JP2001214084A - Metal chelate pigment and optical recording medium using the same - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coloring material that can be used as an optical recording medium suitable for record regeneration with the short-wavelength semiconductor laser. SOLUTION: The objective metal chelate coloring material comprises a metal and a compound represented by the following general formula (1) or (1)' (wherein A and A' are each a heteroaromatic ring residue involving the carbon atoms and nitrogen atoms bonding to these A and A'; X is a group having an active hydrogen atom; Y is a hydrogen atom or an arbitrary substituent).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、金属キレート色素
及びかかる色素を記録層に用いた追記型光学記録媒体に
係わるものであり、詳しくは青色レーザー対応の追記型
光学記録媒体に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a metal chelate dye and a write-once optical recording medium using such a dye for a recording layer, and more particularly to a write-once optical recording medium for a blue laser.

【０００２】[0002]

【従来の技術】近年、発振波長の短い半導体レーザーの
開発が進められ、従来使用されているレーザーの波長78
0nm、830nmよりも短波長のレーザー光を用いた高密度の
記録再生可能な光学記録媒体が求められている。従来提
案されている光学記録媒体としては、光磁気記録媒体、
相変化記録媒体、カルコゲン酸化物光記録媒体、有機色
素系光記録媒体等があるが、これらの中で有機色素系光
記録媒体は、コスト的に安価で且つ製造プロセス工程も
容易であるという点で優位性を有するものと考えられて
いる。2. Description of the Related Art In recent years, semiconductor lasers having a short oscillation wavelength have been developed, and the wavelength of a conventionally used laser has been reduced to 78 nm.
There is a demand for an optical recording medium capable of high-density recording and reproduction using laser light having a wavelength shorter than 0 nm and 830 nm. Conventionally proposed optical recording media include magneto-optical recording media,
There are a phase change recording medium, a chalcogen oxide optical recording medium, an organic dye optical recording medium, and the like. Among these, the organic dye optical recording medium is inexpensive in cost and easy in the manufacturing process. Is considered to have an advantage.

【０００３】現在、有機色素系光学記録媒体には、反射
率の高い金属層を有機色素層の上に積層したタイプの書
き込み型コンパクトディスク（ＣＤ−Ｒ）が量産化され
広く知られているが、このＣＤ−Ｒの記録再生に使用さ
れるレーザーよりもさらに短波長の赤色半導体レーザー
で記録する高密度の有機色素系光学記録媒体（ＤＶＤ−
Ｒ）も開発され、実用化されている。しかし、より短波
長のレーザー発振が可能になるに従い、今後、更により
一層の高密度化を狙ったＤＶＤ−Ｒよりもさらに短波長
のレーザー、即ち青色半導体レーザー（波長350nm〜530
nm）で記録再生可能な光学記録媒体の必要性が高まって
くる。At present, writable compact discs (CD-R) of a type in which a metal layer having a high reflectance is laminated on an organic dye layer have been mass-produced and widely known as organic dye-based optical recording media. A high-density organic dye-based optical recording medium (DVD-R) for recording with a red semiconductor laser having a shorter wavelength than the laser used for recording and reproduction of the CD-R.
R) has also been developed and put into practical use. However, as laser oscillation at shorter wavelengths becomes possible, lasers with shorter wavelengths than DVD-Rs aiming at even higher densities, ie, blue semiconductor lasers (wavelengths from 350 nm to 530 nm) will be used in the future.
The need for an optical recording medium capable of recording / reproducing at nm) is increasing.

【０００４】[0004]

【発明が解決しようとする課題】一般に、ＣＤ−Ｒ或い
はＤＶＤ−Ｒとして使用されている光学記録媒体は、短
波長の青色半導体レーザーで記録再生すると、反射率が
低く記録再生ができないという問題を有している。本発
明は、青色半導体レーザーによって記録再生が可能な有
機色素系光学記録媒体に適した色素及びこれを用いた光
学記録媒体を提供することを目的とする。Generally, an optical recording medium used as a CD-R or DVD-R has a problem that, when recording and reproducing with a short-wavelength blue semiconductor laser, the reflectivity is low and recording and reproducing cannot be performed. Have. An object of the present invention is to provide a dye suitable for an organic dye-based optical recording medium that can be recorded and reproduced by a blue semiconductor laser, and an optical recording medium using the same.

【０００５】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは青色半導体
レーザーに高い感受性を有する有機色素について種々検
討した結果、イソチオキサゾール環を含むアゾ化合物と
金属からなる新規金属キレート色素を見出し、この色素
が青色半導体レーザーに対応する光学記録媒体の記録層
に使用し得ることを知得し本発明に到達した。すなわち
本発明の要旨は、下記一般式（１）または（１）’As a result of various studies on organic dyes having high sensitivity to a blue semiconductor laser, the present inventors have found a novel metal chelate dye comprising an azo compound containing an isothioxazole ring and a metal, and have found this dye. Can be used for a recording layer of an optical recording medium corresponding to a blue semiconductor laser, and arrived at the present invention. That is, the gist of the present invention is represented by the following general formula (1) or (1) ′

【０００６】[0006]

【化２】 Embedded image

【０００７】（式(1)及び(1)'中、Ａ及びＡ'は、これが
結合している炭素原子及び窒素原子を含有する複素芳香
環残基を表し、Ｘは活性水素原子を有する基を表し、Ｙ
は水素原子または任意の置換基を表す。）で示される化
合物と金属からなる金属キレート色素及び係る色素を記
録層に含有する光学記録媒体に存する。(In the formulas (1) and (1) ′, A and A ′ represent a heteroaromatic ring residue containing a carbon atom and a nitrogen atom to which they are bonded, and X represents a group having an active hydrogen atom. And Y
Represents a hydrogen atom or an optional substituent. ) And a metal chelate dye comprising a metal and an optical recording medium containing the dye in a recording layer.

【０００８】[0008]

【発明の実施の形態】以下本発明につき詳細に説明す
る。本発明の金属キレート色素は、前記一般式（１）ま
たは（１）'によって表されるアゾ化合物と金属からな
る。一般式(1)及び(1)'中、Ａ及びＡ'で示される複素芳
香環残基としては、これが結合する炭素原子及び窒素原
子を含有する複素環であれば広い範囲から選ばれるが、
通常５ー６員の複素芳香環及び係る複素芳香環とベンゼ
ン環との縮合環が挙げられ、好ましくは下記の複素環が
挙げられる。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. The metal chelate dye of the present invention comprises an azo compound represented by the general formula (1) or (1) ′ and a metal. In the general formulas (1) and (1) ′, the heteroaromatic ring residue represented by A and A ′ is selected from a wide range as long as the heterocyclic ring contains a carbon atom and a nitrogen atom to which it is bonded.
Usually, a 5- to 6-membered heteroaromatic ring and a condensed ring of such a heteroaromatic ring and a benzene ring are exemplified, and the following heterocycles are preferred.

【０００９】[0009]

