JP4507964B2 - Display device and manufacturing method of display device - Google Patents

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本発明は、表示装置およびその製造方法に関し、特には有機EL素子のような発光素子を基板上に配列形成してなり、所望の発光色を選択的に取り出すことができる面発光型の表示装置およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a display device and a method for manufacturing the same, and more particularly to a surface-emitting display device in which light-emitting elements such as organic EL elements are arrayed on a substrate and a desired emission color can be selectively extracted. And a manufacturing method thereof.

近年、ブラウン管(CRT)に代わる表示装置として、軽量で消費電力の小さいフラット表示装置の研究、開発が盛に行われている。このうち、無機EL素子や有機EL素子などの自発光型の表示素子(いわゆる発光素子)を用いた表示装置は、低消費電力での駆動が可能な表示装置として注目されている。   In recent years, research and development of a flat display device that is lightweight and consumes little power has been actively conducted as a display device that replaces a cathode ray tube (CRT). Among these, display devices using self-luminous display elements (so-called light-emitting elements) such as inorganic EL elements and organic EL elements are attracting attention as display devices that can be driven with low power consumption.

このような発光素子を用いた表示装置をフルカラー化する構成としては、たとえば(1)青、緑、赤に発光する発光素子を配列した構成、(2)白色発光素子にカラーフィルタを組み合わせた構成、(3)白色または青色発光素子に色変換フィルタを組み合わせる構成等が提案されている。   For example, (1) a configuration in which light emitting elements that emit light in blue, green, and red are arranged, and (2) a configuration in which a color filter is combined with a white light emitting element. (3) A configuration in which a color conversion filter is combined with a white or blue light emitting element has been proposed.

上記(1)に係る構成では、発光層を含む機能層がパターン形成されるが、精度に限界があり、発光素子および発光素子間の微細化や大型化が困難である。   In the configuration according to the above (1), the functional layer including the light emitting layer is patterned, but the accuracy is limited, and it is difficult to make the light emitting element and the light emitting element between minute and large.

これに対して、上記(2)および(3)の構成では、各発光素子において同一の波長領域の光を発光させれば良いため、発光層を含む機能層を色毎に作り分ける必要はない。このため、各発光素子の設計を含む製造工程は(1)に係る構成と比較して簡便である。ところが、(2)の構成ではカラーフィルタで不要な発光成分を吸収するため、発光効率が低下し、消費電力や素子寿命にとって負荷が大きい。さらに、一般的に量産可能なカラーフィルタの透過特性では、発光素子での白色発光を色純度よく青、緑、赤にフィルタリングすることができず、取り出し光は波長分布の広い色再現性に乏しい表示装置しかできない。   On the other hand, in the configurations (2) and (3), it is only necessary to cause each light emitting element to emit light in the same wavelength region, and therefore it is not necessary to create a functional layer including a light emitting layer for each color. . For this reason, the manufacturing process including the design of each light emitting element is simpler than the configuration according to (1). However, in the configuration of (2), unnecessary light emitting components are absorbed by the color filter, so that the light emission efficiency is lowered and the load is large for power consumption and element life. Furthermore, the transmission characteristics of color filters that are generally mass-produced cannot filter white light emitted from light-emitting elements into blue, green, and red with high color purity, and the extracted light has poor color reproducibility with a wide wavelength distribution. Only a display device can be used.

また、上記(3)の構成では色変換フィルタの変換効率が低いこと、色変換フィルタの製造が困難なこと、色変換フィルタの寿命、色変換後の発光色の色純度等に課題があり実用化が困難である。   In the configuration (3), the conversion efficiency of the color conversion filter is low, the manufacture of the color conversion filter is difficult, the life of the color conversion filter, the color purity of the luminescent color after color conversion, and the like are practical. Is difficult.

