JP4527250B2 - ノズル体の製造方法 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明はノズル体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、プリンタ,ファクシミリ,複写装置等で使用されるインクジェット方式のノズルあるいは繊維業界で使用される糸の高速送り装置用ノズル等これら装置に供されるノズル体の製造方法としては、例えば特開平2−121842号公報に記載のような、有機樹脂材からなる板体にエキシマレーザーを直接照射してノズル部を形成したもの、プレス製法により板材にノズルを形成するもの、あるいは特開昭57−205166号公報に記載のような、電鋳母型上に感光性レジスト等を用いてノズル穴に対応したレジストパターンを形成した後、このレジストパターンを用いて金属材料を電鋳製法により析出させてノズル体を形成するもの等種々の製法が提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記したノズル体の製造方法にあっては、エキシマレーザーにより樹脂材を加工するものの場合、入力側と出力側との穴径にバラツキが生じるとともに、熱的変形も伴うため、高精度化の要求に応えにくく、また1ショットエリアが狭いため、連続生産ではノズル径のバラツキが生じる。
【0004】
プレス製法の場合、プレス型の耐久性に問題があるとともに、工程が煩雑でまた穴数が増えるとノズル間ピッチや各ノズル径の精度が確保しにくいものである。
【0005】
さらに電鋳製法の場合、ノズル径(開口径)を母型上に配したレジスト層を乗り越える電着金属析出成長時のせり出し量で管理するものであるため、電鋳の析出条件を高精度で管理する必要があり、また、インク等の誘い込み部となる幅広凹部を形成し易いものであるが、せり出した電着金属の内周壁で擬似的にストレート部を形成することはできても、ノズル部に任意の口径,長さで決められたストレート部は作りにくいものである。
【0006】
本発明は、上述したような課題に鑑みてなされたものであって、内部に流体の誘い込み部となる幅広凹部とこれに連続するストレート部とを有する略ロート状の形態をなす、理想的な形状のノズル体を、電鋳製法により形成するにあたり、高精度でかつ生産性にも優れた製造方法を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明によるノズル体の製造方法は、光を乱反射させるための微細凹凸を形成する表面処理を施した母型上に、フォトレジスト層を積層して配するとともに、第2レジスト部の配置パターンに対応する透光部を備えたパターン形状を有するパターンフィルムを上方に配した状態で露光し、現像することで、上方へ向けてすぼまる截頭錐体状の第1レジスト部と、該第1レジスト部の上端に連続して上方に略ストレート状に延設される柱状の第2レジスト部とからなるノズル用通孔に相当するレジスト体を多数併設して形成する工程と、レジスト体形成後、母型上に電鋳金属を上記レジスト体の第2レジスト部の所定高さに至るまで電鋳して金属製ノズル体を形成する工程と、レジスト体を除去する工程と、金属製ノズル体から母型を除去する工程とからなることを特徴とする。
【0008】
また、母型上に第1レジスト部及び第2レジスト部を形成するための異なるネガタイプのフォトレジスト層を積層して配するとともに、第2レジスト部を形成するためのフォトレジスト層に比して第1レジスト部を形成するためのフォトレジスト層の露光感度を高くしたことを特徴とする。
【0010】
また、母型上に第1レジスト部及び第2レジスト部を形成するための異なるポジタイプのフォトレジスト層を積層して配するとともに、第1レジスト部を形成するためのフォトレジスト層に比して第2レジスト部を形成するためのフォトレジスト層の露光感度を高くしたことを特徴とする。
【0011】
【発明の実施の形態】
(第1実施形態)
第1実施形態としては、インクジェット用プリンターに供されるノズル体の製造方法につき図1(a)乃至(g),図2,図3,図4および図5に基づき説明する。
【0012】
図2はインクジェットプリンター用のノズル体の一実施形態を示しており、薄型平板状のノズル体1に多数の通孔2を形成している。該通孔2は図3に示すごとく、先端へ向けてすぼまる截頭錐体状の幅広凹部3と該幅広凹部3先端と連続して形成されたストレート部4とからなる略ロート状形態を呈している。
【0013】
このような断面形状をなしに通孔2を有するノズル体1は以下に示すような工程により製造されるものである。
【0014】
