JP4547918B2 - アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法 - Google Patents
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Description
純度99.98%、厚み100μmのアルミニウム箔を5%リン酸水溶液で1分間浸漬して前処理を行った。
前記実施例1において、前段エッチング工程の電流印加の波形を図3(b)を用い、初期の電流密度を1.0A/cm2にして、60秒後に0.1A/cm2(最大値の1.0%)まで低下させ、その後電流印加をオフにして直流エッチング処理を行った以外は実施例1と同様にしてエッチングされたアルミニウム箔を作製した。
前記実施例1において、第1〜第3の前段エッチング処理の電流印加を最大電流密度2.0A/cm2から15秒後に0.4A/cm2(最大値の20%)になるようにし、それぞれのエッチング液中の電導度を(表2)に示す条件にした以外は前記実施例1と同様にしてエッチングされたアルミニウム箔を作製した。
前記実施例1において、前段エッチング工程の電流印加を、第1〜第3の前段エッチング処理の最大電流密度を(表3)に示すようにし、それぞれの最大値から15秒で0.1A/cm2まで傾きの絶対値を徐々に小さくなるように低下させ、その後同じ電流で10秒間印加した後電流印加をオフにして20秒間放置してそれぞれエッチングした以外は前記実施例1と同様にしてエッチングされたアルミニウム箔を作製した。
前記実施例1において、前段エッチング工程の電流印加を、図2に示すようにし、第1の前段エッチング処理では最大電流密度1.0A/cm2を5秒間保持し、そこから0.1A/cm2まで傾きの絶対値を徐々に小さくなるように10秒で低下させ、その後同じ電流で10秒間印加した後電流印加をオフにして20秒間放置した。次に、第2の前段エッチング処理では最大電流密度2.4A/cm2を5秒間維持し、そこから0.1A/cm2まで傾きを徐々に小さくなるように10秒で低下させ、その後同じ電流で10秒間印加した後電流印加をオフにして20秒間放置し、続いて、第3の前段エッチング処理では最大電流密度2.8A/cm2を5秒間維持し、そこから0.1A/cm2まで傾きを徐々に小さくなるように10秒で低下させ、その後同じ電流で10秒間印加した後電流印加をオフにして20秒間放置してエッチング処理した以外は前記実施例1と同様にしてエッチングされたアルミニウム箔を作製した。
前記実施例1において、前段エッチング工程の電流印加の波形を図3(a)を用い、電流密度を0.5A/cm2に、1回のエッチング時間を25秒、電流オフ20秒にして3回直流エッチング処理を行った以外は実施例1と同様にしてエッチングされたアルミニウム箔を作製した。
Claims (4)
- アルミニウム箔に直流電流を印加してピットを生成させる前段エッチング工程と、前記ピットを拡大する後段エッチング工程とを備えたアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法であって、前記前段エッチング工程は第1の前段エッチング処理とその後に行う第2の前段エッチング処理を含む2段階以上のエッチング処理を備え、前記第1の前段エッチング処理及び第2の前段エッチング処理は、塩酸と硫酸を主体としたエッチング液を用い、前記第1の前段エッチング処理のエッチング液の電導度よりも第2の前段エッチング処理のエッチング液の電導度を高くし、かつ第1及び第2の前段エッチング処理の電流印加を、電流印加の始めを最大電流密度とし、この最大電流密度から最大電流密度の1〜25%の範囲まで電流密度の傾きの絶対値を徐々に小さくして低下させ、その後低下させた電流密度を一定に保持するようにしたアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
- 前記第2の前段エッチング処理のエッチング液の電導度を1000mS/cm以上にする請求項1に記載のアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
- 前記第1の前段エッチング処理のエッチング液と第2の前段エッチング処理のエッチング液との電導度の差を100mS/cm以上とする請求項1に記載のアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
- 前記第1の前段エッチング処理で電流印加する最大電流密度よりも第2の前段エッチング処理で電流印加する最大電流密度を高くする請求項1に記載のアルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法。
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