基板表面に平行な面となす角度は、垂直または鈍角であることを特徴とする。 According to a preferred aspect of the present invention, in the above invention, the first partition wall has a sufficient thickness as compared with the thickness of the functional layer, and the region of the second partition wall is The angle formed by the surrounding side surface and the plane parallel to the substrate surface is vertical or obtuse.
この発明によれば、隔壁が形成される側から基板を観察した場合に、前記領域に形成された機能層の一部が隠される。この隠される部分は、機能層の第１の隔壁と接触する部分であり、基板表面からの高さが他の部分に比べてわずかに不均一性を有する部分である。これによって、この部分の機能層を流れる電流は絶縁性を有する第２の隔壁によって遮られ、隔壁によって囲まれる領域における発光輝度も一様となるという効果を有する。 According to this invention, when the substrate is observed from the side where the partition walls are formed, a part of the functional layer formed in the region is hidden. This hidden portion is a portion in contact with the first partition wall of the functional layer, and is a portion where the height from the substrate surface is slightly non-uniform compared to other portions. As a result, the current flowing through the functional layer in this portion is blocked by the insulating second partition, and the light emission luminance in the region surrounded by the partition is uniform.
また、本発明の好ましい態様によれば、上記の発明において、前記機能層は、前記発光層の下層として形成され、該発光層による発光を補助する補助層を備え、前記第１の隔壁の厚さは、前記補助層の厚さと比して厚く、前記第２の隔壁の下面部は、前記第１の隔壁の上面部よりも前記領域側に張り出して形成されることを特徴とする。この発明によれば、補助層の第１の隔壁によって囲まれる領域における厚さが均一となるとともに、基板表面からの高さが一様になる。したがって、この補助層の上部に形成される発光層での発光輝度を一様とすることができるという効果を有する。 According to a preferred aspect of the present invention, in the above invention, the functional layer is formed as a lower layer of the light emitting layer, and includes an auxiliary layer that assists light emission by the light emitting layer, and the thickness of the first partition wall. The thickness of the second partition wall is larger than the thickness of the auxiliary layer, and the lower surface portion of the second partition wall is formed to protrude from the upper surface portion of the first partition wall to the region side. According to the present invention, the thickness of the auxiliary layer in the region surrounded by the first partition is uniform, and the height from the substrate surface is uniform. Therefore, there is an effect that the light emission luminance in the light emitting layer formed on the auxiliary layer can be made uniform.
また、本発明の好ましい態様によれば、電子機器に上記のいずれか１つに記載の電気光学装置を備えることを特徴とする。この発明によれば、各画素内の発光層を有する機能層の厚さのばらつきが抑制される。したがって、機能層による発光輝度が一様となり、電子機器の表示品質を向上することができる。 According to a preferred aspect of the present invention, the electronic apparatus includes the electro-optical device according to any one of the above. According to the present invention, variation in the thickness of the functional layer having the light emitting layer in each pixel is suppressed. Therefore, the light emission luminance by the functional layer becomes uniform, and the display quality of the electronic device can be improved.
以下に添付図面を参照して、本発明にかかる電気光学装置および電子機器の好適な実施形態を詳細に説明する。ただし、以下では、ＯＬＥＤ素子を使用した電気光学装置（半導体装置）を例に挙げて説明するが、これらの実施形態により本発明が限定されるものではない。また、以下の実施形態で用いられる電気光学装置の断面図は模式的なものであり、層の厚みと幅との関係や各層の厚みの比率などは現実のものとは異なる。 Exemplary embodiments of an electro-optical device and an electronic apparatus according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. In the following, an electro-optical device (semiconductor device) using an OLED element will be described as an example, but the present invention is not limited to these embodiments. The cross-sectional views of the electro-optical device used in the following embodiments are schematic, and the relationship between the thickness and width of the layers, the ratio of the thicknesses of the layers, and the like are different from the actual ones.
＜１．第１実施形態＞
図１は、本発明にかかる電気光学装置の配線構造の平面模式図である。この図１に示されるように、電気光学装置１は、複数の走査線１０１と、走査線１０１に対して空間を隔ててほぼ直角に交差する方向に延びる複数の信号線１０２と、信号線１０２に並列に延びる複数の電源線１０３とが、それぞれ配線された構成を有する。そして、走査線１０１と信号線１０２の各交点付近に、すなわちマトリックス状に、画素領域Ａが設けられている。
<1. First Embodiment>
FIG. 1 is a schematic plan view of a wiring structure of an electro-optical device according to the present invention. As shown in FIG. 1, the electro-
信号線１０２には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオラインおよびアナログスイッチを備えるデータ駆動回路１０４が接続されている。また、走査線１０１には、シフトレジスタおよびレベルシフタを備える走査側駆動回路１０５が接続されている。
A
画素領域Ａのそれぞれには、走査線１０１を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用ＴＦＴ１１２と、このスイッチング用ＴＦＴ１１２を介して信号線１０２から供給される画素信号を保持する保持容量ｃａｐと、この保持容量ｃａｐによって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用ＴＦＴ１１３と、この駆動用ＴＦＴ１１３を介して電源線１０３に電気的に接続した時に電源線１０３から駆動電流が流れ込む画素電極（陽極）４１と、この画素電極４１と対向電極（陰極）４６との間に挟み込まれた機能層４５とが設けられる。これらの画素電極４１と対向電極４６と機能層４５によって、発光素子部が構成されている。なお、機能層４５は、後述する発光層を含む有機ＥＬ薄膜に対応する。
In each of the pixel regions A, a switching
このような電気光学装置１の配線構造によれば、走査線１０１が駆動されてスイッチング用ＴＦＴ１１２がオンになると、そのときの信号線１０２の電位が保持容量ｃａｐに保持され、この保持容量ｃａｐの状態に応じて、駆動用ＴＦＴ１１３のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用ＴＦＴ１１３のチャネルを介して、電源線１０３から画素電極（陽極）４１に電流が流れ、さらに機能層４５を介して対向電極（陰極）４６に電流が流れる。機能層４５は、この流れる電流量に応じて発光する。このような画素領域Ａでの発光を制御することで所望の状態を表示することができる。
