JP4537873B2 - セルロースアシレート組成物、それを用いたセルロースアシレートフィルム、偏光板保護膜、液晶表示装置、ハロゲン化銀写真感光材料、およびセルロースアシレートフィルム用改質剤 - Google Patents

Description

本発明は、セルロースアシレート組成物およびセルロースアシレートフィルムに関し、詳しくは光学異方性や波長による光学異方性の変化を小さくする、セルロースアシレートフィルム用改質剤、該改質剤を含有するセルロースアシレート組成物、およびそのフィルムに関する。さらに本発明は、該セルロースアシレートフィルムを用いた偏光板保護膜、液晶表示装置、およびハロゲン化銀写真感光材料に関する。

従来、セルロースアシレートフィルムはその強靭性と難燃性から写真用支持体や各種光学材料に用いられてきた。特に、近年は液晶表示装置用の光学透明フィルムとして多く用いられている。セルロースアシレートフィルムは、光学的に透明性が高いことと、光学的に等方性が高いことから、液晶表示装置のように偏光を取り扱う装置用の光学材料として優れており、これまで偏光子の保護フィルムや、斜め方向から見た表示を良化（視野角補償）できる光学補償フィルムの支持体として用いられてきた。

液晶表示装置用の部材のひとつである偏光板には偏光子の少なくとも片側に偏光子の保護フィルムが貼合によって形成されている。一般的な偏光子は延伸されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルムをヨウ素または二色性色素で染色することにより得られる。多くの場合、偏光子の保護フィルムとしてはＰＶＡに対して直接貼り合わせることができる、セルロースアシレートフィルム、なかでもトリアセチルセルロースフィルムが用いられている。この偏光子の保護フィルムの光学特性が偏光板の特性を大きく左右する。

最近の液晶表示装置においては、視野角特性の改善がより強く要求されるようになっており、偏光子の保護フィルムや光学補償フィルムの支持体などの光学透明フィルムは、より光学的に等方性であることが求められている。より光学的に等方性である（すなわち光学異方性が小さい）とは、光学フィルムの複屈折と厚みの積で表されるレターデーション値が小さいことをいい、正面方向のレターデーション（Ｒｅ）だけでなく、膜厚方向のレターデーション（Ｒｔｈ）が小さいことをいう。つまり、斜め方向からの表示良化、具体的には光学透明フィルムの光学特性を評価する際に、フィルム正面から測定したＲｅが小さく、角度を変えて測定してもそのＲｅが変化しないことが要求される。

これまでに、正面のＲｅを小さくしたセルロースアシレートフィルムはあったが、角度によるＲｅ変化が小さい、すなわちＲｔｈが小さいセルロースアシレートフィルムは作製が難しかった。そこでセルロースアシレートフィルムの代わりにポリカーボネート系フィルムや熱可塑性シクロオレフィンフィルムを用いた、Ｒｅの角度変化の小さい光学透明フィルムが提案されている（例えば、特許文献１，２，製品としてはＺＥＯＮＯＲ（日本ゼオン社製）や、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ社製）など）。しかし、これらの光学透明フィルムは、偏光子の保護フィルムとして使用する場合、フィルムが疎水的なためにＰＶＡとの貼合性に問題がある。またフィルム面内全体の光学特性が不均一である問題も残っている。

この解決法として、ＰＶＡへの貼合適正に優れるセルロースアシレートフィルムを、より光学的異方性を低下させて改良することが強く望まれている。理想的には、セルロースアシレートフィルムの正面のＲｅをほぼゼロとし、またレターデーションの角度変化も小さい、すなわちＲｔｈもほぼゼロとした、光学的に等方性である光学透明フィルムである。

セルロースアシレートフィルムの製造において、一般的に製膜性能を良化するため可塑剤と呼ばれる化合物が添加される。可塑剤の種類としては、リン酸トリフェニル、リン酸ビフェニルジフェニルのようなリン酸トリエステル、フタル酸エステル類などが開示されている（例えば、非特許文献１参照）。これら可塑剤の中には、セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる効果を有するものが知られており、例えば、特定の脂肪酸エステル類が開示されている（例えば、特許文献３参照）。しかしながら、従来知られているこれらの化合物を用いたセルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる効果は十分とはいえない。

さらに、可塑剤を増量することによって、セルロースアシレートフィルムのガラス転移点がますます低下し、フィルムの軟化によって寸法安定性が悪化するという問題があった。また、低分子可塑剤は、低分子量のため熱揮散性が高く、製造時の乾燥工程で揮散するという問題があり、工程汚染の主要因として問題視されていた。

前述の熱揮散性の課題に対しては、ロジン樹脂、エポキシ樹脂、ケトン樹脂およびトルエンスルホンアミド樹脂のような高分子化合物を用いることで揮散性を抑制する技術が知られている（例えば、特許文献４参照）。しかしながら、高分子可塑剤であることから相溶性が十分ではなく、低分子可塑剤ほどの相溶性が得られない。

また、最近の液晶表示装置においては、表示色味の改善も要求されるようになっている。そのため偏光子の保護フィルムや光学補償フィルムの支持体などの光学透明フィルムは、波長４００〜８００ｎｍの可視領域でＲｅやＲｔｈを小さくするだけでなく、波長によるＲｅやＲｔｈの変化、すなわち波長分散を小さくする必要がある。
特開２００１−３１８２３３号公報 特開２００２−３２８２３３号公報 特開２００１−２４７７１７号公報 特開２００２−１４６０４４号公報 プラスチック材料講座、第１７巻、日刊工業新聞社、「繊維素系樹脂」、１２１頁（昭和４５年）

本発明は、光学異方性が小さく、さらには光学異方性の波長分散が小さいセルロース化合物組成物、セルロース化合物フィルムの提供を目的とする。また本発明は、セルロース化合物に添加したときの揮散量の少ないセルロース化合物フィルム用改質剤（セルロース化合物フィルム用改質剤とは、セルロース化合物に添加して性質を改善する添加剤をいい、例えば、光学異方性を小さくする添加剤、波長分散調整剤などをいう。）、それを用いたセルロース化合物組成物、およびそのフィルムの提供を目的とする。
さらに本発明は、光学異方性が小さく、さらには光学異方性の波長分散が小さいセルロース化合物フィルムを用いて作製した偏光板保護膜、液晶表示装置、ハロゲン化銀写真感光材料用支持体の提供を目的とする。

本発明の目的は、下記手段により達成された。
（１）セルロースアシレートと、下記一般式（２）で表される化合物とを少なくとも１つ含有することを特徴とするセルロースアシレート組成物。

[式中、Ｘ^２１およびＸ^２２はそれぞれ独立に芳香族基から形成される２価の連結基を表す。Ｙ ^２１およびＹ^２２はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、または紫外線吸収性残基を表し、Ｙ^２１およびＹ^２２のうち少なくとも１つは紫外線吸収性残基である。紫外線吸収性残基は、下記一般式（３）または一般式（６）で表される化合物を基本構造とする基である。]

［式中、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、Ｒ^３４、Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^３７、Ｒ^３８およびＲ^３９はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基またはヒドロキシル基を表す。ただしＲ ^３８ またはその一部の原子を取り去った箇所と、一般式（２）で表される化合物中の２価の連結基Ｘ ^２１またはＸ^２２とが連結するものとする。］

［式中、Ｒ^６１、Ｒ^６２、Ｒ^６３、Ｒ^６４、およびＲ^６５はそれぞれ独立に水素原子、アルコキシ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、ヒドロキシル基を表し、これらは互いに連結して環を形成してもよい。ただし、Ｒ ^６３ 、Ｒ ^６５ 、またはその一部の原子を取り去った箇所と、一般式（２）で表される化合物中の２価の連結基Ｘ ^２１またはＸ^２２とが連結するものとする。］
（２）前記一般式（２）で表される化合物が下記化合物（Ａ−１）〜（Ａ−３）、（Ａ−５）のいずれかである（１）に記載のセルロースアシレート組成物。

（３）前記一般式（２）で表される化合物が下記化合物（Ｄ−１）、（Ｄ−２）または（Ｄ−５）のいずれかである（１）に記載のセルロースアシレート組成物。

（４）（１）〜（３）のいずれか１項に記載のセルロースアシレート組成物からなるセルロースアシレートフィルム。
（５）セルロースアシレートと、セルロースアシレートの０．１乃至３０質量％の量の前記一般式（２）で表される化合物を少なくとも１つ含むことを特徴とするセルロースアシレートフィルム。
（６）セルロースアシレートのアシル置換度が２．６０乃至３．００である上記（５）に記載のセルロースアシレートフィルム。
（７）セルロースアシレートのアシル置換基が実質的にアセチル基のみからなり、その全置換度が２．８５乃至２．９５であり、その平均重合度が１８０乃至５５０である（５）に記載のセルロースアシレートフィルム。
（８）セルロースアシレートのアシル置換基が実質的にアセチル基、プロピオニル基、およびブタノイル基からなる群より選ばれる少なくとも２種類からなり、その全置換度が２．５０乃至３．００である（５）に記載のセルロースアシレートフィルム。
（９）（４）〜（８）のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムを少なくとも１層含有することを特徴とする偏光板保護膜。
（１０）（４）〜（８）のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムを少なくとも１層含有することを特徴とする液晶表示装置。
（１１）（４）〜（８）のいずれか１項に記載のセルロースアシレートフィルムを支持体として使用することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
（１２）下記一般式（２）で表されるセルロースアシレートフィルム用改質剤。

[式中、Ｘ ^２１ およびＸ ^２２ はそれぞれ独立に芳香族基から形成される２価の連結基を表す。Ｙ ^２１ およびＹ ^２２ はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、または紫外線吸収性残基を表し、Ｙ ^２１ およびＹ ^２２ のうち少なくとも１つは紫外線吸収性残基である。紫外線吸収性残基は、下記一般式（３）または一般式（６）で表される化合物を基本構造とする基である。]

