JP4519795B2 - Optical recording medium and metal complex compound - Google Patents

Description

本発明は、光学記録媒体等に関し、より詳しくは、青色レーザ光に対応が可能な耐光性に優れた光学記録媒体等に関する。   The present invention relates to an optical recording medium and the like, and more particularly, to an optical recording medium and the like excellent in light resistance that can cope with blue laser light.

現在、ＣＤ−Ｒ／ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒ／ＲＷ、ＭＯ等の各種光学記録媒体は、大容量の情報を記憶でき、ランダムアクセスが容易であるために、コンピュータ等の情報処理装置における外部記憶装置として広く認知され普及している。これらの中で、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに代表される、有機色素化合物が含有される記録層を設けた有機色素系光記録媒体は、低コストで且つ製造も容易であるという点で、優位性を有するものと考えられている。
一方、取り扱われる情報量の増大により、媒体の記録密度を高めることが望まれ、近年、開発が著しい青色レーザ光等の発振波長の短いレーザ光を用いた高密度の記録再生可能な光学記録媒体が提唱されつつある。 Currently, various optical recording media such as CD-R / RW, DVD-R / RW, and MO can store a large amount of information and are easily accessible at random. Therefore, an external storage device in an information processing apparatus such as a computer is used. Is widely recognized and popular. Among these, an organic dye-based optical recording medium provided with a recording layer containing an organic dye compound, represented by CD-R and DVD-R, is low in cost and easy to manufacture. It is considered to have an advantage.
On the other hand, it is desired to increase the recording density of the medium by increasing the amount of information to be handled. In recent years, optical recording media capable of high-density recording / reproduction using laser light having a short oscillation wavelength such as blue laser light, which has been developed in recent years. Is being advocated.

しかし、一般に、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒ等として市販されている光学記録媒体の場合、例えば、ＣＤ−Ｒは波長７８０ｎｍ程度のレーザ光による記録・再生に適するように、またＤＶＤ−Ｒは波長６００〜７００ｎｍ程度のレーザ光による記録・再生に適するように設計されている。このような、比較的長波長のレーザ光を用いる光学的記録・再生用に適合する記録媒体では、より短波長のレーザ光を用いて記録・再生すると、反射率が低く記録・再生ができないという問題を有している。
このようなＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒ用の記録用の色素としては、例えば、含金属アゾ錯体化合物を光学記録媒体として用いたものが使用されている（特許文献１、特許文献２、特許文献３参照）。 However, in general, in the case of an optical recording medium that is commercially available as a CD-R or DVD-R, for example, the CD-R is suitable for recording / reproduction with a laser beam having a wavelength of about 780 nm, and the DVD-R has a wavelength. It is designed to be suitable for recording / reproduction with a laser beam of about 600 to 700 nm. In such a recording medium suitable for optical recording / reproduction using a laser beam having a relatively long wavelength, recording / reproduction using a laser beam having a shorter wavelength has a low reflectivity and cannot be recorded / reproduced. Have a problem.
As such a recording dye for CD-R or DVD-R, for example, a dye using a metal-containing azo complex compound as an optical recording medium is used (Patent Document 1, Patent Document 2, Patent Document). 3).

国際公開第９１／１８９５０号公報International Publication No. 91/18950 特開平９−２７７７０３号公報JP-A-9-277703 特開平８−２９５８１１号公報JP-A-8-295811

前述の特許文献１や特許文献２に記載されている光学記録媒体においては、一般的に、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒで用いられるアゾ化合物のカップラー成分として、Ｎ、Ｎ−ジアルキルアニリン骨格を有するものが用いられている。
このＮ、Ｎ−ジアルキルアニリン骨格を用いるとモル吸光係数が非常に大きい色素を得ることができ有用であるが、これらのカップラー成分を用いた含金属アゾ錯体は、溶液のλｍａｘは５００ｎｍ以上である。このため、この色素が含有される塗布膜の吸収スペクトルは、青色レーザー光や波長３５０ｎｍ近傍のレーザー光による記録には十分な吸収が得られないことを示す。即ち、吸収極大波長が長すぎるのである。例えば、青色レーザーの発振中心波長であるレーザ波長である４０５ｎｍ付近には、ほとんど吸収スペクトルが観察されず、青色レーザー光に対する感度が低い傾向があるという問題を有する。そのため、より短波長側に大きな吸収をもつカップラー成分が必要となる。 In the optical recording media described in Patent Document 1 and Patent Document 2 described above, an N, N-dialkylaniline skeleton is generally used as a coupler component of an azo compound used in CD-R and DVD-R. Things are used.
When this N, N-dialkylaniline skeleton is used, a dye having a very high molar extinction coefficient can be obtained, which is useful. However, in the metal-containing azo complex using these coupler components, the λmax of the solution is 500 nm or more. . For this reason, the absorption spectrum of the coating film containing this dye indicates that sufficient absorption cannot be obtained for recording with blue laser light or laser light having a wavelength of around 350 nm. That is, the absorption maximum wavelength is too long. For example, in the vicinity of 405 nm, which is the laser wavelength that is the oscillation center wavelength of a blue laser, there is a problem that almost no absorption spectrum is observed and the sensitivity to blue laser light tends to be low. Therefore, a coupler component having a large absorption on the shorter wavelength side is required.

一方、特許文献３に記載されているような、ピリドン系カップラー成分を用いた化合物は、特許文献１や特許文献２に記載される化合物より短い波長にλｍａｘを有することが知られている。しかし本発明者らの検討により、特許文献３に記載された化合物は、ジアゾ成分としてベンゾチアゾールやチアゾールやピリジンを有するものであっても、吸収極大波長が長すぎるために、波長４０５ｎｍ付近（（４０５ｎｍ−１０ｎｍ）以上（４０５ｎｍ＋５ｎｍ）以下）の吸収は少なく、色素としての性能の向上は期待できないことがわかった。そこで上記波長域で記録するためには、より短波長の吸収に適したジアゾ成分とカップラー成分の組み合わせが必要なのである。   On the other hand, a compound using a pyridone-based coupler component as described in Patent Document 3 is known to have λmax at a shorter wavelength than the compounds described in Patent Document 1 and Patent Document 2. However, as a result of the study by the present inventors, even if the compound described in Patent Document 3 has benzothiazole, thiazole or pyridine as a diazo component, the absorption maximum wavelength is too long, so that the wavelength is around 405 nm (( 405 nm−10 nm) or more (405 nm + 5 nm) or less), and it was found that improvement in performance as a dye cannot be expected. Therefore, in order to record in the above wavelength range, a combination of a diazo component and a coupler component suitable for shorter wavelength absorption is necessary.

本発明は、このような、例えば短波長の青色レーザ光等によってＤＶＤよりも高密度の光情報の記録再生が行われる光学記録媒体を開発する際に浮き彫りになった問題を解決するためになされたものである。
即ち、本発明の目的は、３５０ｎｍ以上５３０ｎｍ以下の短波長のレーザ光、例えば、３８５ｎｍ以上４１０ｎｍ以下のレーザー光によって高密度の光情報の記録再生が可能な光学記録媒体を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、光学記録媒体の記録層等に好適な金属錯体化合物を提供することにある。
さらに、本発明の他の目的は、耐光性が改善された有機色素化合物を提供することにある。 The present invention has been made to solve such a problem that has emerged when developing an optical recording medium that records and reproduces optical information with a higher density than that of a DVD using, for example, a blue laser beam having a short wavelength. It is a thing.
That is, an object of the present invention is to provide an optical recording medium capable of recording and reproducing high-density optical information with a laser beam having a short wavelength of 350 nm to 530 nm, for example, a laser beam of 385 nm to 410 nm.
Another object of the present invention is to provide a metal complex compound suitable for a recording layer of an optical recording medium.
Furthermore, another object of the present invention is to provide an organic dye compound having improved light resistance.

上述した課題を解決するために、本発明では、含金属ピリドンアゾ化合物を含有する有機色素化合物を使用している。
即ち、本発明によれば、基板と、基板上に直接又は他の層を介して設けられ、光が照射されることにより情報の記録及び／又は再生が可能な記録層と、を有し、記録層は、６−ヒドロキシ−２−ピリドン構造からなるカップラー成分と、イソキサゾール、トリアゾール、ピラゾールから選ばれるいずれか１種のジアゾ成分と、を有する有機色素化合物と、有機色素化合物が配位する金属イオンと、から構成される金属錯体化合物を含有することを特徴とする紫外レーザから青色レーザ波長域（特に、３５０ｎｍ〜５３０ｎｍ）の短波長のレーザ光用の光学記録媒体が提供される。
本発明が適用される光学記録媒体の記録層には、前述した有機色素化合物と所定の金属イオンとから構成される金属錯体化合物が含有される。本発明においては、金属錯体化合物を構成する有機色素化合物が、下記一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で示されるピリドンアゾ化合物であることを特徴としている。 In order to solve the above-described problems, in the present invention, an organic dye compound containing a metal-containing pyridone azo compound is used.
That is, according to the present invention, a substrate and a recording layer provided on the substrate directly or via another layer and capable of recording and / or reproducing information by being irradiated with light, The recording layer includes an organic dye compound having a coupler component having a 6-hydroxy-2-pyridone structure and any one diazo component selected from isoxazole, triazole, and pyrazole, and a metal coordinated by the organic dye compound An optical recording medium for laser light having a short wavelength from an ultraviolet laser to a blue laser wavelength region (particularly, 350 nm to 530 nm), characterized by containing a metal complex compound composed of ions.
The recording layer of the optical recording medium to which the present invention is applied contains a metal complex compound composed of the aforementioned organic dye compound and a predetermined metal ion. In the present invention, the organic dye compound constituting the metal complex compound is a pyridone azo compound represented by the following general formula [I] to general formula [III].

（一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］中、Ｒ_１〜Ｒ_１０は、それぞれ独立に、水素原子または１価の官能基である。）
一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］におけるＲ_１〜Ｒ_１０として、具体的には水素原子の他、以下に示す１価の官能基が好ましい。
即ち、Ｒ_１は、水素原子、直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキル基、ヒドロキシル基、直鎖または分岐のアルコキシ基、飽和または不飽和の複素環基、アリール基、アラルキル基、アシル基、アミノ基、アシルアミノ基から選ばれるいずれか１種であることが好ましい。
Ｒ_２〜Ｒ_５、Ｒ_７〜Ｒ_９は、水素原子、炭素数１〜炭素数１８の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数３〜炭素数１８の環状アルキル基、炭素数２〜炭素数１８の直鎖又は分岐のアルケニル基、飽和または不飽和の複素環基、炭素数６〜炭素数１８のアリール基、炭素数７〜炭素数２０のアラルキル基、炭素数１〜炭素数１８の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数１〜炭素数１８の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ホルミル基、アシル基、アミノ基、アシルアミノ基、カーバメート基、カルボン酸エステル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、スルファモイル基、スルホン酸エステル基、スルホンアミド基から選ばれるいずれか１種であることが好ましい。
Ｒ_６、Ｒ_１０は、水素原子、直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキル基、アシル基から選ばれるいずれか１種であることが好ましい。 (In general formula [I] to general formula [III], R _{1 to} R ₁₀ are each independently a hydrogen atom or a monovalent functional group.)
As R < ₁ > -R < ₁₀ > in general formula [I]-general formula [III], the monovalent functional group shown below other than a hydrogen atom specifically is preferable.
That is, R ₁ is a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, a cyclic alkyl group, a hydroxyl group, a linear or branched alkoxy group, a saturated or unsaturated heterocyclic group, an aryl group, an aralkyl group, an acyl group, It is preferably any one selected from an amino group and an acylamino group.
R _{2 to} R ₅ and R _{7 to} R ₉ are a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms, and 2 to 2 carbon atoms. 18 straight chain or branched alkenyl group, saturated or unsaturated heterocyclic group, aryl group having 6 to 18 carbon atoms, aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, straight chain having 1 to 18 carbon atoms Chain or branched alkoxy group, linear or branched alkylthio group having 1 to 18 carbon atoms, halogen atom, nitro group, cyano group, mercapto group, hydroxy group, formyl group, acyl group, amino group, acylamino group, Any one selected from carbamate group, carboxylic acid ester group, acyloxy group, carbamoyl group, sulfonyl group, sulfinyl group, sulfamoyl group, sulfonic acid ester group, sulfonamide group It is preferable that
R ₆ and R ₁₀ are preferably any one selected from a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, a cyclic alkyl group, and an acyl group.

また、金属錯体化合物を構成する金属イオンは、周期表の３族〜１２族から選ばれる２価の金属のイオンであることが好ましい。さらに、金属イオンは、ニッケル、コバルト、鉄、亜鉛、銅、マンガンから選ばれる少なくとも１種の金属のイオンであることが好ましい。ここで、周期表は長周期型である。
２価の金属のイオンと一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で示されるピリドンアゾ化合物とを組み合わせた含金属ピリドンアゾ化合物を用いることにより、光学記録媒体の記録層の耐光性を向上させることができる。
尚、本発明の光学記録媒体の記録再生に用いられる光は、波長が３５０ｎｍ〜５３０ｎｍのレーザ光であり、３８５ｎｍ〜４１０ｎｍの半導体レーザ光が具体例として挙げられる。 Moreover, it is preferable that the metal ion which comprises a metal complex compound is a divalent metal ion chosen from the 3rd group-12th group of a periodic table. Furthermore, the metal ion is preferably an ion of at least one metal selected from nickel, cobalt, iron, zinc, copper, and manganese. Here, the periodic table is a long-period type.
By using a metal-containing pyridone azo compound in which a divalent metal ion and a pyridone azo compound represented by the general formulas [I] to [III] are used, the light resistance of the recording layer of the optical recording medium can be improved. it can.
The light used for recording / reproduction of the optical recording medium of the present invention is a laser beam having a wavelength of 350 nm to 530 nm, and a semiconductor laser beam having a wavelength of 385 nm to 410 nm is a specific example.

次に、本発明は、有機色素を含有する記録層を備える光学記録媒体であって、有機色素は、下記一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で示されるピリドンアゾ化合物と、ピリドンアゾ化合物が配位し、周期表の３族〜１２族から選ばれる２価の金属のイオンと、からなる金属錯体化合物を含有することを特徴とする光学記録媒体として把握することができる。   Next, the present invention is an optical recording medium comprising a recording layer containing an organic dye, and the organic dye comprises a pyridone azo compound represented by the following general formulas [I] to [III] and a pyridone azo compound. And an optical recording medium characterized by containing a metal complex compound comprising a divalent metal ion selected from Groups 3 to 12 of the periodic table.

（一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］中、Ｒ_１〜Ｒ_１０は、それぞれ独立に、水素原子または１価の官能基である。）
ここで、一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で示されるピリドンアゾ化合物は、分子量が１０００以下であることが好ましい。
また、本発明によれば、周期表の３族〜１２族から選ばれる２価の金属のイオンと、これらの金属のイオンと配位し、下記一般式［Ｉ］で表されるピリドンアゾ化合物と、を含有することを特徴とする金属錯体化合物が提供される。 (In general formula [I] to general formula [III], R _{1 to} R ₁₀ are each independently a hydrogen atom or a monovalent functional group.)
Here, the pyridone azo compounds represented by the general formulas [I] to [III] preferably have a molecular weight of 1000 or less.
Further, according to the present invention, a divalent metal ion selected from Groups 3 to 12 of the periodic table and a pyridone azo compound represented by the following general formula [I] coordinated with these metal ions: The metal complex compound characterized by containing this is provided.

（一般式［Ｉ］中、Ｒ_１〜Ｒ_５は、それぞれ独立に、水素原子または１価の官能基である。）
即ち、本発明が適用される金属錯体化合物は、一般式［Ｉ］で示されるピリドンアゾ化合物と、ニッケル、コバルト、鉄、亜鉛、銅、マンガン等の２価の金属と、が配位した構造を有することにより、波長５００ｎｍ以下で最大吸収波長が得られる有機色素として用いることができる。 (In general formula [I], R _{1 to} R ₅ are each independently a hydrogen atom or a monovalent functional group.)
That is, the metal complex compound to which the present invention is applied has a structure in which a pyridone azo compound represented by the general formula [I] is coordinated with a divalent metal such as nickel, cobalt, iron, zinc, copper, or manganese. By having it, it can be used as an organic dye that provides a maximum absorption wavelength at a wavelength of 500 nm or less.

さらに、本発明によれば、２価の金属のイオン及びピリドンアゾ化合物からなる金属錯体化合物を含有する有機色素化合物であって、ピリドンアゾ化合物は、６−ヒドロキシ−２−ピリドン構造からなるカップラー成分と、イソキサゾールからなるジアゾ成分と、を有することを特徴とする有機色素化合物が提供される。
即ち、本発明が適用される有機色素化合物は、特定のカップラー成分とジアゾ成分とを組み合わせた構造を有するピリドンアゾ化合物を用い、これと、２価の金属とを配位させることにより、耐光性に優れた性質を得ることができる。 Furthermore, according to the present invention, an organic dye compound containing a metal complex compound comprising a divalent metal ion and a pyridone azo compound, wherein the pyridone azo compound comprises a coupler component having a 6-hydroxy-2-pyridone structure; There is provided an organic dye compound comprising a diazo component comprising isoxazole.
That is, the organic dye compound to which the present invention is applied uses a pyridone azo compound having a structure in which a specific coupler component and a diazo component are combined, and coordinates it with a divalent metal, thereby improving light resistance. Excellent properties can be obtained.

本発明が適用される光学記録媒体によれば、短波長のレーザ光によって高感度で高密度の光情報の記録再生が可能である。   According to the optical recording medium to which the present invention is applied, high-sensitivity and high-density optical information can be recorded and reproduced by a short-wavelength laser beam.

以下、本発明を実施するための最良の形態（以下、実施の形態と記す）について詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。また、使用する図面は、本実施の形態を説明するために使用するものであり、実際の大きさを表すものではない。
尚、一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表すピリドンアゾ化合物における１価の官能基Ｒ_１〜Ｒ_１０は、必要に応じて置換基を有していてもよい。但し、その場合の「置換基」、又は後述する「置換されてもよい」、「置換基を有していてもよい」なる記載における「置換基」は、カルボキシル基、スルホン酸基等の酸性の水溶性基を含まない。一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表すピリドンアゾ化合物中にカルボキシル基、スルホン酸基等の水溶性基が含まれると、有機溶媒への溶解性が低下するので好ましくない。また、光学記録媒体の記録層の耐水性が低下、安定な膜を形成することが困難となる。 Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention (hereinafter referred to as an embodiment) will be described in detail. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and can be implemented with various modifications within the scope of the gist. Further, the drawings used are used for explaining the present embodiment, and do not represent actual sizes.
In addition, the monovalent functional groups R _{1 to} R ₁₀ in the pyridone azo compounds represented by the general formulas [I] to [III] may have a substituent as necessary. However, “substituent” in that case, or “substituent” in the description of “may be substituted” and “may have a substituent” described later is an acid such as a carboxyl group or a sulfonic acid group. Of water-soluble groups. If the pyridone azo compound represented by the general formula [I] to the general formula [III] contains a water-soluble group such as a carboxyl group or a sulfonic acid group, the solubility in an organic solvent is not preferable. Further, the water resistance of the recording layer of the optical recording medium is lowered, and it becomes difficult to form a stable film.

また、「必要に応じて」とは、一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表すピリドンアゾ化合物の有機溶媒への溶解性及び特定の波長域での吸収に大きく影響するものではないが、有機溶媒への溶解性や特定の波長域での吸収を微調整する目的で、あるいは、製造工程上のメリット、例えば、合成に使用する試薬調達の容易性、コスト等の点から適宜選択されることを意味する。   In addition, “as needed” does not significantly affect the solubility of the pyridone azo compound represented by the general formula [I] to the general formula [III] in an organic solvent and absorption in a specific wavelength range. For the purpose of fine-tuning the solubility in organic solvents and absorption in a specific wavelength range, or as appropriate from the standpoint of merit in the manufacturing process, for example, ease of procurement of reagents used for synthesis, cost, etc. Means that.

（ピリドンアゾ化合物）
本実施の形態が適用される光学記録媒体に使用される、金属イオンと上記一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で示されるピリドンアゾ化合物（以下、単に、ピリドンアゾ化合物と記すことがある。）とからなる含金属ピリドンアゾ化合物は、波長３５０ｎｍ〜５３０ｎｍの青色光領域に適度の吸収を有し、青色レーザ光による記録に適し、実用に耐えうる耐光性を有する有機色素化合物として用いることができる。 (Pyridone azo compound)
Metal ions and pyridone azo compounds represented by the above general formulas [I] to [III] (hereinafter simply referred to as pyridone azo compounds) used for the optical recording medium to which the present embodiment is applied. The metal-containing pyridone azo compound consisting of the above can be used as an organic dye compound having a moderate absorption in a blue light region having a wavelength of 350 nm to 530 nm, suitable for recording with blue laser light, and having light resistance that can withstand practical use.