まず、図1(a)に示すように、ステンレス等の導電性を有する母型5の一表面側に、例えば約30μm厚のネガタイプの感光性ドライフィルムレジスト等を、熱圧着等の方法により装着して第1フォトレジスト層6を形成するとともに、該第1フォトレジスト層6上に積層して異なるネガタイプの感光性ドライフィルムレジストをこれも30μm厚熱圧着等の方法で装着して、第2フォトレジスト層7を形成する。ここで第1フォトレジスト層6と第2フォトレジスト層7形成にそれぞれ使用する感光性ドライフィルムレジストについては、露光感度が異なるものを使用し、第2フォトレジスト層7に比べて第1フォトレジスト層6の感光性ドライフィルムレジストの露光感度を3〜30倍の選ばれた範囲で高くなるものを使用する。
【0015】
次いで、図1(b)に示すように、第2フォトレジスト層7の上方にノズル通孔2のストレート部3に対応する後述の第2レジスト部の配列に則する透光部8a(本実施例の場合円形)を備えた任意のパターンフィルム8を配した状態で紫外線露光を行い、現像・乾燥の各処理を経て、図1(c)又は図4に示すような多数の独立したレジスト体9を得る。該レジスト体9は、図5のごとく、上方へ向けてすぼまる形態の截頭円錐体状の第1レジスト部10と、該第1レジスト部10の上端に連続して上方に略ストレート状に延設される円柱状の第2レジスト部11とから構成される。
【0016】
すなわち、上記したごとく第1フォトレジスト層6と第2フォトレジスト層7とは露光感度を異ならせ、第1フォトレジスト層6の露光感度を高くしているので、透光部8aのパターンに沿って透遇した紫外線光により、第2フォトレジスト層7部分で略ストレート状に露光・硬化するとともに、第1フォトレジスト層6の表面に達した紫外線光は第1フォトレジスト層6に自体の露光感度が優れているために、母型側へ行くに従い末広がり状にレジスト層を硬化させ、結果として図1(c)に示すレジスト体9の形態を任意に構成することができるものとなる。なお、第1レジスト部10の母型側へ向けての末広がりの程度は、露光器による露光時間等の条件はもちろん第1フォトレジスト層6に使用する感光性ドライフィルムレジストの露光感度を任意に選択すれば良い。
【0017】
次いで、母型5を電鋳槽に移し、図1(d)のごとくニッケル,銅,ニッケル−コバルト合金等で電鋳を行う。この時電鋳は、レジスト体9の第2レジスト部11の所定高さに至るまで電鋳を行いノズル体を形成する(本実施例では母型から50μm程度の高さまで電鋳を行う)。第2レジスト部11のスパン範囲内で電鋳高さを任意に調節することで、ストレート部分の長さを任意に調節できるものとなる。
【0018】
次いで、撥水性を付与するために、図1(e)のごとく撥水性を分散したメッキを行い、撥水層12を形成する。なお、本工程については任意のものであり、必ずしも必要な工程ではない。
【0019】
次いで、アルカリ溶液による膨潤,溶解除去等の方法により、図1(f)のごとくレジスト体9を除去することで、ノズル体1に第1レジスト部10に対応して截頭円錐体状の幅広凹部3を、第2レジスト部11に対応して円柱状のストレート部4の内壁形状を備えた通孔2を現出させる。その後ノズル体1から図1(g)のごとく母型5を除去することで、図2及び図3に示す形状のノズル体1を得る。なお、本実施例の場合は、ストレート部4先端のノズル体表面部分のみに撥水材分散めっきにより撥水性を付与したものとなっている。
【0020】
(第2実施形態)
上述した第1の実施形態において、母型5の一表面側に予めバフ研磨やサンドブラスト等の方法により表面処理を行うことで、光乱反射用の微細凹凸を形成しても良い。この場合、高感度の第1フォトレジスト層6の特性と母型5表面の微細凹凸による紫外線光の乱反射により、第1フォトレジスト層6の母型側へ向けての末広がり硬化がより促進されるものとなる。なお、母型5表面の微細凹凸による乱反射効果を生かせば、母型上に形成する第1フォトレジスト層6と第2フォトレジスト層7とは、同じ露光感度を有する同一のレジストを使用し、パターンフィルムの透光部を介した紫外線光による露光に加えて母型5表面の微細凹凸による紫外線光の乱反射のみにより、母型に近い側の第1フォトレジスト層6の硬化を母型に向けての末広がり形状に硬化させることも可能である。
【0021】
(第3実施形態)
第3の実施形態としては、上記実施形態においては、母型5の一表面に形成する第1,第2フォトレジスト層としてネガタイプの感光性フィルムレジストを使用したが、これに代えてポジタイプのレジストを使用しても良い。この場合、母型上には第1レジスト部及び第2レジスト部をそれぞれ形成するため、ポジタイプの感光性フィルムレジストを使用した第1フォトレジスト層と第2フォトレジスト層を積層して配するとともに、第1の実施形態のものとは逆に第1フォトレジスト層側に比べて第2フォトレジスト層側の露光感度が高くなるように異なる感度のレジストを使用する。
【0022】
なお、露光・現像時に第2レジスト層上に配されるパターンフィルムは、第2レジスト部の配置パターンに対応して、遮光部を備えたパターン形状にする必要がある。
【0023】
(他の実施形態)