［式中、Ｒ ^３１ 、Ｒ ^３２ 、Ｒ ^３３ 、Ｒ ^３４ 、Ｒ ^３５ 、Ｒ ^３６ 、Ｒ ^３７ 、Ｒ ^３８ およびＲ ^３９ はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基またはヒドロキシル基を表す。ただしＲ ^３８ またはその一部の原子を取り去った箇所と、一般式（２）で表される化合物中の２価の連結基Ｘ ^２１ またはＸ ^２２ とが連結するものとする。］

［式中、Ｒ ^６１ 、Ｒ ^６２ 、Ｒ ^６３ 、Ｒ ^６４ 、およびＲ ^６５ はそれぞれ独立に水素原子、アルコキシ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、ヒドロキシル基を表し、これらは互いに連結して環を形成してもよい。ただし、Ｒ ^６３ 、Ｒ ^６５ 、またはその一部の原子を取り去った箇所と、一般式（２）で表される化合物中の２価の連結基Ｘ ^２１ またはＸ ^２２ とが連結するものとする。］

セルロース化合物組成物、およびそのフィルムは光学異方性および波長による光学異方性の変化が非常に小さいという優れた効果を発揮する。またセルロース化合物組成物は、揮散量の小さいセルロース化合物フィルム用改質剤を用いることで製造工程の汚染の改善を可能とするものである。
さらにセルロース化合物組成物は、セルロース化合物フィルムとして用い、優れた偏光板保護膜、液晶表示装置、ハロゲン化銀写真感光材料などとすることが可能である。

セルロース化合物組成物には、セルロース化合物と、下記一般式（１）または（２）で表される化合物とが含まれる。以下、一般式（１）および（２）で表される化合物に関して詳細に説明する。

上記一般式（１）において、Ｘ^１１、Ｘ^１２およびＸ^１３はそれぞれ独立に単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、脂肪族基または芳香族基から形成される連結基からなる群から選ばれる１種以上で形成される２価の連結基を表す。連結基は２種以上が組み合わされて使用されることが好ましい。脂肪族基および芳香族基はそれぞれ独立に置換基（置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられる）を有していてもよい。Ｙ^１１、Ｙ^１２およびＹ^１３は、それぞれ独立に水素原子、置換基、または紫外線吸収性残基を表し、Ｙ^１１、Ｙ^１２およびＹ^１３のうち少なくとも１つは紫外線吸収性残基である。

また、上記一般式（１）で表される化合物として好ましくは下記一般式（２）で表される化合物である。

上記一般式（２）において、Ｘ^２１およびＸ^２２はそれぞれ独立に単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、脂肪族基または芳香族基から形成される連結基からなる群から選ばれる１種以上で形成される２価の連結基を表す。連結基は２種以上が組み合わされて使用されることが好ましい。脂肪族基および芳香族基はそれぞれ独立に置換基（置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられる）を有していてもよい。Ｙ^２１およびＹ^２２は、それぞれ独立に水素原子、置換基、または紫外線吸収性残基を表し、Ｙ^２１およびＹ^２２のうち少なくとも１つは紫外線吸収性残基である。

一般式（１）または（２）において、Ｙ^１１、Ｙ^１２、Ｙ^１３、Ｙ^２１およびＹ^２２の置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０、より好ましくは６〜２０、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１０、特に好ましくは０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１６、特に好ましくは０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素原子数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素原子数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。

本発明において、紫外線吸収性残基とは２００〜４００ｎｍの紫外線を吸収し、そのエネルギーを主として無害な熱エネルギーとして再輻射し、しかも自身はなんら変質しない化合物群を指す。これらの化合物の好ましい例としては、一般的に紫外線吸収剤と呼ばれるベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、サリチル酸エステル系化合物およびヒドロキシフェニルトリアジン系化合物などが挙げられるが、これらの化合物だけに限定されるものではない。

上記一般式（１）または（２）で表される化合物中の紫外線吸収性残基としては、下記一般式（３）で表される化合物を基本構造とする紫外線吸収性残基が好ましい（本発明において、化合物を基本構造とする紫外線吸収性残基とは、化合物中の置換基またはその置換基上の一部の原子（例えば、水素原子、ハロゲン原子など）を取去り一価の置換基とした紫外線吸収性残基をいう。）。

上記一般式（３）において、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、Ｒ^３４、Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^３７、Ｒ^３８およびＲ^３９はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。ただし、任意の位置の置換基Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、Ｒ^３４、Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^３７、Ｒ^３８もしくはＲ^３９、またはその一部の原子を取り去った箇所と、一般式（１）または一般式（２）中の２価の連結基Ｘ^１１、Ｘ^１２、Ｘ^２１またはＸ^２２とが連結するものとする。連結する置換位置は特に限定されないが、Ｒ^３１、Ｒ^３３もしくはＲ^３８の位置で連結することが好ましく、Ｒ^３８の位置が特に好ましい。置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられる。

また、上記一般式（１）または（２）で表される化合物中の紫外線吸収性残基として、下記一般式（４）で表される化合物を基本構造とする紫外線吸収性残基が好ましい。

上記一般式（４）において、Ｒ^４１、Ｒ^４２、Ｒ^４３、Ｒ^４４、Ｒ^４５、Ｒ^４６、Ｒ^４７、およびＲ^４８はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。ただし、任意の位置の置換基Ｒ^４１、Ｒ^４２、Ｒ^４３、Ｒ^４４、Ｒ^４５、Ｒ^４６、Ｒ^４７、もしくはＲ^４８を取り去った箇所、またはその一部の原子を取り去った箇所と、一般式（１）または（２）で表される化合物中の２価の連結基Ｘ^１１、Ｘ^１２、Ｘ^１３、Ｘ^２１、またはＸ^２２とが連結するものとする。連結基の置換位置は特に限定されないが、Ｒ^４２、Ｒ^４６、もしくはＲ^４８の位置で連結することが好ましく、Ｒ^４６の位置がより好ましい。置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられる。

また、上記一般式（１）または（２）で表される化合物中の紫外線吸収性残基として、下記一般式（５）で表される化合物を基本構造とする紫外線吸収性残基が好ましい。

上記一般式（５）において、Ｒ^５１、Ｒ^５２、Ｒ^５３、Ｒ^５４、Ｒ^５５、Ｒ^５６、Ｒ^５７、およびＲ^５８はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。ただし、任意の位置の置換基Ｒ^５１、Ｒ^５２、Ｒ^５３、Ｒ^５４、Ｒ^５５、Ｒ^５６、Ｒ^５７、もしくはＲ^５８を取り去った箇所、またはその一部の原子を取り去った箇所と、一般式（１）または（２）で表される化合物中の２価の連結基Ｘ^１１、Ｘ^１２、Ｘ^１３、Ｘ^２１、またはＸ^２２とが連結するものとする。連結基の置換位置は特に限定されないが、Ｒ^５１、Ｒ^５３、もしくはＲ^５６の位置で連結することが好ましく、Ｒ^５１の位置がより好ましい。置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられる。

また、上記一般式（１）または（２）で表される化合物中の紫外線吸収性残基として、下記一般式（６）で表される化合物を基本構造とする紫外線吸収性残基が好ましい。

上記一般式（６）において、Ｒ^６１、Ｒ^６２、Ｒ^６３、Ｒ^６４、およびＲ^６５はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。ただし、任意の位置の置換基Ｒ^６１、Ｒ^６２、Ｒ^６３、Ｒ^６４、もしくはＲ^６５を取り去った箇所、またはその一部の原子を取り去った箇所と、一般式（１）または（２）で表される化合物中の２価の連結基Ｘ^１１、Ｘ^１２、Ｘ^１３、Ｘ^２１、またはＸ^２２とが連結するものとする。連結基の置換位置は特に限定されないが、Ｒ^６２、Ｒ^６３、またはＲ^６５の位置で連結することが好ましく、Ｒ^６３またはＲ^６５の位置がより好ましい。置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられる。

また、上記一般式（１）および一般式（２）で表される化合物中の紫外線吸収性残基として、下記一般式（７）で表される化合物を基本構造とする紫外線吸収性残基が好ましい。

上記一般式（７）において、Ｒ^７１、Ｒ^７２、Ｒ^７３、およびＲ^７４はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ｚ^７１およびＺ^７２はそれぞれ独立に水素原子、置換基、または下記一般式（８）で表される置換基を表す。置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられる。

一般式（８）で表される置換基において、Ｒ^７６、Ｒ^７７、Ｒ^７８およびＲ^７９はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ^７５は水素原子または脂肪族基を表す。また、＊は一般式（７）で表される紫外線吸収性残基と結合する位置を表す。ただし、任意の位置の置換基Ｒ^７１、Ｒ^７２、Ｒ^７３、Ｒ^７４、Ｚ^７１、Ｚ^７２、Ｒ^７５、Ｒ^７６、Ｒ^７７、Ｒ^７８、もしくはＲ^７９を取り去った箇所、またはその一部の原子を取り去った箇所と、一般式（１）または（２）で表される化合物中の２価の連結基Ｘ^1１、Ｘ^１２、Ｘ^１３、Ｘ^２１、またはＸ^２２とが連結するものとする。連結基の置換位置は特に限定されないが、Ｒ^７１、Ｒ^７３、Ｚ^７１、Ｚ^７２、Ｒ^７７、Ｒ^７８、またはＲ^７５の位置で連結することが好ましく、特に好ましくはＲ^７１、Ｚ^７１、Ｚ^７２、Ｒ^７７、またはＲ^７５の位置である。置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられる。

セルロース化合物組成物に含まれる化合物における脂肪族基について以下に説明する。
脂肪族基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１乃至２５のものが好ましく、１乃至２０のものがより好ましく、２乃至１５のものが特に好ましい。脂肪族基の具体例としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、シクロプロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、アミル、ｉｓｏ−アミル、ｔｅｒｔ−アミル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ビシクロオクチル、アダマンチル、ｎ−デシル、ｔｅｒｔ−オクチル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ジデシルなどが挙げられる。

セルロース化合物組成物に含まれる化合物における芳香族基について以下に説明する。
芳香族基は芳香族炭化水素基でも芳香族ヘテロ環基でもよく、より好ましくは芳香族炭化水素基である。芳香族炭化水素基としては、炭素原子数が６乃至２４のものが好ましく、６乃至１２のものがより好ましい。芳香族炭化水素基の具体例としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ビフェニル、ターフェニルなどが挙げられる。芳香族炭化水素基としては、ベンゼン、ナフタレン、またはビフェニルが特に好ましい。芳香族ヘテロ環基としては、酸素原子、窒素原子、および硫黄原子のうち少なくとも１つを含むものが好ましい。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環基としては、ピリジン、トリアジン、またはキノリンが特に好ましい。