【化３】 Embedded image

【００１０】上記式(イ)〜(レ)中、Ｄ₁〜Ｄ₄₂は、それ
ぞれ独立して、水素原子；メチル基、エチル基、ｎ−プ
ロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブ
チル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の炭素数１〜６の直鎖ま
たは分岐のアルキル基；トリフルオロメチル基、ペンタ
フルオロメチル基、２−フルオロエチル基、２，２−ジ
フルオロエチル基、２、２、２−トリフルオロエチル
基、２Ｈ−テトラフルオロエチル基、ヘプタフルオロ−
ｎ−プロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル
基、１Ｈ，１Ｈ−ペンタフルオロプロピル基、１Ｈ，１
Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロピル基、パーフルオロ−
ｎ−ブチル基、１−（トリフルオロメチル）テトラフル
オロエチル基、１−（トリフルオロメチル）−２，２，
２−トリフルオロエチル基、１−（トリフルオロメチ
ル）エチル基、１−（ジフルオロメチル）−２，２−ジ
フルオロメチル基、１−（フルオロメチル）−２−トリ
フルオロエチル基、パーフルオロ−１，１−ジメチルエ
チル基、１，１−ジ（トリフルオロメチル）エチル基、
１−（トリフルオロエチル）−１−メチルエチル基、１
−メチル−１Ｈ−パーフルオロプロピル基、１−メチル
−１Ｈ−パーフルオロブチル基等の炭素数１〜６の直鎖
または分岐のフッ化アルキル基；トリフルオロメトキシ
基、ペンタフルオロメトキシ基、２−フルオロエトキシ
基、２，２−ジフルオロエトキシ基、２，２，２−トリ
フルオロエトキシ基、２Ｈ−テトラフルオロエトキシ
基、ヘプタフルオロ−ｎ−プロポキシ基、３、３、３−
トリフルオロプロポキシ基、パーフルオロ−ｎ−ブトキ
シ基、１Ｈ，１Ｈ−ヘプタフルオロブトキシ基、１−
（トリフルオロメチル）−２，２，２−トリフルオロエ
トキシ基、１−（トリフルオロメチル）−テトラフルオ
ロエトキシ基、１−（ジフルオロメチル）−２，２−ジ
フルオロエトキシ基、１−メチル−１Ｈ−パーフルオロ
プロポキシ基、１−メチル−１Ｈ−パーフルオロブトキ
シ基、２，２−ジ（トリフルオロメチル）プロポキシ基
等の炭素数１〜６の直鎖または分岐のフッ化アルコキシ
基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜６の環状アルキ
ル基；In the above formulas (a) to (d), D _{1 to} D ₄₂ each independently represent a hydrogen atom; methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec- A linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a butyl group or a tert-butyl group; a trifluoromethyl group, a pentafluoromethyl group, a 2-fluoroethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, , 2-trifluoroethyl group, 2H-tetrafluoroethyl group, heptafluoro-
n-propyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, 1H, 1H-pentafluoropropyl group, 1H, 1
H, 3H-tetrafluoropropyl group, perfluoro-
n-butyl group, 1- (trifluoromethyl) tetrafluoroethyl group, 1- (trifluoromethyl) -2,2,
2-trifluoroethyl group, 1- (trifluoromethyl) ethyl group, 1- (difluoromethyl) -2,2-difluoromethyl group, 1- (fluoromethyl) -2-trifluoroethyl group, perfluoro-1 , 1-dimethylethyl group, 1,1-di (trifluoromethyl) ethyl group,
1- (trifluoroethyl) -1-methylethyl group, 1
A linear or branched alkyl fluoride group having 1 to 6 carbon atoms such as -methyl-1H-perfluoropropyl group, 1-methyl-1H-perfluorobutyl group; trifluoromethoxy group, pentafluoromethoxy group, 2- Fluoroethoxy group, 2,2-difluoroethoxy group, 2,2,2-trifluoroethoxy group, 2H-tetrafluoroethoxy group, heptafluoro-n-propoxy group, 3,3,3-
Trifluoropropoxy group, perfluoro-n-butoxy group, 1H, 1H-heptafluorobutoxy group, 1-
(Trifluoromethyl) -2,2,2-trifluoroethoxy group, 1- (trifluoromethyl) -tetrafluoroethoxy group, 1- (difluoromethyl) -2,2-difluoroethoxy group, 1-methyl-1H A linear or branched fluorinated alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, such as a perfluoropropoxy group, a 1-methyl-1H-perfluorobutoxy group, a 2,2-di (trifluoromethyl) propoxy group; a cyclopropyl group , A cycloalkyl group having 3 to 6 carbon atoms such as a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group;

【００１１】フェニル基、トリル基、キシリル基、メシ
チル基、ナフチル基等の炭素数６〜１８のアリール基；
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロ
ポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅ
ｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基等の炭素数１
〜６のアルコキシ基；アセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル
基、ピバロイル基等の炭素数２〜７のアルキルカルボニ
ル基；ビニル基、プロペニル基、ブテニル基、ペンテニ
ル基、ヘキセニル基等の炭素数２〜６の直鎖または分岐
のアルケニル基；シクロペンテニル基、シクロヘキセニ
ル基等の炭素数３〜６の環状のアルケニル基；フッ素原
子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；ホルミル
基；ヒドロキシル基；カルボキシル基；ヒドロキシメチ
ル基、ヒドロキシエチル基等の炭素数１〜６のヒドロキ
シアルキル基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシ
カルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブ
トキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基
等の炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基；ニトロ
基；シアノ基；アミノ基；メチルアミノ基、エチルアミ
ノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ジ
メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピル
アミノ基等の炭素数１〜１０のアルキルアミノ基；メト
キシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチル
基、エトキシカルボニルメチル基、ｎ−プロポキシカル
ボニルエチル基、イソプロポキシカルボニルメチル基等
の炭素数３〜７のアルコキシカルボニルアルキル基；メ
チルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、イソ
プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチ
オ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ基等
の炭素数１〜６のアルキルチオ基；トリフルオロメチル
チオ基、ペンタフルオロメチルチオ基、２―フルオロエ
チルチオ基、２，２−ジフルオロエチルチオ基、２Ｈ−
テトラフルオロエチルチオ基、ヘプタフルオロ−ｎ−プ
ロピルチオ基、３，３，３−トリフルオロプロピルチオ
基、パーフルオロ−ｎ−ブチルチオ基、１Ｈ，１Ｈ，３
Ｈ−ヘキサフルオロブチルチオ基、１−（トリフルオロ
メチル）テトラフルオロエチルチオ基、１−（トリフル
オロメチル）−２，２，２−トリフルオロエチルチオ
基、１−（ジトリフルオロメチル）−２，２−ジフルオ
ロエチルチオ基、パーフルオロ−１，１−ジメチルエチ
ルチオ基、１−メチル−１Ｈ−パーフルオロプロピルチ
オ基、１−メチル−１Ｈ−パーフルオロブチル基、２，
２−ジ（トリフルオロメチル）プロピルチオ基、３−
（パーフルオロ−１−メチルエチル）プロピルチオ基等
の炭素数１〜６の直鎖または分岐のフッ化アルキルチオ
基；An aryl group having 6 to 18 carbon atoms such as a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a mesityl group and a naphthyl group;
Methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, sec-butoxy, te
1 carbon atom such as rt-butoxy group and n-pentyloxy group
An alkyl group having 2 to 7 carbon atoms such as an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, an isobutyryl group, a valeryl group, an isovaleryl group, a pivaloyl group; a vinyl group, a propenyl group, a butenyl group, a pentenyl group; A linear or branched alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms such as a hexenyl group; a cyclic alkenyl group having 3 to 6 carbon atoms such as a cyclopentenyl group or a cyclohexenyl group; a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, or a bromine atom Formyl group; hydroxyl group; carboxyl group; hydroxyalkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as hydroxymethyl group and hydroxyethyl group; methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propoxycarbonyl group, isopropoxycarbonyl group, n- Butoxycarbonyl group, sec-butoxycarbonyl group C2-C7 alkoxycarbonyl groups such as tert-butoxycarbonyl group; nitro group; cyano group; amino group; methylamino group, ethylamino group, n-propylamino group, n-butylamino group, dimethylamino group, C1-C10 alkylamino groups such as diethylamino group and di-n-propylamino group; methoxycarbonylmethyl group, methoxycarbonylethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, n-propoxycarbonylethyl group, isopropoxycarbonylmethyl group, etc. C3-7 alkoxycarbonylalkyl group; carbon number such as methylthio group, ethylthio group, n-propylthio group, isopropylthio group, n-butylthio group, sec-butylthio group, tert-butylthio group and n-pentylthio group 1-6 alkylthio groups; trif Oromechiruchio group, pentafluoroethyl methyl thio group, 2-fluoroethyl-thio group, 2,2-difluoroethyl thio group, 2H-
Tetrafluoroethylthio, heptafluoro-n-propylthio, 3,3,3-trifluoropropylthio, perfluoro-n-butylthio, 1H, 1H, 3
H-hexafluorobutylthio group, 1- (trifluoromethyl) tetrafluoroethylthio group, 1- (trifluoromethyl) -2,2,2-trifluoroethylthio group, 1- (ditrifluoromethyl) -2 , 2-difluoroethylthio, perfluoro-1,1-dimethylethylthio, 1-methyl-1H-perfluoropropylthio, 1-methyl-1H-perfluorobutyl, 2,
2-di (trifluoromethyl) propylthio group, 3-
A linear or branched fluorinated alkylthio group having 1 to 6 carbon atoms such as (perfluoro-1-methylethyl) propylthio group;