前記一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表されるピリドンアゾ化合物において、一般に、アゾ基（−Ｎ＝Ｎ−）の左側の複素芳香環が、ジアゾ成分と呼ばれ、右側の６−ヒドロキシ−２−ピリドン構造が、カップラー成分と呼ばれる。
ここで、一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表されるピリドンアゾ化合物におけるジアゾ成分としては、例えば、イソキサゾール、１、２、４−トリアゾール、ピラゾール等である。
この中、トリアゾールは互変異性構造をとり、以下に示すような、一般式［ＩＩ］’、一般式［ＩＩ］’’の構造もとるが、代表例として一般式［ＩＩ］の構造を記載している。 In the pyridone azo compounds represented by the general formulas [I] to [III], generally, the left heteroaromatic ring of the azo group (—N═N—) is called a diazo component, and the right 6-hydroxy The 2-pyridone structure is called the coupler component.
Here, examples of the diazo component in the pyridone azo compound represented by the general formula [I] to the general formula [III] include isoxazole, 1,2,4-triazole, and pyrazole.
Among them, triazole has a tautomeric structure and is represented by the structure of general formula [II] ′ and general formula [II] ″ as shown below, but the structure of general formula [II] is described as a representative example. is doing.

ここで、一般式［ＩＩ］’、一般式［ＩＩ］’’では、便宜上、Ｒ_６’_、Ｒ_６’’等と記載したが、これらはＲ_６と同じ官能基を用いる。また、Ｒ_７’_、Ｒ_７’’は、Ｒ_７と同じ官能基を用いる。
これらのジアゾ成分の中で、同一のカップラーと組み合わせた場合、一般に、一般式［Ｉ］＜一般式［ＩＩ］＜一般式［ＩＩＩ］の順に、波長４００ｎｍ〜５００ｎｍの波長域での吸収極大波長が長波長側にシフトする傾向が見られる。波長４０５ｎｍの吸収を大きくして感度を向上させる目的では、一般式［Ｉ］の構造が特に好ましい。 Here, in the general formula [II] ′ and the general formula [II] ″, for convenience, they are described as R ₆ ′ _, R ₆ ″, etc., but these use the same functional group as R ₆ . _{Further, R 7 ', R 7'} ' uses the same functional group as _{R 7.}
Among these diazo components, when combined with the same coupler, in general, the absorption maximum wavelength in the wavelength range of 400 nm to 500 nm in the order of general formula [I] <general formula [II] <general formula [III]. Tends to shift to the longer wavelength side. For the purpose of increasing sensitivity by increasing absorption at a wavelength of 405 nm, the structure of the general formula [I] is particularly preferable.

次に、一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表すピリドンアゾ化合物における１価の官能基Ｒ_１〜Ｒ_１０について説明する。
一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表すピリドンアゾ化合物において、Ｒ_１は、水素原子、又は直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキル基、ヒドロキシ基、直鎖または分岐のアルコキシ基、飽和または不飽和の複素環基、アリール基、アラルキル基、−ＣＯＲ_１１で表されるアシル基、−ＮＲ_１２Ｒ_１３で表されるアミノ基、−ＮＨＣＯＲ_１４で表されるアシルアミノ基から選ばれるいずれか１種の官能基を表す。 Next, the monovalent functional groups R _{1 to} R ₁₀ in the pyridone azo compounds represented by the general formulas [I] to [III] will be described.
In the pyridone azo compound represented by the general formula [I] to the general formula [III], R ₁ represents a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, a cyclic alkyl group, a hydroxy group, a linear or branched alkoxy group, saturated or heterocyclic group unsaturated, aryl group, aralkyl group, acyl group represented by -COR _11, amino group represented by _-NR 12 _{R 13,} any one selected from acylamino groups represented by -NHCOR ₁₄ 1 Represents a functional group of species.

Ｒ_１の好ましい官能基としては、水素原子、炭素数１〜炭素数１２の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数３〜炭素数１０の環状アルキル基、飽和または不飽和の複素環基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜１６のアラルキル基、−ＮＲ_１２Ｒ_１３（この場合、Ｒ_１２とＲ_１３は水素原子を除く）で表されるアミノ基、−ＮＨＣＯＲ_１４で表されるアシルアミノ基等が挙げられる。これらのうち、Ｒ_１としてアシルアミノ基の場合とＲ_１としてアリール基の場合を除き、溶解性は比較的良い。 Preferred functional groups for R ₁ include a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a saturated or unsaturated heterocyclic group, carbon An aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 16 carbon atoms, an amino group represented by —NR ₁₂ R ₁₃ (in this case, R ₁₂ and R ₁₃ exclude a hydrogen atom), and —NHCOR _14. And acylamino group. Among these, the solubility is relatively good except for the case where R ₁ is an acylamino group and the case where R ₁ is an aryl group.

Ｒ_２〜Ｒ_５、Ｒ_７〜Ｒ_９は、それぞれ独立して、水素原子、又はメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−へプチル基等の置換されてもよい炭素数１〜炭素数１８の直鎖又は分岐のアルキル基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等の置換されてもよい炭素数３〜炭素数１８の環状アルキル基；ビニル基、プロペニル基、ヘキセニル基等の置換されてもよい炭素数２〜炭素数１８の直鎖又は分岐のアルケニル基；２−チエニル基、２−ピリジル基、４−ピペリジル基、モルホリノ基等の置換されてもよい飽和または不飽和の複素環基；フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、ナフチル基等の置換されてもよい炭素数６〜炭素数１８のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等の置換されてもよい炭素数７〜炭素数２０のアラルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等の置換されてもよい炭素数１〜炭素数１８の直鎖又は分岐のアルコキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基等の置換されてもよい炭素数１〜炭素数１８の直鎖又は分岐のアルキルチオ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；メルカプト基；ヒドロキシ基；ホルミル基；−ＣＯＲ_１１で表されるアシル基；−ＮＲ_１２Ｒ_１３で表されるアミノ基；−ＮＨＣＯＲ_１４で表されるアシルアミノ基；−ＮＨＣＯＯＲ_１５で表されるカーバメート基；−ＣＯＯＲ_１６で表されるカルボン酸エステル基；−ＯＣＯＲ_１７で表されるアシルオキシ基；−ＣＯＮＲ_１８Ｒ_１９で表されるカルバモイル基；−ＳＯ_２Ｒ_２０で表されるスルホニル基；−ＳＯＲ_２１で表されるスルフィニル基；−ＳＯ_２ＮＲ_２２Ｒ_２３で表されるスルファモイル基；−ＳＯ_３Ｒ_２４で表されるスルホン酸エステル基；−ＮＨＳＯ_２Ｒ_２５で表されるスルホンアミド基から選ばれるいずれか１種の官能基である。 R _{2 to} R ₅ and R _{7 to} R ₉ are each independently a hydrogen atom or a methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n -C1-C18 linear or branched alkyl group which may be substituted such as heptyl group; C3-C3 which may be substituted such as cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and adamantyl group A cyclic alkyl group having 18 carbon atoms; a linear or branched alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms which may be substituted, such as a vinyl group, a propenyl group, a hexenyl group; a 2-thienyl group, a 2-pyridyl group, 4 -Saturated or unsaturated heterocyclic group which may be substituted such as piperidyl group and morpholino group; Carbon which may be substituted such as phenyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group and naphthyl group Aryl group having 6 to 18 carbon atoms; aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms which may be substituted such as benzyl group and phenethyl group; methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n- C1-C18 linear or branched alkoxy group which may be substituted such as butoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group; methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, n-butylthio group , Sec-butylthio group, tert-butylthio group and the like, optionally substituted linear or branched alkylthio group having 1 to 18 carbon atoms; halogen atom such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom; nitro group; cyano group amino group represented by _-NR 12 _{R 13,;} acyl group represented by -COR _11; group; a mercapto group; hydroxy group; a formyl group -NHCO An acylamino group represented by R ₁₄ ; a carbamate group represented by —NHCOOR ₁₅ ; a carboxylic acid ester group represented by —COOR ₁₆ ; an acyloxy group represented by —OCOR ₁₇ ; and a —CONR ₁₈ R ₁₉ Carbamoyl group; sulfonyl group represented by —SO ₂ R ₂₀ ; sulfinyl group represented by —SOR ₂₁ ; sulfamoyl group represented by —SO ₂ NR ₂₂ R ₂₃ ; sulfonic acid represented by —SO ₃ R ₂₄ Ester group; any one functional group selected from sulfonamide groups represented by —NHSO ₂ R ₂₅ .

また、Ｒ_６、Ｒ_１０は、水素原子、直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキル基、アシル基から選ばれるいずれか１種の官能基である。 R ₆ and R ₁₀ are any one functional group selected from a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, a cyclic alkyl group, and an acyl group.

ここで、Ｒ_１１、Ｒ_１４〜Ｒ_１７、Ｒ_２０、Ｒ_２１、Ｒ_２４、Ｒ_２５は、それぞれ独立して、炭化水素基又は複素環基を表す。また、Ｒ_１２、Ｒ_１３、Ｒ_１８、Ｒ_１９、Ｒ_２２、Ｒ_２３は、それぞれ独立して、水素原子、炭化水素基、複素環基のいずれか１種を表す
。これらは必要に応じて置換されてもよい。 Here, R < ₁₁ >, R < ₁₄ > -R < ₁₇ >, R < ₂₀ >, R < ₂₁ >, R < ₂₄ >, R < ₂₅ > each independently represents a hydrocarbon group or a heterocyclic group. R ₁₂ , R ₁₃ , R ₁₈ , R ₁₉ , R ₂₂ , and R ₂₃ each independently represent any one of a hydrogen atom, a hydrocarbon group, and a heterocyclic group. These may be substituted as necessary.

具体的には、Ｒ_１１〜Ｒ_２５で表される炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−へプチル基等の炭素数１〜炭素数１８の直鎖又は分岐のアルキル基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等の炭素数３〜炭素数１８の環状アルキル基；ビニル基、プロペニル基、ヘキセニル基等の炭素数２〜炭素数１８の直鎖又は分岐のアルケニル基；シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の炭素数３〜炭素数１８の環状アルケニル基；ベンジル基、フェネチル基等の炭素数７〜炭素数２０のアラルキル基；フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基等の炭素数６〜炭素数１８アリール基等が挙げられる。
これらの炭化水素基のアルキル鎖部分及びアリール基部分は、後述するＲ_２〜Ｒ_５のアルキル鎖部分が有し得る置換基で更に置換されていてもよい。これらの置換基の位置は特に限定されず、置換基の数も無置換から複数個まで可能である。複数の置換基を有する場合、同種でもよく、また異なってもよい。 Specifically, examples of the hydrocarbon group represented by R _{11 to} R ₂₅ include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, n A linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms such as a heptyl group; a cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms such as a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group or an adamantyl group; a vinyl group A linear or branched alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms such as a propenyl group or a hexenyl group; a cyclic alkenyl group having 3 to 18 carbon atoms such as a cyclopentenyl group or a cyclohexenyl group; a benzyl group or a phenethyl group Aralkyl groups having 7 to 20 carbon atoms such as 6- to 18-carbon aryl groups such as phenyl, tolyl, xylyl, and mesityl groups. That.
The alkyl chain part and the aryl group part of these hydrocarbon groups may be further substituted with a substituent which the alkyl chain part of R _{2 to} R ₅ described later may have. The position of these substituents is not particularly limited, and the number of substituents can be from unsubstituted to plural. When it has a plurality of substituents, it may be the same or different.

また、Ｒ_１１〜Ｒ_２５で表される複素環基としては、例えば、４−ピペリジル基、モルホリノ基、２−モルホリニル基、ピペラジル基等の飽和複素環；２−フリル基、２−ピリジル基、２−チアゾリル基、２−キノリル基等の芳香族複素環等が挙げられる。これらの複素環基は、複数のヘテロ原子を含んでいても、さらに、置換基を有していてもよく、また結合位置も限定されない。複素環基として好ましい構造のものは、５〜６員環の飽和複素環、５〜６員環の単環及びその２縮合環の芳香族複素環が挙げられる。 Examples of the heterocyclic group represented by R _{11 to} R ₂₅ include saturated heterocyclic rings such as 4-piperidyl group, morpholino group, 2-morpholinyl group, piperazyl group; 2-furyl group, 2-pyridyl group, Aromatic heterocycles such as 2-thiazolyl group and 2-quinolyl group. These heterocyclic groups may contain a plurality of heteroatoms, may further have a substituent, and the bonding position is not limited. Preferred examples of the heterocyclic group include a 5- or 6-membered saturated heterocyclic ring, a 5- or 6-membered monocyclic ring, and an aromatic heterocyclic ring thereof.

次に、前述した、アシル基、アミノ基、アシルアミノ基、カーバメート基、カルボン酸エステル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、スルファモイル基、スルホン酸エステル基、スルホンアミド基について、具体的な化合構造を例示する。
アシル基（−ＣＯＲ_１１）としては、以下の構造の官能基等が挙げられる。 Next, the above-mentioned acyl group, amino group, acylamino group, carbamate group, carboxylic acid ester group, acyloxy group, carbamoyl group, sulfonyl group, sulfinyl group, sulfamoyl group, sulfonic acid ester group, sulfonamide group are specifically described. The compound structure is illustrated.
Examples of the acyl group (—COR ₁₁ ) include functional groups having the following structures.

アミノ基（−ＮＲ_１２Ｒ_１３）としては、以下の構造の官能基等が挙げられる。 Examples of the amino group (—NR ₁₂ R ₁₃ ) include functional groups having the following structures.

アシルアミノ基（−ＮＨＣＯＲ_１４）としては、以下の構造の官能基等が挙げられる。 Examples of the acylamino group (—NHCOR ₁₄ ) include functional groups having the following structures.

カーバメート基（−ＮＨＣＯＯＲ_１５）としては、以下の構造の官能基等が挙げられる。 Examples of the carbamate group (—NHCOOR ₁₅ ) include functional groups having the following structure.

カルボン酸エステル基（−ＣＯＯＲ_１６）としては、以下の構造の官能基等が挙げられる。 Examples of the carboxylic acid ester group (—COOR ₁₆ ) include functional groups having the following structures.

アシルオキシ基（−ＯＣＯＲ_１７）としては、以下の構造の官能基等が挙げられる。 Examples of the acyloxy group (—OCOR ₁₇ ) include functional groups having the following structures.

カルバモイル基（−ＣＯＮＲ_１８Ｒ_１９）としては、以下の構造の官能基等が挙げられる。 Examples of the carbamoyl group (—CONR ₁₈ R ₁₉ ) include functional groups having the following structures.

スルホニル基（−ＳＯ_２Ｒ_２０）としては、以下の構造の官能基等が挙げられる。 Examples of the sulfonyl group (—SO ₂ R ₂₀ ) include functional groups having the following structures.

スルフィニル基（−ＳＯＲ_２１）としては、以下の構造の官能基等が挙げられる。 Examples of the sulfinyl group (—SOR ₂₁ ) include functional groups having the following structures.

スルファモイル基（−ＳＯ_２ＮＲ_２２Ｒ_２３）としては、以下の構造の官能基等が挙げられる。 Examples of the sulfamoyl group (—SO ₂ NR ₂₂ R ₂₃ ) include functional groups having the following structures.

スルホン酸エステル基（−ＳＯ_３Ｒ_２４）としては、以下の構造の官能基等が挙げられる。 Examples of the sulfonate group (—SO ₃ R ₂₄ ) include functional groups having the following structures.

スルホンアミド基（−ＮＨＳＯ_２Ｒ_２５）としては、以下の構造の官能基等が挙げられる。 Examples of the sulfonamide group (—NHSO ₂ R ₂₅ ) include functional groups having the following structures.

前述した一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表すピリドンアゾ化合物において、Ｒ_１〜Ｒ_１０が示す直鎖又は分岐のアルキル基、環状アルキル基、直鎖又は分岐のアルケニル基、環状アルケニル基、直鎖又は分岐のアルコキシ基、直鎖又は分岐のアルキルチオ基となる場合のアルキル鎖部分、及びＲ_１１〜Ｒ_２５が示すアルキル基のアルキル鎖部分は、更に置換基を有していてもよい。 In the pyridone azo compounds represented by the general formulas [I] to [III] described above, a linear or branched alkyl group, a cyclic alkyl group, a linear or branched alkenyl group, a cyclic alkenyl group represented by R _{1 to} R ₁₀ , The alkyl chain part in the case of a linear or branched alkoxy group, a linear or branched alkylthio group, and the alkyl chain part of the alkyl group represented by R _{11 to} R ₂₅ may further have a substituent.

このような置換基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等の炭素数１〜炭素数１０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、プロポキシメトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシエトキシ基、メトキシブトキシ基等の炭素数２〜炭素数１２のアルコキシアルコキシ基；メトキシメトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ基、メトキシエトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ基、エトキシエトキシメトキシ基等の炭素数３〜炭素数１５のアルコキシアルコキシアルコキシ基；フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基等の炭素数６〜炭素数１２のアリールオキシ基；アリルオキシ基、ビニルオキシ基等の炭素数２〜炭素数１２のアルケニルオキシ基等が例示される。   Examples of such substituents include alkoxy having 1 to 10 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, and tert-butoxy group. Group: methoxymethoxy group, ethoxymethoxy group, propoxymethoxy group, ethoxyethoxy group, propoxyethoxy group, methoxybutoxy group, etc., alkoxyalkoxy group having 2 to 12 carbon atoms; methoxymethoxymethoxy group, methoxymethoxyethoxy group, methoxy C3-C15 alkoxyalkoxyalkoxy groups such as ethoxymethoxy group, methoxymethoxyethoxy group, ethoxyethoxymethoxy group; C6-C12 carbon atoms such as phenoxy group, tolyloxy group, xylyloxy group, naphthyloxy group Aryloxy group Allyloxy group, an alkenyloxy group having a carbon number of 2 to 12 carbon atoms such as vinyloxy groups.

更に、他の置換基として、２−チエニル基、２−ピリジル基、４−ピペリジル基、モルホリノ基等の複素環基；シアノ基；ニトロ基；ヒドロキシル基；メルカプト基；メチルメルカプト基、エチルメルカプト基等のアルキルチオ基；アミノ基、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ基等の炭素数１〜炭素数１０のアルキルアミノ基；メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基、ｎ−プロピルスルホニルアミノ基等の炭素数１〜炭素数６のアルキルスルホニルアミノ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、イソプロピルカルボニル基等のアルキルカルボニル基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル等の炭素数２〜炭素数７のアルコキシカルボニル基；メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基等の炭素数２〜炭素数７のアルキルカルボニルオキシ基；メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ基、イソプロポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカルボニルオキシ基等の炭素数２〜炭素数７のアルコキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。
尚、これらの置換基の結合位置は特に限定されず、置換基の数も無置換から複数個まで可能である。複数の置換基を有する場合、同種でも異なってもよい。 Further, as other substituents, heterocyclic groups such as 2-thienyl group, 2-pyridyl group, 4-piperidyl group, morpholino group; cyano group; nitro group; hydroxyl group; mercapto group; methyl mercapto group, ethyl mercapto group Alkylthio group such as amino group, N, N-dimethylamino group, N, N-diethylamino group and the like, alkylamino group having 1 to 10 carbon atoms; methylsulfonylamino group, ethylsulfonylamino group, n-propylsulfonyl An alkylsulfonylamino group having 1 to 6 carbon atoms such as an amino group; a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom; an alkylcarbonyl group such as a methylcarbonyl group, an ethylcarbonyl group or an isopropylcarbonyl group; a methoxycarbonyl group; , Ethoxycarbonyl group, n-propoxycarbonyl group, isopropo A C2-C7 alkoxycarbonyl group such as a sicarbonyl group, n-butoxycarbonyl; methylcarbonyloxy group, ethylcarbonyloxy group, n-propylcarbonyloxy group, isopropylcarbonyloxy group, n-butylcarbonyloxy group A C2-C7 alkylcarbonyloxy group such as methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, n-propoxycarbonyloxy group, isopropoxycarbonyloxy group, n-butoxycarbonyloxy group, etc. Examples thereof include an alkoxycarbonyloxy group having 7 carbon atoms.
In addition, the bonding position of these substituents is not particularly limited, and the number of substituents can be from unsubstituted to plural. When it has a plurality of substituents, they may be the same or different.