セルロース化合物組成物に含まれる化合物における置換基Ｔに関して詳細に説明する。
置換基Ｔとして好ましくはハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素原子数１〜３０のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基）、シクロアルキル基（好ましくは、炭素原子数３〜３０の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基）、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素原子数５〜３０の置換または無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素原子数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜３０の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素原子数３〜３０の置換または無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素原子数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル）、ビシクロアルケニル基（置換または無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素原子数５〜３０の置換または無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基である。例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル）、アルキニル基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリール基、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基）、ヘテロ環基（好ましくは５または６員の置換または無置換の、芳香族または非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、より好ましくは、炭素原子数３〜３０の５または６員の芳香族のヘテロ環基である。

例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素原子数３〜２０のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環オキシ基、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素原子数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、

例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルキルアミノ基、炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアニリノ基、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素原子数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、p−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素原子数０〜３０の置換または無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキルおよびアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニルアミノ、炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基

（好ましくは炭素原子数２〜３０の置換または無置換のヘテロ環チオ基、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜３０の置換または無置換のスルファモイル基、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、アルキルおよびアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキルおよびアリールスルホニル基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素原子数７〜３０の置換または無置換のアリールカルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイルベンゾイル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素原子数７〜３０の置換または無置換のアリールオキシカルボニル基、

例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素原子数１〜３０の置換または無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、アリールおよびヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素原子数６〜３０の置換または無置換のアリールアゾ基、炭素原子数３〜３０の置換または無置換のヘテロ環アゾ基、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、Ｎ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素原子数２〜３０の置換または無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素原子数３〜３０の置換または無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）を表わす。

上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去りさらに上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。

また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

また、セルロース化合物組成物において、一般式（１）または（２）で表される化合物の添加量（複数を添加する場合はその総量）は、含まれるセルロース化合物の質量に対して０．０１乃至３０質量％であることが好ましく、１乃至２５質量％であることがより好ましく、５乃至２０質量％であることが特に好ましい。
セルロース化合物と、一般式（１）または（２）で表される化合物を混合する方法は、後述の波長分散調整剤を添加混合する方法と同様である。

次に、一般式（１）または（２）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、これらの具体例に限定されるものではない。なお、Ａ−４、Ａ−７、Ａ−８、Ｂ−１〜Ｂ−６、Ｃ−１〜Ｃ−６、Ｄ−３、Ｄ−４、Ｄ−６、Ｅ−１〜Ｅ−４は本発明に対しては参考化合物である。

一般式（１）または（２）で表される化合物は、一般的に紫外線吸収性残基を有するアミン誘導体とスルホニルクロリド誘導体、アミン誘導体と紫外線吸収性残基を有するスルホニルクロリド、もしくは各々紫外線吸収性残基を有するアミン誘導体とスルホニルクロリド誘導体との反応により合成することができる。

セルロース化合物組成物に用いられるセルロース化合物に関して詳細に説明する。
本明細書において、セルロース化合物とは、セルロースを基本構造とする化合物をいい、特に制限はないが、なかでもセルロースエステルが好ましく、本発明においてはセルロースアシレートを用いる。

[セルロースアシレート原料綿]
セルロース化合物組成物に好ましく用いられるセルロースアシレートの原料となるセルロースは、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などが挙げられ、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えばプラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができる。

[セルロースアシレート置換度]
セルロース化合物組成物に好ましく用いられるセルロースアシレートは、セルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基はアシル基の炭素原子数が２のアセチル基から炭素原子数が２２のものまでいずれも用いることができる。本発明のセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することが出来る。
セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基へのアシル置換度が２．５０〜３．００であることが好ましく、置換度２．７５〜３．００がより好ましく、２．８５〜３．００が特に好ましい。

セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素原子数２〜２２のアシル基としては、脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されず、単一でも２種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル、芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイ
ル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、iso−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、またはシンナモイルが好ましく、アセチル、プロピオニル、またはブタノイルがより好ましい。

セルロースの水酸基に置換するアシル置換基のうちで、実質的にアセチル基、プロピオニル基、およびブタノイル基から選ばれる少なくとも２種類からなる場合においては、その全置換度が２．５０〜３．００であることが好ましく、２．６０〜３．００がより好ましく、２．６５〜３．００が特に好ましい。

[セルロースアシレートの重合度]
セルロース化合物組成物に好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００の範囲であり、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００がさらに好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度が高すぎるとセルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり、流延によりフィルム作製が困難になる。重合度が低すぎると作製したフィルムの強度が低下してしまう。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。特開平９−９５５３８に詳細に記載されている。
また、セルロース化合物組成物で好ましく用いられるセルロースアシレートの分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜３．０であることが好ましく、１．０〜２．０であることがより好ましく、１．０〜１．６であることが特に好ましい。

低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。

なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量部分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。本発明のセルロースアシレートの製造時に使用される際には、その含水率は２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、特に好ましくは０．７質量％以下の含水率を有するセルロースアシレートである。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており２．５〜５質量％が知られている。好ましいセルロースアシレートの含水率にするためには、乾燥することが必要であり、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。本発明のこれらのセルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて７頁〜１２頁に詳細に記載されている。

セルロース化合物組成物においては、置換基、置換度、重合度、分子量分布など前述した範囲であれば、単一あるいは異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。

[添加剤]
セルロース化合物組成物の製造において、セルロース化合物（セルロースアシレート）溶液に、各調製工程において、用途に応じた種々の添加剤（光学異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を加えることができる。本発明において、改質剤などの添加剤は、単一の化合物であっても組成物であってもよい。またその添加する時期はドープ作製工程において何れにおいて添加してもよいが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。

[波長分散調整剤]
セルロース化合物フィルムの波長分散を低下させる化合物（以下、波長分散調整剤ともいい、特に断らない限り一般式（１）または（２）で表される化合物を含む。）について説明する。
セルロース化合物組成物からなるフィルムは光学異方性が小さいこと、つまりＲｅおよびＲｔｈの値が小さいことが好ましく、Ｒｔｈは−２５〜２５ｎｍであることが好ましく、−２５〜１０ｎｍがより好ましい。また、波長による光学異方性の変化、つまりＲｅおよびＲｔｈの波長分散（以下、それぞれΔＲｅおよびΔＲｔｈともいう。）が小さいことがこのましく、ΔＲｔｈは−２５〜２５ｎｍが好ましく、−２０〜２０ｎｍがより好ましい。

セルロース化合物フィルムのＲｔｈの波長分散を良化させるためには、下記式（４）で表されるＲｔｈの波長分散（ΔＲｔｈ）を低下させる化合物（波長分散調整剤）を、下記式（５）、（６）をみたす範囲で少なくとも一種含有することが好ましい。
（４）ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜
（５）（ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−２．０
（６）０．０１≦Ｂ≦３０
上記式（５）、（６）は
（５）（ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−３．０
（６）０．０５≦Ｂ≦２５
であることがより好ましく、
（５）（ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−４．０
（６）０．１≦Ｂ≦２０
であることが特に好ましい。ここで、ΔＲｔｈ（Ｂ）はΔＲｔｈを低下させる化合物をＢ％含有したフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）を表し、ΔＲｔｈ（０）はΔＲｔｈを低下させる化合物を含有しないフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）を表す。

上記の波長分散調整剤は、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムのΔＲｅ（｜Ｒｅ₍₄₀₀₎−Ｒｅ₍₇₀₀₎｜）およびΔＲｔｈ（｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜）を低下させる化合物であることが好ましい。
セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの値は一般に短波長側よりも長波長側が大きい波長分散特性となる。したがって相対的に小さい短波長側のＲｅ、Ｒｔｈを大きくすることによって波長分散を平滑にすることが要求される。一方２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持つ化合物は短波長側よりも長波長側の吸光度が大きい波長分散特性をもつ。この化合物自身がセルロースアシレートフィルム内部で等方的に存在していれば、化合物自身の複屈折性、ひいてはＲｅ、Ｒｔｈの波長分散は吸光度の波長分散と同様に短波長側が大きいと想定される。

したがって上述したような、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、化合物自身のＲｅ、Ｒｔｈの波長分散が、短波長側が大きいと想定されるものを用いることによって、セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの波長分散を調整することができる。このためには波長分散を調整する化合物はセルロースアシレートに十分均一に相溶することが要求される。
したがって、セルロース化合物組成物に用いられる一般式（１）または（２）で表される化合物に含まれる紫外線吸収性残基に関し、その吸収帯範囲は２００〜４００ｎｍが好ましく、２２０〜３９５ｎｍがより好ましく、２４０〜３９０ｎｍが特に好ましい。

また、近年テレビやノートパソコン、モバイル型携帯端末などの液晶表示装置ではより少ない電力で輝度を高めるに、液晶表示装置に用いられる光学部材の透過率が優れたものが要求されている。その点においては、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムのΔＲｅ（｜Ｒｅ₍₄₀₀₎−Ｒｅ₍₇₀₀₎｜）およびΔＲｔｈ（｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜）を低下させる化合物をセルロースアシレートフィルムに添加する場合、分光透過率が優れていることが要求される。セルロース化合物組成物においては、そのフィルムの波長３８０ｎｍにおける分光透過率が４５％以上９５％以下であり、かつ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下であることが好ましい。

一般式（１）または（２）で表される化合物を含め、波長分散調整剤は揮散性の観点から、分子量が２５０〜１０００であることが好ましく、２６０〜８００がより好ましく、２７０〜８００がさらに好ましく、３００〜８００が特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。

波長分散調整剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。波長分散調整剤の添加量は、セルロースアシレートの０．０１〜３０質量％であることが好ましく、０．１〜２０質量％であることがより好ましく、０．２〜１０質量％であることが特に好ましい。またこれら波長分散調整剤は、単独で用いても、２種以上の化合物を任意の比で混合して用いてもよく、例えば、光学異方性を低下する化合物（以下、Ｒｔｈ低下剤ともいう。）とともに、混合して用いることが好ましい。
波長分散調整剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。

