JP4507967B2 - 基板の洗浄装置 - Google Patents
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Description
前記オゾン氷粒状粉の大きさが、1μm以上3mm以下であることが望ましい。
本発明の実施形態について詳細に説明する。図1は、第1実施形態における洗浄装置100の全体構成を示す概略説明図である。
次に、本発明の第2実施形態について詳細に説明する。第2実施形態は、前述の第1実施形態におけるオゾン液に変えて、吐出ノズル27からオゾン氷粒状粉を吐出させるオゾン液生成部20の構成、および、機構部10の構成が一部異なる。なお、前述の第1実施形態と同じ、あるいは同様な機能を有する構成部分(要素)には同一符号を付し、同様な工程についても、説明を省略する。
(2)オゾン氷粒状粉を基板W上に加圧噴射することで、基板W上に付着した有機物などを物理的な作用で除去して洗浄できる。さらに、オゾン氷粒状粉が基板Wに衝突するときに発生する熱でオゾン氷粒状粉が融解してオゾン液に変換するから、オゾン液中のオゾンのケミカル的な作用によっても洗浄できる。よって、物理的な作用とケミカル的な作用との相乗作用によって、基板W上に付着した有機物などをむらなく除去できるので、基板Wの清浄度がより高くなる。
(3)基板Wを積極的に加熱することで、基板W上に付着したオゾン氷粒状粉をより早くオゾン液に変換できることとなり、オゾン液中に含まれているオゾンのケミカル的な作用による洗浄が促進されるので、基板Wを洗浄する時間が短縮でき、効率的である。
(4)オゾン氷粒状粉の大きさが、1μm以上3mm以下なので、基板W上に付着した有機物を除去しやすくなるので、洗浄処理時間をより短縮できる。
(5)加圧噴射の圧力が、0.01MPa以上なので、基板W上に付着した有機物を吹き飛ばすことができる。有機物を吹き飛ばすことによって、基板W上に付着した有機物の数量が減少するので、洗浄処理時間をさらに短縮できる。
Claims (1)
- オゾン水、またはオゾン液によって基板を洗浄する基板の洗浄装置であって、
前記基板を支持し、前記基板を回転させる回転テーブルを備えた支持部と、
オゾン水を生成させるオゾン水生成部と、
前記オゾン水を凍結させオゾン氷にするオゾン氷生成部と、
前記オゾン氷を粉砕し、オゾン氷粒状粉にするオゾン氷粒状粉生成部と、
前記オゾン氷粒状粉を融解させオゾン液にするオゾン氷融解部と、
前記支持部に支持された前記基板に、前記オゾン水、または前記オゾン液を吐出する吐出部と、
前記オゾン水生成部から前記吐出部へ前記オゾン水を直接流通させる径路と、
を備え、
前記回転テーブルで前記基板を回転させるとともに、前記オゾン水を、または前記オゾン氷を融解しながら前記オゾン液を、前記吐出部から吐出することにより前記基板を洗浄し、
前記オゾン水の生成中に前記基板の洗浄が行われるときは、前記オゾン水生成部から前記吐出部へ前記オゾン水を直接流通させることにより、前記オゾン水を前記吐出部から吐出し、
前記オゾン水の生成中に前記基板の洗浄が行われないときは、前記オゾン水を前記オゾン氷生成部へ送り、前記オゾン水を凍結させ前記オゾン氷にすることを特徴とする基板の洗浄装置。
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