【００１２】メチルスルホニル基、エチルスルホニル
基、ｎ−プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニ
ル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｓｅｃ−ブチルスルホ
ニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニル基、ｎ−ペンチル
スルホニル基等の炭素数１〜６のアルキルスルホニル
基；トリフルオロメチルスルホニル基、ペンタフルオロ
エチルスルホニル基、２−フルオロエチルスルホニル
基、２，２−ジフルオロエチルスルホニル基、２，２，
２−トリフルオロエチルスルホニル基、ヘプタフルオロ
−ｎ−プロピルスルホニル基、３，３，３−トリフルオ
ロプロピルスルホニル基、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフ
ルオロプロピルスルホニル基、パーフルオロ−ｎ−ブチ
ルスルホニル基、１Ｈ，１Ｈ−ヘプタフルオロブチルス
ルホニル基、２−（パーフルオロブチル）エチルスルホ
ニル基、１−（トリフルオロメチル）テトラフルオロエ
チルスルホニル基、１−（トリフルオロメチル）−２，
２，２−トリフルオロエチルスルホニル基、１−（ジフ
ルオロメチル）−２，２−ジフルオロエチルスルホニル
基、パーフルオロ−１，１−ジメチルエチルスルホニル
基、１−（トリフルオロエチル）−１−メチルエチルス
ルホニル基、１−メチル−１Ｈ−パーフルオロプロピル
スルホニル基、１−メチル−１Ｈ−パーフルオロブチル
スルホニル基、２，２−ジ（トリフルオロメチル）プロ
ピルスルホニル基、３−（パーフルオロ−１−メチルエ
チル）プロピルスルホニル基等の炭素数１〜６の直鎖ま
たは分岐のフッ化アルキルスルホニル基；置換基として
アルコキシ基、フッ化アルキル基、ハロゲン原子等を有
するアリール基またはアリールカルボニル基；−ＣＤ₄₃
＝Ｃ（ＣＮ）Ｄ₄₄（Ｄ₄₃は水素原子、または前記Ｄ₁〜
Ｄ₄₂において定義したものと同様の炭素数１〜６のアル
キル基を表し、Ｄ₄₄はシアノ基または前記Ｄ₁〜Ｄ₄₂に
おいて定義したものと同様の炭素数２〜７のアルコキシ
カルボニル基を表す。）を表す。更にＤ₁〜Ｄ₄₂のう
ち、隣り合う基が結合して、環Ａまたは環Ａ'に縮合す
る環を形成してもよい。C.sub.1 -C.sub.1 groups such as methylsulfonyl, ethylsulfonyl, n-propylsulfonyl, isopropylsulfonyl, n-butylsulfonyl, sec-butylsulfonyl, tert-butylsulfonyl and n-pentylsulfonyl; 6, an alkylsulfonyl group; a trifluoromethylsulfonyl group, a pentafluoroethylsulfonyl group, a 2-fluoroethylsulfonyl group, a 2,2-difluoroethylsulfonyl group,
2-trifluoroethylsulfonyl group, heptafluoro-n-propylsulfonyl group, 3,3,3-trifluoropropylsulfonyl group, 1H, 1H, 3H-tetrafluoropropylsulfonyl group, perfluoro-n-butylsulfonyl group, 1H, 1H-heptafluorobutylsulfonyl group, 2- (perfluorobutyl) ethylsulfonyl group, 1- (trifluoromethyl) tetrafluoroethylsulfonyl group, 1- (trifluoromethyl) -2,
2,2-trifluoroethylsulfonyl group, 1- (difluoromethyl) -2,2-difluoroethylsulfonyl group, perfluoro-1,1-dimethylethylsulfonyl group, 1- (trifluoroethyl) -1-methylethyl Sulfonyl group, 1-methyl-1H-perfluoropropylsulfonyl group, 1-methyl-1H-perfluorobutylsulfonyl group, 2,2-di (trifluoromethyl) propylsulfonyl group, 3- (perfluoro-1-methyl) ethyl) propylsulfonyl linear or branched fluorinated alkyl sulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms such as group; an alkoxy group as a substituent, an alkyl fluoride group, an aryl group or an aryl group having a halogen atom or the like; -CD ₄₃
ＣC (CN) D ₄₄ (D ₄₃ is a hydrogen atom, or D ₁ to
D represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms as defined for D ₄₂ , D ₄₄ represents a cyano group or an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms similar to those defined for D _{1 to} D ₄₂ above . ). Further, among D _{1 to} D ₄₂ , adjacent groups may be bonded to form a ring condensed with ring A or ring A ′.

【００１３】環Ａ及びＡ'の置換基Ｄ₁〜Ｄ₄₂として好ま
しくは、環Ａ及びＡ'の構造によって多少異なるが、水
素原子、無置換またはハロゲン化されたアルキル基、無
置換またはハロゲン化されたアルキルチオ基、無置換ま
たはハロゲン化されたアルコキシ基、ホルミル基、シア
ノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基またはハロゲン原子で
ある。この場合のハロゲンとしてはフッ素が好ましい。
環Ａまたは環Ａ'として例示した前記１７種の環の内、
より好ましいのは、オキサゾール環［(イ)、(ロ)］、ピ
ラゾール環［(ハ)］、イミダゾール環［(ニ)］、イソキ
サゾール環［(ホ)］、チアジアゾール環［(ヘ)、(ト)］
及びトリアゾール環［(チ)、(リ)、(ヌ)］である。The substituents D _{1 to} D ₄₂ of the rings A and A ′ are preferably a hydrogen atom, an unsubstituted or halogenated alkyl group, an unsubstituted or halogenated alkyl group, although they may vary depending on the structures of the rings A and A ′. Alkylthio group, unsubstituted or halogenated alkoxy group, formyl group, cyano group, nitro group, hydroxyl group or halogen atom. In this case, fluorine is preferable as the halogen.
Of the 17 types of rings exemplified as ring A or ring A ′,
More preferred are an oxazole ring [(a), (b)], a pyrazole ring [(c)], an imidazole ring [(d)], an isoxazole ring [(e)], a thiadiazole ring [(f), (g). )]
And a triazole ring [(h), (li), (nu)].

【００１４】一般式(1)及び(1)'において、Ｘとしては
ヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基、カルボキシ
ル基、アルキルスルホニルアミノ基、チオール基などの
活性水素原子を有する基が挙げられ、好ましくは、ヒド
ロキシル基、スルホン酸基、アミノ基であり、特に好ま
しいのはヒドロキシル基である。In the general formulas (1) and (1) ′, X is a group having an active hydrogen atom such as a hydroxyl group, an amino group, a sulfonic acid group, a carboxyl group, an alkylsulfonylamino group and a thiol group. Preferred are a hydroxyl group, a sulfonic acid group and an amino group, and particularly preferred is a hydroxyl group.