一般式（１）または（２）で表される化合物以外の波長分散調整剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、これらの化合物に限定されるものではない。

[マット剤微粒子]
セルロース化合物組成物からなるフィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がよりに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がより好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が特に好ましい。１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とした。

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）社製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）社製）の商品名で市販されており、使用することができる。

これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが１次平均粒子径２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。

２次平均粒子径の小さな粒子を有するフィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ²あたり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。

使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

[可塑剤、劣化防止剤、剥離剤]
上記の光学的に異方性を低下する化合物、波長分散調整剤の他に、本発明のセルロースアシレートフィルムには、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外吸収剤など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号などに記載されている。さらにまた、赤外吸収染料としては例えば特開２００１−１９４５２２号に記載されている。またその添加する時期はドープ作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、セルロースアシレートフィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１９０２号などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。

[化合物添加の比率]
セルロース化合物組成物においては、分子量が３０００以下の化合物の総量は、セルロース化合物の質量に対して５〜４５％であることがのぞましい。より好ましくは１０〜４０％であり、さらにのぞましくは１５〜３０％である。これらの化合物としては上述したように、光学異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤、赤外吸収剤などであり、分子量としては３０００以下が好ましく、２０００以下がより好ましく、１０００以下が特に好ましい。これら化合物の総量が５％以下であると、セルロースアシレート単体の性質が出やすくなり、例えば、温度や湿度の変化に対して光学性能や物理的強度が変動しやすくなるなどの問題がある。またこれら化合物の総量が４５％以上であると、セルロースアシレートフィルム中に化合物が相溶する限界を超え、フィルム表面に析出してフィルムが白濁する（フィルムからの泣き出し）などの問題が生じやすくなる。

[有機溶媒]
セルロース化合物組成物は、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムとすることが好ましく、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムとして製造することができる。主溶媒として好ましく用いられる有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、および炭素原子数が１〜７のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトンおよび、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
セルロース化合物組成物をフィルムとするとき、塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒としてもよいし、発明協会公開技報２００１−１７４５（１２頁〜１６頁）に記載されているように、非塩素系溶媒を主溶媒としてもよく特に限定されるものではない。

その他、セルロース化合物組成物及びそのフィルムについての溶媒は、その溶解方法も含め以下の特許に開示されており、好ましい態様である。それらは、例えば、特開２０００−９５８７６、特開平１２−９５８７７、特開平１０−３２４７７４、特開平８−１５２５１４、特開平１０−３３０５３８、特開平９−９５５３８、特開平９−９５５５７、特開平１０−２３５６６４、特開平１２−６３５３４、特開平１１−２１３７９、特開平１０−１８２８５３、特開平１０−２７８０５６、特開平１０−２７９７０２、特開平１０−３２３８５３、特開平１０−２３７１８６、特開平１１−６０８０７、特開平１１−１５２３４２、特開平１１−２９２９８８、特開平１１−６０７５２、特開平１１−６０７５２などに記載されている。これらの特許によると本発明のセルロースアシレートに好ましい溶媒だけでなく、その溶液物性や共存させる共存物質についても記載があり、本発明においても好ましい態様である。

[セルロース化合物フィルムの製造工程]
[溶解工程]
セルロース化合物組成物において、その溶液（ドープ）の調製に際し、溶解方法は特に限定されず、室温でもよくさらには冷却溶解法あるいは高温溶解法、さらにはこれらの組み合わせで実施される。セルロース化合物組成物において、その溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、ろ過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。

セルロース化合物組成物において、その溶液のドープ透明度としては８５％以上であることが好ましく、８８％以上がより好ましく、９０％以上であることが特に好ましい。セルロース化合物組成物において、その溶液には、各種の添加剤が十分に溶解していることを確認することが好ましい。具体的なドープ透明度の算出方法としては、ドープ溶液を１ｃｍ角のガラスセルに注入し、分光光度計（ＵＶ−３１５０、島津製作所社製）で５５０ｎｍの吸光度を測定することができる。溶媒のみをあらかじめブランクとして測定しておき、ブランクの吸光度との比からセルロースアシレート溶液の透明度を算出することができる。

［流延、乾燥、巻き取り工程］
次に、セルロース化合物組成物において、その溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。セルロース化合物組成物をフィルムとして製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを乾燥装置のロール群で機械的に搬送し乾燥を終了して巻き取り機でロール状に所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。セルロース化合物フィルムの主な用途である、電子ディスプレイ用の光学部材である機能性保護膜やハロゲン化銀写真感光材料に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。これらについては、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２５頁〜３０頁に詳細に記載されており、流延（共流延を含む），金属支持体，乾燥，剥離などに分類され、本発明において好ましく用いることができる。
また、セルロース化合物フィルムの厚さは１０〜１２０μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましく、３０〜９０μｍが特に好ましい。

[セルロースアシレートフィルム物性評価］
セルロース化合物組成物でなるフィルムの環境変化による光学性能の変化については、６０℃９０％ＲＨ（本発明において、ＲＨとは相対湿度をいう。）に２４０時間処理したフィルムのＲｅおよびＲｔｈの変化量が、１５ｎｍ以下であることが好ましく、１２ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以下であることが特に好ましい。
[高温度処理後のフィルムの光学性能変化]
また、８０℃２４０時間処理したフィルムのＲｅおよびＲｔｈの変化量が、１５ｎｍ以下であることが好ましく、１２ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることが特に好ましい。
[フィルム加熱処理後の化合物揮散量]
セルロース化合物組成物からなるフィルムにおいて、添加剤は８０℃２４０時間処理したフィルムからの化合物の揮散量において、３０％以下であることが好ましく、０〜２５％がより好ましく、０〜２０％であることが特に好ましい。揮散量が多すぎると、工程汚染の主要因となり問題となる。
なお、フィルムからの揮散量は、８０℃２４０時間処理したフィルムおよび未処理のフィルムをそれぞれ溶媒に溶かし出し、液体高速クロマトグラフィーにて化合物を検出し、化合物のピーク面積をフィルム中に残存した化合物量として、下記式により算出することができる。
揮散量（％）＝｛（未処理品中の残存化合物量）−（処理品中の残存化合物量）｝／（未処理品中の残存化合物量）×１００

[フィルムのガラス転移温度Ｔｇ]
セルロース化合物組成物からなるフィルムのガラス転移温度Ｔｇは、８０〜１６５℃の範囲にあることが好ましく、Ｔｇが１００〜１６０℃であることがより好ましく、１１０〜１５０℃であることが特に好ましい。ガラス転移温度Ｔｇの測定は、フィルム試料１０ｍｇを、常温から２００度まで昇降温速度５℃／分で示差走査熱量計（ＤＳＣ２９１０、Ｔ．Ａ．インスツルメント）で熱量測定を行い、ガラス転移温度Ｔｇを算出することができる。

[フィルムのヘイズ]
セルロース化合物組成物からなるフィルムのヘイズは０．０１〜２．０％であることが好ましく、０．０５〜１．５％であることがより好ましく、０．１〜１．０％であることが特に好ましい。光学フィルムとしてフィルムの透明性は重要である。ヘイズの測定は、フィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃，６０％ＲＨでヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）でＪＩＳ Ｋ−６７１４に従って測定することができる。

[フィルムのＲｅ、Ｒｔｈの湿度依存性]
セルロース化合物組成物からなるフィルムは、面内レターデーションＲｅおよび膜厚方向のレターデーションＲｔｈの湿度による変化が小さいことが好ましい。具体的には、２５℃１０％ＲＨにおけるＲｔｈ値と２５℃８０％ＲＨにおけるＲｔｈ値の差（Ｒｔｈ１０％ＲＨ−Ｒｔｈ８０％ＲＨ）が０〜５０ｎｍであることが好ましく、０〜４０ｎｍがより好ましく、０〜３５ｎｍが特に好ましい。

[フィルムの平衡含水率]
セルロース化合物組成物からなるフィルムの平衡含水率は、偏光板の保護膜として用いる際、ポリビニルアルコールなどの水溶性ポリマーとの接着性を損なわないために、膜厚のいかんに関わらず、２５℃８０％ＲＨにおける平衡含水率が、０〜４％であることが好ましく、０．１〜３．５％であることがより好ましく、１〜３％であることが特に好ましい。０．４％以上の平衡含水率であると、光学補償フィルムの支持体として用いる際にレターデーションの湿度変化による依存性が大きくなりすぎてしまい好ましくない。
含水率の測定法は、フィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを水分測定器、試料乾燥装置（ＣＡ−０３、ＶＡ−０５、共に三菱化学（株）社製）にてカールフィッシャー法で測定することができる。水分量（ｇ）を試料重量（ｇ）で除して算出することができる。

[フィルムの透湿度]
セルロース化合物組成物を光学補償シートとして用いるフィルムの透湿度は、ＪＩＳ規格ＪＩＳＺ０２０８をもとに、温度６０℃、湿度９５％ＲＨの条件において測定し、膜厚８０μｍに換算して４００〜２０００ｇ／ｍ²・２４ｈであることが好ましい。５００〜１８００ｇ／ｍ²・２４ｈであることがより好ましく、６００〜１６００ｇ／ｍ²・２４ｈであることが特に好ましい。２０００ｇ／ｍ²・２４ｈを越えると、フィルムのＲｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなってしまう。また、セルロース化合物組成物からなるフィルムに光学異方性層を積層して光学補償フィルムとした場合も、Ｒｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなってしまい好ましくない。この光学補償シートや偏光板が液晶表示装置に組み込まれた場合、色味の変化や視野角の低下を引き起こす。また、セルロースアシレートフィルムの透湿度が４００ｇ／ｍ²・２４ｈ未満では、偏光膜の両面などに貼り付けて偏光板を作製する場合に、セルロースアシレートフィルムにより接着剤の乾燥が妨げられ、接着不良を生じる。
セルロースアシレートフィルムの膜厚が厚ければ透湿度は小さくなり、膜厚が薄ければ透湿度は大きくなる。そこでどのような膜厚のサンプルでも基準を８０μｍに設け換算する必要がある。膜厚の換算は、（８０μｍ換算の透湿度＝実測の透湿度×実測の膜厚μｍ／８０μｍ）として求めた。
透湿度の測定法は、「高分子の物性II」（高分子実験講座４ 共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができ、フィルム試料７０ｍｍφを２５℃、９０％ＲＨ及び６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、透湿試験装置（ＫＫ−７０９００７、東洋精機（株）社製）にて、ＪＩＳ Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ²）し、透湿度＝調湿後重量−調湿前重量で求めることができる。