According to such a wiring structure of the electro-
図２と図３は、本発明にかかる電気光学装置の画素領域の構造を模式的に示す断面図であり、図２は、図１における機能層４５および駆動用ＴＦＴ１１３の部分のより詳細な構造を示す断面図であり、図３は、図２における機能層４５が形成される液滴吐出領域部分を拡大した断面図である。この電気光学装置１は、基板１０と、この基板１０上にＴＦＴなどの能動素子や配線が形成された駆動素子部２０と、有機ＥＬ薄膜が形成される機能素子部４０とからなる。
2 and 3 are cross-sectional views schematically showing the structure of the pixel region of the electro-optical device according to the present invention. FIG. 2 is a more detailed structure of the
基板１０は、各種のガラス材料、樹脂材料、単結晶を含むセラミックス材料または金属材料などを用いることができ、用途に応じた基板を選択することができるが、図２では基板１０としてガラス基板を使用する場合を例に挙げている。
As the
駆動素子部２０は、スイッチング用ＴＦＴ１１２、駆動用ＴＦＴ１１３、その他の素子や配線を含んで構成される。たとえば駆動用ＴＦＴ１１３は、基板１０上のＳｉＯ2などの下地層２１上の所定の位置に形成される島状のポリシリコンによって形成される。図２には、駆動用ＴＦＴ１１３を切断する断面図が描かれている。そのゲート電極２４は、図１のスイッチング用ＴＦＴ１１２のドレイン電極と電気的に接続されている。また、駆動用ＴＦＴ１１３のソース領域とドレイン領域には、第１と第２の層間絶縁膜２３，２５に形成されたコンタクトホール２６を介してそれぞれソース電極２７とドレイン電極２７が形成される。これらのソース電極２７とドレイン電極２７のうち一方は、図１の電源線１０３と電気的に接続され、他の一方は機能素子部４０の画素電極４１と第３の層間絶縁膜２８に形成されたコンタクトホール２９を介して電気的に接続される。なお、駆動素子部２０の第１〜第３の層間絶縁膜２３，２５，２８は、ＳｉＯ2などの絶縁性材料によって構成される。
The
機能素子部４０は、少なくとも発光層を含む有機ＥＬ薄膜からなる機能層４５と、機能層４５を作動させるための一対の電極４１，４６と、機能層４５を所定の領域に形成するための隔壁４２と、機能層４５を周囲の雰囲気から遮断するためのシール層４７とを含んで構成される。ここで、画素領域と液滴吐出領域の本明細書での用語について説明する。本明細書で、隔壁４２によって囲まれ、機能層４５が形成される領域を液滴吐出領域ＲSという。また、画素領域とは、この電気光学装置がモノクロ表示を行う場合に、液滴吐出領域ＲSを含み、この液滴吐出領域ＲS内の機能層４５を駆動する能動素子が形成される領域をいう。カラー表示が可能な電気光学装置の場合には、モノクロ表示の場合の画素領域を副画素領域と呼ぶものとすると、赤色、緑色および青色のそれぞれの色を発色する３つの副画素領域をまとめたものを画素領域という。したがって、モノクロ表示が可能な電気光学装置とカラー表示が可能な電気光学装置の場合には、画素領域の意味する範囲が異なるが、本明細書では、モノクロ表示が可能な電気光学装置の場合を例に挙げて説明を進める。そのため、カラー表示が可能な電気光学装置の場合に本発明を適用する場合には、「画素領域」を「副画素領域」と読み替える必要がある。
The
機能層４５は、少なくとも発光を行う発光層を含んで構成される。この発光層のほかに、発光層での発光を効率よく行うために設けられる補助層が形成される場合もある。ここで補助層とは、陰極から発光層への電子注入効率を高める電子注入層、電子を発光層に移行させるとともに発光層からの正孔の移行をブロックする電子輸送層、正孔を発光層に移行させるとともに発光層からの電子の移行をブロックする正孔輸送層、陽極から発光層への正孔注入効率を高める正孔注入層などの、発光層における発光を高めるための機能を有する層のことをいう。
The
電極４１，４６は、機能層４５の上下を挟むような形で形成される。以下では、基板１０側に形成される電極４１を画素電極といい、この画素電極に対向して配置される電極４６を対向電極ということもある。機能素子部４０が形成される側から発光を行うトップエミッション型の電気光学装置１の場合には、対向電極４６はインジウムスズ酸化物（以下、ＩＴＯという）などの透明な導電性材料で形成され、画素電極４１は電極として通常使用されるような導電性を有する材料で形成される。また、基板１０側から発光を行うボトムエミッション型の電気光学装置１の場合には、画素電極４１が透明な導電性材料で形成され、対向電極４６は電極として通常使用されるような光反射性及び導電性を有する材料で形成される。さらに、両側から発光する電気光学装置１の場合には、画素電極４１と対向電極４６ともに透明な導電性材料で形成される。図２の例では、駆動素子部２０上に陽極（画素電極）４１、機能層４５、陰極（対向電極）４６がこの順番で積層されている。また、シール層４７は、大気中の水蒸気や酸素などが機能層４５と接触しないように陰極４６上に形成される層であり、各種の樹脂材料を用いることができる。
The
隔壁４２は、液滴吐出領域ＲSを取り囲むように駆動素子部２０上に形成される親液性の第１の隔壁４３と、第１の隔壁４３上に形成される撥液性の第２の隔壁４４とから構成される。ここで、第１の隔壁４３の上面の開口部よりも第２の隔壁４４の下面の開口部の方が大きくなるように、その断面が段差状に構成されている。すなわち、第１の隔壁４３の上面には、平坦部５１が形成される。第１の隔壁４３は、ＳｉＯ2やＴｉＯ2などの親液性を有する無機材料から構成され、第２の隔壁４４は、撥液性を有する材料でもよいし、撥液性を有さなくてもプラズマ処理によって撥液化（たとえばテフロン（Ｒ）化）が可能な材料でもよい。第２の隔壁４４として、プラズマ処理による撥液化（たとえばテフロン（Ｒ）化）が可能で下地の第１の隔壁４３との密着性がよく、フォトリソグラフィによるパターニングが容易なポリイミド樹脂、アクリル樹脂などの絶縁有機材料が好ましい。
The
ここで、第１の隔壁４３の厚さは、形成される機能層４５の厚さよりも厚く形成される。このように、機能層４５の厚さよりも第１の隔壁４３の厚さよりも厚くすることで、形成された機能層４５の薄膜が撥液性を有する第２の隔壁と接触することがないので、ドーム状に盛り上がることがない。
Here, the
また、第１の隔壁４３の側面傾斜角αは、第２の隔壁４４の側面傾斜角βよりも小さく形成されることも特徴とする。図４−１は、第１の隔壁の側面傾斜角が第２の隔壁の側面傾斜角よりも大きい場合の隔壁部分の断面図であり、図４−２は、第１の隔壁の側面傾斜角が第２の隔壁の側面傾斜角よりも小さい場合の隔壁部分の断面図である。機能層４５を構成する材料からなる液滴が隔壁４２に囲まれた液滴吐出領域に吐出され、乾燥した液滴によって形成される機能層４５の表面と第１の隔壁４３との接触部分Ｂは、第１の隔壁４３が親液性であるために、わずかではあるが第１の隔壁４３によって上方に引きずられる（図４−１参照）。しかし、第１の隔壁４３に引きずられる機能層４５の先端部の基板表面からの高さは、第１の隔壁４３の側面傾斜角αが小さいほど小さくなる。したがって、図４−２に示されるように、第１の隔壁４３の側面傾斜角αを第２の隔壁４４の側面傾斜角βよりも小さくすることによって、機能層４５の表面と第１の隔壁４３との接触部分Ｃの先端部の基板表面からの高さが他の部分よりも大きくなることを防ぎ、その結果として、機能層４５の表面の高さのばらつきが抑えられる。
Further, the side wall inclination angle α of the
隔壁４２をこのように構成することによって、インクジェットプロセスなどで液滴吐出領域内に滴下される液滴が乾燥して薄膜が形成される場合や、滴下する液適量が多少変化した場合でも、均一な厚さを保って液滴が乾燥されるとともに、乾燥後における機能層４５の表面の基板１０の表面からの高さが全体的にほぼ一様に保たれる。
By configuring the
隔壁４２は、液滴吐出領域ＲSを取り囲むように駆動素子部２０上に形成される親液性の第１の隔壁４３と、第１の隔壁４３上に形成される撥液性の第２の隔壁４４とから構成される。第２の隔壁４４は、上部から見て第１の隔壁４３の上面部が現れないように第１の隔壁４３上に形成されることが好ましい。すなわち、図５に示されるように、隔壁４２を構成する第１の隔壁４３と第２の隔壁４４の断面形状は階段状となっておらず、第１と第２の隔壁４３，４４の液滴吐出領域を囲む側壁面が、その境界部を挟んだ上下で連続した側壁面を形成する構成となっている。さらに、図６に示されるように、第１の隔壁４３の側壁面の傾斜角αを第２の隔壁４４の側壁面の傾斜角βよりも小さくなるように、第１と第２の隔壁４３，４４とを形成することが好ましい。
The
隔壁４２をこのように構成することによって、インクジェットプロセスなどで液滴吐出領域内に滴下される液滴が乾燥して薄膜が形成される場合でも、親液性の第１の隔壁４３部分に液滴が取り残されることがない。また、乾燥した機能層４５の厚さよりも十分な厚さを有する第１の隔壁４３としたので、滴下する液適量が多少変化した場合でも均一な厚さを保って液滴が乾燥される。また、図４−１及び図４−２で示したように、機能層４５の表面と第１の隔壁４３との接触部分Ｃの先端部の基板表面からの高さが他の部分よりも大きくなることを防ぎ、その結果として、機能層４５の表面の高さのばらつきが抑えることができる。
By configuring the
ここで、本発明にかかる電気光学装置の製造方法の一例について説明する。図７は、本発明にかかる電気光学装置の製造方法の処理工程を示すフローチャートであり、図８−１〜図８−８は、本発明にかかる電気光学装置の製造方法の工程を模式的に示す断面図である。 Here, an example of a method for manufacturing the electro-optical device according to the invention will be described. FIG. 7 is a flowchart showing processing steps of the method for manufacturing an electro-optical device according to the present invention. FIGS. 8-1 to 8-8 schematically illustrate steps of the method for manufacturing the electro-optical device according to the present invention. It is sectional drawing shown.