Ｒ_２〜Ｒ_５、Ｒ_７〜Ｒ_９は、特に限定されるものではないが、合成の容易さや塗布溶媒への溶解性などの点から、以下のものが好ましい。
即ち、水素原子、炭素数１〜炭素数１２の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数３〜炭素数１０の環状アルキル基、炭素数２〜炭素数１２の直鎖又は分岐のアルケニル基、炭素数６〜炭素数１８のアリール基、飽和または不飽和の複素環基、炭素数７〜炭素数１８のアラルキル基、炭素数１〜炭素数１２の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数１〜炭素数１２の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ホルミル基、−ＣＯＲ_１１で表されるアシル基、−ＮＲ_１２Ｒ_１３で表されるアミノ基、−ＮＨＣＯＲ_１４で表されるアシルアミノ基、−ＮＨＣＯＯＲ_１５で表されるカーバメート基、−ＣＯＯＲ_１６で表されるカルボン酸エステル基、−ＯＣＯＲ_１７で表されるアシルオキシ基、−ＣＯＮＲ_１８Ｒ_１９で表されるカルバモイル基、−ＳＯ_２Ｒ_２０で表されるスルホニル基、−ＳＯＲ_２１で表されるスルフィニル基、−ＳＯ_２ＮＲ_２２Ｒ_２３で表されるスルファモイル基、−ＳＯ_３Ｒ_２４で表されるスルホン酸エステル基及び−ＮＨＳＯ_２Ｒ_２５で表されるスルホンアミド基等が挙げられる。上記のうち、Ｒ_７〜Ｒ_９として、合成上や溶解性の面から、直鎖又は分岐のアルキル基、環状アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、アシル基、カルボン酸エステル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基等が好ましいものとして挙げられる。 R _{2 to} R ₅ and R _{7 to} R ₉ are not particularly limited, but the following are preferable from the viewpoint of easiness of synthesis and solubility in a coating solvent.
That is, a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, carbon C6-C18 aryl group, saturated or unsaturated heterocyclic group, C7-C18 aralkyl group, C1-C12 linear or branched alkoxy group, C1-C1 C12 linear or branched alkylthio group, halogen atom, nitro group, cyano group, mercapto group, hydroxy group, formyl group, acyl group represented by —COR ₁₁ , amino represented by —NR ₁₂ R ₁₃ group, an acylamino group represented by -NHCOR _14, carbamate group represented by -NHCOOR _15, a carboxylate group represented by -COOR _16, acyloxy represented by -OCOR ₁₇ Group, _-CONR 18 carbamoyl group represented by _{R 19,} a sulfonyl group represented by -SO _{2 R 20,} a sulfinyl group represented by -SOR _21, a sulfamoyl group represented by -SO _{2 NR} 22 _{R 23,} Examples thereof include a sulfonic acid ester group represented by —SO ₃ R ₂₄ and a sulfonamide group represented by —NHSO ₂ R ₂₅ . Among the above, R _{7 to} R ₉ are linear or branched alkyl groups, cyclic alkyl groups, alkoxy groups, alkylthio groups, mercapto groups, hydroxy groups, acyl groups, carboxylic acid esters from the viewpoint of synthesis and solubility. Group, acyloxy group, carbamoyl group, sulfonyl group, sulfinyl group and the like are preferable.

これらの中でも、Ｒ_２の、特に好ましいものとしては、水素原子、炭素数１〜炭素数１２の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数３〜炭素数１０の環状アルキル基、炭素数７〜炭素数１８のアラルキル基、炭素数１〜炭素数１２の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数６〜炭素数１８のアリール基、飽和または不飽和の複素環基、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシ基、−ＣＯＲ_１１で表されるアシル基、−ＮＲ_１２Ｒ_１３で表されるアミノ基、−ＮＨＣＯＲ_１４で表されるアシルアミノ基、−ＮＨＣＯＯＲ_１５で表されるカーバメート基、−ＣＯＯＲ_１６で表されるカルボン酸エステル基、−ＯＣＯＲ_１７で表されるアシルオキシ基、−ＣＯＮＲ_１８Ｒ_１９で表されるカルバモイル基、−ＳＯ_２Ｒ_２０で表されるスルホニル基、−ＳＯＲ_２１で表されるスルフィニル基、−ＮＨＳＯ_２Ｒ_２５で表されるスルホンアミド基等が挙げられる。 Among these, R ₂ is particularly preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, or 7 to carbon atoms. An aralkyl group having 18 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, a saturated or unsaturated heterocyclic group, a halogen atom, a cyano group, and a hydroxy group , acyl group represented by -COR _{11, -NR} 12 amino group represented by _{R 13,} an acylamino group represented by -NHCOR _14, carbamate group represented by -NHCOOR _15, represented by -COOR ₁₆ carboxylic acid ester group, an acyloxy group represented by -OCOR _17, a carbamoyl group represented by _-CONR 18 _{R 19,} a sulfonyl group represented by -SO _{2 R 20,} A sulfinyl group represented by SOR _21, sulfonamido groups represented by -NHSO ₂ R ₂₅ can be mentioned.

また、Ｒ_３の好ましいものとしては、水素原子、炭素数１〜炭素数１２の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数３〜炭素数１０の環状アルキル基、炭素数２〜炭素数１２の直鎖又は分岐のアルケニル基、炭素数６〜炭素数１８のアリール基、飽和または不飽和の複素環基、炭素数７〜炭素数１８のアラルキル基、炭素数１〜炭素数１２の直鎖又は分岐のアルコキシ基、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、−ＣＯＲ_１１で表されるアシル基、−ＮＲ_１２Ｒ_１３で表されるアミノ基、−ＮＨＣＯＲ_１４で表されるアシルアミノ基、−ＮＨＣＯＯＲ_１５で表されるカーバメート基、−ＣＯＯＲ_１６で表されるカルボン酸エステル基、−ＯＣＯＲ_１７で表されるアシルオキシ基、−ＣＯＮＲ_１８Ｒ_１９で表されるカルバモイル基、−ＮＨＳＯ_２Ｒ_２５で表されるスルホンアミド基等が挙げられる。
尚、Ｒ_２、Ｒ_３には、有機溶媒への溶解性、吸収極大波長への影響の他に、合成のしやすさの観点等から、それぞれ、上記の官能基が選択できる。例えば、上述の中では、合成や溶解性のメリット面からは、直鎖又は分岐のアルキル基、環状アルキル基、ヒドロキシ基、アシル基、アミノ基、カルボン酸エステル基、アシルオキシ基、カルバモイル基等が好ましいものとして挙げられる。 Preferred examples of R ₃ include a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and a straight chain having 2 to 12 carbon atoms. Chain or branched alkenyl group, aryl group having 6 to 18 carbon atoms, saturated or unsaturated heterocyclic group, aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms, linear or branched chain having 1 to 12 carbon atoms alkoxy group, halogen atom, hydroxy group, acyl group represented by -COR _11, amino group represented by _-NR 12 _{R 13,} an acylamino group represented by -NHCOR _14, carbamate represented by -NHCOOR ₁₅ group, a carboxylate group represented by -COOR _16, acyloxy group represented by -OCOR _17, a carbamoyl group represented by _-CONR 18 _{R 19,} -NHSO _{2 R} Sulfonamido groups represented by ₅ and the like.
In addition to the solubility in an organic solvent and the influence on the absorption maximum wavelength, the above functional groups can be selected for R ₂ and R ₃ from the viewpoint of ease of synthesis and the like. For example, in the above, from the merits of synthesis and solubility, linear or branched alkyl groups, cyclic alkyl groups, hydroxy groups, acyl groups, amino groups, carboxylic acid ester groups, acyloxy groups, carbamoyl groups, etc. It is mentioned as preferable.

Ｒ_６、Ｒ_１０の好ましいものとしては、水素原子、直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキル基、−ＣＯＲ_１１で表されるアシル基を表す。これらの中でも、水素原子、炭素数１〜炭素数８の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数３〜炭素数８の環状アルキル基、−ＣＯＲ_１１で表されるアシル基等が挙げられる。
これらの中でも、Ｒ_６の特に好ましいものとしては、水素原子、炭素数１〜炭素数８の直鎖または分岐のアルキル基である。Ｒ_１０の特に好ましいものとしては、炭素数１〜炭素数８の直鎖または分岐のアルキル基である。尚、Ｒ_６、Ｒ_１０は、溶解性、吸収極大波長及び吸光度の大きさに影響する場合がある。これらのＲ_２〜Ｒ_１０は、必要に応じて置換されてもよい。 R ₆ and R ₁₀ are preferably a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group, a cyclic alkyl group, or an acyl group represented by —COR ₁₁ . Among these, a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 8 carbon atoms, an acyl group represented by —COR ₁₁ , and the like can be given.
Among these, R ₆ is particularly preferably a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Particularly preferable R ₁₀ is a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Incidentally, R _6, R ₁₀ is soluble, may affect the magnitude of the maximum absorption wavelength and absorbance. These R _{2 to} R ₁₀ may be optionally substituted.

特に、ジアゾ成分と本発明のカップラー骨格である６−ヒドロキシー２−ピリドン構造からなる金属錯体化合物との組み合わせによっては、耐光性が左右されることがわかった。耐光性は一般式［ＩＩ］を有する本発明の金属錯体化合物、即ち、ジアゾ成分がトリアゾールであるが安定して良好であり、それに一般式［ＩＩＩ］を有する本発明の金属錯体化合物、そして一般式［Ｉ］を有する本発明の金属錯体化合物が次ぐ、という傾向が見られる。さらに、耐光性はそれらの置換基であるＲ_１〜Ｒ_１０と相関が見られることがある、ということもわかった。ただし、本発明で述べる耐光性は、溶解性があまりよくないために、結果的に耐光性がよくない結果となる場合を含む。これらの結果を表１に示す。耐光性が安定して良好である一般式［ＩＩ］を有する本発明の金属錯体化合物の場合には、Ｒ_１〜Ｒ_３、Ｒ_６〜Ｒ_７は前記記載のものの中から選択されるのであれば、いずれも良好な耐光性を有する。それに対して、一般式［ＩＩＩ］を有する本発明の金属錯体化合物、そして一般式［Ｉ］を有する本発明の金属錯体化合物においては、それぞれの置換基Ｒには、以下に示すように、溶解性に好ましくない、あるいは、耐光性に好ましくない特定の組み合わせがあるのである（表１参照）。
前記有機色素化合物が、下記一般式［Ｉ］で示されるピリドンアゾ化合物であることを特徴とする光学記録媒体において、 In particular, it was found that the light resistance depends on the combination of a diazo component and a metal complex compound having a 6-hydroxy-2-pyridone structure which is a coupler skeleton of the present invention. The light fastness of the metal complex compound of the present invention having the general formula [II], that is, the diazo component is triazole but stable and good, and the metal complex compound of the present invention having the general formula [III] There is a tendency that the metal complex compound of the present invention having the formula [I] follows. Furthermore, it was also found that light resistance may be correlated with their substituents R _{1 to} R ₁₀ . However, the light resistance described in the present invention includes a case where the light resistance is not good because the solubility is not so good. These results are shown in Table 1. In the case of the metal complex compound of the present invention having the general formula lightfastness is better stabilized [II] is long as _{R 1 ~R 3, R 6 ~R} 7 is selected from those of the described Any of them has good light resistance. On the other hand, in the metal complex compound of the present invention having the general formula [III] and the metal complex compound of the present invention having the general formula [I], each substituent R is dissolved as shown below. There are certain combinations that are unfavorable to lightness or lightfastness (see Table 1).
In the optical recording medium, the organic dye compound is a pyridone azo compound represented by the following general formula [I]:

一般式［Ｉ］中、Ｒ_１は無置換のアミノ基（―ＮＨ_２）を除く１価の官能基であることが好ましい。また、Ｒ_２〜Ｒ_５は、それぞれ独立に、水素原子または１価の官能基であることが好ましい。即ち、Ｒ_１が無置換のアミノ基（―ＮＨ_２）の場合には、置換基Ｒ_２〜Ｒ_５との組み合わせによってはやや溶解性が低下し、その結果、耐光性が低下する可能性がある。
また、Ｒ_２としてのシアノ基、Ｒ_３としてのアルキル基の組み合わせは、より好ましい傾向が見られる。
また、前記有機色素化合物が、下記一般式［ＩＶ］で示されるピリドンアゾ化合物であることを特徴とする光学記録媒体において、 In general formula [I], R ₁ is preferably a monovalent functional group excluding an unsubstituted amino group (—NH ₂ ). R _{2 to} R ₅ are preferably each independently a hydrogen atom or a monovalent functional group. That is, when R ₁ is an unsubstituted amino group (—NH ₂ ), the solubility may be slightly lowered depending on the combination with the substituents R _{2 to} R _5, and as a result, the light resistance may be lowered. is there.
Also, combinations of cyano group, an alkyl group as R ₃ as R ₂ is more preferably tendency is seen.
In the optical recording medium, the organic dye compound is a pyridone azo compound represented by the following general formula [IV]:

一般式［ＩＶ］中、Ｒ_３１は水素原子を除く１価の官能基であることが好ましい。また、Ｒ_２６〜Ｒ_３０は、それぞれ独立に、水素原子または１価の官能基であることが好ましい。
Ｒ_３１を水素原子とすると、溶解性が低下し、耐光性が悪化する可能性がある。
また、Ｒ_２７としてのシアノ基、Ｒ_２８としてのアルキル基の組み合わせは、より好ましい傾向が見られる。
上記の好ましくない組み合わせを除けば、すでに述べた一般式［Ｉ］〜［ＩＩＩ］における好ましいＲ_１〜Ｒ_１０、Ｒ_１〜Ｒ_１０に対応するＲ_２６〜Ｒ_３１との組み合わせを用いれば、良い耐光性が得られる。 In the general formula [IV], R ₃₁ is preferably a monovalent functional group excluding a hydrogen atom. R _{26 to} R ₃₀ are preferably each independently a hydrogen atom or a monovalent functional group.
When R ₃₁ is a hydrogen atom, the solubility is lowered and the light resistance may be deteriorated.
Further, the combination of a cyano group as R _{27 and} an alkyl group as R ₂₈ tends to be more preferable.
Except for the above-mentioned unfavorable combinations, a combination with R _{26 to} R ₃₁ corresponding to preferable R _{1 to} R ₁₀ and R _{1 to} R ₁₀ in the general formulas [I] to [III] already described may be used. Light resistance is obtained.

（金属イオン）
次に、金属イオンについて説明する。
一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表すピリドンアゾ化合物と配位して含金属ピリドンアゾ化合物を形成する金属としては、ピリドンアゾ化合物との配位形成能力があれば特に限定されず、遷移元素、典型元素から選択される。金属の酸化数は限定されない。また、後述する金属錯体化合物において、金属とピリドンアゾ化合物との比は特に限定されない。また、金属及びピリドンアゾ化合物以外に、金属錯体化合物は、電荷を有する対イオンを含む形で錯体を形成してもよい。 (Metal ions)
Next, metal ions will be described.
The metal that coordinates with the pyridone azo compound represented by the general formula [I] to the general formula [III] to form a metal-containing pyridone azo compound is not particularly limited as long as it has the ability to form a coordination with the pyridone azo compound. Selected from typical elements. The oxidation number of the metal is not limited. Moreover, in the metal complex compound mentioned later, the ratio of a metal and a pyridone azo compound is not specifically limited. In addition to the metal and the pyridone azo compound, the metal complex compound may form a complex including a counter ion having a charge.

金属とピリドンアゾ化合物とが形成する錯体構造の好ましい構造としては、ピリドンアゾ化合物が（−１）価の電荷をもつ３座配位子となるため、錯体の形成しやすさから、２価の金属１個に対しピリドンアゾ化合物２個の割合で配位した構造が好ましい。即ち、一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表すピリドンアゾ化合物とともに金属錯体を形成する金属イオンは、周期表（長周期型）の３族〜１２族から選ばれる２価の金属であることが好ましい。これらの２価の金属の中でも、特に、ニッケル、コバルト、鉄、亜鉛、銅及びマンガンから選ばれる少なくとも１種の金属が特に好ましい。
尚、含金属ピリドンアゾ化合物としては、複数種のピリドンアゾ化合物が金属に配位した構造でもよい。また、後述する光学記録媒体の記録層に、複数種の含金属ピリドンアゾ化合物を含有していてもよい。 As a preferable structure of the complex structure formed by the metal and the pyridone azo compound, since the pyridone azo compound becomes a tridentate ligand having a (-1) valent charge, the divalent metal 1 is easy to form a complex. A structure in which two pyridone azo compounds are coordinated with respect to each other is preferable. That is, the metal ion which forms a metal complex with the pyridone azo compound represented by the general formula [I] to the general formula [III] is a divalent metal selected from Group 3 to Group 12 of the periodic table (long period type). Is preferred. Among these divalent metals, at least one metal selected from nickel, cobalt, iron, zinc, copper and manganese is particularly preferable.
The metal-containing pyridone azo compound may have a structure in which a plurality of types of pyridone azo compounds are coordinated to a metal. Further, the recording layer of the optical recording medium described later may contain a plurality of types of metal-containing pyridone azo compounds.

一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表されるピリドンアゾ化合物の分子量は、好ましい範囲としては、１０００以下、特に好ましくは７００以下である。分子量が過度に大きいとグラム吸光係数が減少し、色素の量に対して吸収が小さくなるので好ましくはない。   The molecular weight of the pyridone azo compound represented by the general formula [I] to the general formula [III] is 1000 or less, particularly preferably 700 or less, as a preferable range. An excessively high molecular weight is not preferable because the gram extinction coefficient decreases and the absorption becomes small relative to the amount of the dye.

一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表されるピリドンアゾ化合物の好ましい例としては、具体的には、下記に示された（１）〜（５７）の化合物が挙げられる。
一般式［Ｉ］で表されるピリドンアゾ化合物としては、例えば、下記（１）〜（２０）の化合物が挙げられる。 Preferable examples of the pyridone azo compounds represented by the general formulas [I] to [III] are specifically the compounds (1) to (57) shown below.
Examples of the pyridone azo compound represented by the general formula [I] include the following compounds (1) to (20).

一般式［ＩＩ］で表されるピリドンアゾ化合物としては、例えば、下記（２１）〜（３０）の化合物が挙げられる。   Examples of the pyridone azo compound represented by the general formula [II] include the following compounds (21) to (30).

一般式［ＩＩＩ］で表されるピリドンアゾ化合物としては、例えば、下記（３１）〜（４０）の化合物が挙げられる。   Examples of the pyridone azo compound represented by the general formula [III] include the following compounds (31) to (40).

さらに、一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表されるピリドンアゾ化合物として、例えば、下記（４１）〜（５７）の化合物が挙げられる。   Furthermore, examples of the pyridone azo compounds represented by the general formulas [I] to [III] include the following compounds (41) to (57).

（光学記録媒体）
次に、本実施の形態が適用される光学記録媒体について説明する。
本実施の形態が適用される光学記録媒体は、少なくとも、基板と、一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表されるピリドンアゾ化合物の金属錯体化合物を含有する記録層とから構成される。尚、必要に応じて、更に下引き層、反射層、保護層等を設けても良い。
図１は、本実施の形態が適用される光学記録媒体を説明する図である。図１（ａ）は、第１の実施の形態であり、図１（ｂ）は、第２の実施の形態である。 (Optical recording medium)
Next, an optical recording medium to which this embodiment is applied will be described.
The optical recording medium to which this embodiment is applied includes at least a substrate and a recording layer containing a metal complex compound of a pyridone azo compound represented by the general formulas [I] to [III]. If necessary, an undercoat layer, a reflective layer, a protective layer, etc. may be further provided.
FIG. 1 is a diagram for explaining an optical recording medium to which the present embodiment is applied. FIG. 1 (a) is a first embodiment, and FIG. 1 (b) is a second embodiment.

（第１の実施の形態）
図１（ａ）に示される光学記録媒体１０は、光透過性材料からなる基板１と、基板１上に設けられた記録層２と、記録層２上に積層された反射層３及び保護層４とが順番に積層されている。光学記録媒体１０は、基板１側から照射されるレーザ光により、情報の記録・再生が行われる。
尚、説明の便宜上、光学記録媒体１０において、保護層４が存在する側を上方、基板１が存在する側を下方とし、これらの方向に対応する各層の各面を、それぞれ各層の上面及び下面とする。 (First embodiment)
An optical recording medium 10 shown in FIG. 1A includes a substrate 1 made of a light-transmitting material, a recording layer 2 provided on the substrate 1, a reflective layer 3 and a protective layer laminated on the recording layer 2. 4 are stacked in order. In the optical recording medium 10, information is recorded / reproduced by laser light emitted from the substrate 1 side.
For convenience of explanation, in the optical recording medium 10, the side on which the protective layer 4 is present is the upper side, the side on which the substrate 1 is present is the lower side, and the surfaces of each layer corresponding to these directions are the upper and lower surfaces of each layer, respectively. And

基板１は、基本的に記録光及び再生光の波長において透明な材料であれば、様々な材料を使用することができる。具体的には、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に、非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂；ガラスが挙げられる。また、ガラス上に光硬化性樹脂等の放射線硬化性樹脂からなる樹脂層を設けた構造が挙げられる。中でも、高生産性、コスト、耐吸湿性等の観点からは、射出成型法にて使用されるポリカーボネート樹脂、耐薬品性及び耐吸湿性等の観点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。更に、高速応答等の観点からは、ガラスが好ましい。   As the substrate 1, various materials can be used as long as they are basically transparent at the wavelengths of recording light and reproducing light. Specific examples include resins such as acrylic resins, methacrylic resins, polycarbonate resins, polyolefin resins (particularly amorphous polyolefins), polyester resins, polystyrene resins, and epoxy resins; and glass. Moreover, the structure which provided the resin layer which consists of radiation curable resins, such as photocurable resin, on glass is mentioned. Among these, from the viewpoints of high productivity, cost, moisture absorption resistance, etc., the polycarbonate resin used in the injection molding method, and from the viewpoints of chemical resistance and moisture absorption resistance, amorphous polyolefin is preferable. Furthermore, glass is preferable from the viewpoint of high-speed response and the like.