[フィルムの寸度変化]
セルロース化合物組成物からなるフィルムの寸度安定性は、６０℃、９０％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合（高湿）の寸度変化率および９０℃、５％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合（高温）の寸度変化率がいずれも０.５％以下であることが好ましく、０．３％以下がより好ましく、０．１５％以下が特に好ましい。
具体的な測定方法としては、フィルム試料３０ｍｍ×１２０ｍｍを２枚用意し、２５℃、６０％ＲＨで２４時間調湿し、自動ピンゲージ（新東科学（株）社製）にて、両端に６ｍｍφの穴を１００ｍｍの間隔で開け、パンチ間隔の原寸（Ｌ０）とする。１枚の試料を６０℃、９０％ＲＨにて２４時間処理した後のパンチ間隔の寸法（Ｌ１）を測定、もう１枚の試料を９０℃、５％ＲＨにて２４時間処理した後のパンチ間隔の寸法（Ｌ２）を測定することができる。すべての間隔の測定において最小目盛り１／１０００ｍｍまで測定することができる。６０℃、９０％ＲＨ（高湿）の寸度変化率＝｛｜Ｌ０−Ｌ１｜／Ｌ０｝×１００、９０℃、５％ＲＨ（高温）の寸度変化率＝｛｜Ｌ０−Ｌ２｜／Ｌ０｝×１００、として寸度変化率を求めることができる。

[フィルムの弾性率]
（弾性率）
セルロース化合物組成物からなるフィルムの弾性率は、２００〜５００ｋｇｆ/ｍｍ²であることが好ましく、より好ましくは２４０〜４７０ｋｇｆ/ｍｍ²であり、特に好ましくは２７０〜４４０ｋｇｆ／ｍｍ^２である。具体的な測定方法としては、東洋ボールドウィン製万能引っ張り試験機ＳＴＭ Ｔ５０ＢＰを用い、２３℃・７０％雰囲気中、引っ張り速度１０％／分で０．５％伸びにおける応力を測定し、弾性率を求めることができる。

[フィルムの光弾性係数]
（光弾性係数）
セルロース化合物組成物からなるフィルムの光弾性係数は、５０×１０^−１５ｃｍ^２／ｄｙｎｅ以下であることが好ましい。３０×１０^−１５ｃｍ^２／ｄｙｎｅ以下であることがより好ましく、２０×１０^−１５ｃｍ^２／ｄｙｎｅ以下であることが特に好ましい。具体的な測定方法としては、フィルム試料１２ｍｍ×１２０ｍｍの長軸方向に対して引っ張り応力をかけ、その際のレターデーションをＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨエリプソメーター（Ｍ１５０、日本分光（株）社製）で測定し、応力に対するレターデーションの変化量から光弾性係数を算出することができる。

[延伸前後における正面レターデーション変化、遅相軸の検出]
試料１００×１００ｍｍを用意し、固定一軸延伸機を用いて温度１４０℃の条件下で機械搬送方向（ＭＤ方向）または垂直方向（ＴＤ方向）に延伸を行うことがよい。延伸前後における各試料の正面レターデーションは自動複屈折計ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨを用いて測定することができる。遅相軸の検出は上記のレターデーション測定の際に得られる配向角から決定することができる。延伸によってＲｅの変化が小さいことが好ましく、具体的にはＲｅ(ｎ)をｎ(％)延伸したフィルムの面内正面レターデーション(ｎｍ)、Ｒｅ(０)を延伸していないフィルムの面内正面レターデーション(ｎｍ)としたときに、｜Ｒｅ(ｎ)−Ｒｅ(０)｜／ｎ≦１．０を有することが好ましく、｜Ｒｅ(ｎ)−Ｒｅ(０)｜／ｎ≦０．３以下がより好ましい。

[遅相軸を有する方向]
セルロース化合物組成物からなるフィルムを偏光子の保護フィルムに用いる場合、偏光子が機械搬送方向（ＭＤ方向）に吸収軸を持つため、セルロースアシレートフィルムは遅相軸がＭＤ方向近傍またはＴＤ近傍にあることが好ましい。遅相軸が偏光子と平行または直交させることにより光漏れや色味変化を低減できる。近傍とは、遅相軸とＭＤまたはＴＤ方向が０〜１０°、好ましくは０〜５°の範囲にあることを表す。

[固有複屈折が正であるセルロースアシレートフィルム]
セルロース化合物組成物からなるフィルムは、フィルム面内において、遅相軸を有する方向に延伸すると正面レターデーションＲｅが大きくなり、遅相軸を有する方向と垂直な方向に延伸すると正面レターデーションＲｅが小さくなる。このことは固有複屈折が正であることを示しており、フィルム中で発現したＲｅを打ち消すには遅相軸と垂直方向に延伸することが有効である。この方法としては例えば、フィルムが機械搬送方向（ＭＤ方向）に遅相軸を有している場合にＭＤとは垂直な方向（ＴＤ方向）にテンター延伸を用いて正面Ｒeを小さくすることが考えられる。逆の例として、ＴＤ方向に遅相軸を有している場合にはＭＤ方向の機械搬送ロールの張力を強めて延伸することによって正面Ｒｅを小さくすることが考えられる。

[固有複屈折が負であるセルロース化合物フィルム]
セルロース化合物組成物からなるフィルムは、遅相軸を有する方向に延伸すると正面レターデーションＲｅが小さくなり、遅相軸を有する方向と垂直な方向に延伸すると正面レターデーションＲｅが大きくなる場合もある。このことは固有複屈折が負であることを示しており、フィルム中で発現したＲｅを打ち消すには遅相軸と同一の方向に延伸することが有効である。この方法としては例えば、フィルムが機械搬送方向（ＭＤ方向）に遅相軸を有している場合にＭＤ方向の機械搬送ロールの張力を強めて延伸することによって正面Ｒeを小さくすることが考えられる。逆の例として、ＴＤ方向に遅相軸を有している場合にはＭＤとは垂直な方向（ＴＤ方向）にテンター延伸を用いて正面Ｒｅを小さくすることが考えられる。

[セルロース化合物フィルムの評価方法]
セルロース化合物フィルムの評価として、以下の方法で各項目の測定を実施することができる。

（面内のレターデーションＲｅ、膜厚方向のレターデーションＲｔｈ）
試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿し、Ｒｅ(λ)は自動複屈折計KOBRA 21ADH（王子計測機器（株）社製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定することができる。また、Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)と、面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向を０°としてサンプルを１０°ごとに５０°まで傾斜させて波長λnｍの光を入射させて測定したレターデーション値を基に、平均屈折率の仮定値１．４８および膜厚を入力し算出することができる。

（Ｒｅ、Ｒｔｈの波長分散測定）
試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿し、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨエリプソメーターＭ−１５０(日本分光（株）社製)において波長７８０ｎｍから３８０ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させることにより各波長でのＲｅをもとめ、Ｒｅの波長分散を測定することができる。また、Ｒｔｈの波長分散については、前記Ｒｅ、面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から７８０〜３８０ｎｍの波長の光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長７８０〜３８０ｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基に、平均屈折率の仮定値１．４８および膜厚を入力して算出することができる。

（分子配向軸）
試料７０ｍｍ×１００ｍｍを、２５℃、６５％ＲＨで２時間調湿し、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ、王子計測（株）社製）にて、垂直入射における入射角を変化させた時の位相差より分子配向軸を算出することができる。
（軸ズレ）
また、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）で軸ズレ角度を測定することができる。幅方向に全幅にわたって等間隔で２０点測定し、絶対値の平均値を求めることができる。また、遅相軸角度（軸ズレ）のレンジとは、幅方向全域にわたって等間隔に２０点測定し、軸ズレの絶対値の大きいほうから４点の平均と小さいほうから４点の平均の差をとったものである。

（透過率）
試料２０ｍｍ×７０ｍｍを、２５℃，６０％ＲＨで透明度測定器（ＡＫＡ光電管比色計、ＫＯＴＡＫＩ製作所社製）で可視光（６１５ｎｍ）の透過率を測定することができる。
（分光特性）
試料１３ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃，６０％ＲＨで分光光度計（Ｕ−３２１０、（株）日立製作所社製）にて、波長３００〜４５０ｎｍにおける透過率を測定することができる。傾斜幅は７２％の波長−５％の波長で求めることができる。限界波長は、（傾斜幅／２）＋５％の波長で表し、吸収端は、透過率０．４％の波長で表すことができる。これより３８０ｎｍおよび３５０ｎｍの透過率を評価することができる。

[フィルム表面の性状]
フィルムの表面は、ＪＩＳＢ０６０１−１９９４に基づく該膜の表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下、及び最大高さ（Ｒｙ）が０．５μｍ以下であることが好ましく、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ以下、最大高さ（Ｒｙ）が０．２μｍ以下がより好ましい。膜表面の凹と凸の形状は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により評価することができる。

[レターデーションの面内ばらつき]
本発明のセルロースアシレートフィルムは次の式を満たすことが好ましい。
｜Ｒｅ_(MAX)−Ｒｅ_(MIN)｜≦3かつ｜Ｒｔｈ_(MAX)−Ｒｔｈ_(MIN)｜≦5
［式中、Ｒｅ_(MAX)、Ｒｔｈ_(MAX)−は任意に切り出した1ｍ四方のフィルムの最大レターデーション値、Ｒｅ_(MIN)、Ｒｔｈ_(MIN)は最小値である。］