【００１５】Ｙは水素原子または任意の置換基を示す。
係る置換基としては例えば、炭素数１〜１２の直鎖又は
分岐のアルキル基；炭素数３〜１２の環状アルキル基；
炭素数２〜１２の直鎖又は分岐のアルケニル基；炭素数
３〜１２の環状アルケニル基；炭素数６〜１８のアリー
ル基；炭素数２〜１２の直鎖又は分岐のアルキルカルボ
ニル基；炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルコキシ
基；炭素数１〜１２の直鎖または分岐のアルキルチオ
基；炭素数１〜１２の直鎖または分岐のフルオロアルキ
ル基；炭素数１〜１２の直鎖または分岐のフルオロアル
コキシ基；炭素数１〜１２の直鎖または分岐のフルオロ
アルキルチオ基；ハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；
ヒドロキシ基；ホルミル基；スルホン酸基；カルボキシ
ル基；−ＮＲ₁Ｒ₂で表されるアミノ基；−ＮＨＣＯＲ₃
で表されるアシルアミノ基；−ＮＨＣＯＯＲ₄で表され
るカーバメート基；−ＮＨＳＯ₂Ｒ₅で表されるスルホン
アミド基；−ＣＯＯＲ₆で表されるカルボン酸エステル
基；−ＣＯＮＲ₇Ｒ₈で表されるカルバモイル基；−ＳＯ
₂ＮＲ₉Ｒ₁₀で表されるスルファモイル基；−ＳＯ₃Ｒ_{1 1}
で表されるスルホン酸エステル基等が挙げられる。具体
的には、Ｄ₁〜Ｄ₄₂の説明で例示したと同様のものが挙
げられる。Y represents a hydrogen atom or an optional substituent.
As such a substituent, for example, a linear or linear C 1-12 group
A branched alkyl group; a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms;
A linear or branched alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms; carbon number
3 to 12 cyclic alkenyl groups; aryl having 6 to 18 carbon atoms
A linear or branched alkylcarbo having 2 to 12 carbon atoms
Nyl group; linear or branched alkoxy having 1 to 12 carbon atoms
A linear or branched alkylthio group having 1 to 12 carbon atoms
A linear or branched fluoroalkyl having 1 to 12 carbon atoms
A straight-chain or branched fluoroal having 1 to 12 carbon atoms
Coxy group; C1-C12 linear or branched fluoro
Alkylthio group; halogen atom; nitro group; cyano group;
Hydroxy group; formyl group; sulfonic acid group; carboxy
A group; -NR₁R_TwoAn amino group represented by the formula: -NHCOR_Three
An acylamino group represented by the formula: -NHCOOR_FourRepresented by
Carbamate group; -NHSO_TwoR_FiveSulfone represented by
Amide group; -COOR₆Carboxylic acid ester represented by
Group; -CONR₇R₈A carbamoyl group represented by the formula:
_TwoNR₉R_TenA sulfamoyl group represented by the formula:_ThreeR_{1 1}
And the like. Concrete
Typically, D₁~ D₄₂The same ones as illustrated in the description
I can do it.

【００１６】また上記の直鎖、分岐鎖、環状のアルキル
基、直鎖、分岐鎖、環状のアルケニル基、アリール基
は、更に置換されていても良く、置換基としては、メト
キシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ
基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基
等の炭素数１〜１０のアルコキシ基；メトキシメトキシ
基、エトキシメトキシ基、プロポキシメトキシ基、エト
キシエトキシ基、プロポキシエトキシ基、メトキシブト
キシ基等の炭素数２〜１２のアルコキシアルコキシ基；
メトキシメトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキ
シ基、メトキシエトキシメトキシ基、メトキシメトキシ
エトキシ基、エトキシエトキシメトキシ基等の炭素数３
〜１２のアルコキシアルコキシアルコキシ基；アリルオ
キシ基；フェニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数
６〜１２のアリール基（これらは置換基でさらに置換さ
れていてもよい。）；フェノキシ基、トリルオキシ基、
キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基等の炭素数６〜１
２のアリールオキシ基；アリルオキシ基、ビニルオキシ
基等の炭素数２〜１２のアルケニルオキシ基；シアノ
基；ニトロ基；ヒドロキシル基；テトラヒドロフリル
基；アミノ基；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアミノ基等の炭素数１〜１０のアルキルアミノ
基；メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニルアミ
ノ基、n-プロピルスルホニルアミノ基等の炭素数１〜６
のアルキルスルホニルアミノ基；フッ素原子、塩素原
子、臭素原子等のハロゲン基；メトキシカルボニル基、
エトキシカルボニル基、n-プロポキシカルボニル基、イ
ソプロポキシカルボニル基、n-ブトキシカルボニル等の
炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基；メチルカルボ
ニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、n-プロピル
カルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ
基、n-ブチルカルボニルオキシ基等の炭素数２〜７のア
ルキルカルボニルオキシ基；メトキシカルボニルオキシ
基、エトキシカルボニルオキシ基、n-プロポキシカルボ
ニルオキシ基、イソプロポキシカルボニルオキシ基、n-
ブトキシカルボニルオキシ基等の炭素数２〜７のアルコ
キシカルボニルオキシ基等で置換されていてもよい。さ
らに炭素数３〜１２の環状アルキル基、炭素数２〜１２
の直鎖又は分岐のアルケニル基の置換基としては、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチ
ル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-へプチル基等
の炭素数１〜１２の直鎖又は分岐のアルキル基等が挙げ
られる。The above-mentioned straight-chain, branched-chain, cyclic alkyl group, straight-chain, branched-chain, cyclic alkenyl group and aryl group may be further substituted, and the substituent may be a methoxy group or an ethoxy group. An alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms such as n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group; methoxymethoxy group, ethoxymethoxy group, propoxymethoxy group, ethoxyethoxy group An alkoxyalkoxy group having 2 to 12 carbon atoms such as a propoxyethoxy group, a methoxybutoxy group, and the like;
C3 such as methoxymethoxymethoxy, methoxymethoxyethoxy, methoxyethoxymethoxy, methoxymethoxyethoxy, ethoxyethoxymethoxy
Aryloxy group; aryl group having 6 to 12 carbon atoms such as phenyl group, tolyl group, xylyl group (these may be further substituted with a substituent); phenoxy group, tolyloxy group ,
6-1 carbon atoms such as xylyloxy group and naphthyloxy group
2, an alkenyloxy group having 2 to 12 carbon atoms such as an allyloxy group and a vinyloxy group; a cyano group; a nitro group; a hydroxyl group; a tetrahydrofuryl group; an amino group; an N, N-dimethylamino group; An alkylamino group having 1 to 10 carbon atoms such as a diethylamino group; and a carbon atom having 1 to 6 carbon atoms such as a methylsulfonylamino group, an ethylsulfonylamino group, and an n-propylsulfonylamino group.
An alkylsulfonylamino group; a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom and a bromine atom; a methoxycarbonyl group;
An alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms such as an ethoxycarbonyl group, an n-propoxycarbonyl group, an isopropoxycarbonyl group, and an n-butoxycarbonyl; a methylcarbonyloxy group, an ethylcarbonyloxy group, an n-propylcarbonyloxy group, and isopropylcarbonyl An oxy group, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 7 carbon atoms such as an n-butylcarbonyloxy group; a methoxycarbonyloxy group, an ethoxycarbonyloxy group, an n-propoxycarbonyloxy group, an isopropoxycarbonyloxy group, an n-
It may be substituted with an alkoxycarbonyloxy group having 2 to 7 carbon atoms such as a butoxycarbonyloxy group. Further, a cyclic alkyl group having 3 to 12 carbon atoms, 2 to 12 carbon atoms
Examples of the substituent of the linear or branched alkenyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, and n-heptyl groups. Examples thereof include a linear or branched alkyl group of 1 to 12 and the like.

【００１７】Ｒ₁〜Ｒ₁₁はそれぞれ水素原子、置換され
てもよい直鎖または分岐のアルキル基、置換されてもよ
い環状アルキル基、置換されてもよいアルケニル基、置
換されてもよい環状アルケニル基、置換されてもよいフ
ェニル基を表す（置換基は前述したものが挙げられ
る）。R _{1 to} R ₁₁ each represent a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group which may be substituted, a cyclic alkyl group which may be substituted, an alkenyl group which may be substituted, a cyclic alkenyl which may be substituted; And a phenyl group which may be substituted (the substituents include those described above).

【００１８】Ｙとして好ましいのは、無置換またはハロ
ゲン化されたアルキル基、無置換またはハロゲン化され
たアルキルチオ基、無置換またはハロゲン化されたアル
コキシ基、無置換または置換された炭素数６〜１８のア
リール基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、アル
コキシカルボニル基またはハロゲン原子である。アルキ
ル基、アルキルチオ基、アルコキシ基の置換基であるハ
ロゲンとしては、特にフッ素原子が好ましい。Preferred as Y are an unsubstituted or halogenated alkyl group, an unsubstituted or halogenated alkylthio group, an unsubstituted or halogenated alkoxy group, and an unsubstituted or substituted C6-C18 group. Is an aryl group, a cyano group, a nitro group, a hydroxyl group, an alkoxycarbonyl group or a halogen atom. As the halogen which is a substituent of the alkyl group, the alkylthio group and the alkoxy group, a fluorine atom is particularly preferable.