まず、駆動素子部形成工程では、基板１０上に走査線１０１と信号線１０２などの配線や、スイッチング用ＴＦＴ１１２と駆動用ＴＦＴ１１３などの能動素子などが形成される（ステップＳ１、図８−１〜図８−２）。たとえば、図８−２に示されるように駆動用ＴＦＴ１１３が形成される場合には、まず、基板１０上にＳｉＯ2からなる下地層２１が形成され、その上にアモルファスシリコン膜がプラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）などの成膜手段によって堆積される。つぎに、アモルファスシリコン膜をレーザアニールによって、溶融、冷却、固化させることでポリシリコン膜とする。そして、基板１０上の駆動用ＴＦＴ１１３を形成する所定の位置に所定の大きさのポリシリコン膜２２のみを残すようにエッチングする。つぎに、ポリシリコン膜２２と基板１０表面を覆うように第１の層間絶縁膜２３を形成した後に、ポリシリコン膜２２の中央部付近にＮ+イオンを注入してｎチャネル２２ａを形成し、ｎチャネル２２ａを形成した第１の層間絶縁膜２３の上部付近にゲート電極２４を形成する。その後、ゲート電極２４と第１の層間絶縁膜２３の表面を覆うように第２の層間絶縁膜２５を形成し、第１と第２の層間絶縁膜２３，２５を貫通してポリシリコン膜２２に到達するように２つのコンタクトホール２６がゲート電極２４を挟む位置に形成される。そして、コンタクトホール２６とその周辺にソース電極／ドレイン電極２７を形成した後に、これらのソース電極／ドレイン電極２７と第２の層間絶縁膜２５の表面を覆うように第３の層間絶縁膜２８が形成される。このようにして、駆動素子部２０が形成される。
First, in the driving element portion forming step, wirings such as
つぎに、画素電極形成工程では、ソース電極またはドレイン電極２７のいずれかに到達するように駆動素子部２０の第３の層間絶縁膜２８を貫通するコンタクトホール２９を形成し、駆動素子部２０上に画素電極（ここでは陽極）４１となる導電性材料をスパッタや蒸着またはその他の成膜手段によって形成した後、フォト・エッチングプロセスを用いて、形成した導電性材料の薄膜を所定の液滴吐出領域（発光領域）形成位置に、画素電極形状にパターニングする（ステップＳ２、図８−３）。このとき、第３の層間絶縁膜２８に形成されたコンタクトホール２９内にも画素電極（陽極）４１が形成されるので、機能素子部４０の画素電極（陽極）４１と駆動用ＴＦＴ１１３のソース電極またはドレイン電極２７のいずれかの端子とが、コンタクトホール２９を介して電気的に接続されるようになる。
Next, in the pixel electrode forming step, a
つぎに、第１の隔壁形成工程では、第１の隔壁４３となるＳｉＯ2膜を、パターニングした画素電極（陽極）４１上および第３の層間絶縁膜２８上に、フォト・エッチングプロセスを用いて画素電極（陽極）４１上に所定形状に開口した液滴吐出領域が形成されるようにパターニングする（ステップＳ３、図８−４）。このとき、第１の隔壁４３の膜厚は形成される機能層４５の膜厚よりも十分に厚い厚さを有するように、そして第１の隔壁４３の側面傾斜角はつぎの工程で形成される第２の隔壁４４の側面傾斜角よりも小さくなるように、第１の隔壁４３は形成される。この結果、第１の隔壁４３は、画素電極（陽極）４１の周縁部上に乗り上げるように形成される。弗酸を含むウェットエッチングによりＳｉＯ2膜をパターニングする際、弗酸、弗化アンモン、酢酸の混合比を適宜選定することにより、第１の隔壁４３の側面傾斜角を調整することができる。また、フォト工程において、フォトレジストの硬化温度を若干下げることにより、第１の隔壁４３の側面傾斜角を小さくすることができる。第１の隔壁４３の側面傾斜角は５°以上６０°以下であること好ましい。第１の隔壁４３の側面傾斜角５°より小さければ液滴吐出領域（発光領域）が制限され、６０°より大きければ第１の隔壁４３に引きずられる機能層４５の量が多くなり好ましくない。特に、第１の隔壁４３の側面傾斜角は１０°以上４５°以下であること好ましい。
Next, in the first partition formation step, the SiO 2 film to be the
つぎに、第２の隔壁形成工程では、感光性を有する絶縁有機材料を第１の隔壁４３と画素電極（陽極）４１上に塗布し、フォトマスクを通して紫外線を照射した後に現像を行うことによって、液滴吐出領域を取り囲むように第２の隔壁４４を形成する（ステップＳ４、図８−５）。この第２の隔壁４４は、第１の隔壁４３の上位に形成されるが、上述したように第１の隔壁４３の上面の開口部よりも第２の隔壁４４の下面の開口部の方が大きくなるように形成されるので、第１の隔壁４３の上面の開口部周縁には平坦部５１が形成される。また、第２の隔壁４４の上部開口部は、下部開口部よりも広く形成されている。第２の隔壁４４の厚さは特に限定されるものではないが、後述する機能層形成工程でのインクジェットプロセスで液滴吐出領域内に打ち込まれる組成物の量、回路基板との間に生じる電気的寄生容量などを考慮して決定される。感光性を有する絶縁有機材料をパターニングする際、材料塗布、プレベーク、紫外線照射、現像、硬化の順に処理されるが、プレベーク温度を硬化温度に近づけることにより、第２の隔壁４４の側面傾斜角を大きく調整することができる。第２の隔壁４４を感光性アクリル樹脂により構成する場合には、プレベーク温度１７０℃以上として硬化温度を２２０℃とすることにより、第２の隔壁４４の側面傾斜角を６０°以上とすることができる。
Next, in the second partition formation step, a photosensitive insulating organic material is applied onto the
つぎに、親液性調整処理工程では、画素電極（陽極）４１、第１の隔壁４３および第２の隔壁４４の表面に対して、親液性の度合を調整するための処理を行う（ステップＳ５）。たとえば、酸素プラズマ処理やＵＶ照射処理、オゾン含有ガスへの暴露処理などを行う。これによって、画素電極（陽極）４１と第１の隔壁４３の表面が親液性となるとともに清浄化することができるので、後述するインクジェットプロセスで打ち込まれる組成物とのなじみがよくなる。続いて、ＣＦ4，ＳＦ6，ＣＨＦ3などのガスを用いたフッ素プラズマ処理を行う。特に第２の隔壁４４は有機材料から構成されるため、画素電極（陽極）４１あるいは第１の隔壁４３と比して第２の隔壁４４の表面が撥液性を示すようになる。これによって、後述するインクジェットプロセスで打ち込まれる組成物のパターニングが良好になる。なお、第２の隔壁４４が撥液性を示す材料で形成される場合には、フッ素プラズマ処理を施さなくてもよい。また、上部から見て第１の隔壁４３の上面部が現れないように第１の隔壁４３上に第２の隔壁４４を形成しフッ素プラズマ処理を行なうことにより、第１の隔壁４３の上面がフッ素プラズマ処理に曝されないため撥液化されることがない。また、第１の隔壁４３の側面傾斜角が１０°以上４５°以下であり基板垂直方向に異方性を有するフッ素プラズマ処理を施すことにより、上面部と比して第１の隔壁４３の側面が撥液化するのを防止することができる。さらに、第１の隔壁４３の側面傾斜角が３０°以上７０°以下であり基板垂直方向に異方性を有するフッ素プラズマ処理を施すことにより、第１の隔壁４３の側面傾斜角が１０°以上４５°以下の場合と比して第１の隔壁４３の側面が撥液化するのを防止することができる。
Next, in the lyophilic adjustment processing step, a process for adjusting the degree of lyophilicity is performed on the surfaces of the pixel electrode (anode) 41, the
つぎに、機能層形成工程では、インクジェットプロセスによって、発光層を構成する材料の組成物や場合によっては補助層を構成する材料の組成物を、対応する液滴吐出領域内に打ち込んで乾燥させ、機能層４５を形成する（ステップＳ６、図８−６）。なお、機能層４５として発光層と補助層を形成する場合には、いずれかの層を構成する材料の組成物が乾燥した後に、他の層を構成する材料の組成物を液滴吐出領域内に打ち込んで乾燥させるようにして、機能層４５を形成する。なお、カラー表示を行うことが可能な電気光学装置１の場合には、発光層を構成する材料に赤色、緑色または青色の材料を溶解させた組成物を、それぞれの液滴吐出領域に吐出させる。
