JP4538467B2 - マイクロリソグラフィにおける光学システム用フォトンシーブ - Google Patents
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Claims (9)
- 放射ビームを条件付けるよう構成された照明システムと、
放射ビームの断面を調節するよう構成されたパターニングデバイスと、を備え、
照明システムの瞳定義素子がフォトンシーブを備える、リソグラフィ装置。 - 放射ビームを条件付けるよう構成された照明システムと、
放射ビームの断面を調節するよう構成されたパターニングデバイスと、
を備え、
照明システムのフィールド定義素子がフォトンシーブを備える、リソグラフィ装置。 - 放射ビームを条件付けるよう構成された照明システムと、
放射ビームの断面を調節するよう構成されたパターニングデバイスと、
瞳レンズ素子を有し、調節された放射ビームを基板のターゲット部分に投影するよう構成された投影システムと、
を備え、
投影システムの瞳レンズ素子がフォトンシーブを備える、リソグラフィ装置。 - 瞳レンズ素子がプラスの分散を有し、かつマイナスの分散を有するレンズと結合して放射ビームの色補正を行う、請求項3に記載のリソグラフィ装置。
- フォトンシーブは、放射ビームの透過率が30%から70%の間となるように複数の穴を備える、請求項1から3のいずれか1の請求項に記載のリソグラフィ装置。
- フォトンシーブが同心円ゾーンに穴を備える、請求項1から3のいずれか1の請求項に記載のリソグラフィ装置。
- フォトンシーブは、照明システムソースからフォトンシーブの焦点までの光学パスの長さが自然数の放射ビームの波長となるように配置された穴を備える、請求項1から3のいずれか1の請求項に記載のリソグラフィ装置。
- フォトンシーブが金属箔からなり、フォトンシーブの穴がエッチングまたはレーザビームでドリルすることにより形成されている、請求項1から3のいずれか1の請求項に記載のリソグラフィ装置。
- 調節された放射ビームを基板に投影することを含み、放射がフォトンシーブを使用して照明システムにおいて回折される、デバイス製造方法。
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