【００１９】一般式（１）または（１）'で表される化
合物の好ましい例としては、例えば下記表ー１〜表ー６
の化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定される
ものではない。Preferred examples of the compound represented by the general formula (1) or (1) 'include, for example, the following Tables 1 to 6
The present invention is not limited to these compounds.

【００２０】[0020]

【表１】 [Table 1]

【００２１】[0021]

【表２】 [Table 2]

【００２２】[0022]

【表３】 [Table 3]

【００２３】[0023]

【表４】 [Table 4]

【００２４】[0024]

【表５】 [Table 5]

【００２５】[0025]

【表６】 [Table 6]

【００２６】なお、本明細書中、「ｔ−Ｂｕ」はターシ
ャリブチル基を、「ｉ−Ｐｒ」はイソプロピル基を表
す。一般式（１）または（１）’の化合物とキレートを
生成する金属としては、錯体形成可能な各種金属を用い
ることができるが、吸収スペクトルの形状が良好である
という点からＮｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｚｎ、Ｐｄ等の
遷移金属が好ましい。In the present specification, "t-Bu" represents a tertiary butyl group, and "i-Pr" represents an isopropyl group. As the metal that forms a chelate with the compound of the general formula (1) or (1) ′, various metals capable of forming a complex can be used, but Ni, Co, and Cu are preferable because of their good absorption spectrum shape. , Fe, Zn, Pd and the like are preferable.

【００２７】本発明の金属キレート色素の製造法は特に
限定されるものではなく、それ自体公知の反応を利用し
て合成することが出来る。例えば、一般式（１）で示さ
れる化合物は以下の経路で製造することが出来る。The method for producing the metal chelate dye of the present invention is not particularly limited, and it can be synthesized using a reaction known per se. For example, the compound represented by the general formula (1) can be produced by the following route.

【００２８】[0028]

【化４】 Embedded image

【００２９】（式中、Ａ，Ｘ，Ｙは前示（１）式と同じ
意味を有す） 先ず、複素環アミン（ａ）を、定法に従ってジアゾ化す
る。得られたジアゾ化物を、定法に従って、イソキサゾ
ール誘導体（ｂ）とカップリングさせる。得られた一般
式（１）の化合物は、溶媒に溶解し、同じ溶媒に溶解可
能な上述の遷移金属の化合物を加え、撹拌することによ
り、本発明の金属キレート色素が得られる。一般式
（１）’の化合物も同様にして製造できる。(Wherein A, X and Y have the same meanings as in the above formula (1)) First, the heterocyclic amine (a) is diazotized according to a conventional method. The obtained diazotized product is coupled with the isoxazole derivative (b) according to a conventional method. The obtained compound of the general formula (1) is dissolved in a solvent, a compound of the above-mentioned transition metal that is soluble in the same solvent is added, and the mixture is stirred to obtain the metal chelate dye of the present invention. The compound of the general formula (1) ′ can be produced in the same manner.

【００３０】本発明の金属キレート色素は、例えば該色
素を含む溶液から成膜を形成する際の薄膜形成性に優れ
ているので、光学記録媒体の記録層に使用する色素とし
て有用である。また、本発明の金属キレート色素は、該
色素を含有する記録層塗布膜がより短い波長（350nm〜5
00nm）領域に、レーザー光による記録再生に適した強度
の吸収を有し、短波長レーザーに対応する記録再生用光
学記録媒体の記録層に使用する色素として極めて有用で
ある。本発明の光学記録媒体は、基本的には基板と前記
金属キレート色素を含む記録層とから構成されるもので
あるが、さらに必要に応じて基板上に下引き層、金属反
射層、保護層等を設けても良い。好ましい層構成の一例
としては、記録層上に金、銀、アルミニウムのような金
属反射層および保護層を設けた高反射率の媒体が挙げら
れる。The metal chelate dye of the present invention is useful as a dye for use in a recording layer of an optical recording medium, for example, because it has excellent thin film forming properties when forming a film from a solution containing the dye. Further, the metal chelate dye of the present invention has a recording layer coating film containing the dye having a shorter wavelength (350 nm to 5 nm).
In the (00 nm) region, it has an absorption of an intensity suitable for recording and reproduction by a laser beam, and is extremely useful as a dye used in a recording layer of an optical recording medium for recording and reproduction corresponding to a short wavelength laser. The optical recording medium of the present invention is basically composed of a substrate and a recording layer containing the metal chelate dye, and further includes an undercoat layer, a metal reflective layer, and a protective layer on the substrate if necessary. May be provided. An example of a preferable layer configuration includes a medium having a high reflectance in which a metal reflective layer such as gold, silver, and aluminum and a protective layer are provided on the recording layer.

【００３１】以下、この構造の媒体を例に、本発明の光
学記録媒体について説明する。本発明の光学記録媒体に
おける基板の材質としては、基本的には記録光及び再生
光の波長で透明であればよい。このような材質として
は、例えば、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリ
エステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹
脂、ポリイミド樹脂、ポリスチレン樹脂、エポキシ樹脂
等の合成樹脂、ガラス、ガラス上に光硬化性樹脂等の放
射線硬化樹脂からなる被覆層を設けたもの等が挙げられ
るが、高生産性、コスト、耐吸湿性の点から射出成型ポ
リカーボネート樹脂が特に好ましい。耐薬品性、耐吸湿
性等の点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。ま
た、高速応答性等の点からは、ガラス基板が好ましい。Hereinafter, the optical recording medium of the present invention will be described by taking a medium having this structure as an example. The material of the substrate in the optical recording medium of the present invention may be basically any material as long as it is transparent at the wavelength of the recording light and the reproducing light. As such a material, for example, acrylic resin, methacrylic resin, polycarbonate resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, polyester resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polyimide resin, polystyrene resin, synthetic resin such as epoxy resin, glass, Examples thereof include those in which a coating layer made of a radiation-curable resin such as a photocurable resin is provided on glass, and the like, and injection-molded polycarbonate resins are particularly preferable in terms of high productivity, cost, and moisture absorption resistance. Amorphous polyolefin is preferred from the viewpoint of chemical resistance, moisture absorption resistance, and the like. Further, a glass substrate is preferable in terms of high-speed response and the like.

【００３２】これらの基板材料は射出成形法等により円
盤状の基板に成形される。必要に応じて、基板表面に案
内溝やピットを形成することもある。このような案内溝
やピットは、基板の成形時に付与することが好ましい
が、基板の上に紫外線硬化樹脂層を用いて付与すること
もできる。案内溝がスパイラル状の場合、この溝ピッチ
が0.5〜1.2μｍ程度であることが好ましい。These substrate materials are formed into a disk-shaped substrate by an injection molding method or the like. If necessary, guide grooves or pits may be formed on the substrate surface. Such guide grooves and pits are preferably provided at the time of molding the substrate, but may also be provided on the substrate using an ultraviolet curable resin layer. When the guide groove is spiral, the groove pitch is preferably about 0.5 to 1.2 μm.

【００３３】基板上、または必要に応じて下引き層等を
設けた上に、本発明のキレート色素を含む記録層を形成
する。記録層の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッ
タリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピン
コート法、浸漬法等一般に行われている薄膜形成法が挙
げられるが、量産性、コスト面からスピンコート法が特
に好ましい。スピンコート法による成膜の場合、回転数
は500〜5000rpmが好ましく、スピンコートの後、場合に
よっては加熱あるいは溶媒蒸気にあてる等の処理を行っ
ても良い。The recording layer containing the chelate dye of the present invention is formed on the substrate or, if necessary, on the undercoat layer. Examples of the method for forming the recording layer include thin film forming methods generally used such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, a doctor blade method, a casting method, a spin coating method, and an immersion method. The coating method is particularly preferred. In the case of film formation by the spin coating method, the number of rotation is preferably 500 to 5000 rpm, and after spin coating, a treatment such as heating or exposure to a solvent vapor may be performed in some cases.