一方で、従来の表示装置は、各色(赤(R),緑(G),青(B))の自発光素子を有する発光ユニット数の最適化がなされておらず、発光効率の悪い色の表示画素から必要な輝度を得るためには、他の発光効率の良い色の表示画素よりも大きな電流を流さなければならない。それによって、発光効率の悪い色の表示画素の寿命が短くなってしまい、各色の劣化速度が異なることにより、ホワイトバランスのズレが生じる。   On the other hand, the conventional display device is not optimized for the number of light emitting units having self-light emitting elements of each color (red (R), green (G), blue (B)), and has a color with poor luminous efficiency. In order to obtain the necessary luminance from the display pixel, it is necessary to pass a larger current than other display pixels with good luminous efficiency. As a result, the lifetime of the display pixel having a color with low luminous efficiency is shortened, and the white balance is shifted due to the different deterioration rates of the respective colors.

この問題を解決するために、各色の表示画素のうちいずれかの色の表示画素の発光面積を、他の色の表示画素の発光面積と異ならせることにより、各自発光素子の発光効率、劣化速度の違いによるホワイトバランスのズレを軽減させることが提案されている(特許文献1)。   In order to solve this problem, the light emission area of one of the display pixels of each color is made different from the light emission area of the display pixel of the other color, so that the light emission efficiency and deterioration rate of each self-light emitting element are obtained. It has been proposed to reduce the deviation of white balance due to the difference between the two (Patent Document 1).

また、RGBの発光ユニットを接続層を介して積層することによりタンデム型白色素子とし、カラーフィルタを用いてフルカラー化する方法も提案されている。例えば、特許文献2において、色の異なるサブピクセルを上下に積層し、RGBの発光面積を調節し、最適化することが提案されている。   In addition, a method has been proposed in which RGB light emitting units are stacked through a connection layer to form a tandem white element and a full color is obtained using a color filter. For example, Patent Document 2 proposes that subpixels having different colors are stacked one above the other to adjust and optimize the RGB emission area.

特開2001−290441号公報JP 2001-290441 A 特開2004−79538号公報JP 2004-79538 A

しかし、陽極と陰極との間で発光ユニットが発した光を共振させる共振器構造の表示装置では、共振部の光学的距離を正確に設定するのが困難である。また、RGBの積層タンデム白色素子を適用した場合、RGB各色の位置設定により、最終的な光取り出し量が大きく異なるため、発光ユニットの積層順、また発光ユニット数の設定が非常に重要となる。特許文献2においては、積層順による光の取り出し易さについての記述はない。   However, in a display device having a resonator structure that resonates light emitted from the light emitting unit between the anode and the cathode, it is difficult to accurately set the optical distance of the resonance part. In addition, when an RGB stacked tandem white element is applied, the final light extraction amount varies greatly depending on the position setting of each RGB color, and therefore, the stacking order of the light emitting units and the setting of the number of light emitting units are very important. In patent document 2, there is no description about the easiness of taking out light by the order of lamination.

本発明は、このような課題を解決するために成されたものである。すなわち、本発明は、上部電極と下部電極との間に機能層が配置され、上部電極と下部電極との間を共振部として機能層で発光した光を共振させて取り出す発光素子を備えており、異なる波長に対応させた少なくとも3つの発光素子を組みとしてピクセルを構成する表示装置において、ピクセルを構成する第1の発光素子における共振部の光学的距離と第2の発光素子における共振部の光学的距離とが等しくなるよう設けられ、第1の発光素子における前記共振部の光学的距離と第3の発光素子における共振部の光学的距離とが異なるよう設けられ、さらに、3つの発光素子における上部電極と下部電極との間および機能層の膜厚が、目的とする波長を共振させる共振部となるように設定されているものである。そして、第1の発光素子の光取り出し面側には、共振部で共振して取り出される波長領域のうち第1の発光素子が目的とする波長領域の光を透過するカラーフィルタが設けられており、第2の発光素子の光取り出し面側には、共振部で共振して取り出される波長領域のうち第2の発光素子が目的とする波長領域の光を透過するカラーフィルタが設けられているものとする。 The present invention has been made to solve such problems. That is, the present invention includes a light emitting element in which a functional layer is disposed between an upper electrode and a lower electrode, and the light emitted from the functional layer is resonated and extracted with a resonance portion between the upper electrode and the lower electrode. In the display device in which the pixel is configured by combining at least three light emitting elements corresponding to different wavelengths, the optical distance of the resonant part in the first light emitting element and the optical of the resonant part in the second light emitting element Provided such that the optical distance of the resonance part in the first light emitting element is different from the optical distance of the resonance part in the third light emitting element. The film thickness between the upper electrode and the lower electrode and the functional layer is set so as to be a resonance part that resonates the target wavelength . On the light extraction surface side of the first light emitting element, a color filter that transmits light in a wavelength region intended by the first light emitting element out of the wavelength region that is resonated and extracted by the resonance unit is provided. The second light-emitting element is provided with a color filter that transmits light in a wavelength region intended by the second light-emitting element, out of the wavelength region that is resonated and extracted by the resonance unit, on the light extraction surface side of the second light-emitting element And