Next, in the functional layer forming step, the composition of the material constituting the light emitting layer or the composition of the material constituting the auxiliary layer in some cases is driven into the corresponding droplet discharge region and dried by an inkjet process. The
つぎに、対向電極形成工程では、機能層４５の上に、蒸着やスパッタまたはその他の成膜手段によって対向電極である陰極４６を形成し、所定の形状（対向電極形状）にパターニングする（ステップＳ７、図８−７）。
Next, in the counter electrode forming step, a
そして、シール層形成工程では、上述した工程によって機能層４５が形成された基板１０の表面にシール層４７を形成する（ステップＳ８、図８−８）。シール層４７として、熱硬化型エポキシ系樹脂、紫外線硬化型エポキシ系樹脂などの樹脂材料を用いることができる。シール層４７を設けることで、大気中の水分や酸素の機能素子部４０への透過を抑え、電極４１，４６や機能層４５の水分や酸素との接触による劣化が防止される。以上の工程によって、電気光学装置１が製造される。
In the sealing layer forming step, the
なお、上述したステップＳ４までの工程で基板１０上に作製された駆動素子部２０と機能素子部４０の一部をまとめて、この明細書では電気光学装置用基板という。
Note that a part of the
この第１実施形態によれば、機能層４５を形成する液滴吐出領域を囲む第１と第２の隔壁４３，４４からなる隔壁４２において、第１の隔壁４３の厚さを機能性膜の厚さよりも十分に厚くするとともに、第１の隔壁４３の側面傾斜角を第２の側面傾斜角よりも小さくしたので、液滴吐出領域に吐出される機能層４５を構成する液滴を乾燥させて成膜する際に、表面の凹凸を抑えた一様な膜厚の機能膜を形成することができる。その結果、たとえば、機能層４５として有機ＥＬ薄膜を用いた場合には、一つの発光領域内における発光輝度のばらつきを抑えることができるという効果を有する。
According to the first embodiment, in the
＜２．第２実施形態＞
この第２実施形態では、機能層４５が少なくとも発光層とこの発光層の下部に形成される補助層とを有する構成である場合の電気光学装置の構成について説明する。図９は、本発明にかかる電気光学装置の第２実施形態を示す要部断面図である。この電気光学装置は、第１の隔壁４３ａが第３の隔壁４３ａａと第４の隔壁４３ａｂとの２層構造であり、隔壁４２ａが３層構造となることを特徴とする。隔壁４２ａは、液滴吐出領域ＲSを取り囲むように駆動素子部２０上に形成される親液性の第３の隔壁４３ａａと、第３の隔壁４３ａａ上に形成される親液性の第４の隔壁４３ａｂと、第４の隔壁４３ａｂ上に形成される撥液性の第２の隔壁４４ａとから構成される。ここで、第３の隔壁４３ａａの上面の開口部よりも第４の隔壁４３ａｂの下面の開口部の方が大きくなるように、そして、第４の隔壁４３ａｂの上面の開口部よりも第２の隔壁４４ａの下面の開口部の方が大きくなるように、その断面が段差状に構成されている。すなわち、第３の隔壁４３ａａの上面には、平坦部５１ａが形成され、第４の隔壁４３ａｂの上面には平坦部５１ｂが形成される。
<2. Second Embodiment>
In the second embodiment, the configuration of the electro-optical device when the
また、第３の隔壁４３ａａは、機能層４５を構成し発光層４５ａの下部に形成される補助層４５ｂの厚さと同じか補助層４５ｂの厚さよりも厚く形成される。第４の隔壁４３ａｂは、その上面が発光層４５ａの上面よりも高くなる厚さに形成される。このような条件を満たす一つの形態として、第３の隔壁４３ａａは補助層４５ｂの厚さに比して十分な厚さを有し、第３と第４の隔壁４３ａａ，４３ａｂは機能層４５の厚さに比して十分な厚さを有するような構造を挙げることができる。これらの第３と第４の隔壁４３ａａ，４３ａｂは、ＳｉＯ2やＴｉＯ2などの親液性を有する無機材料から構成されるが、補助層４５ｂや発光層４５ａを形成するための組成物の性質に応じて材料を選択することができる。
The third partition wall 43aa is formed to be the same as or thicker than the
第３の隔壁４３ａａは、第４の隔壁４３ａｂに比して親液性が高く、第２の隔壁４４ａは第４の隔壁４３ａｂと比して撥液性が高いことが望ましい。すなわち、機能層４２ａが補助層４５ｂと発光層４５ａとから構成される場合、補助層４５ｂを形成する際に第３の隔壁４３ａａは親液性を示し第２隔壁４４ａあるいは第４隔壁４３ａｂは撥液性を示すと共に、発光層４５ａを形成する際に第４の隔壁４３ａｂは親液性を示し第２隔壁４４ａは撥液性を示すことが望ましい。より具体的には、第３の隔壁４３ａａとして炭素量の少ない酸化珪素膜を選択し、第４の隔壁４３ａｂとして炭素量が第３の隔壁４３ａａより多く第２隔壁４４ａよりも少ない酸化珪素膜を選択し、ＣＦ4，ＳＦ6，ＣＨＦ3などのガスを用いたフッ素プラズマ処理を施すことにより、第４の隔壁４３ａｂは第３の隔壁４３ａａに比して撥液性が高く、第２の隔壁４４ａは第４の隔壁４３ａｂと比して撥液性が高くしてもよい。また、第４の隔壁４３ａｂはフッ素原子を含む酸化珪素膜を選択してもよい。さらに、第３の隔壁４３ａａの側面傾斜角を第４の隔壁４３ａｂの側面傾斜角と比して大きくし基板垂直方向に異方性を有するフッ素プラズマ処理を施すことにより、第３の隔壁４３ａａは、第４の隔壁４３ａｂに比して親液性が高くしてもよい。これによれば、補助層４５ｂ及び発光層４５ａの厚さを一様とできる。
It is desirable that the third partition wall 43aa has higher lyophilicity than the fourth partition wall 43ab and the
また、補助層４５ｂが正孔輸送層であり正孔注入／輸送層の材料としてポリエチレンジオキシチオフェン等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸等の水系分散液を用いて、発光層４５ａの材料としては（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体を溶解させた溶液を用いて形成する場合には、正孔輸送層を構成する組成物は水に近い性質を有し、発光層４５ａを構成する組成物は油に近い性質を有するので、第３の隔壁４３ａａは第４の隔壁４３ａｂよりも親水性の高い材料を選択することが望ましい。
Further, the
液滴吐出法を用いて、隔壁内に液滴を配して複数の層を有する機能層を形成する際、親水性を有する液体から順に層を形成していくことが望ましい。これは、薄膜形成領域において無機材料からなる基板、画素電極に対して液体の濡れ性を制御し、液体を薄膜形成領域全体に配することができるからである。これに対して、有機材料からなる機能層の一部を薄膜形成領域に形成した後この上に他の機能層を親水性液滴から形成する場合、液滴と有機材料からなる機能層の一部との間で撥液性を示し、液体を薄膜形成領域全体に配することが困難となる。また、特にＯＬＥＤ素子を形成する場合には、陰極４６または電子注入層もしくは電子輸送層は、仕事関数として３．５ｅＶ（エレクトロンボルト）以下であるアルカリ金属、アルカリ土類金属およびこれらの合金、化合物が用いられる。陰極４６または電子注入層もしくは電子輸送層と、親水性を有する液体を用いて層を離して形成することがＯＬＥＤ素子の信頼性を向上させる上で好ましい。したがって、第３の隔壁４３ａａは第４の隔壁４３ａｂよりも親水性の高い材料を選択することが望ましい。