【００３４】ドクターブレード法、キャスト法、スピン
コート法、浸漬法等の塗布方法により記録層を形成する
場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒であれば
よく、特に限定されない。例えば、ジアセトンアルコー
ル、3-ヒドロキシ-3-メチル-2-ブタノン等のケトンアル
コール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等
のセロソルブ系溶媒；n-ヘキサン、n-オクタン等の鎖状
炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサ
ン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、
n-ブチルシクロヘキサン、tert-ブチルシクロヘキサ
ン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒；テトラフ
ルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘ
キサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアル
コール系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチル、イソ酪酸メチ
ル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げら
れる。When forming the recording layer by a coating method such as a doctor blade method, a casting method, a spin coating method, and a dipping method, the coating solvent is not particularly limited as long as it is a solvent which does not attack the substrate. For example, ketone alcohol solvents such as diacetone alcohol and 3-hydroxy-3-methyl-2-butanone; cellosolve solvents such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve; chain hydrocarbon solvents such as n-hexane and n-octane ; Cyclohexane, methylcyclohexane, ethylcyclohexane, dimethylcyclohexane,
Cyclic hydrocarbon solvents such as n-butylcyclohexane, tert-butylcyclohexane, and cyclooctane; Perfluoroalkyl alcohol solvents such as tetrafluoropropanol, octafluoropentanol, and hexafluorobutanol; methyl lactate, ethyl lactate, and methyl isobutyrate And the like.

【００３５】また、記録層は、記録層の安定や耐光性向
上のために、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キ
レート化合物（例えば、アセチルアセトナートキレー
ト、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキ
シム、ビスジチオ−α-ジケトン等）等や、記録感度向
上のために金属系化合物等の記録感度向上剤を含有して
いても良い。ここで金属系化合物とは、遷移金属等の金
属原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれる
ものを言い、例えばエチレンジアミン系錯体、アゾメチ
ン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナン
トロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジ
オキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピ
リジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯
体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有
機金属化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定
されないが、遷移金属であることが好ましい。The recording layer is formed of a transition metal chelate compound (eg, acetylacetonate chelate, bisphenyldithiol, salicylaldehyde oxime, bisdithio-α) as a singlet oxygen quencher in order to improve the stability and light resistance of the recording layer. -Diketone, etc.) or a recording sensitivity improver such as a metal compound for improving the recording sensitivity. Here, the metal-based compound refers to a compound contained in the compound in the form of a metal atom such as a transition metal, an ion, a cluster, or the like. Organometallic compounds such as azobenzene-based complexes, dioxime-based complexes, nitrosoaminophenol-based complexes, pyridyltriazine-based complexes, acetylacetonate-based complexes, metallocene-based complexes, and porphyrin-based complexes are exemplified. The metal atom is not particularly limited, but is preferably a transition metal.

【００３６】さらに、必要に応じて他系統の色素を併用
することもできる。他系統の色素としては、主として記
録用のレーザー波長域に吸収を有し、照射されたレーザ
ー光エネルギーの吸収によって、その箇所の記録層、反
射層または基板に、分解、蒸発、溶解等の熱的変形を伴
いピットが形成されるならば特に制限されない。また、
CD-Rのような770〜830nmから選ばれた波長の近赤外レー
ザーやDVD-Rのような620〜690nmから選ばれた赤色レー
ザーでの記録に適する色素を併用して、複数の波長域で
レーザーでの記録に対応する光記録媒体とすることもで
きる。Further, if necessary, other types of dyes may be used in combination. Other types of dyes mainly absorb in the laser wavelength range for recording, and absorb heat of the irradiated laser light to cause heat, such as decomposition, evaporation, and dissolution, on the recording layer, reflective layer, or substrate at that location. There is no particular limitation as long as pits are formed with a substantial deformation. Also,
Using a dye suitable for recording with a near-infrared laser with a wavelength selected from 770 to 830 nm such as CD-R and a red laser with a wavelength of 620 to 690 nm such as DVD-R, Thus, an optical recording medium corresponding to laser recording can be used.

【００３７】他系統の色素としては含金属アゾ系色素、
フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、シア
ニン系色素、アゾ系色素、スクアリリウム系色素、含金
属インドアニリン系色素、トリアリールメタン系色素、
メロシアニン系色素、アズレニウム系色素、ナフトキノ
ン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系
色素、キサンテン系色素、オキサジン系色素、ピリリウ
ム系色素等が挙げられる。Other dyes include metal-containing azo dyes,
Phthalocyanine dye, naphthalocyanine dye, cyanine dye, azo dye, squarylium dye, metal-containing indoaniline dye, triarylmethane dye,
Examples include merocyanine dyes, azulenium dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, indophenol dyes, xanthene dyes, oxazine dyes, and pyrylium dyes.

【００３８】さらに、必要に応じて、バインダー、レベ
リング剤、消泡剤等を併用することもできる。好ましい
バインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニ
ルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケ
トン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウ
レタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネー
ト、ポリオレフィン等が挙げられる。記録層の膜厚は、
記録方法により異なってくる場合があり、特に限定する
ものではないが、好ましくは50〜300nmである。Further, if necessary, a binder, a leveling agent, an antifoaming agent and the like can be used in combination. Preferred binders include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, nitrocellulose, cellulose acetate, ketone resin, acrylic resin, polystyrene resin, urethane resin, polyvinyl butyral, polycarbonate, polyolefin and the like. The thickness of the recording layer is
It may vary depending on the recording method and is not particularly limited, but is preferably 50 to 300 nm.

【００３９】記録層の上には、反射層を形成してもよ
く、その膜厚は好ましくは、50〜300nmである。反射層
の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いも
の、例えば、Au、Al、Ag、Cu、Ti、Cr、Ni、Pt、Ta、Cr
及びPdの金属を単独あるいは合金にして用いることが可
能である。この中でもAu、Al、Agは反射率が高く反射層
の材料として適している。これらを主成分とする以外に
下記のものを含んでいても良い。例えば、Mg、Se、Hf、
Ｖ、Nb、Ru、Ｗ、Mn、Re、Fe、Co、Rh、Ir、Cu、Zn、C
d、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Biなどの金属及
び半金属を挙げることができる。なかでもAgを主成分と
しているものはコストが安い点、高反射率が出やすい
点、更に後で述べる印刷受容層を設ける場合には地色が
白く美しいものが得られる点等から特に好ましい。ここ
で主成分とは含有率が５０％以上のものをいう。A reflective layer may be formed on the recording layer, and its thickness is preferably from 50 to 300 nm. As a material of the reflection layer, a material having a sufficiently high reflectance at the wavelength of the reproduction light, for example, Au, Al, Ag, Cu, Ti, Cr, Ni, Pt, Ta, Cr
And Pd can be used alone or in the form of an alloy. Among them, Au, Al, and Ag have high reflectivity and are suitable as the material of the reflective layer. In addition to these as main components, the following may be included. For example, Mg, Se, Hf,
V, Nb, Ru, W, Mn, Re, Fe, Co, Rh, Ir, Cu, Zn, C
Metals and metalloids such as d, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, and Bi can be mentioned. Among them, those containing Ag as a main component are particularly preferable because they are inexpensive, easily reflect a high reflectance, and when a print receiving layer described later is provided, a white and beautiful ground color can be obtained. Here, the main component means one having a content of 50% or more.

【００４０】金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率
薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として
用いることも可能である。反射層を形成する方法として
は、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化
学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、基板の上
や反射層の下に反射率の向上、記録特性の改善、密着性
の向上等のために公知の無機系または有機系の中間層、
接着層を設けることもできる。It is also possible to form a multilayer film by alternately stacking low-refractive-index thin films and high-refractive-index thin films with a material other than a metal and use it as a reflective layer. Examples of a method for forming the reflective layer include a sputtering method, an ion plating method, a chemical vapor deposition method, and a vacuum vapor deposition method. In addition, a known inorganic or organic intermediate layer for improving reflectance, improving recording characteristics, improving adhesion, etc. on the substrate or below the reflective layer,
An adhesive layer can also be provided.