樹脂製の基板１を使用した場合、又は、記録層と接する側（上側）に樹脂層を設けた基板１を使用した場合には、上面に、記録再生光の案内溝やピットを形成してもよい。案内溝の形状としては、光学記録媒体１０の中心を基準とした同心円状の形状やスパイラル状の形状が挙げられる。スパイラル状の案内溝を形成する場合には、溝ピッチが０．２〜１．２μｍ程度であることが好ましい。   When a resin substrate 1 is used, or when a substrate 1 having a resin layer provided on the side in contact with the recording layer (upper side) is used, guide grooves and pits for recording / reproducing light are formed on the upper surface. Also good. Examples of the shape of the guide groove include a concentric shape and a spiral shape based on the center of the optical recording medium 10. When the spiral guide groove is formed, the groove pitch is preferably about 0.2 to 1.2 μm.

記録層２は、基板１の上側に直接、又は必要に応じて基板１上に設けた下引き層等の上側に形成され、一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表されるピリドンアゾ化合物の金属錯体化合物が含まれる。記録層２の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等、一般に行なわれている様々な薄膜形成法が挙げられる。量産性やコストの観点からは、スピンコート法が好ましく、均一な厚みの記録層２が得られるという観点からは、塗布法よりも真空蒸着法等の方が好ましい。スピンコート法による成膜の場合、回転数は５００〜１５０００ｒｐｍが好ましい。また、場合によっては、スピンコートの後に、加熱する、溶媒蒸気にあてる等の処理を施しても良い。   The recording layer 2 is formed directly on the upper side of the substrate 1 or on the upper side of an undercoat layer or the like provided on the substrate 1 as necessary. The pyridone azo compound represented by the general formulas [I] to [III] These metal complex compounds are included. Examples of the method for forming the recording layer 2 include various commonly used thin film forming methods such as a vacuum deposition method, a sputtering method, a doctor blade method, a casting method, a spin coating method, and an immersion method. From the viewpoint of mass productivity and cost, the spin coating method is preferable, and from the viewpoint of obtaining the recording layer 2 having a uniform thickness, the vacuum evaporation method or the like is more preferable than the coating method. In the case of film formation by spin coating, the rotation speed is preferably 500 to 15000 rpm. In some cases, after spin coating, a treatment such as heating or solvent vapor may be applied.

ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の塗布法により記録層２を形成する場合に、一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表されるピリドンアゾ化合物の金属錯体化合物を溶解させて基板１に塗布するために使用する塗布溶媒は、基板１を侵食しない溶媒であれば特に限定されない。
具体的には、例えば、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒；テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。 When the recording layer 2 is formed by a coating method such as a doctor blade method, a cast method, a spin coating method, or an immersion method, the metal complex compound of the pyridone azo compound represented by the general formula [I] to the general formula [III] is dissolved. The coating solvent used for coating on the substrate 1 is not particularly limited as long as it is a solvent that does not erode the substrate 1.
Specifically, for example, ketone alcohol solvents such as diacetone alcohol and 3-hydroxy-3-methyl-2-butanone; cellosolv solvents such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve; chains such as n-hexane and n-octane Cyclic hydrocarbon solvents such as cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, dimethylcyclohexane, n-butylcyclohexane, tert-butylcyclohexane, cyclooctane, etc .; tetrafluoropropanol, octafluoropentanol, hexafluorobutanol, etc. Perfluoroalkyl alcohol solvents; hydroxycarboxylic acid ester solvents such as methyl lactate, ethyl lactate, and methyl 2-hydroxyisobutyrate.

真空蒸着法を用いる場合には、例えば、一般式で表される化合物と、必要に応じて他の色素や各種添加剤等の記録層成分とを、真空容器内に設置されたるつぼに入れ、この真空容器内を適当な真空ポンプで１０^−２〜１０^−５Ｐａ程度にまで排気した後、るつぼを加熱して記録層成分を蒸発させ、るつぼと向き合って置かれた基板上に蒸着させることによって、記録層２を形成する。 When using a vacuum deposition method, for example, the compound represented by the general formula and, if necessary, recording layer components such as other dyes and various additives are put in a crucible installed in a vacuum vessel, after evacuating to about 10 -2 ^{to 10} -5 ^Pa in the vacuum vessel suitable vacuum pump, heating the crucible to evaporate the recording layer components, it is deposited on the substrate placed facing the crucible Thus, the recording layer 2 is formed.

また、記録層２には、一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表されるピリドンアゾ化合物の金属錯体化合物に加えて、安定性や耐光性の向上のために、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物（例えば、アセチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等）等を含有させたり、記録感度の向上のために、金属系化合物等の記録感度向上剤を含有させたりしても良い。
ここで、金属系化合物とは、遷移金属等の金属が、原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものを言い、例えば、エチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有機金属化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定されないが、遷移金属であることが好ましい。 In addition to the metal complex compound of the pyridone azo compound represented by the general formula [I] to the general formula [III], the recording layer 2 is used as a singlet oxygen quencher in order to improve stability and light resistance. Transition metal chelate compounds (for example, acetylacetonate chelate, bisphenyldithiol, salicylaldehyde oxime, bisdithio-α-diketone, etc.) and the like, and recording sensitivity improvers such as metal compounds for improving recording sensitivity May be included.
Here, the metal compound refers to a compound in which a metal such as a transition metal is contained in the compound in the form of atoms, ions, clusters, etc., for example, ethylenediamine complex, azomethine complex, phenylhydroxyamine complex, phenanthroline. And organometallic compounds such as a complex based on a complex, a dihydroxyazobenzene complex, a dioxime complex, a nitrosoaminophenol complex, a pyridyltriazine complex, an acetylacetonate complex, a metallocene complex, and a porphyrin complex. Although it does not specifically limit as a metal atom, It is preferable that it is a transition metal.

尚、記録層２には、必要に応じて、一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表されるピリドンアゾ化合物の金属錯体化合物を複数種類併用しても良い。更に、記録層２には、ピリドンアゾ化合物の金属錯体化合物に加え、必要に応じて他系統の色素を併用することもできる。
他系統の色素としては、主として記録用レーザ光の発振波長域に適度な吸収を有するものであればよく、特に制限されない。また、ＣＤ−Ｒ等に使用され、７７０ｎｍ〜８３０ｎｍの波長帯域中に発振波長を有する近赤外レーザ光を用いた記録・再生に適する色素や、ＤＶＤ−Ｒ等に使用され、６２０ｎｍ〜６９０ｎｍの波長帯域中に発振波長を有する赤色レーザ光を用いた記録・再生に適する色素等を、ピリドンアゾ化合物と併用して記録層２に含有させることにより、異なる波長帯域に属する複数種のレーザ光を用いた記録・再生に対応する光学記録媒体１０を製造することもできる。また、上記ＣＤ−ＲあるいはＤＶＤ−Ｒの色素の中で耐光性が良好なものを選び、本発明の化合物に混合することにより、耐光性をさらに向上させることが可能となる。 In the recording layer 2, a plurality of metal complex compounds of pyridone azo compounds represented by the general formulas [I] to [III] may be used in combination as necessary. Furthermore, in addition to the metal complex compound of the pyridone azo compound, other types of dyes can be used in the recording layer 2 as necessary.
Other dyes are not particularly limited as long as they have appropriate absorption mainly in the oscillation wavelength region of the recording laser light. Further, it is used for CD-R and the like, and is used for dyes suitable for recording and reproduction using near-infrared laser light having an oscillation wavelength in the wavelength band of 770 to 830 nm, DVD-R and the like, and 620 to 690 nm. By using the recording layer 2 with a dye suitable for recording / reproduction using a red laser beam having an oscillation wavelength in the wavelength band in combination with the pyridone azo compound, a plurality of types of laser beams belonging to different wavelength bands can be used. The optical recording medium 10 corresponding to the recording / reproducing operation can also be manufactured. Further, light resistance can be further improved by selecting a CD-R or DVD-R dye having good light resistance and mixing it with the compound of the present invention.

一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表されるピリドンアゾ化合物の金属錯体化合物以外の他系統の色素としては、例えば、含金属アゾ系色素、ベンゾフェノン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、シアニン系色素、アゾ系色素、スクアリリウム系色素、含金属インドアニリン系色素、トリアリールメタン系色素、メロシアニン系色素、アズレニウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、キサンテン系色素、オキサジン系色素、ピリリウム系色素等が挙げられる。   Examples of dyes other than the metal complex compounds of the pyridone azo compounds represented by the general formulas [I] to [III] include metal-containing azo dyes, benzophenone dyes, phthalocyanine dyes, and naphthalocyanine dyes. , Cyanine dyes, azo dyes, squarylium dyes, metal-containing indoaniline dyes, triarylmethane dyes, merocyanine dyes, azurenium dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, indophenol dyes, xanthene dyes Oxazine dyes, pyrylium dyes, and the like.

更に、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤等を併用することもできる。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。   Furthermore, a binder, a leveling agent, an antifoaming agent, etc. can also be used together as needed. Preferable binders include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, nitrocellulose, cellulose acetate, ketone resin, acrylic resin, polystyrene resin, urethane resin, polyvinyl butyral, polycarbonate, polyolefin and the like.

記録層２の膜厚は、記録方法等により適した膜厚が異なる為、特に限定するものではないが、記録を可能とするためにはある程度の膜厚が必要とされるため、通常、少なくとも１ｎｍ以上であり、好ましくは５ｎｍ以上である。但し、通常３００ｎｍ以下、好ましくは２００ｎｍ以下、より好ましくは１００ｎｍ以下である。記録層２の膜厚が過度に厚いと、良好な記録が行えないおそれがある。   The film thickness of the recording layer 2 is not particularly limited because a suitable film thickness varies depending on the recording method or the like. However, since a certain amount of film thickness is required to enable recording, usually at least It is 1 nm or more, preferably 5 nm or more. However, it is usually 300 nm or less, preferably 200 nm or less, more preferably 100 nm or less. If the recording layer 2 is too thick, good recording may not be performed.

反射層３は、記録層２の上に形成されている。反射層３の膜厚は、好ましくは５０ｎｍ〜３００ｎｍである。反射層３の材料としては、再生光の波長において十分高い反射率を有する材料、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｐｄ等の金属を、単独あるいは合金にして用いることができる。これらの中でもＡｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕは反射率が高く、反射層３の材料として適している。また、これらの金属を主成分とした上で、加えて他の材料を含有させても良い。ここで主成分とは、含有率が５０％以上のものをいう。主成分以外の他の材料としては、例えば、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｎｄ等の金属及び半金属を挙げることができる。   The reflective layer 3 is formed on the recording layer 2. The thickness of the reflective layer 3 is preferably 50 nm to 300 nm. As the material of the reflective layer 3, a material having a sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light, for example, a metal such as Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, Ni, Pt, Ta, Pd, alone or an alloy Can be used. Among these, Au, Al, Ag, and Cu have high reflectivity and are suitable as the material for the reflective layer 3. In addition to these metals as main components, other materials may be added. Here, the main component means one having a content of 50% or more. Examples of materials other than the main component include Mg, Se, Hf, V, Nb, Ru, W, Mn, Re, Fe, Co, Rh, Ir, Cu, Zn, Cd, Ga, In, Si, Mention may be made of metals and semi-metals such as Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi, Ta, Ti, Pt, Pd, Nd.

これらの金属及び半金属の中でも、Ａｇを主成分とするものは、コストが安い点、高反射率が出やすい点、後述する印刷受容層を設けた場合に地色が白く美しいものが得られる点等から、特に好ましい。例えば、ＡｇにＡｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、及びＮｄから選ばれる一種以上を０．１原子％〜５原子％程度含有させた合金は、高反射率、高耐久性、高感度且つ低コストであり好ましい。具体的には、例えば、ＡｇＰｄＣｕ合金、ＡｇＣｕＡｕ合金、ＡｇＣｕＡｕＮｄ合金、ＡｇＣｕＮｄ合金等である。金属以外の材料としては、低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、これを反射層３として用いることも可能である。   Among these metals and semi-metals, those containing Ag as a main component are low in cost, easy to produce high reflectivity, and can have a beautiful white background when a print receiving layer described below is provided. From the point etc., it is particularly preferable. For example, an alloy containing about 0.1 atomic% to 5 atomic% of one or more selected from Au, Pd, Pt, Cu, and Nd in Ag has high reflectivity, high durability, high sensitivity, and low cost. It is preferable. Specifically, for example, an AgPdCu alloy, an AgCuAu alloy, an AgCuAuNd alloy, an AgCuNd alloy, or the like. As a material other than metal, a multilayer film can be formed by alternately stacking low refractive index thin films and high refractive index thin films, and this can be used as the reflective layer 3.

反射層３を形成する方法としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、基板１の上や反射層３の下に、反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために、公知の無機系又は有機系の中間層、接着層を設けることもできる。   Examples of the method for forming the reflective layer 3 include sputtering, ion plating, chemical vapor deposition, and vacuum vapor deposition. In addition, a known inorganic or organic intermediate layer or adhesive layer may be provided on the substrate 1 or under the reflective layer 3 in order to improve reflectivity, improve recording characteristics, and improve adhesion. it can.

保護層４は、反射層３の上に形成される。保護層４の材料は、反射層３を外力から保護するものであれば、特に限定されない。有機物質の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等を挙げることができる。また、無機物質としては、酸化ケイ素、窒化ケイ素、ＭｇＦ_２、ＳｎＯ_２等が挙げられる。 The protective layer 4 is formed on the reflective layer 3. The material of the protective layer 4 is not particularly limited as long as it protects the reflective layer 3 from external force. Examples of the organic material include thermoplastic resins, thermosetting resins, electron beam curable resins, and UV curable resins. Examples of the inorganic substance include silicon oxide, silicon nitride, MgF ₂ and SnO ₂ .

熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等を用いる場合は、適当な溶剤に溶解して調製した塗布液を反射層３の上に塗布して乾燥させれば、保護層４を形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂を用いる場合は、そのまま反射層３の上に塗布するか、又は適当な溶剤に溶解して調製した塗布液を反射層３の上に塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによって、保護層４を形成することができる。   When a thermoplastic resin, a thermosetting resin, or the like is used, the protective layer 4 can be formed by applying a coating solution prepared by dissolving in a suitable solvent on the reflective layer 3 and drying it. When a UV curable resin is used, it is directly applied on the reflective layer 3, or a coating solution prepared by dissolving in a suitable solvent is applied on the reflective layer 3 and cured by irradiation with UV light. Thus, the protective layer 4 can be formed.

ＵＶ硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート等のアクリレート系樹脂を用いることができる。これらの材料は、単独で用いても、複数種を混合して用いても良い。また、保護層は、単層として形成しても、多層として形成してもよい。   Examples of the UV curable resin include acrylate resins such as urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyester acrylate. These materials may be used alone or as a mixture of plural kinds. Further, the protective layer may be formed as a single layer or a multilayer.

保護層４の形成方法としては、記録層２と同様に、スピンコート法やキャスト法等の塗布法や、スパッタリング法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、中でもスピンコート法が好ましい。保護層４の膜厚は、その保護機能を果たすためにはある程度の厚みが必要とされるため、一般に０．１μｍ以上であり、好ましくは３μｍ以上である。但し、通常１００μｍ以下であり、好ましくは３０μｍ以下である。保護層４の膜厚が過度に厚いと、効果が変わらないだけでなく保護層４の形成に時間を要し、またコストが高くなるおそれがある。   As a method for forming the protective layer 4, as with the recording layer 2, a coating method such as a spin coating method and a casting method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, and the like are used. Among these, a spin coating method is preferable. The film thickness of the protective layer 4 is generally 0.1 μm or more, preferably 3 μm or more because a certain degree of thickness is required to fulfill its protective function. However, it is usually 100 μm or less, preferably 30 μm or less. If the thickness of the protective layer 4 is excessively large, not only the effect does not change, but it takes time to form the protective layer 4 and the cost may increase.

上述したように、光学記録媒体１０の層構造として、基板１、記録層２、反射層３、保護層４をこの順に積層して成る構造を例に採って説明したが、この他の層構造を採っても構わない。   As described above, the layer structure of the optical recording medium 10 has been described by taking the structure in which the substrate 1, the recording layer 2, the reflective layer 3, and the protective layer 4 are laminated in this order as an example. You may take.

例えば、上例の層構造における保護層４の上面に、又は上例の層構造から保護層４を省略して反射層３の上面に、更に別の基板１を貼り合わせてもよい。この際の基板１は、何ら層を設けていない基板そのものであってもよく、貼り合わせ面又はその反対面に反射層３等任意の層を有するものでも良い。また、同じく上例の層構造を有する光学記録媒体１０や、上例の層構造から保護層４を省略した光学記録媒体１０を、それぞれの保護層４及び／又は反射層３の上面を相互に対向させて２枚貼り合わせてもよい。   For example, another substrate 1 may be bonded to the upper surface of the protective layer 4 in the above layer structure, or to the upper surface of the reflective layer 3 by omitting the protective layer 4 from the above layer structure. In this case, the substrate 1 may be the substrate itself without any layers, or may have an arbitrary layer such as the reflective layer 3 on the bonding surface or the opposite surface. Similarly, the optical recording medium 10 having the layer structure of the above example, or the optical recording medium 10 in which the protective layer 4 is omitted from the layer structure of the above example, the upper surfaces of the protective layer 4 and / or the reflective layer 3 are mutually connected. Two sheets may be bonded to face each other.

（第２の実施の形態）
次に、光学記録媒体の第２の実施の形態について説明する。
図１（ｂ）は、光学記録媒体の第２の実施の形態を説明する図である。第１の実施の形態の光学記録媒体１０と共通する部分は同じ符号を付し、説明を省略する。
図１（ｂ）に示される光学記録媒体２０は、光透過性材料からなる基板１と、基板１上に設けられた反射層３と、反射層３上に積層された記録層２及び保護被膜５とが順番に積層されている。光学記録媒体２０は、保護被膜５側から照射されるレーザ光により、情報の記録・再生が行われる。 (Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the optical recording medium will be described.
FIG. 1B is a diagram for explaining a second embodiment of the optical recording medium. Portions common to the optical recording medium 10 of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
An optical recording medium 20 shown in FIG. 1B includes a substrate 1 made of a light transmissive material, a reflective layer 3 provided on the substrate 1, a recording layer 2 laminated on the reflective layer 3, and a protective film. 5 are stacked in order. Information is recorded / reproduced on the optical recording medium 20 by a laser beam irradiated from the protective coating 5 side.

保護被膜５は、フィルム又はシート状のものを接着剤によって貼り合わせてもよく、また、前述の保護層４と同様の材料を用い、成膜用の塗液を塗布し硬化又は乾燥することにより形成しても良い。保護被膜５の厚さは、その保護機能を果たすためにはある程度の厚さが必要とされるため、一般に０．１μｍ以上であり、好ましくは３μｍ以上である。但し、通常、３００μｍ以下、好ましくは２００μｍ以下である。保護被膜５が過度に厚いと、効果が変わらないだけでなく保護被膜５の形成に時間を要し、また、コストが高くなるおそれがある。   The protective coating 5 may be a film or a sheet-like material bonded together by an adhesive, and by using the same material as the protective layer 4 described above, applying a coating liquid for film formation, and curing or drying. It may be formed. The thickness of the protective coating 5 is generally 0.1 μm or more, preferably 3 μm or more because a certain amount of thickness is required to fulfill its protective function. However, it is usually 300 μm or less, preferably 200 μm or less. If the protective coating 5 is excessively thick, not only does the effect not change, but it takes time to form the protective coating 5 and the cost may increase.

尚、記録層２、反射層３等の各層は通常、前述の光学記録媒体１０と同様のものが用い得る。但し、本層構成では基板１は透明である必要はなく、従って、前述の材料以外にも、不透明な樹脂、セラミック、金属（合金を含む）等が用いられる。このような層構成においても、上記各層間には、本発明の特性を損なわない限り、必要に応じて任意の層を有してよい。   Incidentally, the recording layer 2, the reflective layer 3 and the like can usually be the same as those in the optical recording medium 10 described above. However, in this layer structure, the substrate 1 does not have to be transparent, and therefore, in addition to the above-described materials, opaque resin, ceramic, metal (including alloy), and the like are used. Even in such a layer structure, an arbitrary layer may be provided between the above-described layers as necessary as long as the characteristics of the present invention are not impaired.

