JP4515280B2 - ガスバリア薄膜が成膜されたプラスチック容器の製造装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
前記プラスチック容器の内部又は前記プラスチック容器の口の上方に配置した接地電極と、
前記真空チャンバの内部を排気する排気手段と、
ガスバリア薄膜の原料ガスを前記プラスチック容器の内部に供給する原料ガス供給手段と、
前記導電性薄膜に高周波電力を供給する高周波供給手段と、
を備えることを特徴とする。容器の内表面にガスバリア薄膜を成膜することができる。
前記真空チャンバの内部を排気する排気手段と、
ガスバリア薄膜の原料ガスを前記真空チャンバの内部で且つ前記プラスチック容器の外部の空間に供給する原料ガス供給手段と、
前記導電性薄膜に高周波電力を供給する高周波供給手段と、
を備えることを特徴とする。容器の外表面にガスバリア薄膜を成膜することができる。
図1はガスバリア薄膜が成膜されたプラスチック容器の製造装置の第1実施形態を示す概略構成図である。図1において真空チャンバ4については容器の鉛直方向の断面概略図である。本実施形態に係る製造装置100は、内表面に導電性薄膜が成膜されているプラスチック容器の内面、すなわち導電性薄膜の上にガスバリア膜を成膜する装置である。本実施形態に係る製造装置100は、内表面に導電性薄膜8が成膜されているプラスチック容器6を収容する真空チャンバ4と、プラスチック容器6の内部に配置した接地電極5と、真空チャンバ4の内部を排気する排気手段18と、ガスバリア薄膜の原料ガスをプラスチック容器6の内部に供給する原料ガス供給手段15と、導電性薄膜8に高周波電力を供給する高周波供給手段12と、を備える。
図2はガスバリア薄膜が成膜されたプラスチック容器の製造装置の第2実施形態を示す概略構成図である。図2において真空チャンバ4については容器の鉛直方向の断面概略図である。本実施形態に係る製造装置200は、外表面に導電性薄膜が成膜されているプラスチック容器の内面、すなわち導電性薄膜8が成膜されている面の裏面側にガスバリア薄膜を成膜する装置である。第1実施形態の製造装置100と比較すると、プラスチック容器6の外表面に成膜された導電性薄膜8に高周波電力を供給するために、端子9がプラスチック容器6の外表面側に配置されている。導電性薄膜8と端子9との導通箇所を容器の胴部としたが、底部、肩部、首部又は口部であっても良い。端子9は複数個設けても良い。第2実施形態においても、容器と完全に相似形状の電極を使用する場合と同等の成膜条件を実現することが可能である。
図3はガスバリア薄膜が成膜されたプラスチック容器の製造装置の第3実施形態を示す概略構成図である。図3において真空チャンバ4については容器の鉛直方向の断面概略図である。本実施形態に係る製造装置300は、内表面に導電性薄膜が成膜されているプラスチック容器の外面、すなわち導電性薄膜8が成膜されている面の裏面側にガスバリア薄膜を成膜する装置である。本実施形態に係る製造装置300は、容器の内表面に導電性薄膜8が成膜されているプラスチック容器6を収容し、且つ、少なくともプラスチック容器6を取り囲む収容部1が導電材で形成されている真空チャンバ4と、真空チャンバ4の内部を排気する排気手段18と、ガスバリア薄膜の原料ガスを真空チャンバ4の内部で且つプラスチック容器6の外部の空間に供給する原料ガス供給手段15と、導電性薄膜8に高周波電力を供給する高周波供給手段12と、を備える。第1実施形態の製造装置100との違いを説明する。
図4はガスバリア薄膜が成膜されたプラスチック容器の製造装置の第4実施形態を示す概略構成図である。図4において真空チャンバ4については容器の鉛直方向の断面概略図である。本実施形態に係る製造装置400は、外表面に導電性薄膜が成膜されているプラスチック容器の外面、すなわち導電性薄膜8の上にガスバリア薄膜を成膜する装置である。本実施形態に係る製造装置400は、容器の外表面に導電性薄膜8が成膜されているプラスチック容器6を収容し、且つ、少なくともプラスチック容器6を取り囲む収容部1が導電材で形成されている真空チャンバ4と、真空チャンバ4の内部を排気する排気手段18と、ガスバリア薄膜の原料ガスを真空チャンバ4の内部で且つプラスチック容器6の外部の空間に供給する原料ガス供給手段15と、導電性薄膜8に高周波電力を供給する高周波供給手段12と、を備える。