When forming a functional layer having a plurality of layers by arranging droplets in a partition wall by using a droplet discharge method, it is desirable to form layers in order from a hydrophilic liquid. This is because the wettability of the liquid can be controlled with respect to the substrate and the pixel electrode made of an inorganic material in the thin film formation region, and the liquid can be distributed over the entire thin film formation region. On the other hand, when a part of the functional layer made of an organic material is formed in the thin film formation region and another functional layer is formed thereon from a hydrophilic droplet, one of the functional layer made of the droplet and the organic material is formed. It exhibits liquid repellency with the part, making it difficult to distribute the liquid over the entire thin film formation region. In particular, when an OLED element is formed, the
第２の隔壁４４ａは、撥液性を有する材料でもよいし、撥液性を有さなくてもプラズマ処理によって撥液化（たとえばフッ素化）が可能な材料でもよい。第２の隔壁４４ａとして、プラズマ処理による撥液化（たとえばフッ素化）が可能で下地の第４の隔壁４３ａｂとの密着性がよく、フォトリソグラフィによるパターニングが容易なポリイミド樹脂、アクリル樹脂などの絶縁有機材料が好ましい。第２の隔壁４４ａの側面傾斜角は、第１実施形態と同様に第３と第４の４３ａａ，４３ａｂの側面傾斜角よりも大きくなるように形成される。なお、第３の隔壁４３ａａの側面傾斜角と第４の隔壁４３ａｂの側面傾斜角の大小関係は特に限定されない。このようにすることにより、平坦性がほぼ一様な表面を有する発光層４５ａと補助層４５ｂが形成される。
The
隔壁４２ａをこのように構成することによって、インクジェットプロセスなどで液滴吐出領域内に滴下される液滴が乾燥して薄膜が形成される場合や、滴下する液適量が多少変化した場合でも、均一な厚さを保って液滴が乾燥されるとともに、乾燥後における機能層４５の表面の基板１０の表面からの高さが全体的にほぼ一様に保たれる。
By configuring the
ここでいう補助層４５ｂは、上述した補助層４５ｂを構成する層が複数であってもこれらの層をまとめたものを補助層４５ｂとして扱うものとする。具体的には、図９（図２）の場合、基板１０側に陽極４１が形成されているので、補助層４５ｂは正孔輸送層および／または正孔注入層となる。たとえば、補助層４５ｂとして正孔輸送層および正孔注入層が形成される場合には、これらの正孔輸送層と正孔注入層の積層体をまとめて補助層４５ｂという。
As used herein, the
また、第１実施形態と同様、第１の隔壁４３ａは機能層４５の厚さに比して十分な厚さを有しており、第２の隔壁４４ａは上部から見て第１の隔壁４３ａの上面部が現れないように第１の隔壁４３ａ上に形成されることが好ましい。すなわち、第２の隔壁４４は、上部から見て第４の隔壁４３ａｂの上面部が現れないように第４の隔壁４３ａｂ上に形成されることにより、親液性の第４の隔壁４３ａｂ部分に液滴が取り残されず機能層４５の表面の高さ方向ばらつきが抑えることができる。また、第３の隔壁４３ａａは少なくとも前記補助層の厚さに比して十分な厚さを有し、第４の隔壁４３ａｂは、上部から見て第３の隔壁４３ａａの上面部が現れないように第３の隔壁４３ａａ上に形成されることが好ましい。このようにすることにより、親液性の第３の隔壁４３ａａ部分に液滴が取り残されず補助層４５ｂの表面の高さ方向ばらつきが抑えることができる。
Further, as in the first embodiment, the
なお、その他の構成は第１実施形態と同じであり、同一の構成要素については、上述した第１実施形態に付した符号と同一の符号を付して説明を省略している。また、この第２実施形態の構成を有する電気光学装置の製造方法は、第１実施形態の図５のステップＳ３の「第１の隔壁形成工程」が、親液性を有する無機材料からなる第３の隔壁４３ａａと第４の隔壁４３ａｂを続けて形成する「第３と第４の隔壁形成工程」と変更される点を除いて同様の手順であるので、詳細な説明を省略する。 Other configurations are the same as those of the first embodiment, and the same components are denoted by the same reference numerals as those of the first embodiment described above, and description thereof is omitted. Further, in the method of manufacturing the electro-optical device having the configuration of the second embodiment, the “first partition forming step” in step S3 of FIG. 5 of the first embodiment is the first made of a lyophilic inorganic material. Since the procedure is the same except that it is changed to the “third and fourth partition wall forming step” in which the third partition wall 43aa and the fourth partition wall 43ab are successively formed, detailed description thereof is omitted.
この第２実施形態によれば、液滴の乾燥によって形成される発光層４５ａと補助層４５ｂの第３の隔壁４３ａａの下面の開口部によって囲まれる領域の厚さを均一にすることができるとともに、それぞれの層の表面の平坦性を均一にすることができるという効果を有する。
According to the second embodiment, the thickness of the region surrounded by the opening on the lower surface of the third partition wall 43aa of the light emitting layer 45a and the
＜３．第３実施形態＞
この第３実施形態では、矩形状の液滴吐出領域を有する電気光学装置において、第１の隔壁に囲まれる領域では一様な膜厚を有し、液滴吐出領域における機能層の表面の高さが一様となる電気光学装置の構成について説明する。
<3. Third Embodiment>
In the third embodiment, in an electro-optical device having a rectangular droplet discharge region, the region surrounded by the first partition has a uniform film thickness, and the surface of the functional layer in the droplet discharge region is high. A configuration of the electro-optical device having a uniform length will be described.