ところで、光学記録媒体１０、２０の記録密度を高めるための一つの手段として、対物レンズの開口数を増大させることが挙げられる。これにより、情報記録面に集光される光スポットを微小化できる。しかしながら、対物レンズの開口数が増大すると、記録・再生を行うためにレーザ光を照射した際に、光学記録媒体１０、２０の反り等に起因する光スポットの収差が大きくなりやすいため、良好な記録再生信号が安定して得られない場合がある。   By the way, one means for increasing the recording density of the optical recording media 10 and 20 is to increase the numerical aperture of the objective lens. Thereby, the light spot condensed on the information recording surface can be miniaturized. However, if the numerical aperture of the objective lens is increased, the aberration of the light spot due to the warp of the optical recording media 10 and 20 tends to increase when the laser beam is irradiated for recording / reproduction. There are cases where a recording / reproducing signal cannot be obtained stably.

このような収差は、レーザ光が透過する透明基板や保護被膜の膜厚が厚いほど大きくなりやすいので、収差を小さくするためには基板や保護被膜をできるだけ薄くするのが好ましい。ただし、通常、基板１は、光学記録媒体１０、２０の強度を確保するためにある程度の厚みを要するので、この場合、光学記録媒体２０の構造（基板１、反射層３、記録層２、保護被膜５なる基本的層構成の光学記録媒体２０）を採用するのが好ましい。光学記録媒体１０の基板１を薄くするのに比べると、光学記録媒体２０の保護被膜５は薄くしやすいため、好ましくは光学記録媒体２０を用いる。   Such aberration tends to increase as the film thickness of the transparent substrate or the protective film through which the laser beam is transmitted increases. Therefore, in order to reduce the aberration, it is preferable to make the substrate and the protective film as thin as possible. However, since the substrate 1 usually requires a certain thickness in order to ensure the strength of the optical recording media 10 and 20, in this case, the structure of the optical recording medium 20 (the substrate 1, the reflective layer 3, the recording layer 2, and the protection) It is preferable to employ an optical recording medium 20) having a basic layer structure of the coating 5. Since the protective film 5 of the optical recording medium 20 can be easily made thinner than making the substrate 1 of the optical recording medium 10 thinner, the optical recording medium 20 is preferably used.

但し、光学記録媒体１０の構造（基板１、記録層２、反射層３、保護層４なる基本的層構成の光学記録媒体１０）であっても、記録・再生用レーザ光が通過する透明な基板１の厚さを５０μｍ〜３００μｍ程度にまで薄くすることにより、収差を小さくして使用できるようになる。   However, even in the structure of the optical recording medium 10 (the optical recording medium 10 having a basic layer structure including the substrate 1, the recording layer 2, the reflective layer 3, and the protective layer 4), the recording / reproducing laser beam is transparent. By reducing the thickness of the substrate 1 to about 50 μm to 300 μm, it becomes possible to use it with a reduced aberration.

また、他の各層の形成後に、記録・再生レーザ光の入射面（通常は、基板１の下面）に、表面の保護やゴミ等の付着防止の目的で、紫外線硬化樹脂層や無機系薄膜等を成膜形成してもよく、記録・再生レーザ光の入射面ではない面（通常は、反射層３や保護層４の上面）に、インクジェット、感熱転写等の各種プリンタ、あるいは各種筆記具を用いて記入や印刷が可能な印刷受容層を設けてもよい。   In addition, after the other layers are formed, an ultraviolet curable resin layer, an inorganic thin film, etc. are used for the purpose of protecting the surface and preventing dust from adhering to the recording / reproducing laser beam incident surface (usually the lower surface of the substrate 1). May be formed on the surface that is not the recording / reproducing laser light incident surface (usually the upper surface of the reflective layer 3 or the protective layer 4) using various printers such as inkjet and thermal transfer, or various writing instruments. A print-receiving layer that can be filled in and printed may be provided.

本実施の形態が適用される光学記録媒体１０、２０において、情報の記録・再生のために使用するレーザ光は、高密度記録を実現する観点から波長が短いほど好ましいが、特に、波長３５０ｎｍ〜５３０ｎｍのレーザ光が好ましい。かかるレーザ光の代表例として、中心波長４０５ｎｍ、４１０ｎｍ、５１５ｎｍのレーザ光が挙げられる。   In the optical recording media 10 and 20 to which the present embodiment is applied, the laser beam used for recording / reproducing information is preferably as short as possible from the viewpoint of realizing high-density recording. A laser beam of 530 nm is preferable. Typical examples of such laser light include laser light having center wavelengths of 405 nm, 410 nm, and 515 nm.

波長３５０ｎｍ〜５３０ｎｍのレーザ光は、波長４０５ｎｍ、４１０ｎｍの青色又は５１５ｎｍの青緑色の高出力半導体レーザ光を使用することによって得られる。また、その他にも、例えば、（ａ）基本発振波長が７４０〜９６０ｎｍの連続発振可能な半導体レーザ光、及び（ｂ）半導体レーザ光によって励起される基本発振波長７４０ｎｍ〜９６０ｎｍの連続発振可能な固体レーザ光の何れかの発振レーザ光を、第二高調波発生素子（ＳＨＧ）により波長変換することによっても得られる。   Laser light having a wavelength of 350 nm to 530 nm can be obtained by using blue or green 515 nm high-power semiconductor laser light having a wavelength of 405 nm or 410 nm. In addition, for example, (a) a semiconductor laser beam capable of continuous oscillation having a fundamental oscillation wavelength of 740 to 960 nm, and (b) a solid capable of continuous oscillation having a fundamental oscillation wavelength of 740 nm to 960 nm excited by the semiconductor laser beam. It can also be obtained by converting the wavelength of any laser light of the laser light by a second harmonic generation element (SHG).

尚、ＳＨＧとしては、反転対称性を欠くピエゾ素子であればいかなるものでもよいが、ＫＤＰ、ＡＤＰ、ＢＮＮ、ＫＮ、ＬＢＯ、化合物半導体等が好ましい。第二高調波の具体例として、基本発振波長が８６０ｎｍの半導体レーザ光の場合には、その基本発振波長の倍波である４３０ｎｍ、また、半導体レーザ光励起の固体レーザ光の場合には、ＣｒドープしたＬｉＳｒＡｌＦ_６結晶（基本発振波長８６０ｎｍ）からの倍波の４３０ｎｍ等が挙げられる。 SHG may be any piezoelectric element that lacks inversion symmetry, but KDP, ADP, BNN, KN, LBO, compound semiconductors, and the like are preferable. As a specific example of the second harmonic, in the case of semiconductor laser light having a fundamental oscillation wavelength of 860 nm, 430 nm which is a harmonic of the fundamental oscillation wavelength, and in the case of solid laser light excited by semiconductor laser light, Cr-doped And 430 nm of a double wave from the LiSrAlF ₆ crystal (basic oscillation wavelength 860 nm).

本実施の形態が適用される光学記録媒体１０、２０に、情報の記録を行なう際には、記録層２に対して（通常は、基板１側から基板１を透過させ）、通常、０．４μｍ〜０．６μｍ程度に集束したレーザ光を照射する。記録層２のレーザ光が照射された部分は、レーザ光のエネルギーを吸収することによって分解、発熱、溶解等の熱的変形を起こすため、光学的特性が変化する。   When recording information on the optical recording media 10 and 20 to which the present embodiment is applied, the recording layer 2 (usually, the substrate 1 is transmitted from the substrate 1 side) is usually 0. A laser beam focused to about 4 μm to 0.6 μm is irradiated. The portion of the recording layer 2 irradiated with the laser light undergoes thermal deformation such as decomposition, heat generation, and melting by absorbing the energy of the laser light, so that the optical characteristics change.

記録層２に記録された情報の再生を行なう際には、同じく記録層２に対して（通常は、記録時と同じ方向から）、よりエネルギーの低いレーザ光を照射する。記録層２において、光学的特性の変化が起きた部分（すなわち、情報が記録された部分）の反射率と、変化が起きていない部分の反射率との差を読みとることにより、情報の再生が行なわれる。   When the information recorded on the recording layer 2 is reproduced, the recording layer 2 is irradiated with a laser beam having a lower energy (usually from the same direction as when recording). In the recording layer 2, information is reproduced by reading the difference between the reflectance of the portion where the optical characteristics change (that is, the portion where information is recorded) and the reflectance of the portion where the change does not occur. Done.

以下に実施例に基づき、本実施の形態をさらに具体的に説明する。尚、本実施の形態はその要旨を越えない限り、これら実施例によって限定されるものではない。
（ピリドンアゾ化合物の合成方法）
前述した一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表されるピリドンアゾ化合物の合成方法については特に限定されるものではないが、例えば、６−ヒドロキシ−２−ピリドン構造の一般的な製法を下記に示す。
（１）シアノアセトアミド誘導体とβ−ケトエステルとの縮合
最も一般的な製法としては、下記のように、シアノアセトアミド誘導体とβ−ケトエステルとを（ジャーナル オブ ヘテロサイクリック ケミストリー「Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ．Ｃｈｅｍ．，」３２，９７９（１９９５）等）、または、シアノ酢酸エチルとアミンとβ−ケトエステルとを（ダイズ アンド ピグメンツ「Ｄｙｅｓ＆Ｐｉｇｍｅｎｔｓ」，１５，６９（１９９１））、塩基性触媒の存在下、加熱することにより、３−シアノ−６−ヒドロキシ−２−ピリドンを合成する方法が知られている。ここで、シアノアセトアミド誘導体におけるアミンのＲ_１を変更することによりＲ_１に置換基を導入でき、また、β−ケトエステルのＲ_３を変更することでも置換基を導入することができる。 Hereinafter, the present embodiment will be described more specifically based on examples. In addition, this Embodiment is not limited by these Examples, unless the summary is exceeded.
(Method for synthesizing pyridone azo compounds)
The method for synthesizing the pyridone azo compounds represented by the above general formulas [I] to [III] is not particularly limited. For example, a general method for producing a 6-hydroxy-2-pyridone structure is described below. Shown in
(1) Condensation of cyanoacetamide derivative and β-keto ester As the most general production method, a cyanoacetamide derivative and β-keto ester are synthesized as described below (Journal of Heterocyclic Chemistry “J. Heterocyclic. Chem., 32, 979 (1995), etc.), or by heating ethyl cyanoacetate, amine and β-ketoester (soybean and pigments “Dyes & Pigments”, 15, 69 (1991)) in the presence of a basic catalyst. A method for synthesizing 3-cyano-6-hydroxy-2-pyridone is known. Here, you can introduce a substituent to R ₁ by changing the R ₁ of the amine in the cyanoacetamide derivatives, also by changing the β- ketoester of R ₃ can be introduced substituent.

（２）１、３−ジメチルウラシルとマロン酸アミド誘導体との縮合
また、下記のように（ジャーナル オブ アメリカン ケミカル ソサエティ「Ｊ．Ａ．Ｃ．Ｓ．１０１」（１５），４４２３（１９７９））、１、３−ジメチルウラシルとマロン酸アミド誘導体とを用いることにより、３−置換−２、６−ジヒドロキシピリジンを合成することができる。 (2) Condensation of 1,3-dimethyluracil with a malonic acid amide derivative In addition, as described below (Journal of American Chemical Society "JASC 101" (15), 4423 (1979)), By using 1,3-dimethyluracil and a malonic acid amide derivative, 3-substituted-2,6-dihydroxypyridine can be synthesized.

（３）フェニルプロピオル酸のＭｉｃｈａｅｌ付加
また、下記のように（薬学雑誌、９９（６）、５８８（１９７９））、Ｎ−アリルフェニルプロピオル酸アミドとシュウ酸ジエチルとの反応により合成できる。 (3) Michael addition of phenylpropiolic acid Further, it can be synthesized by the reaction of N-allylphenylpropiolic acid amide and diethyl oxalate as described below (Pharmaceutical Journal, 99 (6), 588 (1979)).

その他、市販の試薬で２、６−ジヒドロキシピリジン構造をもつ化合物を出発原料に用いて反応して置換基を導入することができる。
以上にして得られた６−ヒドロキシ−２−ピリドン化合物を、ジアゾ化した複素芳香環アミンとジアゾカップリングすることにより、前記一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で表されるピリドンアゾ化合物を得ることができる。そして、このピリドンアゾ化合物を金属と錯形成させることにより含金属ピリドンアゾ化合物（ピリドンアゾ化合物の金属錯体化合物）を得ることができる。 In addition, a substituent can be introduced by reaction using a commercially available reagent having a 2,6-dihydroxypyridine structure as a starting material.
The 6-hydroxy-2-pyridone compound thus obtained is subjected to diazo coupling with a diazotized heteroaromatic amine to give a pyridone azo compound represented by the above general formulas [I] to [III]. Obtainable. A metal-containing pyridone azo compound (metal complex compound of a pyridone azo compound) can be obtained by complexing the pyridone azo compound with a metal.

（実施例１）
（ａ）合成例
（ａ−１）
下記構造式［１］で表されるシアノ酢酸エチル２２．６３ｇ（０．２モル）、構造式［２］で表される３−オキソブタン酸エチル２６．０３ｇ（０．２モル）、構造式［３］で表されるｎ−ブチルアミン１４．６３ｇ（０．２モル）をエタノール２０ｍｌ中に溶解させ、ピペリジン６ｍｌを滴下した後、撹拌条件下２６時間半還流を行った。反応液は冷却後、１０％塩酸水溶液２００ｍｌにあけて撹拌すると固体が析出した。析出した化合物はろ別し、水洗した後、ヘキサン１００ｍｌ溶液に懸濁させ、３０分程度撹拌した後にろ過をし、ろ過物は真空中で加熱乾燥させて、下記の化合物［４］（１−ｎ−ブチル−３−シアノ−４−メチル−６−ヒドロキシ−２−ピリドン）１１．３ｇ（収率２７．４％）を得た。 Example 1
(A) Synthesis example (a-1)
22.63 g (0.2 mol) of ethyl cyanoacetate represented by the following structural formula [1], 26.03 g (0.2 mol) of ethyl 3-oxobutanoate represented by the structural formula [2], 3] n-butylamine (14.63 g, 0.2 mol) was dissolved in ethanol (20 ml), piperidine (6 ml) was added dropwise, and the mixture was refluxed for 26 hours and half under stirring. After cooling, the reaction solution was poured into 200 ml of 10% hydrochloric acid aqueous solution and stirred to precipitate a solid. The precipitated compound was filtered off, washed with water, suspended in a 100 ml hexane solution, stirred for about 30 minutes, filtered, and the filtrate was heated and dried in vacuo to give the following compound [4] (1-n There was obtained 11.3 g (yield 27.4%) of -butyl-3-cyano-4-methyl-6-hydroxy-2-pyridone).

下記構造式［５］で示される３−アミノ−５−メチルイソキサゾール２．９４ｇ（０．０３ｍｏｌ）を酢酸３０ｍｌ、プロピオン酸１０ｍｌ、濃硫酸２ｍｌ溶液中に撹拌溶解させ、０〜５℃に冷却した。ここに４３％ニトロシル硫酸１０．６２ｇを１０℃以下を保つように滴下してジアゾ化し、ジアゾ液を調製した。   Stirring and dissolving 2.94 g (0.03 mol) of 3-amino-5-methylisoxazole represented by the following structural formula [5] in a solution of 30 ml of acetic acid, 10 ml of propionic acid and 2 ml of concentrated sulfuric acid. Cooled down. Here, 10.62 g of 43% nitrosylsulfuric acid was added dropwise so as to keep the temperature at 10 ° C. or less to diazotize to prepare a diazo solution.

一方、別の容器に、前記化合物［４］６．８ｇ（０．０３３ｍｏｌ）、酢酸ナトリウム９ｇ、尿素１．２ｇをメタノール１００ｍｌ、水２０ｍｌ中に撹拌溶解させ、塩酸でｐＨを５に調整して０〜５℃に冷却した。この溶液に、予め調製したジアゾ液を５℃以下で、１４％アンモニア水溶液でｐＨ４〜５に保ちながら滴下した。滴下終了後、３０分撹拌を行い、反応液をろ過した。ろ過物は無機塩を除くために水５００ｍｌに懸濁させ、３０分程度撹拌、ろ過した。さらにろ過物をメタノール２００ｍｌに懸濁させ撹拌、ろ過してこれを真空中で加熱乾燥させ、例示化合物（４１）で示される化合物７．７４ｇ（収率８１．８％）を得た。この化合物のＭＳ測定を行い、ｍ／ｚ＝３１５を確認した。   On the other hand, 6.8 g (0.033 mol) of the above compound [4], 9 g of sodium acetate and 1.2 g of urea are stirred and dissolved in 100 ml of methanol and 20 ml of water, and the pH is adjusted to 5 with hydrochloric acid. Cooled to 0-5 ° C. To this solution, a diazo solution prepared in advance was added dropwise at 5 ° C. or lower while maintaining a pH of 4 to 5 with a 14% aqueous ammonia solution. After completion of dropping, the mixture was stirred for 30 minutes and the reaction solution was filtered. In order to remove inorganic salts, the filtrate was suspended in 500 ml of water, stirred and filtered for about 30 minutes. Further, the filtrate was suspended in 200 ml of methanol, stirred, filtered, and heated and dried in vacuum to obtain 7.74 g (yield: 81.8%) of the compound represented by the exemplified compound (41). MS measurement of this compound was performed and m / z = 315 was confirmed.

（ａ−２）ＮＭＲ結果
また、１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３（δ＝ｐｐｍ）２７０ＭＨｚ）を測定したところ、０．９６（３Ｈ、ｔ、Ｎ−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ ＣＨ _３ ）、１．３７（２Ｈ、ｓｅｘｔｅｔ、Ｎ−ＣＨ_２ＣＨ_２ ＣＨ _２ ＣＨ_３）、１．５９（２Ｈ、ｍ、Ｎ−ＣＨ_２ ＣＨ _２ ＣＨ_２ＣＨ_３）、２．４８（３Ｈ、ｓ、５’−ＣＨ_３）、２．５５（３Ｈ、ｓ、４−ＣＨ_３）、３．９６（２Ｈ、ｔ、Ｎ−ＣＨ _２ ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_３）、６．３（１Ｈ、ｓ、４’−Ｈ）と目的の化合物と一致するピークであった。
この例示化合物（４１）のクロロホルム中でのλｍａｘ＝３９１ｎｍ、モル吸光係数は３．５×１０^４であった。 (A-2) NMR result When 1H-NMR (CDCl ₃ (δ = ppm) 270 MHz) was measured, it was 0.96 (3H, t, N—CH ₂ CH ₂ CH ₂ CH ₃ ), 1.37. _{(2H, sextet, N-CH} 2 CH 2 CH 2 CH 3), 1.59 (2H, m, N-CH 2 CH 2 CH 2 CH 3), 2.48 (3H, s, 5'-CH 3 _{), 2.55 (3H, s,} 4-CH 3), 3.96 (2H, t, N- CH 2 CH 2 CH 2 CH 3), 6.3 (1H, s, 4'-H) and The peak was consistent with the target compound.
This exemplary compound (41) had a λmax of 391 nm in chloroform and a molar extinction coefficient of 3.5 × 10 ⁴ .

例示化合物（４１）３．７８ｇ（０．０１２モル）をテトラハイドロフラン１００ｍｌに撹拌溶解し、不溶物が混ざらないようにろ過した後、ろ液に酢酸ニッケル１．７９ｇ（０．００７２モル）／メタノール２７ｍｌ溶液を滴下した。反応液は１時間撹拌し、その後イソプロピルエーテル５００ｍｌを加えて固体を析出させ、ろ過した。ろ過物は水１００ｍｌ中に懸濁させ、３０分程度撹拌してろ過した。ろ過物はイソプロピルエーテルで洗浄し、真空中で加熱乾燥させ、下記構造式［６］で示される含金属ピリドンアゾ化合物２．９１ｇ（収率７０．６％）を得ることができた（金属錯体化合物（５８）とする）。この化合物のクロロホルム中のλｍａｘ＝４３５．５ｎｍ、モル吸光係数は５．６×１０^４であった。 3.78 g (0.012 mol) of Exemplified Compound (41) was dissolved in 100 ml of tetrahydrofuran by stirring and filtered so that insoluble matters would not be mixed. Then, 1.79 g (0.0072 mol) / nickel acetate was added to the filtrate. Methanol 27 ml solution was added dropwise. The reaction solution was stirred for 1 hour, and then 500 ml of isopropyl ether was added to precipitate a solid, followed by filtration. The filtrate was suspended in 100 ml of water, stirred for about 30 minutes and filtered. The filtrate was washed with isopropyl ether and dried by heating in vacuum to obtain 2.91 g (yield 70.6%) of a metal-containing pyridone azo compound represented by the following structural formula [6] (metal complex compound) (58)). This compound had λmax = 435.5 nm in chloroform and a molar extinction coefficient of 5.6 × 10 ⁴ .