母型5表面に形成するレジスト層については、上記のごとくドライフィルム状のものに代えて、液体状の感光性レジストを使用しても良く、また幅広凹部3,ストレート部4から成る略ロート状通孔2の形状,長さ,比を任意設定するための、第1レジスト部10,第2レジスト部11の大きさ,長さ,比は、パターンフィルムの透光部パターンあるいは第1,第2フォトレジスト層に使用する感光性レジストの露光感度及びその差等により任意に設定,変更可能であり、特に通孔2のストレート部4の長さについては、電鋳時の電着高さにより任意に長さ調節できるものでもある。さらに図1の実施例における撥水性メッキについては、ノズル体1からレジスト体9を除去した後、メッキ工程を行うこともでき、この場合、通孔2の内壁全体に至るまで撥水性を付与することができる。
【0024】
さらに、レジスト体9を構成する第1レジスト部10と第2レジスト部11の形状は,図4に示すようなそれぞれ截頭円錐体及び円柱状をベースとしたものの他、必要とするノズル体1の通孔2の内壁形状等用途に応じては、パターンフィルム8に形成される透光部8aの形状を四角状にすることで図6に示すごとくそれぞれ截頭四角錐体及び四角柱状に形成することも可能で、また、これらに限定されることなく、透光部8aの形状を任意の多角形状に設定することで、第1レジスト部,第2レジスト部それぞれを任意の多角形をベースとする錐体,柱状体に形成することも可能である。
【0025】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によるノズル体の製造方法においては、流体の誘い込み用幅広部とこれに連続するストレート部とからなる略ロート型を呈する複雑な形態の通孔を備えた理想の形状のノズル体を、第1レジスト部と第2レジスト部とからなる新規な形状のレジスト体9を利用する電鋳製法により通孔2の形状を確実にかつ安定して再現できるとともに、効率よく高精度に形成することができる。
また、母型5上に通孔2に対応するレジスト体9を形成した状態で、レジスト体9は母型に向けて末広がり状の第1レジスト部10が土台となり、その上方に第2レジスト部11を延設している形態にて形成されているため、多数のレジスト体9は図4のごとく倒れることなく、安定した形でしっかりと立っており、後工程の電鋳作業に至るまでレジスト体9の倒れこみ等による不良等が生じにくく、生産性に優れたものとなる。
また、電鋳工程時において、第2レジスト部のスパン範囲内において、電鋳高さを調節することにより、ストレート部の長さを用途に応じて高精度に調節することが可能でもある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 (a)〜(g)はノズル体の製造工程の一実施形態を説明するための断面図である。
【図2】 ノズル体の斜視図である。
【図3】 ノズル体の通孔部分の拡大断面図である。
【図4】 母型上に配した多数のレジスト体を示す顕微鏡写真である。
【図5】 母型上に配したレジスト体の形状を説明するための顕微鏡写真である。
【図6】 母型上に配したレジスト体の他の実施形態における形状を説明するための顕微鏡写真である。
【符号の説明】
1 ノズル体
2 通孔
3 幅広凹部
4 ストレート部
5 母型
8 パターンフィルム
9 ノズル体
10 第1レジスト部
11 第2レジスト部
Claims (3)
- 光を乱反射させるための微細凹凸を形成する表面処理を施した母型上に、フォトレジスト層を積層して配するとともに、第2レジスト部の配置パターンに対応する透光部を備えたパターン形状を有するパターンフィルムを上方に配した状態で露光し、現像することで、上方へ向けてすぼまる截頭錐体状の第1レジスト部と、該第1レジスト部の上端に連続して上方に略ストレート状に延設される柱状の第2レジスト部とからなるノズル用通孔に相当するレジスト体を多数併設して形成する工程と、
レジスト体形成後、母型上に電鋳金属を上記レジスト体の第2レジスト部の所定高さに至るまで電鋳して金属製ノズル体を形成する工程と、
レジスト体を除去する工程と、
金属製ノズル体から母型を除去する工程とからなるノズル体の製造方法。 - 母型上に第1レジスト部及び第2レジスト部を形成するための異なるネガタイプのフォトレジスト層を積層して配するとともに、第2レジスト部を形成するためのフォトレジスト層に比して第1レジスト部を形成するためのフォトレジスト層の露光感度を高くしたことを特徴とする請求項1に記載のノズル体の製造方法。
- 母型上に第1レジスト部及び第2レジスト部を形成するための異なるポジタイプのフォトレジスト層を積層して配するとともに、第1レジスト部を形成するためのフォトレジスト層に比して第2レジスト部を形成するためのフォトレジスト層の露光感度を高くしたことを特徴とする請求項1に記載のノズル体の製造方法。
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