図１０は、本発明にかかる電気光学装置の第３実施形態の構成を示す平面図であり、図１１は、図１０のＡ−Ａ断面図であり、そして図１２は、図１０のＢ−Ｂ断面図である。これらの図では、液滴吐出領域と隔壁周辺部分のみを示している。この第３実施形態による電気光学装置は、その断面形状は第２実施形態の図９と同様に、隔壁４２ａが親液性の無機材料からなる第３と第４の隔壁４３ａａ，４３ａｂと、撥液性の有機材料からなる第２の隔壁４４ａの３層構造となっており、第３と第４の隔壁４３ａａ，４３ａｂの上面には平坦部が形成されている。しかし、この第３実施形態では、第２と第４の隔壁４４ａ，４３ａｂの開口部の基板表面と平行な断面における角部が円弧状などの丸みを帯びた形状を有していることを特徴とする。すなわち、液滴吐出領域の角部につながる第２と第４の隔壁４４ａ，４３ａｂの側面は半円錐面状の傾斜を有するように構成される。また、図１１と図１２に示されるように、隔壁４２ａの開口部の輪郭が円弧状部分における第３と第４の隔壁４３ａａ，４３ａｂの上面に形成される平坦部の幅ｘA，ｙAは、同じく直線部分における第３と第４の隔壁４３ａａ，４３ａｂの上面に形成される平坦部の幅ｘB，ｙBよりもそれぞれ長く形成されることを特徴とする。このような構成によって、液滴吐出領域に吐出された液滴が乾燥する際に、液滴吐出領域の角部付近の第３と第４の隔壁４３ａａ，４３ａｂに液滴が取り残されることがなくなる。なお、その他の構成は第２実施形態で説明した電気光学装置と同一であり、またその製造方法も第１実施形態、第２実施形態で説明した製造方法と同様であるので、その詳細な説明を省略する。
10 is a plan view showing a configuration of a third embodiment of the electro-optical device according to the invention, FIG. 11 is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 10, and FIG. It is B sectional drawing. In these drawings, only the droplet discharge region and the peripheral portion of the partition are shown. The cross-sectional shape of the electro-optical device according to the third embodiment is similar to that of FIG. 9 of the second embodiment, and the
この第３実施形態によれば、液滴吐出領域の角部付近の隔壁４２ａの側面を半円錐面状としたので、液滴吐出領域に形成される機能層４５の平坦性を一様に保つことができるという効果を有する。また、本発明の一実施形態を示す図１０からわかるように、液滴吐出領域を完全な矩形状とすることができるので、液滴吐出領域の面積（すなわち、発光領域の面積）を広げることができ、個々の発光領域の輝度を高めることができるという効果も有する。
According to the third embodiment, since the side surface of the
なお、上述した説明では矩形状の液滴吐出領域を例に挙げて説明したが、一般的に角部を有する液滴吐出領域において、その角部につながる第２と第４の隔壁４４ａ，４３ａｂの側面を半円錐面状の丸みを帯びた形状とすることによって同様の効果を得ることができる。また、上述した説明では液滴吐出領域の角部につながる第２と第４の隔壁４４ａ，４３ａｂの側面の両方を半円錐面状の丸みを帯びた形状としているが、第２の隔壁４４ａもしくは第４の隔壁４３ａｂのいずれか一方の基板表面と平行な断面の形状は、矩形状としてもよい。
In the above description, a rectangular droplet discharge region has been described as an example. However, in a droplet discharge region generally having a corner, the second and
＜４．第４実施形態＞
図１３は、本発明にかかる電気光学装置の第３実施形態を示す断面図である。この図１３は、第１実施形態の図２の隔壁４２部分を拡大したものである。なお、第１実施形態と同一の構成要素には同一の符号を付してその詳細な説明を省略している。また、このような構成の電気光学装置は、第１の隔壁４３を形成する工程を除いて、第１実施形態で説明した製造方法と同様の方法で製造できるため、その説明を省略している。
<4. Fourth Embodiment>
FIG. 13 is a cross-sectional view illustrating a third embodiment of the electro-optical device according to the invention. FIG. 13 is an enlarged view of the
この第４実施形態では、第１実施形態の場合において、第１の隔壁４３の側壁面傾斜角αを直角または鈍角となるように第１の隔壁４３を形成することを特徴とする。すなわち、第１の隔壁４３の断面は逆テーパ形状となる。このような構成では、液滴吐出領域ＲSと発光領域ＲEとは異なる。すなわち、液滴吐出領域ＲSは第１の隔壁４３の下端部によって囲まれる領域であるが、発光領域ＲEは第１と第２の隔壁４３，４４との境界部分によって囲まれる領域となり、発光領域ＲEの面積は液滴吐出領域ＲSの面積よりも小さくなる。その結果、液滴吐出領域ＲSに発光領域ＲEを投影したときに両領域が重ならない液滴吐出領域ＲSの周縁部は、基板１０の表面を機能層４５形成側の上部から観察した場合に、その周縁部に相当する位置に存在する隔壁４２によって遮られ、観察することができない。したがって、発光領域内で発光した光のみが電気光学装置での発光に寄与することになる。第１の隔壁４３を光架橋性樹脂にて構成することにより、第１の隔壁４３の断面を逆テーパ形状とすることができる。第１の隔壁４３は親液性とするため、ポリシラン系樹脂を用いることが好ましい。
The fourth embodiment is characterized in that, in the case of the first embodiment, the
第１実施形態〜第３実施形態でも述べたように、インクジェットプロセスによって液滴から形成される薄膜は、第１の隔壁４３との接触部分が不均一性の原因となってしまう。しかし、この第４実施形態の構成によれば、その薄膜の不均一性の原因となる部分が発光領域から除外されることになる。すなわち、図１３の液滴吐出領域ＲSの周縁部での発光が行われたとしても、その光は上部の第１と第２の隔壁４３，４４によって遮られる。このようにして、機能層４５を構成する薄膜の不均一な部分の発光を除去することができる。
As described in the first to third embodiments, the thin film formed from the droplets by the ink jet process causes non-uniformity at the contact portion with the
この第４実施形態によれば、液滴吐出領域ＲSに形成された薄膜のうち、不均一となる周縁部分からの発光が遮られるように構成され、その結果、一つの液滴吐出領域ＲS内の膜厚の均一な発光領域ＲEにおける発光のみを使用し、発光領域ＲE内での発光輝度の均一性を高めることができるという効果を有する。 According to the fourth embodiment, the thin film formed in the droplet discharge region R S is configured to block light emission from a non-uniform peripheral portion, and as a result, one droplet discharge region Rs is formed. Only light emission in the light emitting region R E having a uniform film thickness in S is used, and the uniformity of the light emission luminance in the light emitting region R E can be improved.