[フィルムの保留性]
セルロース化合物組成物からなるフィルムにおいては、フィルムに添加した各種化合物の保留性が要求される。具体的には、本発明のセルロースアシレートフィルムを８０℃／９０％ＲＨの条件下に４８時間静置した場合のフィルムの質量変化が、０〜５％であることが好ましい。より好ましくは０〜３％であり、特に好ましくは０〜２％である。
〈保留性の評価方法〉
試料を１０ｃｍ×１０ｃｍのサイズに断裁し、２３℃、５５％ＲＨの雰囲気下で２４時間放置後の質量を測定して、８０±５℃、９０±１０％ＲＨの条件下で４８時間放置し、処理後の試料の表面を軽く拭き、２３℃、５５％ＲＨで１日放置後の質量を測定して、以下の方法で保留性を計算することができる。
保留性（質量％）＝｛（放置前の質量−放置後の質量）／放置前の質量｝×１００

[フィルムの力学特性]
（カール）
フィルムの幅方向のカール値は、−１０／ｍ〜＋１０／ｍであることが好ましい。セルロース化合物組成物からなるフィルムには後述する表面処理、光学異方性層を塗設する際のラビング処理の実施や配向膜、光学異方性層の塗設や貼合などを長尺で行う際に、本発明のセルロースアシレートフィルムの幅方向のカール値が前述の範囲外では、フィルムのハンドリングに支障をきたし、フィルムの切断が起きることがある。また、フィルムのエッジや中央部などで、フィルムが搬送ロールと強く接触するために発塵しやすくなり、フィルム上への異物付着が多くなり、光学補償フィルムの点欠陥や塗布スジの頻度が許容値を超えることがある。又、カールを上述の範囲とすることで光学異方性層を設置するときに発生しやすい色斑故障を低減できるほか、偏光膜貼り合せ時に気泡が入ることを防ぐことができ、好ましい。
カール値は、アメリカ国家規格協会の規定する測定方法（ＡＮＳＩ／ＡＳＣＰＨ１．２９−１９８５）に従い測定することができる。

（引裂き強度）
ＪＩＳＫ７１２８−２：１９９８の引裂き試験方法に基づく引裂き強度（エルメンドルフ引裂き法）が、本発明のセルロースアシレートフィルムの膜厚が２０〜８０μｍの範囲において、２ｇ以上が好ましい。より好ましくは、５〜２５ｇであり、特に好ましくは６〜２５ｇである。また、６０μｍ換算で８ｇ以上が好ましく、より好ましくは８〜１５ｇである。具体的には、試料片５０ｍｍ×６４ｍｍを、２５℃、６５％ＲＨの条件下に２時間調湿した後に軽荷重引裂き強度試験機を用いて測定できる。

［フィルムの残留溶剤量］
フィルムに対する残留溶剤量が、０．０１〜１．５質量％の範囲となる条件で乾燥することが好ましい。より好ましくは０．０１〜１．０質量％である。本発明に用いる透明支持体の残留溶剤量は１．５％以下とすることでカールを抑制できる。１．０％以下であることがより好ましい。これは、前述のソルベントキャスト方法による成膜時の残留溶剤量が少なくすることで自由堆積が小さくなることが主要な効果要因になるためと思われる。

[フィルムの吸湿膨張係数]
フィルムの吸湿膨張係数は３０×１０^−５／％ＲＨ以下とすることが好ましい。吸湿膨張係数は、１５×１０^−５／％ＲＨ以下とすることが好ましく、１０×１０^−５／％ＲＨ以下であることがよりに好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０^−５／％ＲＨ以上の値である。吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。この吸湿膨張係数を調節することで、セルロース化合物組成物からなるフィルムを光学補償フィルム支持体として用いた際、光学補償フィルムの光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇すなわち歪みによる光漏れを防止することができる。

［表面処理］
セルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０^−３〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンのようなフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。

［アルカリ鹸化処理によるフィルム表面の接触角］
本発明のセルロースアシレートフィルムを偏光板の透明保護フィルムとして用いる場合の表面処理の有効な手段の１つとしてアルカリ鹸化処理が上げられる。この場合、アルカリ鹸化処理後のフィルム表面の接触角が５５°以下であることが好ましい。より好ましくは５０°以下であり、４５°以下であることが特に好ましい。接触角の評価法はアルカリ鹸化処理後のフィルム表面に直径３ｍｍの水滴を落とし、フィルム表面と水滴のなす角をもとめる通常の手法によって親疎水性の評価として用いることができる。

（耐光性）
セルロース化合物組成物において、その光耐久性の指標として、スーパーキセノン光を２４０時間照射したフィルムの色差ΔＥ＊ａｂが２０以下であることが好ましい。より好ましくは１８以下であり、１５以下であることが特に好ましい。色差の測定は、ＵＶ3100（島津製作所社製）を用いることができる。測定の仕方は、フィルムを２５℃６０％ＲＨに２時間以上調湿した後にキセノン光照射前のフィルムのカラー測定を行ない初期値（L0^*、a0^*、b0^*）を求めることができる。その後、フィルム単体で、スーパーキセノンウェザーメーターSX-75（スガ試験機（株）社製）にて、１５０Ｗ/ｍ²、６０℃５０％ＲＨ条件にてキセノン光を２４０時間照射し、所定時間の経過後、フィルムを恒温槽から取り出し、２５℃６０％ＲＨに２時間調湿した後に、再びカラー測定を行い、照射経時後の値（L1^*、a1^*、b1^*）を求めることができる。これらから、色差ΔE^*ab＝（(L0^*-L1^*)^2＋(a0^*-a1^*)^2＋(b0^*-b1^*)^2）^0.5を求めることができる。

［機能層］
セルロース化合物組成物からなるフィルムは、その用途として光学用途と写真感光材料に適用される。特に光学用途が液晶表示装置であることが好ましく、液晶表示装置が、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、および該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも一枚の光学補償シートを配置した構成であることがさらに好ましい。これらの液晶表示装置としては、ＴＮ、ＩＰＳ、ＦＬＣ、ＡＦＬＣ、ＯＣＢ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＶＡおよびＨＡＮが好ましい。
その際に前述の光学用途に、セルロース化合物組成物からなるフィルムを用いるに際し、各種の機能層を付与することが実施される。それらは、例えば、帯電防止層、硬化樹脂層（透明ハードコート層）、反射防止層、易接着層、防眩層、光学補償層、配向層、液晶層などである。これらの機能層及びその材料としては、界面活性剤、滑り剤、マット剤、帯電防止層、ハードコート層などが挙げられ、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３２頁〜４５頁に詳細に記載されており好ましく用いることができる。

［偏光板］
セルロース化合物組成物、およびそのフィルムは偏光板保護フィルム用として有用である。偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られたセルロースアシレートフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、特開平６−１１８２３２号に記載されているような易接着加工を施してもよい。
保護フィルム処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に液晶を含む基板が配置されているが、本発明の光学フィルムを適用した偏光板保護フィルムはどの部位に配置しても優れた表示性が得られる。特に液晶表示装置の表示側最表面の偏光板保護フィルムには透明ハードコート層、防眩層、反射防止層等が設けられるため、該偏光板保護フィルムをこの部分に用いることが得に好ましい。

［光学補償フィルム］
セルロース化合物組成物、およびそのフィルムは、様々な用途で用いることができ、液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いると効果がある。なお、光学補償フィルムとは、一般に液晶表示装置に用いられ、位相差を補償する光学材料のことを指し、位相差板、光学補償シートなどと同義である。光学補償フィルムは複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。セルロース化合物組成物フィルムは、光学補償フィルムとして用いる場合、ＲｅおよびＲｔｈが０≦Ｒｅ≦１０ｎｍかつ｜Ｒｔｈ｜≦２５ｎｍと光学的異方性が小さいことが好ましく、ΔＲｅ（｜Ｒｅ₍₄₀₀₎−Ｒｅ₍₇₀₀₎｜）≦１０ｎｍかつΔＲｔｈ（｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜）≦３５ｎｍと波長分散が小さいことが好ましい。このようなフィルムであれば、余計な異方性を生じず、複屈折を持つ光学異方性層を併用すると光学異方性層の光学性能のみを発現することができる。

したがってセルロース化合物組成物フィルムを液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いる場合、併用する光学異方性層のＲｅおよびＲｔｈはＲｅ＝０〜２００ｎｍかつ｜Ｒｔｈ｜＝０〜４００ｎｍであることが好ましく、この範囲であればどのような光学異方性層でもよい。セルロース化合物組成物、およびそのフィルムが使用される液晶表示装置の液晶セルの光学性能や駆動方式に制限されず、光学補償フィルムとして要求される、どのような光学異方性層も併用することができる。併用される光学異方性層としては、液晶性化合物を含有する組成物から形成しても良いし、複屈折を持つポリマーフィルムから形成しても良い。
前記液晶性化合物としては、ディスコティック液晶性化合物または棒状液晶性化合物が好ましい。

（ディスコティック液晶性化合物）
ディスコティック液晶性化合物の例には、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ ｅｔ ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ ｅｔ ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ ２６５５（１９９４））に記載の化合物が含まれる。

光学異方性層において、ディスコティック液晶性分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのがより好ましい。ディスコティック液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。ディスコティック液晶性分子を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。重合性基を有するディスコティック液晶性分子について、特開２００１−４３８７号公報に開示されている。

（棒状液晶性化合物）
棒状液晶性化合物の例には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が含まれる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。

光学異方性層において、棒状液晶性分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのがより好ましい。重合性棒状液晶性化合物の例には、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号、同５６２２６４８号、同５７７０１０７号、世界特許（ＷＯ）９５／２２５８６号、同９５／２４４５５号、同９７／００６００号、同９８／２３５８０号、同９８／５２９０５号、特開平１−２７２５５１号、同６−１６６１６号、同７−１１０４６９号、同１１−８００８１号、および特開２００１−３２８９７３号などに記載の化合物が含まれる。

（ポリマーフィルムからなる光学異方性層）
上記した様に、光学異方性層はポリマーフィルムから形成してもよい。ポリマーフィルムは、光学異方性を発現し得るポリマーから形成する。そのようなポリマーの例には、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー）、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステルおよびセルロースエステル（例、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート）が含まれる。また、これらのポリマーの共重合体あるいはポリマー混合物を用いてもよい。