第1実施形態又は第2実施形態の製造装置における製造方法は、第1実施形態の製造装置が容器の内表面に成膜された導電性薄膜に高周波電力を供給することに対して、第2実施形態の製造装置が容器の外表面に成膜された導電性薄膜に高周波電力を供給することの違いがあるのみであるため、製造プロセスは同様である。ガスバリア薄膜の成膜面はいずれも容器の内表面である。なお、第1実施形態の製造装置では、導電性薄膜の上にガスバリア薄膜を成膜し、第2実施形態の製造装置では、導電性薄膜が成膜されている面の裏面側にガスバリア薄膜を成膜する。そこで、図2を参照しながら第2実施形態の製造装置200を用いてプラスチック容器6の内表面にDLC膜を形成する場合の手順について説明する。プラスチック容器6は丸型500mlのPETボトルとする。容器壁の肉厚は約0.3mmとする。
まず、プラスチック容器の外表面に真空蒸着法を用いて、導電性薄膜としてアルミニウム薄膜を全面に成膜する。アルミニウム薄膜の膜厚は、約2μmとした。
次に、ベント(不図示)を開いて真空チャンバ4内を大気開放する。次に、収容部1と絶縁部材2を分離し、プラスチック容器6を真空チャンバ4の内部に収容する。そして、プラスチック容器6は、収容部1、絶縁部材2及び蓋部3が形成する密封された真空チャンバ4内に収容された状態とする。このとき真空チャンバ4に設けられた原料ガス導入管を兼ねた接地電極5が、プラスチック容器6の開口部を通してプラスチック容器6の内部に挿入されている。
次いでベントを閉じたのち、排気手段18を作動させて真空チャンバ4内の空気が蓋部3に設けた排気口を通して排気される。そして真空チャンバ4内が必要な真空度、例えば4Paに到達するまで減圧される。これは、4Paを超える真空度で良いとすると容器内に不純物が多くなり過ぎるためである。
その後、原料ガス供給手段15から流量制御されて送られた原料ガス(例えば、アセチレンガス)が、接地電極5の吹き出し口5aからプラスチック容器6の内部に導入される。この原料ガスの供給量は、20〜50ml/minが好ましい。原料ガスの濃度が一定となり、制御されたガス流量と排気能力のバランスによって所定の成膜圧力、例えば7〜22Paで安定させる。
高周波電源11を動作させることによりマッチングボックス10を介して接地電極5と容器の外表面に成膜された導電性薄膜8との間に高周波電圧が印加され、プラスチック容器6内に原料ガス系プラズマが発生する。このとき、マッチングボックス10は、接地電極5と導電性薄膜8のインピーダンスに、インダクタンスL、キャパシタンスCによって合わせている。これによって、プラスチック容器6の内表面にDLC膜が形成される。なお、高周波電源11の出力(例えば13.56MHz)は、おおよそ1000〜2000Wである。
高周波電源11からのRF出力を停止し、さらに原料ガスの供給を停止する。この後、真空チャンバ4内のアセチレンガスを排気ポンプ17によって排気する。その後、真空バルブ16を閉じ、排気ポンプ17を停止する。この後、ベント(不図示)を開いて真空チャンバ4内を大気開放し、前述した成膜方法を繰り返すことにより、次に準備されたプラスチック容器にDLC膜が成膜される。DLC膜の膜厚は5〜80nmとなるように形成する。
第3実施形態又は第4実施形態の製造装置における製造方法は、第3実施形態の製造装置が容器の内表面に成膜された導電性薄膜に高周波電力を供給することに対して、第4実施形態の製造装置が容器の外表面に成膜された導電性薄膜に高周波電力を供給することの違いがあるのみであるため、製造プロセスは同様である。ガスバリア薄膜の成膜面はいずれも容器の外表面である。なお、第3実施形態の製造装置では、導電性薄膜の上にガスバリア薄膜を成膜し、第4実施形態の製造装置では、導電性薄膜が成膜されている面の裏面側にガスバリア薄膜を成膜する。そこで、図4を参照しながら第4実施形態の製造装置400を用いてプラスチック容器6の外表面にDLC膜を形成する場合の手順について説明する。プラスチック容器6は丸型500mlのPETボトルとする。容器壁の肉厚は約0.3mmとする。
導電性薄膜を成膜した容器の準備の工程は、第2実施形態の製造装置を用いて製造する場合と同様である。
ベント(不図示)を開いて真空チャンバ4内を大気開放する。次に、収容部1と絶縁部材2を分離し、プラスチック容器6を真空チャンバ4の内部に収容する。そして、プラスチック容器6は、収容部1、絶縁部材2及び蓋部3が形成する密封された真空チャンバ4内に収容された状態とする。原料ガス導入管20は、容器の外部側に配置されている。
減圧操作の工程は、第2実施形態の製造装置を用いて製造する場合と同様である。
その後、原料ガス供給手段15から流量制御されて送られた原料ガス(例えば、アセチレンガス)が、原料ガス導入管20の吹き出し口20aからプラスチック容器6の外部の空間に導入される。この原料ガスの供給量は、20〜50ml/minが好ましい。原料ガスの濃度が一定となり、制御されたガス流量と排気能力のバランスによって所定の成膜圧力、例えば7〜22Paで安定させる。
