JP4519036B2 - 加熱装置、塗布、現像装置及び加熱方法 - Google Patents
加熱装置、塗布、現像装置及び加熱方法 Download PDFInfo
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基板を水平に保持する基板保持部と、
この基板保持部の上方側に基板と対向するように設けられた上部加熱手段と、
前記基板保持部に保持された基板の側方から上部加熱手段の周囲に至るまでの領域を囲んで加熱雰囲気を形成する囲い部材と、
前記基板保持部を、基板の受け取り位置と基板が前記囲い部材により囲まれて加熱処理される処理位置との間で、上部加熱手段に対して相対的に昇降させる昇降手段と、
基板の加熱処理温度に応じた、上部加熱手段に対する基板の相対高さ位置となるように前記昇降手段を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする。
前記基板保持部はこの下部筒状体に設けられ、
前記昇降手段は、この下部筒状体を、基板保持部に対して基板の受け渡しが行われるときに位置する低位置と基板の加熱処理時に位置する高位置との間で上部筒状体に対して相対的に昇降させる構成を採用してもよい。
基板と対向するように設けられた上部加熱手段に対する基板の相対高さ位置と基板の加熱処理温度とを対応付けた記憶部内のデータから、基板の加熱処理温度に対応する基板の相対高さ位置を読み出す工程と、
読み出した基板の相対高さ位置となるように前記基板保持部を、上部加熱手段に対して相対的に上昇させ、基板を囲い部材により囲まれて加熱処理される位置に置く工程と、を含むことを特徴とする。なお、前記上部加熱手段は、例えば下面が開口すると共に基板を囲むように構成された上部筒状体内に設けられており、この上部筒状体の側壁は、少なくとも前記囲い部材の一部をなしている。
2 加熱装置
4 処理容器
41 上部筒状体
42 下部筒状体
44 ガス供給管
45 ガス供給部
46 加熱プレート
48 整流板
5 基台
53 駆動部
6 載置台
60 電装エリア
71,72 排気管
73 排気ポンプ
8 制御部
81 記憶部
82 制御プログラム
83 データ処理
Claims (16)
- 基板を加熱処理し、加熱処理温度が複数用意されている加熱装置であって、
基板を水平に保持する基板保持部と、
この基板保持部の上方側に基板と対向するように設けられた上部加熱手段と、
前記基板保持部に保持された基板の側方から上部加熱手段の周囲に至るまでの領域を囲んで加熱雰囲気を形成する囲い部材と、
前記基板保持部を、基板の受け取り位置と基板が前記囲い部材により囲まれて加熱処理される処理位置との間で、上部加熱手段に対して相対的に昇降させる昇降手段と、
基板の加熱処理温度に応じた、上部加熱手段に対する基板の相対高さ位置となるように前記昇降手段を制御する制御部と、を備えたことを特徴とする加熱装置。 - 前記基板保持部の上方側に、下面が開口すると共に基板を囲むように構成された上部筒状体を設け、
上部加熱手段はこの上部筒状体内に設けられ、
この上部筒状体の側壁は、少なくとも前記囲い部材の一部をなすことを特徴とする請求項1記載の加熱装置。 - 上面が開口し、基板の加熱処理時に前記上部筒状体の側周壁とその側周壁とが互いに重なり合って閉じられた空間を形成するための下部筒状体を備え、
前記基板保持部はこの下部筒状体に設けられ、
前記昇降手段は、この下部筒状体を、基板保持部に対して基板の受け渡しが行われるときに位置する低位置と基板の加熱処理時に位置する高位置との間で上部筒状体に対して相対的に昇降させるように構成されていることを特徴とする請求項1または2記載の加熱装置。 - 上部筒状体の開口端面及び下部筒状体の開口端面の少なくとも一方には、上下方向に伸びる溝が周方向に沿って形成され、上部筒状体及び下部筒状体の他方の側周壁が前記溝に入り込むことにより、側壁同士が互いに重なり合うことを特徴とする請求項3記載の加熱装置。
- 基板の加熱雰囲気をパージするためのパージガスを供給する
ガス供給手段を備え、
このガス供給手段により供給されたパージガスを整流するために基板と上部加熱手段との間に設けられた整流板と、を備えたことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一に記載の加熱装置。 - 上部加熱手段に対する基板の相対高さ位置と基板の加熱処理温度とを対応付けたデータを格納する記憶部と、
前記制御部は、基板の加熱処理温度に応じた基板の高さ位置を前記記憶部から読み出して、前記第1の昇降手段を制御することを特徴とする請求項1ないし5のいずれか一に記載の加熱装置。 - 前記囲い部材に、基板を囲むように側部加熱手段が設けられたことを特徴とする請求項1ないし6のいずれか一に記載の加熱装置。
- 前記側部加熱手段は、上下方向に設けられた複数段のヒータを含み、下段側のヒータほど設定温度が低いことを特徴とする請求項7記載の加熱装置。
- 前記側部加熱手段は、上下方向に設けられた複数段のヒータを含み、前記囲い部材は、末広がりの形状に成形されていて、下段側のヒータほど基板から離れていることを特徴とする請求項7記載の加熱装置。
- 複数枚の基板を収納したキャリアが搬入されるキャリアブロックと、
前記キャリアから取り出された基板の表面にレジストを塗布する塗布部と、露光後の基板を現像する現像処理部と、を含む処理ブロックと、
この処理ブロックと露光装置との間で基板の受け渡しを行うインターフェイス部と、を備えた塗布、現像装置において、
前記処理ブロックに、請求項1ないし9のいずれか一に記載の加熱装置を設けたことを特徴とする塗布、現像装置。 - 基板を基板保持部に水平に保持する工程と、
基板と対向するように設けられた上部加熱手段に対する基板の相対高さ位置と基板の加熱処理温度とを対応付けた記憶部内のデータから、基板の加熱処理温度に対応する基板の相対高さ位置を読み出す工程と、
読み出した基板の相対高さ位置となるように前記基板保持部を、上部加熱手段に対して相対的に上昇させ、基板を囲い部材により囲まれて加熱処理される位置に置く工程と、を含むことを特徴とする加熱方法。 - 下面が開口すると共に基板を囲むように構成された上部筒状体内に上部加熱手段が設けられ、この上部筒状体の側壁は、少なくとも前記囲い部材の一部をなすことを特徴とする請求項11記載の加熱方法。
- 上面が開口すると共に基板保持部が設けられた下部筒状体を、基板の加熱処理時に、基板保持部に対して基板の受け渡しが行われるときに位置する低位置から、上部筒状体の側周壁とその側周壁とが互いに重なり合って閉じられた空間を形成する高位置まで上昇させる工程を含むことを特徴とする請求項11または12記載の加熱方法。
- 基板と上部加熱手段との間に設けられた整流板の上側にパージガスを供給し、このガスを整流板を介して下降させて基板の加熱雰囲気をパージする工程を含むことを特徴とする請求項11ないし13のいずれか一に記載の加熱方法。
- 上部筒状体の開口端面及び下部筒状体の開口端面の少なくとも一方には、上下方向に伸びる溝が周方向に沿って形成され、上部筒状体及び下部筒状体の他方の側周壁が前記溝に入り込むことにより、側壁同士が互いに重なり合うことを特徴とする請求項13に記載の加熱方法。
- 基板は、前記上部加熱手段と、前記囲い部材に基板を囲むように設けられた側部加熱手段とにより、加熱されることを特徴とする請求項11ないし15のいずれか一に記載の加熱方法。
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