また、第１実施形態と同様に、第２の隔壁４４は、上部から見て第１の隔壁４３の上面部が現れないように第１の隔壁４３上に形成されることが好ましい。隔壁４２をこのように構成することによって、インクジェットプロセスなどで液滴吐出領域内に滴下される液滴が乾燥して薄膜が形成される場合でも、親液性の第１の隔壁４３部分に液滴が取り残されることがない。また、第１の隔壁４３の断面を逆テーパ形状で形成しフッ素プラズマ処理を行なうことにより、第１の隔壁４３がフッ素プラズマ処理に曝されないため、第１実施形態と比して第１の隔壁４３が撥液化されるのを防止することができる。特に、基板垂直方向に異方性を有するフッ素プラズマ処理を施すことにより、第１の隔壁４３が撥液化するのを防止することができる。したがって、第１の隔壁４３の親液性が向上し、補助層４５ｂの表面の高さ方向ばらつきが抑えることができ、発光領域ＲE内での発光輝度の均一性を高めることができるという効果を有する。
Similarly to the first embodiment, the
＜５．第５実施形態＞
図１４は、本発明にかかる電気光学装置の第５実施形態を示す断面図である。この図１４は、第１実施形態の図２の隔壁４２部分を拡大したものである。なお、第１実施形態と同一の構成要素には同一の符号を付してその詳細な説明を省略している。また、このような構成の電気光学装置は、第１の隔壁４３を形成する工程を除いて、第１実施形態で説明した製造方法と同様の方法で製造できるため、その説明を省略している。
<5. Fifth Embodiment>
FIG. 14 is a cross-sectional view illustrating a fifth embodiment of the electro-optical device according to the invention. FIG. 14 is an enlarged view of the
この第５実施形態では、機能層４５は発光層４５ａとその下部に形成される補助層４５ｂの少なくとも２層から構成されることを要件とする。なお、ここでいう補助層４５ｂは、上述した補助層４５ｂを構成する層が複数であってもこれらの層をまとめたものを補助層４５ｂとして扱うものとする。具体的には、図１４の場合、基板１０側に陽極４１が形成されているので、補助層４５ｂは正孔輸送層および／または正孔注入層となる。たとえば、補助層４５ｂとして正孔輸送層および正孔注入層が形成される場合には、これらの正孔輸送層と正孔注入層の積層体をまとめて補助層４５ｂという。
In the fifth embodiment, the
また、この第５実施形態では、第１の隔壁４３は、形成される補助層４５ｂの厚さと同等かまたは補助層４５ｂの厚さよりも厚くなるように形成されるとともに、第２の隔壁４４は、その下端の開口部が第１の隔壁４３の上端の開口部よりも小さくなるように形成されることを特徴とする。第２の隔壁４４の下端は、補助層４５ｂの第１の隔壁４３との接触部分で生じる不均一性が基板１０の機能層４５形成面側の上部から観察して少なくとも隠すように、第１の隔壁４３の上端よりも張り出して形成される。これにより、補助層４５ｂの第１の隔壁４３との接触面における不均一性の発光層４５ａへ与える影響が除去される。なお、ここでは、第２の隔壁４４の下端部によって囲まれる領域が発光領域ＲEとなる。また、この図１４では第２の隔壁４４の下端部と第１の隔壁４３の下端部とは同じ部位に形成されているので、発光領域ＲEと液滴吐出領域ＲSとは一致している。
In the fifth embodiment, the
次の工程を用いることにより、第２の隔壁４４の下端の開口部が第１の隔壁４３の上端の開口部よりも小さくすることができる。まず、第１の隔壁４３を画素電極（陽極）４１もしくは第３の層間絶縁膜２８の上に対して全面に例えば酸化珪素などの無機材料形成する。次に、感光性を有する絶縁有機材料を第１の隔壁４３上に塗布し、フォトマスクを通して紫外線を照射した後に現像を行うことによって、液滴吐出領域を取り囲むように第２の隔壁４４を形成する。さらに、第２の隔壁４４をマスクとして第１の隔壁４３を弗酸などのウェットエッチング液を用いてパターニングする。この第１の隔壁４３をパターニングする際に、基板方向へのエッチングが完了し画素電極（陽極）４１の表面が露出した後、過剰にエッチングを行なうことにより、第２の隔壁４４は、その下端の開口部が第１の隔壁４３の上端の開口部よりも小さくすることができる。第２の隔壁４４と第１の隔壁４３との密着性は画素電極（陽極）４１と第１の隔壁４３との密着性より低いため、第２の隔壁４４と第１の隔壁４３との界面よりウェットエッチング液が浸透してこのような形状とすることができる。この第５実施形態では、第４実施形態と比して第１の隔壁４３を無機材料として構成することができるため好ましい。また、第２の隔壁４４の下端の開口部を第１の隔壁４３の上端の開口部周縁部よりも張り出すように構成しフッ素プラズマ処理を行なうことにより、第１の隔壁４３がフッ素プラズマ処理に曝されないため、第１実施形態と比して第１の隔壁４３が撥液化されるのを防止することができる。特に、基板垂直方向に異方性を有するフッ素プラズマ処理を施すことにより、第１の隔壁４３が撥液化するのを防止することができる。したがって、第１の隔壁４３の親液性が向上し、補助層４５ｂの表面の高さ方向ばらつきが抑えることができる。
By using the next step, the opening at the lower end of the
この第５実施形態によれば、第１の隔壁４３の厚さは補助層４５ｂと同等かそれよりも厚くし、第２の隔壁４４の下端の開口部を第１の隔壁４３の上端の開口部周縁部よりも張り出すように構成したので、補助層４５ｂの膜厚が不均一性を有する第１の隔壁４３との接触部分が発光層４５ａの発光に与える影響を抑制し、発光領域ＲE内で輝度の均一な発光を達成することができるという効果を有する。
According to the fifth embodiment, the thickness of the
＜６．変形例＞
本発明では、上述した実施形態に限られず、種々の変形が可能である。
上述した実施形態では、陽極を画素電極４１とし、陰極を対向電極４６として機能素子部４０を形成した場合を例示しているが、これに限られる趣旨ではなく、陰極を画素電極４１とし、陽極を対向電極４６として機能素子部４０を形成してもよい。この場合、第２実施形態、第３実施形態、第５実施形態における補助層４５ｂは、電子輸送層および／または電子注入層となる。また、発光層４５ａの上部にさらに補助層を形成してもよい。
<6. Modification>
The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made.
In the above-described embodiment, the case where the
また、電気光学素子の一例として、ＯＬＥＤ素子を有する電気光学装置を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、電気的な作用により光学特性が変化する電気光学素子を用いた装置であれば、いかなるものにも適用することができる。そのような電気光学素子としては、無機ＥＬ素子や、フィールド・エミッション（ＦＥ）素子、表面伝導型エミッション（ＳＥ）素子、弾道電子放出（ＢＳ）素子、ＬＥＤなどの他の自発光素子、さらには、電気泳動素子、エレクトロ・クロミック素子などを用いても良い。特に、基板上に複数の領域を形成するために各領域間を分離する隔壁と、隔壁に囲まれる領域内に形成される薄膜層と、薄膜層を挟む一対の電極とを備える電気光学素子であって、一対の電極間に電流を流すことにより薄膜層を機能させる電流駆動型電気光学素子に本発明を適用することが好ましい。 In addition, as an example of an electro-optical element, an electro-optical device having an OLED element has been described as an example. However, the present invention is not limited to this, and an electro-optical element whose optical characteristics are changed by an electric action. The present invention can be applied to any apparatus that uses the above. Such electro-optic elements include inorganic EL elements, field emission (FE) elements, surface conduction emission (SE) elements, ballistic electron emission (BS) elements, other self-luminous elements such as LEDs, Electrophoretic elements, electrochromic elements, and the like may be used. In particular, an electro-optical element including a partition that separates regions to form a plurality of regions on a substrate, a thin film layer formed in a region surrounded by the partition, and a pair of electrodes that sandwich the thin film layer Therefore, it is preferable to apply the present invention to a current-driven electro-optical element that allows a thin film layer to function by passing a current between a pair of electrodes.
さらに、上述した実施形態では、アクティブマトリックス型の電気光学装置としてＴＦＴを駆動素子やスイッチング素子として用いた場合を説明したが、駆動素子やスイッチング素子としてＴＦＤ（薄膜ダイオード）を用いることもできる。また、アクティブマトリックス型の電気光学装置ではなく、パッシブマトリックス型の電気光学装置にも同様に適用することができる。 Furthermore, in the above-described embodiment, the case where a TFT is used as a drive element or a switching element as an active matrix type electro-optical device has been described. However, a TFD (thin film diode) can also be used as a drive element or a switching element. Further, the present invention can be similarly applied to a passive matrix type electro-optical device instead of an active matrix type electro-optical device.