高周波電源11を動作させることによりマッチングボックス10を介して収容部1と容器の外表面に成膜された導電性薄膜8との間に高周波電圧が印加され、プラスチック容器6の外側空間内に原料ガス系プラズマが発生する。このとき、マッチングボックス10は、収容部1と導電性薄膜8のインピーダンスに、インダクタンスL、キャパシタンスCによって合わせている。これによって、プラスチック容器6の外表面にDLC膜が形成される。なお、高周波電源11の出力(例えば13.56MHz)は、おおよそ1000〜2000Wである。
成膜の終了の工程は、第2実施形態の製造装置を用いて製造する場合と同様である。DLC膜の膜厚は5〜80nmとなるように形成する。
(1)容器の内表面に導電性薄膜が成膜されていて、且つ、その導電性薄膜の上にガスバリア薄膜が成膜されているプラスチック容器。この容器の場合、導電性薄膜がガスバリア薄膜の密着強化層となりうる。
(2)容器の内表面に導電性薄膜が成膜されていて、且つ、ガスバリア薄膜が容器の外表面に成膜されているプラスチック容器。
(3)容器の外表面に導電性薄膜が成膜されていて、且つ、その導電性薄膜の上にガスバリア薄膜が成膜されているプラスチック容器。この容器の場合、導電性薄膜がガスバリア薄膜の密着強化層となりうる。
(4)容器の外表面に導電性薄膜が成膜されていて、且つ、ガスバリア薄膜が容器の内表面に成膜されているプラスチック容器。
2,絶縁部材
3,蓋部
4,真空チャンバ
5,接地電極
5a,吹き出し口
6,プラスチック容器
7,空間
8,導電性薄膜
9,端子
10,マッチングボックス
11,高周波電源
12,高周波供給手段
13,管路
14,原料ガス発生源
15,原料ガス供給手段
16,真空バルブ
17,排気ポンプ
18,排気手段
20,原料ガス導入管
20a,吹き出し口
21,ガス流路
100,200,300,400,製造装置
Claims (6)
- 容器の内表面又は外表面の少なくとも一方の表面に導電性薄膜が成膜されているプラスチック容器を収容する真空チャンバと、
前記プラスチック容器の内部又は前記プラスチック容器の口の上方に配置した接地電極と、
前記真空チャンバの内部を排気する排気手段と、
ガスバリア薄膜の原料ガスを前記プラスチック容器の内部に供給する原料ガス供給手段と、
前記導電性薄膜に高周波電力を供給する高周波供給手段と、
を備えることを特徴とするガスバリア薄膜が成膜されたプラスチック容器の製造装置。 - 容器の内表面又は外表面の少なくとも一方の表面に導電性薄膜が成膜されているプラスチック容器を収容し、且つ、少なくとも該プラスチック容器を取り囲む収容部分が導電材で形成されている真空チャンバと、
前記真空チャンバの内部を排気する排気手段と、
ガスバリア薄膜の原料ガスを前記真空チャンバの内部で且つ前記プラスチック容器の外部の空間に供給する原料ガス供給手段と、
前記導電性薄膜に高周波電力を供給する高周波供給手段と、
を備えることを特徴とするガスバリア薄膜が成膜されたプラスチック容器の製造装置。 - プラスチック容器の内表面又は外表面の少なくとも一方の表面に導電性薄膜を成膜する工程と、
前記プラスチック容器の内部の空間に原料ガスを供給する工程と、
前記プラスチック容器の内部又は前記プラスチック容器の口の上方に接地された電極を配置する工程と、
前記導電性薄膜に高周波電力を供給して、前記原料ガスをプラズマ化させ、該原料ガスと接触している前記プラスチック容器の内表面に、ガスバリア薄膜を成膜することを特徴とするガスバリア薄膜が成膜されたプラスチック容器の製造方法。 - プラスチック容器の内表面又は外表面の少なくとも一方の表面に導電性薄膜を成膜する工程と、
導電材で形成され、接地された真空チャンバの収容部に前記プラスチック容器を収容する工程と、
前記収容部のうち、前記プラスチック容器の外部の空間に原料ガスを供給する工程と、
前記導電性薄膜に高周波電力を供給して、前記原料ガスをプラズマ化させ、該原料ガスと接触している前記プラスチック容器の外表面に、ガスバリア薄膜を成膜することを特徴とするガスバリア薄膜が成膜されたプラスチック容器の製造方法。 - 前記導電性薄膜の上に前記ガスバリア薄膜を成膜することを特徴とする請求項3又は4記載のガスバリア薄膜が成膜されたプラスチック容器の製造方法。
- 前記導電性薄膜が成膜されている面の裏面側に前記ガスバリア薄膜を成膜することを特徴とする請求項3又は4記載のガスバリア薄膜が成膜されたプラスチック容器の製造方法。
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