ポリマーフィルムの光学異方性は、延伸により得ることが好ましい。延伸は一軸延伸または二軸延伸であることが好ましい。具体的には、２つ以上のロールの周速差を利用した縦一軸延伸、またはポリマーフィルムの両サイドを掴んで幅方向に延伸するテンター延伸、これらを組み合わせての二軸延伸が好ましい。なお、二枚以上のポリマーフィルムを用いて、二枚以上のフィルム全体の光学的性質が前記の条件を満足してもよい。ポリマーフィルムは、複屈折のムラを少なくするためにソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ポリマーフィルムの厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、４０〜１００μｍであることがより好ましい。

また、光学異方性層を形成するポリマーフィルムとして、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドポリエステルイミド、およびポリアリールエーテルケトン、からなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー材料を用い、これを溶媒に溶解した溶液を基材に塗布し、溶媒を乾燥させてフィルム化する方法も好ましく用いることができる。この際、上記ポリマーフィルムと基材とを延伸して光学異方性を発現させて光学異方性層として用いる手法も好ましく用いることができ、セルロース化合物組成物、およびそのフィルムは上記基材として好ましく用いることができる。また、上記ポリマーフィルムを別の基材の上で作製しておき、ポリマーフィルムを基材から剥離させたのちにセルロース化合物組成物からなるフィルムと貼合し、あわせて光学異方性層として用いることも好ましい。この手法ではポリマーフィルムの厚さを薄くすることができ、５０μｍ以下であることが好ましく、１〜２０μｍであることがより好ましい。

（一般的な液晶表示装置の構成）
セルロースアシレートフィルムを光学補償フィルムとして用いる場合は、偏光素子の透過軸と、セルロースアシレートフィルムからなる光学補償フィルムの遅相軸とをどのような角度で配置しても構わない。液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、および該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも一枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。
液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、さらにガスバリアー層、ハードコート層あるいは（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。

（液晶表示装置の種類）
セルロース化合物組成物、およびそのフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。セルロース化合物組成物およびそのフィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。

（ＴＮ型液晶表示装置）
セルロース化合物組成物からなるフィルムを、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くから良く知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、特開平９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ． Ｊ． Ａｐｐｌ． Ｐｈｙｓ． Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１４３や、Ｊｐｎ． Ｊ． Ａｐｐｌ． Ｐｈｙｓ． Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１０６８）に記載がある。

（ＳＴＮ型液晶表示装置）
セルロース化合物組成物からなるフィルムを、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。

（ＶＡ型液晶表示装置）
セルロース化合物組成物からなるフィルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として特に有利に用いられる。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償シートのＲｅレターデーション値を０乃至１５０ｎｍとし、Ｒｔｈレターデーション値を７０乃至４００ｎｍとすることが好ましい。Ｒｅレターデーション値は、２０乃至７０ｎｍであることがより好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に二枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈレターデーション値は７０乃至２５０ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に一枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈレターデーション値は１５０乃至４００ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。

（ＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置）
セルロース化合物組成物からなるフィルムは、ＩＰＳモードおよびＥＣＢモードの液晶セルを有するＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体、または偏光板の保護膜としても特に有利に用いられる。これらのモードは黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶分子を基板面に対して平行配向させて、黒表示する。これらの態様において本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は色味の改善、視野角拡大、コントラストの良化に寄与する。この態様においては、液晶セルの上下の前記偏光板の保護膜のうち、液晶セルと偏光板との間に配置された保護膜（セル側の保護膜）にセルロース化合物組成物からなるフィルムを用いた偏光板を少なくとも片側一方に用いることが好ましい。偏光板の保護膜と液晶セルの間に光学異方性層を配置し、配置された光学異方性層のリターデーションの値を、液晶層のΔｎ・ｄの値の２倍以下に設定するのがより好ましい。

（ＯＣＢ型液晶表示装置およびＨＡＮ型液晶表示装置）
セルロース化合物組成物からなるフィルムは、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートの光学的性質も、光学的異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質および光学的異方性層と支持体との配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平９−１９７３９７号公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ． Ｊ． Ａｐｐｌ． Ｐｈｙｓ． Ｖｏｌ．３８（１９９９）ｐ．２８３７）に記載がある。

（反射型液晶表示装置）
セルロース化合物組成物からなるフィルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）型の反射型液晶表示装置の光学補償シートとしても有利に用いられる。これらの表示モードは古くからよく知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、ＷＯ９８４８３２０号、特許第３０２２４７７号の各公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、ＷＯ００−６５３８４号に記載がある。

（その他の液晶表示装置）
セルロース化合物組成物からなるフィルムは、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ ）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置については、クメ（Ｋｕｍｅ）他の論文（Ｋｕｍｅ ｅｔ ａｌ．， ＳＩＤ ９８ Ｄｉｇｅｓｔ １０８９ （１９９８））に記載がある。

（ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム）
セルロース化合物組成物からなるフィルムは、またハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルムへの適用が好ましく実施できる。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上する目的で、セルロース化合物組成物からなるフィルムの片面または両面にハードコート層、防眩層、反射防止層の何れかあるいは全てを付与することができる。このような防眩フィルム、反射防止フィルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の５４頁〜５７頁に詳細に記載されており、本発明のセルロースアシレートフィルムを好ましく用いることができる。

（写真フィルム支持体）
さらにセルロース化合物組成物およびそのフィルムは、ハロゲン化銀写真感光材料の支持体としても適用でき、上述の各種の素材や処方さらには処理方法が適用できる。それらの技術については、特開２０００−１０５４４５にカラーネガティブに関する記載が詳細に挙げられており、セルロース化合物組成物からなるフィルムが好ましく用いられる。またカラー反転ハロゲン化銀写真感光材料の支持体としての適用も好ましく、特開平１１−２８２１１９に記載されている各種の素材や処方さらには処理方法が適用できる。

（透明基板）
セルロース化合物組成物からなるフィルムは、光学的異方性がゼロに近く、優れた透明性を持っていることから、液晶表示装置の液晶セルガラス基板の代替、すなわち駆動液晶を封入する透明基板としても用いることができる。
液晶を封入する透明基板はガスバリア性に優れる必要があることから、必要に応じて本発明のセルロースアシレートフィルムの表面にガスバリアー層を設けてもよい。ガスバリアー層の形態や材質は特に限定されないが、本発明のセルロースアシレートフィルムの少なくとも片面にＳｉＯ_２等を蒸着したり、あるいは塩化ビニリデン系ポリマーやビニルアルコール系ポリマーなど相対的にガスバリアー性の高いポリマーのコート層を設ける方法が考えられ、これらを適宜使用できる。
また液晶を封入する透明基板として用いるには、電圧印加によって液晶を駆動するための透明電極を設けてもよい。透明電極としては特に限定されないが、セルロース化合物組成物からなるフィルムの少なくとも片面に、金属膜、金属酸化物膜などを積層することによって透明電極を設けることができる。中でも透明性、導電性、機械的特性の点から、金属酸化物膜が好ましく、なかでも酸化スズを主として酸化亜鉛を２〜１５％含む酸化インジウムの薄膜が好ましく使用できる。これら技術の詳細は例えば、特開２００１−１２５０７９や特開２０００−２２７６０３などに公開されている。

以下に本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（合成例） 化合物Ａ−１の合成
パラアミノ安息香酸13.7ｇ、ピリジン（以下、Ｐｙともいう）20.2mlを200mlのN,N-ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦともいう）に溶解させ、氷冷下で攪拌した。ここにパラトルエンスルホニルクロライド20.0ｇを内温が１０℃を越えないように分別添加し、添加後さらに１５℃以下で１時間攪拌した。反応液を0.3mol/l塩酸500mlに注意深く注ぎ、得られた結晶を濾取した。水300mlにて洗浄を行った後、乾燥させ中間体(T-1)を27.3g（収率93.7％）で得た。
次いで、中間体(T-1)14.6gをアセトニトリル100mlにけん濁させ、室温下でオキサリルクロライド19.0gを30分かけて滴下した。滴下終了時に中間体（T-1）は完全に溶解した。滴下後さらに室温下で２時間反応させた後、溶媒を減圧濃縮し、中間体（T-2）を得た。得られた中間体（T-2）は特別な精製工程無く次工程に使用した。
2,4-ジヒドロキシベンゾフェノン10.7ｇ、ピリジン10.2mlを100mlのＤＭＦに溶解させ、氷冷下で攪拌した。ここに前工程で得られた中間体（T-2）の全量を内温が１０℃を越えないように分別添加し、添加後さらに室温下で４時間攪拌した。反応液を0.5mol/l塩酸300mlに注意深く注ぎ、得られた結晶を濾取、水300mlによる洗浄、乾燥を行った。得られた結晶をアセトニトリル120mlにて再結晶させ化合物例(A-1)を11.7g（収率48.0％）で得た。

（調製例） 原料液の調製
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、溶解し、セルロースアシレート溶液Ａ組成を有する溶液を調製した。

＜セルロースアシレート溶液Ａ組成＞
置換度２．８６のセルロースアセテート １００質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２質量部
メタノール（第２溶媒） ６０質量部

下記の原料を別のミキシングタンクを用いて、加熱しながら攪拌して、溶解し、添加剤溶液Ｂ組成を有する溶液を調製した。
このとき、下記のとおり、Ｒｔｈ低下剤として添加剤１をＢ〜Ｄ組成の溶液に添加し、添加剤２については表１のとおりに代えて、それぞれ別の溶液として調製した。

＜添加剤溶液Ｂ組成＞
添加剤１・・化合物Ｆ−１ １２質量部
添加剤２・・表１参照 ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４９質量部
メタノール（第２溶媒） ７質量部

さらに下記の原料を別のミキシングタンクを用いて、加熱しながら攪拌して、溶解し、添加剤溶液ＣまたはＤ組成を有する溶液を調製した。
このとき、添加剤については、表１のとおりに代えて、それぞれ別の溶液として調製した。

＜添加剤溶液Ｃ組成＞
添加剤１・・化合物Ｆ−１ ９質量部
添加剤２・・表１参照 ５質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４９質量部
メタノール（第２溶媒） ７質量部

＜添加剤溶液Ｄ組成＞
添加剤２・・表１参照 ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４９質量部
メタノール（第２溶媒） ７質量部