＜７．応用例＞
上述した実施形態で説明した電気光学装置を備える電子機器の具体例について説明する。図１１〜図１３は、それぞれ、この発明にかかる電気光学装置を使用した電子機器の例である。図１１は、携帯電話の一例を示す斜視図である。１００は携帯電話本体を示し、そのうち１０１はこの発明の電気光学装置からなる表示部である。図１２は、腕時計型の電子機器の一例を示す斜視図である。１１０は時計機能を内蔵した時計本体を示し、１１１はこの発明の電気光学装置からなる表示部である。そして、図１３は、ワードプロセッサ機やパーソナルコンピュータなどの携帯型情報処理装置の一例を示す斜視図である。この図１３において、１２０は携帯型情報処理装置を示し、１２２はキーボードなどの入力部、１２４は演算手段や記憶手段などが格納されている情報処理装置本体部、１２６はこの発明の電気光学装置からなる表示部である。
<7. Application example>
A specific example of an electronic apparatus including the electro-optical device described in the above embodiment will be described. 11 to 13 are examples of electronic apparatuses using the electro-optical device according to the present invention. FIG. 11 is a perspective view illustrating an example of a mobile phone.
また、このような電気光学装置を備えた電子機器としては、図１１に示される携帯電話、図１２に示される腕時計型の電気機器、図１３に示される携帯型情報処理装置のほかに、たとえば、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、ビューファインダ型またはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末機などの電気光学装置を備える電子機器を挙げることができる。また、光書きこみ型のプリンタや電子複写機等に用いる書き込みヘッド等の画像形成装置にも本発明が適用され得る。したがって、これらの電子機器における電気的接続構造であっても、この発明が適用可能であることはいうまでもない。 In addition to the mobile phone shown in FIG. 11, the wristwatch-type electric device shown in FIG. 12, and the portable information processing device shown in FIG. , Digital still cameras, in-vehicle monitors, digital video cameras, viewfinder type or monitor direct-view type video tape recorders, car navigation devices, pagers, electronic notebooks, calculators, workstations, video phones, POS terminals, and other electro-optical devices Can be mentioned. The present invention can also be applied to an image forming apparatus such as a writing head used in an optical writing type printer or an electronic copying machine. Therefore, it goes without saying that the present invention is applicable even to an electrical connection structure in these electronic devices.
以上のように、本発明にかかる電気光学装置は、複数の画素を形成し、画素ごとに表示状態を制御可能な表示装置及び画像形成装置に有用である。 As described above, the electro-optical device according to the present invention is useful for a display device and an image forming device in which a plurality of pixels are formed and a display state can be controlled for each pixel.
１ 電気光学装置、１０ 基板、２０ 駆動素子部、４０ 機能素子部、４１ 画素電極（陽極）、４２ 隔壁、４３ 第１の隔壁、４４ 第２の隔壁、４５ 機能層、４６
対向電極（陰極）、４７ シール層。
DESCRIPTION OF
Counter electrode (cathode), 47 Seal layer.
Claims (7)
基板上に設けられた第１電極と、
前記第１電極上における所定の領域を囲むように設けられた隔壁と、
前記所定の領域において前記第１電極上に設けられ、少なくとも有機の発光層を含む機能層と、
前記機能層の上及び前記隔壁の上に連続して設けられた第２電極と、
を備え、
前記隔壁は、
前記第１電極の周縁部の上に設けられるとともに、前記所定の領域を囲むように設けられた第１の隔壁と、
前記第１の隔壁の上に形成され、前記所定の領域を囲むように設けられた第２の隔壁と、
を有し、
前記第１の隔壁は、前記機能層を形成するための組成物に対して親液性であり、
前記第２の隔壁は、前記機能層を形成するための組成物に対して撥液性であり、
前記第２の隔壁は、断面において前記基板に近づくにつれて幅が広くなる形状であり、
前記第１の隔壁は、第２電極側から見たとき、前記第２の隔壁により覆われるように設けられ、
前記第１の隔壁は、断面において前記基板に近づくにつれて幅が広くなる形状である
を特徴とする電気光学装置。 An electro-optical device comprising an organic light emitting diode,
A first electrode provided on a substrate;
A partition provided to surround a predetermined region on the first electrode;
A functional layer provided on the first electrode in the predetermined region and including at least an organic light emitting layer;
A second electrode provided continuously on the functional layer and on the partition;
With
The partition is
A first partition wall provided on a peripheral portion of the first electrode and surrounding the predetermined region;
A second partition wall formed on the first partition wall so as to surround the predetermined region;
Have
The first partition wall is lyophilic with respect to the composition for forming the functional layer,
The second partition wall is liquid repellent with respect to the composition for forming the functional layer,
The second partition wall has a shape that increases in width as it approaches the substrate in a cross section,
The first partition is provided so as to be covered with the second partition when viewed from the second electrode side,
The electro-optical device, wherein the first partition wall has a shape that increases in width as it approaches the substrate in a cross section.
前記第１の隔壁の前記機能層と接する面が前記基板表面となす角度は、垂直または鈍角であることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。 The first partition wall is thicker than the functional layer,
2. The electro-optical device according to claim 1, wherein an angle formed by a surface of the first partition wall contacting the functional layer and the substrate surface is a vertical or obtuse angle.
前記第１の隔壁の厚さは前記補助層の厚さと比して厚く、
前記第１の隔壁と前記補助層とが接する部位は、第２電極側から見たとき、前記第２の隔壁により覆われるように設けられている、
ことを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。 The functional layer is further formed as a lower layer of the light emitting layer, and further includes an auxiliary layer for assisting light emission by the light emitting layer,
The thickness of the first partition wall is thicker than the thickness of the auxiliary layer,
The portion where the first partition and the auxiliary layer are in contact is provided so as to be covered with the second partition when viewed from the second electrode side.
The electro-optical device according to claim 1.
基板上に複数の第１電極に形成する工程と、
前記複数の第１電極の周縁部の上に第１の隔壁を形成する工程と、
断面において前記基板に近づくにつれて幅が広くなる形状となるとともに、前記基板とは反対側から見たとき前記第１の隔壁を覆うように、前記第１の隔壁の上に第２の隔壁を形成する工程と、
前記第１及び第２の隔壁で囲まれた領域に、機能層を形成するための材料を含む組成物をインクジェットプロセスにより塗布する工程と、
前記組成物を乾燥させ、機能層を形成する工程と、
前記機能層の上及び前記隔壁の上に連続する第２電極を形成する工程と、を備え、
前記第１の隔壁は、前記組成物に対して親液性であり、
前記第２の隔壁は、前記組成物に対して撥液性であり、
前記第１の隔壁は、断面において前記基板に近づくにつれて幅が広くなる形状であることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 A method of manufacturing an electro-optical device including an organic light emitting diode,
Forming a plurality of first electrodes on a substrate;
Forming a first partition on the peripheral edge of the plurality of first electrodes;
In the cross-section, the second partition wall is formed on the first partition wall so as to increase in width as it approaches the substrate and to cover the first partition wall when viewed from the opposite side of the substrate. And a process of
Applying a composition containing a material for forming a functional layer to a region surrounded by the first and second partition walls by an inkjet process;
Drying the composition to form a functional layer;
Forming a second electrode continuous on the functional layer and on the partition; and
The first partition is lyophilic with respect to the composition;
The second partition wall is liquid repellent with respect to the composition,
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein the first partition wall has a shape that increases in width as the substrate approaches the substrate.
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