【００４１】反射層の上に形成する保護層の材料として
は、反射層を外力から保護するものであれば特に限定さ
れない。有機物質の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬
化性樹脂、電子線硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等を挙げ
ることができる。また、無機物質としては、SiO₂、Si
N₄、MgF₂、SnO₂等が挙げられる。The material of the protective layer formed on the reflective layer is not particularly limited as long as it protects the reflective layer from external force. Examples of the organic material include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an electron beam curable resin, and a UV curable resin. Further, as inorganic substances, SiO ₂ , Si
N ₄ , MgF ₂ , SnO _{2 and the} like can be mentioned.

【００４２】熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などは適当な
溶剤に溶解して塗布液を塗布し、乾燥することによって
形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂は、そのままも
しくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの
塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによ
って形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂としては、
例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレー
ト、ポリエステルアクリレートなどのアクリレート系樹
脂を用いることができる。これらの材料は単独であるい
は混合して用いても良いし、１層だけではなく多層膜に
して用いても良い。The thermoplastic resin, thermosetting resin and the like can be formed by dissolving in an appropriate solvent, applying a coating solution, and drying. The UV curable resin can be formed by preparing a coating solution as it is or by dissolving it in an appropriate solvent, applying the coating solution, and irradiating with UV light to cure the resin. As UV curable resin,
For example, acrylate resins such as urethane acrylate, epoxy acrylate, and polyester acrylate can be used. These materials may be used alone or as a mixture, or may be used as a multilayer film instead of a single layer.

【００４３】保護層の形成方法としては、記録層と同様
にスピンコート法やキャスト法等の塗布法やスパッタ法
や化学蒸着法等の方法が用いられるが、この中でもスピ
ンコート法が好ましい。保護層の膜厚は、一般に0.1〜1
00μmの範囲であるが、本発明においては、３〜30μmが
好ましい。As a method of forming the protective layer, a coating method such as a spin coating method or a casting method, a sputtering method, a chemical vapor deposition method, or the like is used as in the case of the recording layer. Of these, the spin coating method is preferable. The thickness of the protective layer is generally 0.1 to 1
Although it is in the range of 00 μm, it is preferably 3 to 30 μm in the present invention.

【００４４】また、反射層面に更に基板を貼り合わせて
も良く、あるいは反射層面相互を内面とし対向させ光記
録媒体２枚を貼り合わせても良い。基板鏡面側に、表面
保護やゴミ等の付着防止のために紫外線硬化樹脂、無機
系薄膜等を成膜してもよい。なお、記録再生光の入射面
ではない面に、インクジェット、感熱転写等の各種印刷
手段或いは筆記具等にて記入（記録）が可能な印刷受容
層を形成することもできる。Further, a substrate may be further bonded to the reflective layer surface, or two optical recording media may be bonded to each other with the reflective layer surfaces facing each other. An ultraviolet curable resin, an inorganic thin film, or the like may be formed on the mirror surface of the substrate to protect the surface or prevent adhesion of dust and the like. It is to be noted that a print receiving layer which can be written (recorded) by various printing means such as ink jet, thermal transfer, or a writing instrument may be formed on a surface other than the recording / reproducing light incident surface.

【００４５】本発明の光学記録媒体について使用される
レーザー光は、高密度記録のため波長は短いほど好まし
いが、特に350〜530nmのレーザー光が好ましい。かかる
レーザー光の代表例としては、中心波長410nm、515nmの
レーザー光が挙げられる。波長350〜530nmの範囲のレー
ザー光の一例は、410nmの青色または515nmの青緑色の高
出力半導体レーザーを使用することにより得ることがで
きるが、その他、例えば、(a)基本発振波長が740〜960n
mの連続発振可能な半導体レーザー、または(b)半導体レ
ーザーによって励起され、且つ基本発振波長が740〜960
nmの連続発振可能な固体レーザーのいずれかを第二高調
波発生素子（ＳＨＧ）により波長変換することによって
も得ることができる。The laser beam used for the optical recording medium of the present invention is preferably shorter in wavelength for high-density recording, but is more preferably 350 to 530 nm. Representative examples of such laser light include laser light having center wavelengths of 410 nm and 515 nm. An example of laser light having a wavelength in the range of 350 to 530 nm can be obtained by using a high-power semiconductor laser of 410 nm blue or 515 nm turquoise.Others, for example, (a) a fundamental oscillation wavelength of 740 to 740 nm 960n
m, a semiconductor laser capable of continuous oscillation, or (b) excited by a semiconductor laser, and having a fundamental oscillation wavelength of 740 to 960.
It can also be obtained by converting the wavelength of any of solid-state lasers capable of continuous oscillation of nm using a second harmonic generation element (SHG).

【００４６】上記のＳＨＧとしては、反転対称性を欠く
ピエゾ素子であればいかなるものでもよいが、ＫＤＰ、
ＡＤＰ、ＢＮＮ、ＫＮ、ＬＢＯ、化合物半導体などが好
ましい。第二高調波の具体例としては、基本発振波長が
860nmの半導体レーザーの場合、その倍波の430nm、また
半導体レーザー励起の固体レーザーの場合は、Crドープ
したLiSrAlF₆結晶（基本発振波長860nm）からの倍波の4
30nmなどが挙げられる。The SHG may be any piezo element that does not have inversion symmetry.
ADP, BNN, KN, LBO, compound semiconductor, and the like are preferable. As a specific example of the second harmonic, the fundamental oscillation wavelength is
In the case of a semiconductor laser of 860 nm, its harmonic is 430 nm, and in the case of a solid-state laser pumped by a semiconductor laser, it is 4 which is the harmonic of a Cr-doped LiSrAlF ₆ crystal (having a fundamental oscillation wavelength of 860 nm).
30 nm and the like.

【００４７】上記のようにして得られた本発明の光学記
録媒体への記録は、基板の両面または片面に設けた記録
層に0.4〜0.6μm程度に集束したレーザー光を照射する
ことにより行う。レーザー光の照射された部分には、レ
ーザー光エネルギーの吸収による、分解、発熱、溶解等
の記録層の熱的変形が起こり、光学的特性が変化する。
記録された情報の再生は、レーザー光により、熱的変形
（光学的特性の変化）が起きている部分と起きていない
部分の反射率の差を読みとることにより行う。The recording on the optical recording medium of the present invention obtained as described above is performed by irradiating the recording layer provided on both sides or one side of the substrate with a laser beam focused to about 0.4 to 0.6 μm. In the portion irradiated with the laser beam, thermal deformation of the recording layer such as decomposition, heat generation, and melting occurs due to absorption of the laser beam energy, and the optical characteristics change.
Reproduction of recorded information is performed by reading the difference in reflectance between a portion where thermal deformation (change in optical characteristics) has occurred and a portion where thermal deformation (change in optical characteristics) has not occurred.