（ｂ）光学記録媒体の評価
金属錯体化合物（５８）（＝構造式［６］で示される含金属ピリドンアゾ化合物）をオクタフルオロペンタノールに溶解し、１ｗｔ％に調整した。これをろ過して出来た溶解液を直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの射出成形型ポリカーボネート樹脂基板上に滴下し、スピンコート法により塗布（５００ｒｐｍ）し、塗布後１００℃で３０分間乾燥した。この塗布膜の最大吸収波長（λｍａｘ）は４４２．５ｎｍであった。
図２は、金属錯体化合物（５８）の塗布膜の吸収スペクトルである。 (B) Evaluation of optical recording medium The metal complex compound (58) (= metal-containing pyridone azo compound represented by the structural formula [6]) was dissolved in octafluoropentanol and adjusted to 1 wt%. A solution obtained by filtering this was dropped onto an injection-molded polycarbonate resin substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.2 mm, applied by spin coating (500 rpm), and dried at 100 ° C. for 30 minutes after coating. The maximum absorption wavelength (λmax) of this coating film was 442.5 nm.
FIG. 2 is an absorption spectrum of the coating film of the metal complex compound (58).

この金属錯体化合物（５８）を塗布したディスクの切片を、耐光性試験機（株式会社東洋精機製作所製：サンテストＸＬＳ＋）を使用して、Ｘｅランプを６３℃、５５０ｍＷで４０時間照射した。その後、ＵＶ測定器で、Ｘｅランプ照射前のλｍａｘの吸光度（Ｉ_０）と、Ｘｅランプ照射後のλｍａｘの吸光度（Ｉ）と、をそれぞれ測定した。次に、Ｉ_０に対するＩの割合（Ｉ／Ｉ_０）（％）を求め、耐光性を評価した（数値が大きいほど耐光性が良好である）。
その結果、金属錯体化合物（５８）の耐光性（（Ｉ／Ｉ_０）（％））は、６３．２％であり、波長５００ｎｍ以下に最大吸収波長（λｍａｘ）を有する色素膜としては極めて良好な耐光性を示した。 Using a light resistance tester (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd .: Suntest XLS +), an Xe lamp was irradiated at 63 ° C. and 550 mW for 40 hours with a slice of the disk coated with this metal complex compound (58). Thereafter, the absorbance (I ₀ ) of λmax before irradiation with the Xe lamp and the absorbance (I) of λmax after irradiation with the Xe lamp were measured with a UV measuring device. Next, determine the ratio of _{I (I / I 0) (} %) with respect to _{I 0,} (it is better the light resistance is large numerical) of the evaluation of the light resistance.
As a result, the light resistance ((I / I ₀ ) (%)) of the metal complex compound (58) is 63.2%, which is extremely good as a dye film having a maximum absorption wavelength (λmax) at a wavelength of 500 nm or less. Light resistance.

また、別に金属錯体化合物（５８）を塗布した基板を、８５℃、相対湿度８５％の条件下、恒温恒湿漕内に２００時間静置した。その後、スペクトルを測定し、恒温恒湿漕内に静置する前と吸収強度（試験前のλｍａｘと同波長）の比較を行い、保存安定性の評価を行った。その結果、９７．３％と極めて良好であった。   Moreover, the board | substrate which apply | coated the metal complex compound (58) separately was left still in a constant temperature and humidity chamber for 200 hours on condition of 85 degreeC and 85% of relative humidity. Thereafter, the spectrum was measured, and the storage stability was evaluated by comparing the absorption intensity (the same wavelength as λmax before the test) before standing in a constant temperature and humidity chamber. As a result, it was very good at 97.3%.

また、このように形成した塗布膜上に、必要に応じてスパッタリング法にてＡｇ等を成膜して反射層を形成し、さらに紫外線硬化樹脂をスピンコート等にて塗布・ＵＶ照射により硬化させて保護層を形成し、光学記録媒体とすることができる。この光学記録媒体は、塗布膜のλｍａｘの値より、例えば中心波長４０５ｎｍの半導体レーザ光による記録再生が可能である。即ち、金属錯体化合物（５８）の含金属ピリドンアゾ化合物が、青色レーザ光の記録に対して、有効な構造の化合物であることが分かる。   Further, on the coating film thus formed, Ag or the like is formed by sputtering as necessary to form a reflective layer, and an ultraviolet curable resin is applied by spin coating or the like and cured by UV irradiation. Thus, a protective layer can be formed to obtain an optical recording medium. This optical recording medium can be recorded and reproduced by a semiconductor laser beam having a central wavelength of 405 nm, for example, from the value of λmax of the coating film. That is, it can be seen that the metal-containing pyridone azo compound of the metal complex compound (58) is a compound having an effective structure for blue laser light recording.

尚、光学記録媒体は以下のとおり調製した。
前述の金属錯体化合物（５８）をオクタフルオロペンタノールに溶解し、１．４ｗｔ％に調整した。これをろ過してできた溶解液をトラックピッチ４００ｎｍ、溝幅２００ｎｍ、溝深さ７０ｎｍの溝を持つ直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの射出成型ポリカーボネート樹脂基板に滴下し、スピンコート法により塗布した。尚、塗布は、回転数６００ｒｐｍから４９００ｒｐｍへ２５秒かけて回転数を上げ、４９００ｒｐｍで５秒間保持して行った。更に１００℃で３０分間乾燥し、記録層とした。
次いで、スパッタリング法にて銀合金を１００ｎｍの厚さで成膜し、反射層を形成した。その後、ＵＶ硬化性樹脂からなる保護コート剤をスピンコート法により塗布し、ＵＶ光を照射して厚さ５μｍの保護層を形成させた。更に、遅延硬化型接着剤を用いて、保護層のある面に、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート製基板を接着して、評価用の光学記録媒体を調製した。 The optical recording medium was prepared as follows.
The aforementioned metal complex compound (58) was dissolved in octafluoropentanol and adjusted to 1.4 wt%. The solution obtained by filtering this was dropped onto an injection-molded polycarbonate resin substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm having a groove with a track pitch of 400 nm, a groove width of 200 nm, and a groove depth of 70 nm, and applied by spin coating. . The coating was performed by increasing the rotation speed from 600 rpm to 4900 rpm over 25 seconds and holding at 4900 rpm for 5 seconds. Further, it was dried at 100 ° C. for 30 minutes to obtain a recording layer.
Next, a silver alloy film was formed to a thickness of 100 nm by a sputtering method to form a reflective layer. Thereafter, a protective coating agent made of a UV curable resin was applied by a spin coating method and irradiated with UV light to form a protective layer having a thickness of 5 μm. Furthermore, an optical recording medium for evaluation was prepared by adhering a polycarbonate substrate having a thickness of 0.6 mm to the surface having the protective layer using a delayed curable adhesive.

（ｃ）記録例
前述した評価用の光学記録媒体を線速度６．６１ｍ／ｓｅｃで回転させながら、波長４０５ｎｍ（対物レンズの開口数ＮＡ＝０．６５）のレーザ光で、８Ｔマーク／８Ｔスペースの単一周波数信号を溝上に記録した。尚、Ｔは、周波数６５ＭＨｚに対応する基準クロック周期である。記録パルスストラテジーとして、分割パルス数はマーク長をｎＴとして（ｎ−１）、先頭記録パルス幅２Ｔ、後続記録パルス幅０．６Ｔ、バイアスパワー１．５ｍＷ、再生パワー０．４ｍＷ、記録パワーを可変とした。その結果、７ｍＷで変調度５１％の信号が記録できた。変調度は、パルスストラテジー等記録条件の最適化によって、より大きくなると考えられる。 (C) Recording Example 8T mark / 8T space with laser light having a wavelength of 405 nm (numerical aperture NA = 0.65) while rotating the optical recording medium for evaluation described above at a linear velocity of 6.61 m / sec. Single frequency signals were recorded on the grooves. Note that T is a reference clock cycle corresponding to a frequency of 65 MHz. As the recording pulse strategy, the number of divided pulses is nT (n-1), the head recording pulse width is 2T, the subsequent recording pulse width is 0.6T, the bias power is 1.5 mW, the reproduction power is 0.4 mW, and the recording power is variable. It was. As a result, a signal having a modulation degree of 51% was recorded at 7 mW. It is considered that the modulation degree becomes larger by optimizing the recording conditions such as the pulse strategy.

（実施例２）
（ａ）製造例
下記シトラジン酸［７］１８．６１ｇをエタノール５００ｍｌ中に懸濁させ、撹拌条件下、濃硫酸２７ｍｌを室温で滴下し、その後４時間還流させた。反応液は冷却後、水１０００ｍｌ中に放出し、固体を析出させた。析出物はろ別し、水で洗浄し真空中で乾燥させ、下記化合物［８］を１４．８８ｇ合成した（収率６７．７％）。 (Example 2)
(A) Production Example 18.61 g of the following citrazic acid [7] was suspended in 500 ml of ethanol, 27 ml of concentrated sulfuric acid was added dropwise at room temperature under stirring conditions, and then refluxed for 4 hours. The reaction solution was cooled and then released into 1000 ml of water to precipitate a solid. The precipitate was filtered off, washed with water and dried in vacuo to synthesize 14.88 g of the following compound [8] (yield 67.7%).

次に、下記構造式［９］で示される３−アミノ−５−ｔｅｒｔ―ブチルイソキサゾール３．５ｇ（０．０２５ｍｏｌ）を酢酸２５ｍｌ、プロピオン酸８．３ｍｌ、濃硫酸１ｍｌ溶液中に撹拌溶解させ、０〜５℃に冷却した。ここに４３％ニトロシル硫酸８．８５ｇを１０℃以下を保つように滴下してジアゾ化し、ジアゾ液を調製した。   Next, 3.5 g (0.025 mol) of 3-amino-5-tert-butylisoxazole represented by the following structural formula [9] is stirred and dissolved in a solution of 25 ml of acetic acid, 8.3 ml of propionic acid and 1 ml of concentrated sulfuric acid. And cooled to 0-5 ° C. To this, 8.85 g of 43% nitrosylsulfuric acid was added dropwise so as to keep the temperature at 10 ° C. or less to diazotize to prepare a diazo solution.

一方、別の容器に前記化合物［４］４．８１ｇ（１．０５等量）、酢酸ナトリウム７．５ｇ、尿素１ｇをメタノール１００ｍｌ、水２５ｍｌ中に懸濁させ、塩酸でｐＨを５に調整して０〜５℃に冷却した。この溶液に、予め調製したジアゾ液を５℃以下で、１４％アンモニア水溶液でｐＨ４〜５に保ちながら滴下した。滴下終了後、３０分撹拌を行い、反応液をろ過した。ろ過物は無機塩を除くために水５００ｍｌに懸濁させ、３０分程度撹拌、ろ過した。さらに、ろ過物をメタノール１５００ｍｌに懸濁させ撹拌、ろ過してこれを真空中で加熱乾燥させ、前述した例示化合物（４２）６．６９ｇ（収率８０％）を得た。例示化合物（４２）のクロロホルム中のλｍａｘ＝３７９．５ｎｍ、モル吸光係数は３．１×１０^４であった。 On the other hand, 4.81 g (1.05 equivalent) of the above compound [4], 7.5 g of sodium acetate and 1 g of urea are suspended in 100 ml of methanol and 25 ml of water in another container, and the pH is adjusted to 5 with hydrochloric acid. And cooled to 0-5 ° C. To this solution, a diazo solution prepared in advance was added dropwise at 5 ° C. or lower while maintaining a pH of 4 to 5 with a 14% aqueous ammonia solution. After completion of dropping, the mixture was stirred for 30 minutes and the reaction solution was filtered. In order to remove inorganic salts, the filtrate was suspended in 500 ml of water, stirred and filtered for about 30 minutes. Furthermore, the filtrate was suspended in 1500 ml of methanol, stirred, filtered, and heated and dried in vacuo to obtain 6.69 g (yield 80%) of the exemplified compound (42) described above. Illustrative compound (42) in chloroform had a λmax of 379.5 nm and a molar extinction coefficient of 3.1 × 10 ⁴ .

例示化合物（４２）で示される化合物２．０ｇ（０．００６モル）をテトラハイドロフラン４０ｍｌに撹拌溶解し、不溶物が混ざらないようにろ過した後、ろ液に酢酸ニッケル０．９ｇ（０．００３６モル）／メタノール１３ｍｌ溶液を滴下した。反応液を１時間撹拌し、その後、反応液をナスフラスコに移してエバポレーターで溶媒を留去し、乾固させた。得られた固体は未反応の酢酸ニッケルを取り除くために水６０ｍｌ中に懸濁、撹拌して、ろ過した。ろ過物はイソプロピルエーテルで洗浄し、真空中で加熱乾燥させ、下記構造式［１０］で示される含金属ピリドンアゾ化合物２．１４ｇ（収率９８．２％）を得ることができた（金属錯体化合物（５９）とする。）。この化合物のクロロホルム中のλｍａｘ＝４２５ｎｍ、モル吸光係数は４．０×１０^４であった。 After 2.0 g (0.006 mol) of the compound represented by the exemplified compound (42) is dissolved in 40 ml of tetrahydrofuran by stirring and filtered so as not to mix insoluble matter, 0.9 g (0. A solution of 13 mol) / 13 ml of methanol was added dropwise. The reaction solution was stirred for 1 hour, then, the reaction solution was transferred to an eggplant flask, and the solvent was distilled off with an evaporator to dryness. The resulting solid was suspended in 60 ml of water, stirred and filtered to remove unreacted nickel acetate. The filtrate was washed with isopropyl ether and heat-dried in vacuum to obtain 2.14 g (yield 98.2%) of a metal-containing pyridone azo compound represented by the following structural formula [10] (metal complex compound) (59). This compound had λmax in chloroform of 425 nm and a molar extinction coefficient of 4.0 × 10 ⁴ .

（ｂ）光学記録媒体の評価
前述した金属錯体化合物（５９）（＝構造式［１０］で示される含金属ピリドンアゾ化合物）をオクタフルオロペンタノールに溶解し、１ｗｔ％に調整した。これをろ過して出来た溶解液を直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの射出成形型ポリカーボネート樹脂基板上に滴下し、スピンコート法により塗布し、塗布後１００℃で３０分間乾燥した。この塗布膜の最大吸収波長（λｍａｘ）は４３６．５ｎｍであった。
図３は、金属錯体化合物（５９）の吸収スペクトルである。 (B) Evaluation of optical recording medium The above-mentioned metal complex compound (59) (= metal-containing pyridone azo compound represented by the structural formula [10]) was dissolved in octafluoropentanol and adjusted to 1 wt%. A solution obtained by filtering this was dropped onto an injection-molded polycarbonate resin substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.2 mm, applied by spin coating, and dried at 100 ° C. for 30 minutes after application. The maximum absorption wavelength (λmax) of this coating film was 436.5 nm.
FIG. 3 is an absorption spectrum of the metal complex compound (59).

尚、光学記録媒体は以下のとおり調製した。
この色素を塗布したディスクの切片を、実施例１と同様にして耐光性試験機（株式会社東洋精機製作所製：サンテストＸＬＳ＋）を使用して、Ｘｅランプを６３℃、５５０ｍＷで４０時間照射して耐光性を評価した。
その結果、含金属ピリドンアゾ化合物である金属錯体化合物（５９）の耐光性は５９％であり、波長５００ｎｍ以下に最大吸収波長（λｍａｘ）を有する色素膜としては極めて良好な耐光性を示した。
また、別に金属錯体化合物（５９）を塗布した基板を、実施例１と同様に８５℃、相対湿度８５％の条件下、恒温恒湿漕内に２００時間静置した。その後スペクトルを測定し、保存安定性の評価を行った結果、６８．９％であった。 The optical recording medium was prepared as follows.
Using a light resistance tester (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd .: Suntest XLS +) in the same manner as in Example 1, the section of the disk coated with the dye was irradiated with Xe lamp at 63 ° C. and 550 mW for 40 hours. The light resistance was evaluated.
As a result, the light resistance of the metal complex compound (59), which is a metal-containing pyridone azo compound, was 59%, and it showed very good light resistance as a dye film having a maximum absorption wavelength (λmax) at a wavelength of 500 nm or less.
Moreover, the board | substrate which apply | coated the metal complex compound (59) separately was left still in a constant temperature and humidity chamber for 200 hours on 85 degreeC and 85% of relative humidity conditions similarly to Example 1. FIG. Thereafter, the spectrum was measured, and the storage stability was evaluated. As a result, it was 68.9%.

前述の金属錯体化合物（５９）をテトラフルオロペンタノールに溶解し、０．９ｗｔ％に調整した。これをろ過してできた溶解液をトラックピッチ４００ｎｍ、溝幅２００ｎｍ、溝深さ７０ｎｍの溝を持つ直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの射出成型ポリカーボネート樹脂基板に滴下し、スピンコート法により塗布した。尚、塗布は、回転数６００ｒｐｍから４９００ｒｐｍへ２５秒かけて回転数を上げ、４９００ｒｐｍで５秒間保持して行った。更に１００℃で３０分間乾燥し、記録層とした。次いで、スパッタリング法にて銀合金を１００ｎｍの厚さで成膜し、反射層を形成した。その後、ＵＶ硬化性樹脂からなる保護コート剤をスピンコート法により塗布し、ＵＶ光を照射して厚さ５μｍの保護層を形成させた。更に、遅延硬化型接着剤を用いて、保護層のある面に、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート製基板を接着して、評価用の光学記録媒体を調製した。   The aforementioned metal complex compound (59) was dissolved in tetrafluoropentanol and adjusted to 0.9 wt%. The solution obtained by filtering this was dropped onto an injection-molded polycarbonate resin substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm having a groove with a track pitch of 400 nm, a groove width of 200 nm, and a groove depth of 70 nm, and applied by spin coating. . The coating was performed by increasing the rotation speed from 600 rpm to 4900 rpm over 25 seconds and holding at 4900 rpm for 5 seconds. Further, it was dried at 100 ° C. for 30 minutes to obtain a recording layer. Next, a silver alloy film was formed to a thickness of 100 nm by a sputtering method to form a reflective layer. Thereafter, a protective coating agent made of a UV curable resin was applied by a spin coating method and irradiated with UV light to form a protective layer having a thickness of 5 μm. Furthermore, an optical recording medium for evaluation was prepared by adhering a polycarbonate substrate having a thickness of 0.6 mm to the surface having the protective layer using a delayed curable adhesive.

（ｃ）記録例
前述した評価用の光学記録媒体を線速度６．６１ｍ／ｓｅｃで回転させながら、波長４０５ｎｍ（対物レンズの開口数ＮＡ＝０．６５）のレーザ光で、８Ｔマーク／８Ｔスペースの単一周波数信号を溝上に記録した。尚、Ｔは、周波数６５ＭＨｚに対応する基準クロック周期である。記録パルスストラテジーとして、分割パルス数はマーク長をｎＴとして（ｎ−１）、先頭記録パルス幅２Ｔ、後続記録パルス幅０．７５Ｔ、バイアスパワー２．４ｍＷ、再生パワー０．４ｍＷ、記録パワーを可変とした。その結果、８ｍＷで変調度４２％の信号が記録できた。変調度は、パルスストラテジー等記録条件の最適化によって、より大きくなると考えられる。 (C) Recording Example 8T mark / 8T space with laser light having a wavelength of 405 nm (numerical aperture NA = 0.65) while rotating the optical recording medium for evaluation described above at a linear velocity of 6.61 m / sec. Single frequency signals were recorded on the grooves. Note that T is a reference clock cycle corresponding to a frequency of 65 MHz. As the recording pulse strategy, the number of divided pulses is nT (n-1), the head recording pulse width is 2T, the subsequent recording pulse width is 0.75T, the bias power is 2.4 mW, the reproduction power is 0.4 mW, and the recording power is variable. It was. As a result, a signal with a modulation factor of 42% was recorded at 8 mW. It is considered that the modulation degree becomes larger by optimizing the recording conditions such as the pulse strategy.

（実施例３〜実施例１６）
以下、前記の合成法と同様の方法で、金属錯体化合物（６０）〜金属錯体化合物（７３）を合成し、実施例１と同様にして塗布膜を形成し塗布膜の吸収スペクトルを測定した。これらの化合物の、溶液中（クロロホルム）の最大吸収波長（λｍａｘ）、モル吸光係数、塗布膜の最大吸収波長（λｍａｘ）（但し、塗布溶媒は、オクタフルオロペンタノールを使用した。）を測定した。 (Example 3 to Example 16)
Hereinafter, the metal complex compound (60) to the metal complex compound (73) were synthesized by the same method as the synthesis method described above, a coating film was formed in the same manner as in Example 1, and the absorption spectrum of the coating film was measured. For these compounds, the maximum absorption wavelength (λmax) in solution (chloroform), molar extinction coefficient, and maximum absorption wavelength (λmax) of the coating film (however, octafluoropentanol was used as the coating solvent) were measured. .