＜セルロースアセテートフィルム試料００１の作製＞
セルロースアシレート溶液Ａ５６２質量部を流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の場外で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター（特開平４−１００９号の図３に記載のピンテンター）で固定し、溶媒含有率が３乃至５質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み８０μｍの比較のためのフィルム試料００１（比較例１）を作製した。

＜セルロースアセテートフィルム試料００２〜０１１の作製＞
セルロースアシレート溶液Ａ組成を有する溶液を５６２質量部に、添加剤Ｇ−１を含む添加剤溶液Ｂ組成の溶液の７０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調製した。
ドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の場外で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター（特開平４−１００９号の図３に記載のピンテンター）で固定し、溶媒含有率が３乃至５質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み８０μｍの比較のためのフィルム試料００２（比較例２）を作製した。
また、添加剤溶液Ｂ組成の溶液において、添加剤２が表１のとおりそれぞれ異なるものを用いた以外、上記と同様にして比較のためのフィルム試料００３〜００６（比較例３〜６）、および本発明のセルロースアシレート組成物のフィルム試料００７、０１０（実施例１、４）を作製した。フィルム試料００８、００９、０１１は参考例である。

＜セルロースアセテートフィルム試料０１２〜０１５の作製＞
セルロースアシレート溶液Ａを５６２質量部に、添加剤Ｇ−１を含む添加剤溶液Ｃ組成の溶液の７０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調製した。
ドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の場外で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター（特開平４−１００９号の図３に記載のピンテンター）で固定し、溶媒含有率が３乃至５質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み８０μｍの比較のためのフィルム試料０１２（比較例７）を作製した。
また、添加剤溶液Ｃ組成の溶液において、添加剤が表１のとおりそれぞれ異なるものを用いた以外、上記と同様にして比較のためのフィルム試料０１３（比較例８）および本発明のセルロースアシレート組成物のフィルム試料０１４（実施例６）を作製した。フィルム試料０１５は参考例である。

＜セルロースアセテートフィルム試料０１６、０１７の作製＞
セルロースアシレート溶液Ａ組成の溶液５６２質量部に、添加剤Ｇ−１を含む添加剤溶液Ｄ組成の溶液の６０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調製した。
このドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の場外で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター（特開平４−１００９号の図３に記載のピンテンター）で固定し、溶媒含有率が３乃至５質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み８０μｍの比較のためのフィルム試料０１６（比較例９）を作製した。
また、添加剤溶液Ｄ組成の溶液において、含まれる添加剤が表１のとおり異なるものを用いた以外、上記と同様にして、本発明のセルロースアシレート組成物のフィルム試料０１７（実施例８）を作製した。

フィルム試料の評価は、前述の方法（揮散量については[フィルム加熱処理後の化合物揮散量]に記載の方法、Ｒｔｈ、ΔＲｔｈについては[セルロース化合物フィルムの評価方法]に記載の方法）に従って行った。ブリードアウトとは、添加剤がセルロースアシレートフィルムと相溶せずにフィルム面上に析出する現象であり、セルロースアシレートフィルムを作製した際、フィルム表面を目視で観察することにより評価を行った。ブリードアウトが全くないものを○として、部分的もしくは全体的にブリードアウトがあるものを×として表１に結果を示した。なお、ＲｔｈおよびΔＲｔｈに関して部分的もしくは全体的にブリードアウトしたものを測定不能として示した。
表１より、本発明のセルロースアシレート組成物のフィルム試料は、光学異方性（Ｒｔｈ）および波長による光学異方性の変化（ΔＲｔｈ）を小さくする効果があることがわかる。
また本発明のセルロースアシレート組成物のフィルム試料は、常用の紫外線吸収剤（Ｇ−１、Ｇ−２、Ｇ−３、Ｇ−４、またはＧ−５）に対して、低いＲｔｈおよびΔＲｔｈの値を維持し、かつ製造上問題とされる熱揮散量を小さくすることができることがわかる。また、添加剤２の添加量を多くした場合でもブリードアウトしないフィルムが作製できることがわかる。

（実施例９）
表１に示したフィルム試料００１を、１．５mol/lの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で２分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、フィルムの表面をけん化した（けん化フィルム試料００１）。
続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ社製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、アルカリけん化処理したけん化フィルム試料００１を２枚用意して、偏光膜を間にして貼り合わせて、両面がけん化フィルム試料００１によって保護された偏光板を得た。この際両側のけん化フィルム試料００１の遅相軸が偏光膜の透過軸と平行になるように貼り付けた。
表１のフィルム試料００１に代え、それぞれ試料００２〜０１１を用いた以外、上記と同様にして偏光板を作製し評価した。
本発明および参考例のセルロースアシレート組成物により得られた偏光板保護膜を用いた楕円偏光板（フィルム試料００７〜０１１から作製した保護膜を用いた偏光板）の光学特性は優れたものであった。

（実施例１０）
表１のフィルム試料００１〜０１１に関して、特開平１０−４８４２０号公報の実施例１に記載の液晶表示装置、特開平９−２６５７２号公報の実施例１に記載のディスコティック液晶分子を含む光学異方性層、ポリビニルアルコールを塗布した配向膜、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載のＶＡ型液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図１０〜１５に記載のＯＣＢ型液晶表示装置を作成し評価した。本発明および参考例のセルロースアシレート組成物により得られた液晶表示装置（フィルム試料００７〜０１１を用いて作製した液晶表示装置）については、いずれの場合においても良好な性能が得られた。

（実施例１１）
表１のフィルム試料００１〜０１５に関して、その膜厚を１２０μｍにした以外は、実施例１〜６、参考例および比較例１〜８と同様にしてフィルム試料４０１〜４１５を作製した。得られたフィルムの一方に特開平４−７３７３６号公報の実施例１記載の第１層及び第２層を付与し、カチオン系ポリマーを導電性層とするバック層を作成した。更に、得られたバック層を付与したフィルムベースの反対面に、特開平１１−３８５６８号公報の実施例１に記載の試料１０５を塗布し、ハロゲン化銀写真感光材料を作製した。
本発明および参考例のセルロースアシレート組成物により得られたハロゲン化銀写真感光材料（試料００７〜０１１、０１５を用いたハロゲン化銀写真感光材料）については、優れた映像が得られかつその取り扱い性においても問題のないものであった。

Claims (8)

1. セルロースアシレートと、下記一般式（２）で表される化合物を少なくとも１種含有することを特徴とするセルロースアシレート組成物。
   

   

   [式中、Ｘ^２１およびＸ^２２はそれぞれ独立に芳香族基から形成される２価の連結基を表す。Ｙ ^２１およびＹ^２２はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、または紫外線吸収性残基を表し、Ｙ^２１およびＹ^２２のうち少なくとも１つは紫外線吸収性残基である。紫外線吸収性残基は、下記一般式（３）または一般式（６）で表される化合物を基本構造とする基である。]
   

   

   ［式中、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、Ｒ^３４、Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^３７、Ｒ^３８およびＲ^３９はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基またはヒドロキシル基を表す。ただしＲ ^３８ またはその一部の原子を取り去った箇所と、一般式（２）で表される化合物中の２価の連結基Ｘ ^２１またはＸ^２２とが連結するものとする。］
   

   

   ［式中、Ｒ^６１、Ｒ^６２、Ｒ^６３、Ｒ^６４、およびＲ^６５はそれぞれ独立に水素原子、アルコキシ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、ヒドロキシル基を表し、これらは互いに連結して環を形成してもよい。ただし、Ｒ ^６３ 、Ｒ ^６５ 、またはその一部の原子を取り去った箇所と、一般式（２）で表される化合物中の２価の連結基Ｘ ^２１またはＸ^２２とが連結するものとする。］
2. 前記一般式（２）で表される化合物が下記化合物（Ａ−１）〜（Ａ−３）、（Ａ−５）のいずれかである請求項１に記載のセルロースアシレート組成物。
   

   
3. 前記一般式（２）で表される化合物が下記化合物（Ｄ−１）、（Ｄ−２）または（Ｄ−５）のいずれかである請求項１に記載のセルロースアシレート組成物。
   

   
4. 請求項１〜３のいずれか１項に記載のセルロースアシレート組成物からなるセルロースアシレートフィルム。
5. 請求項４に記載のセルロースアシレートフィルムを少なくとも１層含有することを特徴とする偏光板保護膜。
6. 請求項４に記載のセルロースアシレートフィルムを少なくとも１層含有することを特徴とする液晶表示装置。
7. 請求項４に記載のセルロースアシレートフィルムを支持体として使用することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
8. 下記一般式（２）で表されるセルロースアシレートフィルム用改質剤。
   

   

   [式中、Ｘ^２１およびＸ^２２はそれぞれ独立に芳香族基から形成される２価の連結基を表す。Ｙ ^２１およびＹ^２２はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アリール基、または紫外線吸収性残基を表し、Ｙ^２１およびＹ^２２のうち少なくとも１つは紫外線吸収性残基である。紫外線吸収性残基は、下記一般式（３）または一般式（６）で表される化合物を基本構造とする基である。]
   

   

   ［式中、Ｒ ^３１ 、Ｒ ^３２ 、Ｒ ^３３ 、Ｒ ^３４ 、Ｒ ^３５ 、Ｒ ^３６ 、Ｒ ^３７ 、Ｒ ^３８ およびＲ ^３９ はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基またはヒドロキシル基を表す。ただしＲ ^３８ またはその一部の原子を取り去った箇所と、一般式（２）で表される化合物中の２価の連結基Ｘ ^２１ またはＸ ^２２ とが連結するものとする。］
   

   

   ［式中、Ｒ ^６１ 、Ｒ ^６２ 、Ｒ ^６３ 、Ｒ ^６４ 、およびＲ ^６５ はそれぞれ独立に水素原子、アルコキシ基、ニトロ基、アルキルスルホニル基、ヒドロキシル基を表し、これらは互いに連結して環を形成してもよい。ただし、Ｒ ^６３ 、Ｒ ^６５ 、またはその一部の原子を取り去った箇所と、一般式（２）で表される化合物中の２価の連結基Ｘ ^２１ またはＸ ^２２ とが連結するものとする。］