【００４８】[0048]

【実施例】以下本発明を実施例により更に具体的に説明
するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施
例によって限定されるものではない。 実施例１ （ａ）色素の製造EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist of the present invention. Example 1 (a) Production of dye

【００４９】[0049]

【化５】 Embedded image

【００５０】上記構造式［I］で示される3-アミノ-5-(t
ert-ブチル)-イソキサゾール１．４１ｇ（０．０１ｍｏ
ｌ）を酢酸１０ｍｌ、リン酸９ｇ中に溶解させ、０〜５
℃で攪拌し、ここに４３％ニトロシル硫酸３．５２ｇを
滴下して１時間攪拌してジアゾ化を行った。得られたジ
アゾ化反応液を、下記構造式［ＩＩ］The 3-amino-5- (t) represented by the above structural formula [I]
(ert-butyl) -isoxazole 1.41 g (0.01 mol)
l) was dissolved in 10 ml of acetic acid and 9 g of phosphoric acid.
The mixture was stirred at a temperature of 3.5 ° C., and 3.52 g of 43% nitrosylsulfuric acid was added dropwise and stirred for 1 hour to perform diazotization. The obtained diazotization reaction solution was subjected to the following structural formula [II]

【００５１】[0051]

【化６】 Embedded image

【００５２】で示される3-フェニル-5-イソキサゾロン
１．７７ｇ（０．０１１mol）、尿素０．４ｇ、酢酸ナ
トリウム３．７ｇをメタノール４０ｍｌ＋水１０ｍｌに
溶解させた溶液へ、０〜５℃、ｐＨ３〜５に調節しなが
ら滴下した。滴下終了後さらに３時間攪拌を行った後、
反応液を濾過し、濾過物を水で洗浄し、乾燥させた。こ
の粗生成物を、φ35mm×450mmのカラムに充填したシリ
カゲルを用い、展開溶媒（酢酸エチル）でクロマトグラ
フィーを行い、目的物の単離を行い、下記の構造式［Ｉ
ＩＩ］で示される化合物を１．５３ｇ（収率４９％）を
得た。A solution obtained by dissolving 1.77 g (0.011 mol) of 3-phenyl-5-isoxazolone, 0.4 g of urea, and 3.7 g of sodium acetate in 40 ml of methanol + 10 ml of water was added at 0 to 5 ° C. It was dripped while adjusting to ５5. After the addition, the mixture was further stirred for 3 hours.
The reaction was filtered and the filtrate was washed with water and dried. This crude product was subjected to chromatography using silica gel packed in a φ35 mm × 450 mm column with a developing solvent (ethyl acetate) to isolate the intended product, and the following structural formula [I
II] 1.53 g (49% yield) was obtained.

【００５３】[0053]

【化７】 Embedded image

【００５４】構造式［ＩＩＩ］の化合物０．４ｇをテト
ラヒドロフラン２５ｍｌ中に溶解し、室温で攪拌条件
下、酢酸ニッケル４水和物０．１９ｇ／メタノール３．
５ｍｌ溶液を滴下した。滴下後２時間攪拌を行い、濾過
して不溶物を除去した。その後濾液に脱塩水４５ｍｌを
加えて沈殿を析出させ、さらに２時間攪拌後、濾過をし
て生成物を採取した。生成物は水で洗浄、乾燥させて、
下記の構造式［ＩＶ］で示される金属キレート色素０．
３５ｇ（収率８０％）を得た。この化合物のマススペク
トルm/z＝３１３、クロロホルム中でのλmax＝３９６n
m、モル吸光係数は３．２×１０⁴ であった。0.4 g of the compound of the formula [III] is dissolved in 25 ml of tetrahydrofuran, and 0.19 g of nickel acetate tetrahydrate in methanol at room temperature under stirring.
5 ml solution was added dropwise. After the dropwise addition, the mixture was stirred for 2 hours and filtered to remove insolubles. Thereafter, 45 ml of demineralized water was added to the filtrate to precipitate a precipitate. After stirring for 2 hours, the product was collected by filtration. The product is washed with water, dried and
Metal chelate dye represented by the following structural formula [IV]
35 g (80% yield) were obtained. Mass spectrum of this compound m / z = 313, λmax in chloroform = 396n
m, molar extinction coefficient was 3.2 × 10 ⁴ .

【００５５】[0055]

【化８】 Embedded image

【００５６】（ｂ）評価 構造式［ＩＶ］で示される色素をオクタフルオロペンタ
ノールに溶解し、1.0wt%に調整した。これをろ過してで
きた溶解液を直径120mm、厚さ1.2mmの射出成型ポリカー
ボネート樹脂基板上に滴下し、スピナー法により塗布
し、塗布後、１００℃で３０分間乾燥した。この塗布膜
の最大吸収波長（λmax）は、４０３nmであった。(B) Evaluation The dye represented by the structural formula [IV] was dissolved in octafluoropentanol and adjusted to 1.0 wt%. A solution obtained by filtering the solution was dropped on an injection-molded polycarbonate resin substrate having a diameter of 120 mm and a thickness of 1.2 mm, applied by a spinner method, and then dried at 100 ° C. for 30 minutes. The maximum absorption wavelength (λmax) of this coating film was 403 nm.

【００５７】この塗布膜上に、スパッタリング法等にて
銀膜を成膜して反射層を形成し、更に紫外線硬化型樹脂
をスピンコート等にて塗布・ＵＶ照射により硬化させて
保護層を形成し、光学記録媒体とすることができる。こ
の光学記録媒体は、塗布膜のλmaxの値より、例えば中
心波長410nmの半導体レーザーによる記録再生が可能と
考えられる。On this coating film, a silver film is formed by a sputtering method or the like to form a reflective layer, and then a UV curable resin is applied by spin coating or the like and cured by UV irradiation to form a protective layer. Then, it can be used as an optical recording medium. This optical recording medium is considered to be capable of recording / reproducing with a semiconductor laser having a center wavelength of 410 nm, for example, based on the value of λmax of the coating film.

【００５８】[0058]

【発明の効果】本発明金属キレート色素の溶液は、短波
長のレーザー光による記録再生に適した吸収を有する塗
布膜を形成することが出来、且つ成膜性にも優れている
ので、本発明金属キレート色素を用いた記録層を有する
記録媒体は、短波長レーザーに対応する記録再生用光学
記録媒体として有用である。The solution of the metal chelate dye of the present invention can form a coating film having an absorption suitable for recording / reproducing by short-wavelength laser light and has excellent film-forming properties. A recording medium having a recording layer using a metal chelate dye is useful as an optical recording medium for recording and reproduction corresponding to a short wavelength laser.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 下記一般式（１）または（１）'で示さ
れる化合物と金属からなる金属キレート色素。 【化１】 （式(1)及び(1)'中、Ａ及びＡ'は、これが結合している
炭素原子及び窒素原子を含有する複素芳香環残基を表
し、Ｘは活性水素原子を有する基を表し、Ｙは水素原子
または任意の置換基を表す。）1. A metal chelate dye comprising a compound represented by the following general formula (1) or (1) ′ and a metal. Embedded image (In the formulas (1) and (1) ′, A and A ′ represent a heteroaromatic ring residue containing a carbon atom and a nitrogen atom to which they are bonded, X represents a group having an active hydrogen atom, Y represents a hydrogen atom or an arbitrary substituent.) 【請求項２】 一般式(1)及び(1)'において、Ａ及びＡ'
が、オキサゾール環、ピラゾール環、イミダゾール環、
イソキサゾール環、チアジアゾール環またはトリアゾー
ル環残基を表すことを特徴とする請求項１に記載の金属
キレート色素。2. In the general formulas (1) and (1) ′, A and A ′
Is an oxazole ring, a pyrazole ring, an imidazole ring,
The metal chelate dye according to claim 1, which represents an isoxazole ring, a thiadiazole ring or a triazole ring residue. 【請求項３】一般式(1)及び(1)'において、Ａ及びＡ'が
イソキサゾール環残基であることを特徴とする請求項２
記載の金属キレート色素。3. In the general formulas (1) and (1) ′, A and A ′ are isoxazole ring residues.
The metal chelate dye as described above. 【請求項４】金属が、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｚｎ及
びＰｄからなる群より選ばれることを特徴とする請求項
１乃至３の何れかに記載の金属キレート色素。4. The metal chelate dye according to claim 1, wherein the metal is selected from the group consisting of Ni, Co, Cu, Fe, Zn and Pd. 【請求項５】 基板上にレーザーによる情報の記録及
び、又は再生が可能な記録層が設けられた光学記録媒体
において、該記録層が請求項１乃至４の何れかに記載の
金属キレート色素を含有することを特徴とする光学記録
媒体。5. An optical recording medium provided with a recording layer capable of recording and / or reproducing information by a laser on a substrate, wherein the recording layer comprises the metal chelate dye according to claim 1. An optical recording medium characterized by containing. 【請求項６】 情報の記録又は再生のレーザー波長が35
0nm〜530nmであることを特徴とする請求項５に記載の光
学記録媒体。6. The laser wavelength for recording or reproducing information is 35.
The optical recording medium according to claim 5, wherein the optical recording medium has a thickness of 0 nm to 530 nm.