（実施例１７）
（ａ）合成例
実施例１と同様の反応条件で、アミンとして下記構造式［１１］で表される２−エトキシエチルアミンを用いて、下記構造式［１２］で表される化合物を得た。 (Example 17)
(A) Synthesis Example A compound represented by the following structural formula [12] was obtained using 2-ethoxyethylamine represented by the following structural formula [11] as an amine under the same reaction conditions as in Example 1.

次に、下記構造式［１３］で示される３−アミノ−５−メチルピラゾール２．５ｇ（０．０２５８ｍｏｌ）を、水７５ｍｌ、濃塩酸１２．５ｇ溶液中に撹拌溶解させ、０℃〜５℃に冷却した。ここに亜硝酸ナトリウム１．９６ｇ／水６ｍｌ溶液を１０℃以下を保つように滴下してジアゾ化した。   Next, 2.5 g (0.0258 mol) of 3-amino-5-methylpyrazole represented by the following structural formula [13] is dissolved by stirring in a solution of 75 ml of water and 12.5 g of concentrated hydrochloric acid. Cooled to. A solution of 1.96 g of sodium nitrite / 6 ml of water was added dropwise so as to keep the temperature at 10 ° C. or lower to diazotize.

一方、別の容器に前述した構造式［１２］で表される化合物５．２１ｇ（０．０２３５ｍｏｌ）と、尿素１．０ｇとをメタノール１００ｍｌに撹拌溶解させ、０〜５℃に冷却した。この溶液に先ほどのジアゾ液を０℃以下で滴下した。滴下終了後、３０分撹拌を行い、反応液を濾過した。濾過物は無機塩を除くために水５００ｍｌに懸濁させ、３０分程度撹拌、ろ過した。これを真空中で加熱乾燥させ、下記構造式［１４］で示される化合物６．４８ｇ（収率８３％）を得た。この化合物は、クロロホルム溶液中のλｍａｘ＝４２３．５ｎｍ、モル吸光係数は３．７×１０^４であった。 On the other hand, 5.21 g (0.0235 mol) of the compound represented by the structural formula [12] described above and 1.0 g of urea were stirred and dissolved in 100 ml of methanol in another container and cooled to 0 to 5 ° C. The diazo solution was dropped at 0 ° C. or lower to this solution. After completion of dropping, the mixture was stirred for 30 minutes and the reaction solution was filtered. The filtered product was suspended in 500 ml of water to remove inorganic salts, and stirred and filtered for about 30 minutes. This was heat-dried in vacuum to obtain 6.48 g (yield 83%) of a compound represented by the following structural formula [14]. This compound had λmax = 423.5 nm in a chloroform solution and a molar extinction coefficient of 3.7 × 10 ⁴ .

続いて、前述した構造式［１４］で示される化合物１ｇ（０．００３ｍｏｌ）をＴＨＦ４０ｍｌに溶解させ、反応容器を氷浴で冷却した。ここに水素化ナトリウム（油性、６０％品）０．１５ｇ（０．００３６ｍｏｌ）と、下記構造式［１５］で表されるｐ−トルエンスルホン酸−ｎ−プロピル１．３ｇ（０．００６ｍｏｌ）を加え、７０℃に昇温して４時間半撹拌、その後さらに水素化ナトリウム０．３ｇ、ｐ−トルエンスルホン酸−ｎ−プロピル２．６ｇを加え２時間反応させ、冷却した。反応液は水中に放出し、ｐＨを中性に調節した後、ろ過を行った。   Subsequently, 1 g (0.003 mol) of the compound represented by the structural formula [14] described above was dissolved in 40 ml of THF, and the reaction vessel was cooled in an ice bath. Here, 0.15 g (0.0036 mol) of sodium hydride (oil-based, 60% product) and 1.3 g (0.006 mol) of p-toluenesulfonic acid-n-propyl represented by the following structural formula [15] In addition, the temperature was raised to 70 ° C. and stirred for 4 and a half hours. Thereafter, 0.3 g of sodium hydride and 2.6 g of p-toluenesulfonic acid-n-propyl were added and reacted for 2 hours, followed by cooling. The reaction solution was released into water and the pH was adjusted to neutral, followed by filtration.

得られた固体は半油状であり、これをＴＨＦに溶解させてエバポレーターで溶媒を留去したところ固形物が得られ、これをイソプロピルエーテルで洗浄、ろ過し、固体を真空中で乾燥させ、例示化合物（５５）として示したピリドンアゾ化合物０．７９ｇ（収率６３％）が得られた。
この例示化合物（５５）として示したピリドンアゾ化合物は、クロロホルム溶液中のλｍａｘ＝４３７ｎｍ、モル吸光係数は４．４×１０^４であった。
得られた例示化合物（５５）として示したピリドンアゾ化合物は、実施例１と同様の方法でニッケル錯体を合成し、下記化合物［１６］（金属錯体化合物（７４）とする）を得た。この金属錯体化合物（７４）は、クロロホルム溶液中のλｍａｘ＝４６６ｎｍ、４９２ｎｍ、モル吸光係数は８．５×１０^４、８．５×１０^４であった。 The obtained solid was semi-oily, and it was dissolved in THF and the solvent was distilled off with an evaporator to obtain a solid, which was washed with isopropyl ether, filtered, and the solid was dried in vacuum. 0.79 g (yield 63%) of the pyridone azo compound shown as the compound (55) was obtained.
The pyridone azo compound shown as this exemplary compound (55) had a λmax = 437 nm in a chloroform solution and a molar extinction coefficient of 4.4 × 10 ⁴ .
The pyridone azo compound shown as the obtained exemplary compound (55) was synthesized with a nickel complex in the same manner as in Example 1 to obtain the following compound [16] (referred to as metal complex compound (74)). The metal complex compound (74), .lambda.max = 466 nm of the chloroform solution, 492 nm, molar absorption coefficient of 8.5 × ¹⁰ 4, was 8.5 × 10 ^4.

（ｂ）光学記録媒体の評価
金属錯体化合物（７４）をオクタフルオロペンタノールに溶解し、１ｗｔ％に調整した。これを濾過して出来た溶解液を直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの射出成形型ポリカーボネート樹脂基板上に滴下し、スピンコート法により塗布（５００ｒｐｍ）し、塗布後１００℃で３０分間乾燥した。この塗布膜の最大吸収波長（λｍａｘ）は４６９．５、５００ｎｍであった。
また、図４は、金属錯体化合物（７４）の塗布膜の吸収スペクトルである。図４に示したように、金属錯体化合物（７４）は、実施例１における金属錯体化合物（５８）と比べて、より長波長側にλｍａｘがあるが、４０５ｎｍにもある程度の吸収があり、光学記録媒体用の色素として使用できることが分かる。 (B) Evaluation of optical recording medium The metal complex compound (74) was dissolved in octafluoropentanol and adjusted to 1 wt%. A solution obtained by filtering this was dropped onto an injection-molded polycarbonate resin substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm, applied by spin coating (500 rpm), and dried at 100 ° C. for 30 minutes after coating. The maximum absorption wavelength (λmax) of this coating film was 469.5 and 500 nm.
FIG. 4 is an absorption spectrum of the coating film of the metal complex compound (74). As shown in FIG. 4, the metal complex compound (74) has λmax on the longer wavelength side as compared with the metal complex compound (58) in Example 1, but has some absorption at 405 nm, and optical It can be seen that it can be used as a dye for recording media.

（実施例１８）
（ａ）合成例
実施例１と同様の反応条件で、アミンとして下記構造式［１７］で表されるｎ−ヘキシルアミンを用いて、下記構造式［１８］で表される化合物を得た。 (Example 18)
(A) Synthesis Example Under the same reaction conditions as in Example 1, a compound represented by the following structural formula [18] was obtained using n-hexylamine represented by the following structural formula [17] as an amine.

次に、下記構造式［１９］で示される３−アミノ−５−トリフルオロメチル−１，２，４（Ｈ）−トリアゾール６．０８ｇ（０．０４ｍｏｌ）を、酢酸１５ｍｌ、プロピオン酸５ｍｌ、濃硫酸４ｍｌ中に溶解させ、０℃〜５℃に冷却した。ここにニトロシル硫酸１４ｇを１０℃以下を保つように滴下してジアゾ化してジアゾ液を調製した。   Next, 6.08 g (0.04 mol) of 3-amino-5-trifluoromethyl-1,2,4 (H) -triazole represented by the following structural formula [19] was added to 15 ml of acetic acid, 5 ml of propionic acid, It was dissolved in 4 ml of sulfuric acid and cooled to 0 ° C to 5 ° C. A diazo solution was prepared by adding 14 g of nitrosylsulfuric acid dropwise thereto so as to maintain the temperature at 10 ° C. or less and diazotizing.

一方、別の容器に前述した構造式［１８］で表される化合物１０．５ｇ（０．０４５ｍｏｌ）と、尿素１．５ｇ及び酢酸ナトリウム１５ｇとを、メタノール１００ｍｌ＋水１０ｍｌに撹拌溶解させ、０℃〜５℃に冷却した。この溶液に、前述したジアゾ液を５℃以下で滴下した。滴下終了後、３０分撹拌を行い、反応液を濾過した。濾過物は無機塩を除くために水６００ｍｌに懸濁させ、３０分程度撹拌、ろ過した。さらにろ過物をメタノール２００ｍｌに懸濁させ撹拌、ろ過し、これを真空中で加熱乾燥させ、下記構造式［２０］で示される化合物７．８４ｇ（収率４９％）を得た。この化合物は、クロロホルム溶液中のλｍａｘ＝３９１．５ｎｍ、モル吸光係数は３．０×１０^４であった。 On the other hand, 10.5 g (0.045 mol) of the compound represented by the structural formula [18] described above, 1.5 g of urea and 15 g of sodium acetate are stirred and dissolved in 100 ml of methanol + 10 ml of water in another container, Cooled to ~ 5 ° C. The diazo liquid mentioned above was dripped at this solution at 5 degrees C or less. After completion of dropping, the mixture was stirred for 30 minutes and the reaction solution was filtered. The filtered product was suspended in 600 ml of water to remove inorganic salts, and stirred and filtered for about 30 minutes. Further, the filtrate was suspended in 200 ml of methanol, stirred and filtered, and then heated and dried in vacuum to obtain 7.84 g (yield 49%) of a compound represented by the following structural formula [20]. This compound had λmax = 391.5 nm in a chloroform solution and a molar extinction coefficient of 3.0 × 10 ⁴ .

前述した構造式［２０］で表される化合物２ｇ（０．００５ｍｏｌ）と、炭酸カリウム１．４ｇとを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン２０ｍｌに懸濁溶解させ、９０℃に加熱した。ここに１−ブロモブタン２．１ｇ（０．０１５ｍｏｌ）を加え、１時間加熱した。その後、反応液を冷却し、水中に放出し、析出した固体を濾別し、メタノールで懸濁させ撹拌、ろ過をして得られた固体を真空中で乾燥させ、例示化合物（５６）として示したピリドンアゾ化合物１．３１ｇ（収率５８％）を得た。このピリドンアゾ化合物は、クロロホルム中のλｍａｘ＝４８０ｎｍ、モル吸光係数は２．７×１０^４であった。
得られた例示化合物（５６）として示したピリドンアゾ化合物は、実施例１と同様の方法でニッケル錯体を合成し、下記構造式［２１］で表される化合物（金属錯体化合物（７５）とする）を得た。この金属錯体化合物（７５）は、クロロホルム溶液中のλｍａｘ＝４６３、４９１．５ｎｍ、モル吸光係数は８．２×１０^４、８．０×１０^４であった。 2 g (0.005 mol) of the compound represented by the structural formula [20] and 1.4 g of potassium carbonate were suspended and dissolved in 20 ml of N-methyl-2-pyrrolidone and heated to 90 ° C. To this, 2.1 g (0.015 mol) of 1-bromobutane was added and heated for 1 hour. Thereafter, the reaction solution is cooled, released into water, the precipitated solid is filtered off, suspended in methanol, stirred, filtered, and the solid obtained by drying in vacuo is shown as the exemplified compound (56). 1.31 g (yield 58%) of the pyridone azo compound was obtained. This pyridoneazo compound had λmax = 480 nm in chloroform and a molar extinction coefficient of 2.7 × 10 ⁴ .
The pyridone azo compound shown as the obtained exemplary compound (56) was synthesized with a nickel complex in the same manner as in Example 1, and represented by the following structural formula [21] (referred to as metal complex compound (75)). Got. This metal complex compound (75) had λmax = 463, 491.5 nm and a molar extinction coefficient of 8.2 × 10 ⁴ and 8.0 × 10 ⁴ in a chloroform solution.

（ｂ）光学記録媒体の評価
金属錯体化合物（７５）をオクタフルオロペンタノールに溶解し、１ｗｔ％に調整した。これを濾過して出来た溶解液を直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの射出成形型ポリカーボネート樹脂基板上に滴下し、スピンコート法により塗布（５００ｒｐｍ）し、塗布後１００℃で３０分間乾燥した。この塗布膜の最大吸収波長（λｍａｘ）は４６９．５、５００ｎｍであった。
図５は、金属錯体化合物（７５）の塗布膜の吸収スペクトルである。図５に示したように、実施例１における金属錯体化合物（５８）と比べ、長波長側にλｍａｘがあるが、４０５ｎｍにもある程度の吸収があり、光学記録媒体用の色素として使用できることが分かる。 (B) Evaluation of optical recording medium The metal complex compound (75) was dissolved in octafluoropentanol and adjusted to 1 wt%. A solution obtained by filtering this was dropped onto an injection-molded polycarbonate resin substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm, applied by spin coating (500 rpm), and dried at 100 ° C. for 30 minutes after coating. The maximum absorption wavelength (λmax) of this coating film was 469.5 and 500 nm.
FIG. 5 is an absorption spectrum of the coating film of the metal complex compound (75). As shown in FIG. 5, compared with the metal complex compound (58) in Example 1, there is λmax on the long wavelength side, but there is some absorption at 405 nm, and it can be seen that it can be used as a dye for optical recording media. .

また、このように形成した塗布膜上に、必要に応じてスパッタリング法にてＡｇ等を成膜して反射層を形成し、さらに紫外線硬化樹脂をスピンコート等にて塗布・ＵＶ照射により硬化させて保護層を形成し、光学記録媒体とすることができる。
この光学記録媒体は、塗布膜のλｍａｘの値より、例えば、中心波長４０５ｎｍの半導体レーザ光による記録再生が可能である。即ち、２価の遷移金属と一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で示されるピリドンアゾ化合物とからなる含金属ピリドンアゾ化合物が、青色レーザ光の記録に対して、有効な構造の化合物であることが分かる。 Further, on the coating film thus formed, Ag or the like is formed by sputtering as necessary to form a reflective layer, and an ultraviolet curable resin is applied by spin coating or the like and cured by UV irradiation. Thus, a protective layer can be formed to obtain an optical recording medium.
This optical recording medium can be recorded and reproduced by a semiconductor laser beam having a center wavelength of 405 nm, for example, from the value of λmax of the coating film. That is, a metal-containing pyridone azo compound composed of a divalent transition metal and a pyridone azo compound represented by the general formulas [I] to [III] is a compound having an effective structure for blue laser light recording. I understand.

（実施例１９）
実施例１の合成法と同様の方法で、前述した例示化合物（５７）として示したピリドンアゾ化合物を用いて金属錯体化合物（７６）を合成し、実施例１と同様にして、溶液中（クロロホルム）の最大吸収波長（λｍａｘ）、モル吸光係数、塗布膜の最大吸収波長（λｍａｘ）（但し、塗布溶媒は、オクタフルオロペンタノールを使用した。）を測定した。 (Example 19)
A metal complex compound (76) was synthesized using the pyridone azo compound shown as the exemplified compound (57) described above in the same manner as the synthesis method of Example 1, and in solution (chloroform) in the same manner as in Example 1. The maximum absorption wavelength (λmax), the molar absorption coefficient, and the maximum absorption wavelength (λmax) of the coating film (however, octafluoropentanol was used as the coating solvent) were measured.

尚、実施例１〜実施例１９において調製した金属錯体化合物の、溶液中（クロロホルム）の最大吸収波長（λｍａｘ）、モル吸光係数、塗布膜の最大吸収波長（λｍａｘ）（但し、塗布溶媒は、オクタフルオロペンタノールを使用した。）の測定結果を表１に示す。   In addition, the maximum absorption wavelength (λmax) of the metal complex compound prepared in Example 1 to Example 19 in solution (chloroform), molar extinction coefficient, maximum absorption wavelength of coating film (λmax) (however, the coating solvent is Table 1 shows the measurement results of octafluoropentanol.

（比較例１）
比較のため、下記に示される化合物［１３］を合成し、光学記録媒体としての評価を行った。
（ａ）製造例
下記構造式で示される２−アミノ−６−メチルベンゾチアゾール（株式会社東京化成製）（以下、化合物［１１］）を類似の方法でジアゾ化し、実施例１と同様の条件で、カップリングして合成した化合物［１２］は、クロロホルム中でのλｍａｘは４５３．５ｎｍ、モル吸光係数は３．２×１０^４であった。
さらに、化合物［１２］を酢酸ニッケルで含金化した下記構造式［１３］で表される含金属ピリドンアゾ化合物は、クロロホルム溶液中のλｍａｘは５２４ｎｍ、モル吸光係数は７．４×１０^４であった。 (Comparative Example 1)
For comparison, the compound [13] shown below was synthesized and evaluated as an optical recording medium.
(A) Production Example 2-Amino-6-methylbenzothiazole (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) (hereinafter referred to as Compound [11]) represented by the following structural formula was diazotized by a similar method, and the same conditions as in Example 1 The compound [12] synthesized by coupling had a λmax in chloroform of 453.5 nm and a molar extinction coefficient of 3.2 × 10 ⁴ in chloroform.
Furthermore, metal-containing pyridone azo compound represented compound [12] by the following structural formula was auriferous reduction with nickel acetate [13], .lambda.max chloroform solution 524 nm, the molar absorption coefficient met 7.4 × 10 ⁴ It was.

（ｂ）光学記録媒体例
前述した構造式［１３］で表される含金属ピリドンアゾ化合物をオクタフルオロペンタノールに溶解し、１ｗｔ％に調整したが、溶解性が低く半分ほどの不溶物があった。これをろ過し、得られた溶解液を直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの射出成形型ポリカーボネート樹脂基板上に滴下し、スピンコート法により塗布（５００ｒｐｍ）し、塗布後１００℃で３０分間乾燥した。この塗布膜の最大吸収波長（λｍａｘ）は５４２．５ｎｍであった。しかし、波長４０５ｎｍには吸収がわずかしかなく、中心波長４０５ｎｍのレーザ光に対して記録が期待できないことが分かる。
尚、図６は、構造式［１３］で表される含金属ピリドンアゾ化合物の塗布膜の吸収スペクトルである。図６に示した結果から、構造式［１３］で表される含金属ピリドンアゾ化合物は、含金属ピリドンアゾ化合物であっても、ジアゾ成分として、イソキサゾール、１、２、４−トリアゾールまたはピラゾールを選択しない場合は、青色レーザ光の記録に対して、不十分な色素化合物であることが分かる。 (B) Example of optical recording medium The metal-containing pyridone azo compound represented by the structural formula [13] described above was dissolved in octafluoropentanol and adjusted to 1 wt%, but the solubility was low and there was about half insoluble matter. . This was filtered, and the resulting solution was dropped onto an injection-molded polycarbonate resin substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm, applied by spin coating (500 rpm), and dried at 100 ° C. for 30 minutes after coating. . The maximum absorption wavelength (λmax) of this coating film was 542.5 nm. However, it can be seen that there is little absorption at the wavelength of 405 nm, and recording cannot be expected with respect to the laser beam having the center wavelength of 405 nm.
FIG. 6 is an absorption spectrum of the coating film of the metal-containing pyridone azo compound represented by the structural formula [13]. From the results shown in FIG. 6, the metal-containing pyridone azo compound represented by the structural formula [13] does not select isoxazole, 1,2,4-triazole or pyrazole as the diazo component even if it is a metal-containing pyridone azo compound. In this case, it can be seen that the dye compound is insufficient for blue laser light recording.

（比較例２）
比較のため、下記に示される構造式［１５］で表される含金属ピリドンアゾ化合物を合成し、光学記録媒体としての評価を行った。
（ａ）製造例
２−アミノ−５−メチル−１、３、４−チアジアゾール（株式会社東京化成製）を類似の方法でジアゾ化し、実施例１と同様の条件で、カップリングして合成した下記化合物［１４］は、クロロホルム中でのλｍａｘは４０９．５ｎｍ、モル吸光係数は３．０×１０^４であった。 (Comparative Example 2)
For comparison, a metal-containing pyridone azo compound represented by the structural formula [15] shown below was synthesized and evaluated as an optical recording medium.
(A) Production Example 2-Amino-5-methyl-1,3,4-thiadiazole (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was diazotized by a similar method and synthesized by coupling under the same conditions as in Example 1. The following compound [14] had a λmax in chloroform of 409.5 nm and a molar extinction coefficient of 3.0 × 10 ⁴ in chloroform.

化合物［１４］を同様に酢酸ニッケルで含金化した構造式［１５］で表される含金属ピリドンアゾ化合物は、クロロホルム溶液中のλｍａｘは４９４ｎｍ、モル吸光係数は７．１×１０^４であった。
図７は、構造式［１５］で表される含金属ピリドンアゾ化合物の吸収スペクトルである。図７に示した結果から、構造式［１５］で表される含金属ピリドンアゾ化合物は、波長４０５ｎｍ付近は吸収の末端にあたり、記録特性があまり期待できないことが分かる。 Similarly, the metal-containing pyridone azo compound represented by the structural formula [15] obtained by metallizing the compound [14] with nickel acetate had a λmax in a chloroform solution of 494 nm and a molar extinction coefficient of 7.1 × 10 ⁴ . .
FIG. 7 is an absorption spectrum of the metal-containing pyridone azo compound represented by the structural formula [15]. From the results shown in FIG. 7, it can be seen that the metal-containing pyridone azo compound represented by the structural formula [15] is at the end of absorption near the wavelength of 405 nm, and the recording characteristics cannot be expected so much.

（ｂ）光学記録媒体例
構造式［１５］で表される含金属ピリドンアゾ化合物をオクタフルオロペンタノールに溶解し、１ｗｔ％に調整したが、溶解性が低くほとんど溶解しなかった。これをろ過し、得られた溶解液を直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの射出成形型ポリカーボネート樹脂基板上に滴下し、スピンコート法により塗布（５００ｒｐｍ）し、塗布後１００℃で３０分間乾燥した。しかし、溶解性が低いため塗布膜の吸収スペクトルは得られなかった。 (B) Example of optical recording medium Although the metal-containing pyridone azo compound represented by the structural formula [15] was dissolved in octafluoropentanol and adjusted to 1 wt%, the solubility was low and hardly dissolved. This was filtered, and the resulting solution was dropped onto an injection-molded polycarbonate resin substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm, applied by spin coating (500 rpm), and dried at 100 ° C. for 30 minutes after coating. . However, the absorption spectrum of the coating film could not be obtained due to low solubility.

（比較例３）
比較のため、下記構造式［１６］で表される含金属アゾ錯体化合物を合成し、光学記録媒体としての評価を行った。
（ａ）製造例
前述した特許文献２（特開平９−２７７７０３号公報）を参考に、ｍ−Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリンを原料に合成された下記構造式［１６］で表される化合物は、クロロホルム溶液中でのλｍａｘは５５２．５ｎｍ、５１６ｎｍの２つの吸収ピークがあり、それぞれ、モル吸光係数は、１．１×１０^５、８．６×１０^４であった。
図８は、構造式［１６］で表される含金属アゾ錯体化合物のクロロホルム溶液中の吸収スペクトルである。 (Comparative Example 3)
For comparison, a metal-containing azo complex compound represented by the following structural formula [16] was synthesized and evaluated as an optical recording medium.
(A) Production Example A compound represented by the following structural formula [16] synthesized from m-N, N-diethylaniline as a raw material with reference to Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 9-277703) described above, In the chloroform solution, λmax had two absorption peaks of 552.5 nm and 516 nm, and the molar extinction coefficients were 1.1 × 10 ⁵ and 8.6 × 10 ⁴ , respectively.
FIG. 8 is an absorption spectrum of the metal-containing azo complex compound represented by the structural formula [16] in a chloroform solution.

（ｂ）光学記録媒体例
前述した構造式［１６］で表される含金属アゾ錯体化合物をオクタフルオロペンタノールに溶解し、１ｗｔ％に調整した。これをろ過して得られた溶解液を、直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの射出成形型ポリカーボネート樹脂基板上に滴下し、スピンコート法により塗布（５００ｒｐｍ）し、塗布後１００℃で３０分間乾燥した。この塗布膜の最大吸収波長（λｍａｘ）は５６５．５ｎｍ、５２４．５ｎｍであった。
構造式［１６］で表される含金属アゾ錯体化合物の吸収スペクトルから、ジアゾ成分としてイソキサゾールを有する構造であっても、波長４０５ｎｍ付近の吸収がほとんどないことが分かる。
この結果、構造式［１６］で表される含金属アゾ錯体化合物は、イソキサゾールをジアゾ成分に有する含金属アゾ錯体化合物であっても、カップラー成分としてピリドン骨格を持たないものは、青色レーザ光の記録に対して、不十分な色素化合物であることが分かる。 (B) Optical Recording Medium Example The metal-containing azo complex compound represented by the structural formula [16] described above was dissolved in octafluoropentanol and adjusted to 1 wt%. The solution obtained by filtration is dropped onto an injection-molded polycarbonate resin substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 0.6 mm, applied by spin coating (500 rpm), and dried at 100 ° C. for 30 minutes after coating. did. The maximum absorption wavelength (λmax) of this coating film was 565.5 nm and 524.5 nm.
From the absorption spectrum of the metal-containing azo complex compound represented by the structural formula [16], it can be seen that even a structure having isoxazole as a diazo component has almost no absorption near a wavelength of 405 nm.
As a result, even when the metal-containing azo complex compound represented by the structural formula [16] is a metal-containing azo complex compound having isoxazole as a diazo component, those having no pyridone skeleton as a coupler component It can be seen that the dye compound is insufficient for recording.

（実施例２０〜実施例２７）
実施例１の合成法と同様の方法で、例示化合物（５７）と、以下の例示化合物（５８）〜例示化合物（６３）として示したピリドンアゾ化合物を用いて金属錯体化合物（７７）〜金属錯体化合物（８４）を合成し、実施例１と同様にして、溶液中（クロロホルム）の最大吸収波長（λｍａｘ）、モル吸光係数、塗布膜の最大吸収波長（λｍａｘ）（但し、塗布溶媒は、オクタフルオロペンタノールを使用した。）を測定した。その測定結果を表１に示す。
耐光性、すなわち色素保持率（表１のＩ／Ｉ_０（％））は、本発明の記載する短波長域での記録再生においては、従来知られているかかる短波長記録再生用の有機色素が１０％未満であることを鑑みると、耐光性、即ち前記色素保持率が６０％以上あれば、極めて良好であるということができる。
そのような評価基準からすれば、表１に記載する金属錯体化合物は極めて良好であるといえる。その中で、実施例２３、実施例２６、実施例２７は従来知られている色素よりは耐光性が良好で、十分実用可能な良い耐光性を示す化合物である。しかしながらしいていえば、表１のその他の金属錯体化合物よりはやや悪い傾向が見られる。
即ち、実施例２３（耐光性１９．０％）は実施例１（耐光性６３．２％）と比べると、前述のように、一般式［Ｉ］のＲ_１が無置換のアミノ基（―ＮＨ_２）があまり良くないことが示唆される。とはいえ、実施例２３としても、従来のものよりは十分良好なレベルであり、置換基Ｒ_２〜Ｒ_５との組み合わせにより、溶解性を向上させ耐光性を改善することは可能である。
また、実施例２６（耐光性１４．５％）、実施例２７（耐光性４２．３％）は実施例２５（耐光性６７．５％）と比較するとわかるように、一般式［ＩＩＩ］のＲ_１０として水素原子とする場合に、耐光性が劣化することが示唆される。さらに、実施例２６と実施例２７、及び、実施例２５（耐光性６７．５％）と実施例１７（耐光性８９％）とを比べると、一般式［ＩＩＩ］のＲ_１が水素原子であり、かつ、Ｒ_３がカルボン酸エステルとする組み合わせは、耐光性を劣化させる可能性があることがわかる。また、表１中の銅錯体（実施例２２）は、表１の他の金属錯体化合物よりはやや悪い傾向があることがわかるが、いずれにせよ、従来知られている青色レーザーなどの短波長用有機色素に比べれば、極めて良好な化合物であるといえる。 (Example 20 to Example 27)
In the same manner as in the synthesis method of Example 1, the metal complex compound (77) to the metal complex compound were prepared using the compound (57) and the pyridone azo compounds shown as the following compound (58) to compound (63). (84) was synthesized, and in the same manner as in Example 1, the maximum absorption wavelength (λmax) of the solution (chloroform), the molar extinction coefficient, the maximum absorption wavelength of the coating film (λmax) (however, the coating solvent was octafluoro Pentanol was used.). The measurement results are shown in Table 1.
Light resistance, that is, dye retention (I / I ₀ (%) in Table 1) is a conventionally known organic dye for recording and reproducing short wavelengths in the recording and reproducing in the short wavelength region described in the present invention. Is less than 10%, it can be said that if the light resistance, that is, the dye retention is 60% or more, it is very good.
Based on such evaluation criteria, it can be said that the metal complex compounds shown in Table 1 are extremely good. Among them, Example 23, Example 26, and Example 27 are compounds that have better light resistance than conventionally known dyes and exhibit good light resistance that is sufficiently practical. However, the tendency is somewhat worse than the other metal complex compounds in Table 1.
That is, as compared with Example 23 (light stability 19.0%) Example 1 (light stability 63.2%), as described above, _{R 1} of the general formula [I] is an unsubstituted amino group (- This suggests that NH ₂ ) is not very good. Nevertheless, even in Example 23, the level is sufficiently better than that of the conventional one, and it is possible to improve the solubility and improve the light resistance by the combination with the substituents R _{2 to} R ₅ .
Further, Example 26 (light resistance 14.5%) and Example 27 (light resistance 42.3%) are compared with Example 25 (light resistance 67.5%). It is suggested that when R ₁₀ is a hydrogen atom, the light resistance deteriorates. Further, when Example 26, Example 27, and Example 25 (light resistance 67.5%) are compared with Example 17 (light resistance 89%), R _{1 in the} general formula [III] is a hydrogen atom. In addition, it can be seen that the combination in which R ₃ is a carboxylic acid ester may deteriorate the light resistance. Moreover, although it turns out that the copper complex (Example 22) in Table 1 tends to be a little worse than the other metal complex compound of Table 1, in any case, it is short wavelength, such as a blue laser known conventionally. It can be said that it is a very good compound as compared with organic dyes for use.

尚、本出願は、２００５年３月２９日付きで出願された日本出願（特願２００５−９５９０５号）に基づいており、その全体が引用により援用される。   In addition, this application is based on the Japanese application (Japanese Patent Application No. 2005-95905) for which it applied on March 29, 2005, The whole is used by reference.

本実施の形態が適用される光学記録媒体を説明する図である。図１（ａ）は、第１の実施の形態であり、図１（ｂ）は、第２の実施の形態である。It is a figure explaining the optical recording medium with which this Embodiment is applied. FIG. 1 (a) is a first embodiment, and FIG. 1 (b) is a second embodiment. 金属錯体化合物（５８）（実施例１）の塗布膜の吸収スペクトルである。It is an absorption spectrum of the coating film of a metal complex compound (58) (Example 1). 金属錯体化合物（５９）（実施例２）の塗布膜の吸収スペクトルである。It is an absorption spectrum of the coating film of a metal complex compound (59) (Example 2). 金属錯体化合物（７４）（実施例１７）の塗布膜の吸収スペクトルである。It is an absorption spectrum of the coating film of a metal complex compound (74) (Example 17). 金属錯体化合物（７５）（実施例１８）の塗布膜の吸収スペクトルである。It is an absorption spectrum of the coating film of a metal complex compound (75) (Example 18). 構造式［１３］で表される含金属ピリドンアゾ化合物（比較例１）の塗布膜の吸収スペクトルである。It is an absorption spectrum of the coating film of the metal-containing pyridone azo compound (Comparative Example 1) represented by Structural Formula [13]. 構造式［１５］で表される含金属ピリドンアゾ化合物（比較例２）のクロロホルム溶液中の吸収スペクトルである。It is an absorption spectrum in a chloroform solution of a metal-containing pyridone azo compound (Comparative Example 2) represented by Structural Formula [15]. 構造式［１６］で表される含金属アゾ錯体化合物（比較例３）のクロロホルム溶液中の吸収スペクトルである。It is an absorption spectrum in a chloroform solution of a metal-containing azo complex compound (Comparative Example 3) represented by Structural Formula [16].

符号の説明Explanation of symbols

１…基板、２…記録層、３…反射層、４…保護層、５…保護被膜、１０，２０…光学記録媒体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate, 2 ... Recording layer, 3 ... Reflective layer, 4 ... Protective layer, 5 ... Protective film, 10, 20 ... Optical recording medium

Claims (11)

基板と、
前記基板上に直接又は他の層を介して設けられ、波長が３５０ｎｍ以上５３０ｎｍ以下のレーザ光が照射されることにより情報の記録及び／又は再生が可能な記録層と、を有し、
前記記録層は、
下記一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で示されるピリドンアゾ化合物と、
前記ピリドンアゾ化合物が配位する金属イオンと、から構成される金属錯体化合物を含有することを特徴とする光学記録媒体。

（一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］中、Ｒ _１ 〜Ｒ _１０ は、それぞれ独立に、水素原子または１価の官能基である。） A substrate,
A recording layer provided on the substrate directly or via another layer and capable of recording and / or reproducing information by irradiation with a laser beam having a wavelength of 350 nm or more and 530 nm or less;
The recording layer is
A pyridone azo compound represented by the following general formula [I] to general formula [III] ;
An optical recording medium comprising a metal complex compound composed of a metal ion coordinated with the pyridone azo compound .

(In general formula [I] to general formula [III], R _{1 to} R ₁₀ are each independently a hydrogen atom or a monovalent functional group.) 前記一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］における前記Ｒ_１〜Ｒ_１０は、
Ｒ_１は、
水素原子、直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキル基、ヒドロキシル基、直鎖または分岐のアルコキシ基、飽和または不飽和の複素環基、アリール基、アラルキル基、アシル基、アミノ基、アシルアミノ基から選ばれるいずれか１種を表わし、
Ｒ_２〜Ｒ_５、Ｒ_７〜Ｒ_９は、
水素原子、炭素数１〜炭素数１８の直鎖又は分岐のアルキル基、炭素数３〜炭素数１８の環状アルキル基、炭素数２〜炭素数１８の直鎖又は分岐のアルケニル基、飽和または不飽和の複素環基、炭素数６〜炭素数１８のアリール基、炭素数７〜炭素数２０のアラルキル基、炭素数１〜炭素数１８の直鎖又は分岐のアルコキシ基、炭素数１〜炭素数１８の直鎖又は分岐のアルキルチオ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、ヒドロキシ基、ホルミル基、アシル基、アミノ基、アシルアミノ基、カーバメート基、カルボン酸エステル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、スルファモイル基、スルホン酸エステル基、スルホンアミド基から選ばれるいずれか１種を表わし、
Ｒ_６、Ｒ_１０は、
水素原子、直鎖または分岐のアルキル基、環状アルキル基、アシル基から選ばれるいずれか１種を表すことを特徴とする請求項１記載の光学記録媒体。 In the general formulas [I] to [III], R _{1 to} R ₁₀ are
R ₁ is
From hydrogen atom, linear or branched alkyl group, cyclic alkyl group, hydroxyl group, linear or branched alkoxy group, saturated or unsaturated heterocyclic group, aryl group, aralkyl group, acyl group, amino group, acylamino group Represents any one selected,
R _{2 to} R ₅ , R _{7 to} R ₉ are
A hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 18 carbon atoms, a linear or branched alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, saturated or A saturated heterocyclic group, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, and 1 to carbon atoms 18 linear or branched alkylthio groups, halogen atoms, nitro groups, cyano groups, mercapto groups, hydroxy groups, formyl groups, acyl groups, amino groups, acylamino groups, carbamate groups, carboxylic acid ester groups, acyloxy groups, carbamoyl groups , A sulfonyl group, a sulfinyl group, a sulfamoyl group, a sulfonic acid ester group, and a sulfonamide group,
R ₆ and R ₁₀ are
Hydrogen atom, straight or branched alkyl group, an optical recording medium according to claim 1, wherein the indicating any one selected cyclic alkyl group, an acyl group. 前記金属イオンは、周期表の３族〜１２族から選ばれる２価の金属のイオンであることを特徴とする請求項１記載の光学記録媒体。   2. The optical recording medium according to claim 1, wherein the metal ion is a divalent metal ion selected from Groups 3 to 12 of the periodic table. 前記金属イオンは、ニッケル、コバルト、鉄、亜鉛、銅、マンガンから選ばれる少なくとも１種の金属のイオンであることを特徴とする請求項１記載の光学記録媒体。   The optical recording medium according to claim 1, wherein the metal ion is an ion of at least one metal selected from nickel, cobalt, iron, zinc, copper, and manganese. 前記光は、波長が３８５ｎｍ〜４１０ｎｍのレーザ光であることを特徴とする請求項１記載の光学記録媒体。   The optical recording medium according to claim 1, wherein the light is laser light having a wavelength of 385 nm to 410 nm. 有機色素を含有する記録層を備える光学記録媒体であって、
前記有機色素は、
下記一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］で示されるピリドンアゾ化合物と、
前記ピリドンアゾ化合物が配位し、周期表の３族〜１２族から選ばれる２価の金属のイオンと、からなる金属錯体化合物を含有することを特徴とする光学記録媒体。

（一般式［Ｉ］〜一般式［ＩＩＩ］中、Ｒ_１〜Ｒ_１０は、それぞれ独立に、水素原子または１価の官能基である。） An optical recording medium comprising a recording layer containing an organic dye,
The organic dye is
A pyridone azo compound represented by the following general formula [I] to general formula [III];
An optical recording medium comprising a metal complex compound in which the pyridone azo compound is coordinated and a divalent metal ion selected from Group 3 to Group 12 of the periodic table.

(In general formula [I] to general formula [III], R _{1 to} R ₁₀ are each independently a hydrogen atom or a monovalent functional group.) 前記ピリドンアゾ化合物は、分子量が１０００以下であることを特徴とする請求項１または６記載の光学記録媒体。 The pyridone azo compound, an optical recording medium according to claim 1 or 6, wherein the molecular weight of 1000 or less. 周期表の３族〜１２族から選ばれる２価の金属のイオンと、
前記金属のイオンと配位し、下記一般式［Ｉ］で表されるピリドンアゾ化合物と、を含有することを特徴とする金属錯体化合物。

（一般式［Ｉ］中、Ｒ_１〜Ｒ_５は、それぞれ独立に、水素原子または１価の官能基である。） A divalent metal ion selected from Groups 3 to 12 of the periodic table;
A metal complex compound comprising a pyridone azo compound coordinated with the metal ion and represented by the following general formula [I].

(In general formula [I], R _{1 to} R ₅ are each independently a hydrogen atom or a monovalent functional group.) 前記金属は、ニッケル、コバルト、鉄、亜鉛、銅、マンガンから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項８記載の金属錯体化合物。 The metal complex compound according to claim 8 , wherein the metal is at least one selected from nickel, cobalt, iron, zinc, copper, and manganese. 前記ピリドンアゾ化合物が、下記一般式［Ｉ］で示されるピリドンアゾ化合物であることを特徴とする請求項１または６記載の光学記録媒体。

（一般式［Ｉ］中、Ｒ_１は無置換のアミノ基（―ＮＨ_２）を除く１価の官能基である。また、Ｒ_２〜Ｒ_５は、それぞれ独立に、水素原子または１価の官能基である。） The pyridone azo compound, an optical recording medium according to claim 1 or 6, wherein it is a pyridone azo compound represented by the following general formula [I].

(In General Formula [I], R ₁ is a monovalent functional group excluding an unsubstituted amino group (—NH ₂ ). Each of R _{2 to} R ₅ is independently a hydrogen atom or a monovalent group. It is a functional group.) 前記ピリドンアゾ化合物が、下記一般式［ＩＶ］で示されるピリドンアゾ化合物であることを特徴とする請求項１または６記載の光学記録媒体。

（一般式［ＩＶ］中、Ｒ_３１は水素原子を除く１価の官能基である。また、Ｒ_２６〜Ｒ_３０は、それぞれ独立に、水素原子または１価の官能基である。） The pyridone azo compound, an optical recording medium according to claim 1 or 6, wherein it is a pyridone azo compound represented by the following general formula [IV].

(In the general formula [IV], R ₃₁ is a monovalent functional group excluding a hydrogen atom. R _{26 to} R ₃₀ are each independently a hydrogen atom or a monovalent functional group.)

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