このような本発明では、少なくとも3つの発光素子を組みとするピクセルを備えた共振器構造の表示装置において、第1の発光素子における共振部の光学的距離と第2の発光素子における共振部の光学的距離とが等しくなるよう設けられ、第1の発光素子における前記共振部の光学的距離と第3の発光素子における共振部の光学的距離とが異なるよう設けられているため、光学的距離として2種類を設定すればよいことから、容易かつ正確に共振器構造の表示装置を実現できるようになる。   According to the present invention, in the display device having the resonator structure including the pixel including at least three light emitting elements, the optical distance of the resonance part in the first light emitting element and the resonance part in the second light emitting element. The optical distance is equal, and the optical distance of the resonance part in the first light emitting element is different from the optical distance of the resonance part in the third light emitting element. Since it is sufficient to set two types as follows, a display device having a resonator structure can be realized easily and accurately.

ここで、発光ユニットとは、従来の有機EL素子を構成する要素のうち、陰極と陽極を除いた構成要素、つまり発光層単層や、発光層に電子注入層や電子輸送層、正孔注入層や正孔輸送層などを含む複数層であり、1色もしくは多色に対応した光を発生させる層の単位である。また、機能層とは従来型(単一発光ユニットを持つ形態)、タンデム型を問わず、有機EL素子中の陰極と陽極を除いた層単位である。この機能層と上部電極および下部電極(透明導電膜等の透明膜も含む)を含む構成を発光素子と言う。また、この発光素子が3つ以上基板に配列されることで1ピクセルを構成し、このピクセルが例えばマトリクス状に配置されることで面状の表示装置となる。   Here, the light emitting unit is a component excluding the cathode and the anode among the components constituting the conventional organic EL element, that is, a single light emitting layer, an electron injection layer, an electron transport layer, and a hole injection in the light emitting layer. It is a plurality of layers including a layer, a hole transport layer, and the like, and is a unit of a layer that generates light corresponding to one color or multiple colors. In addition, the functional layer is a layer unit excluding the cathode and the anode in the organic EL element, regardless of the conventional type (form having a single light emitting unit) or the tandem type. A structure including this functional layer, an upper electrode, and a lower electrode (including a transparent film such as a transparent conductive film) is referred to as a light emitting element. Further, three or more light emitting elements are arranged on a substrate to constitute one pixel, and the pixels are arranged in, for example, a matrix to form a planar display device.

発光素子における共振部は、例えば、光反射材料からなるミラーと光半透過性のハーフミラーとの間に少なくとも機能層が挟持された構成であり、この機能層の発光ユニットで発光した光をミラーとハーフミラーとの間で共振させてハーフミラー側から取り出すようにしている。ハーフミラーとしては、所定の反射率、透過率を備えた無機膜、有機膜や、発光ユニットとして用いられる有機膜との間で屈折率が異なるほぼ透明の膜が用いられる。また、共振部での共振としては、相対強度が高まるもののほか、相対強度がそれほど高くならない干渉状態も含むものとする。そして、各色の発光ユニットは発光効率が低い順番に光取り出しが容易な位置に設定されている。   The resonating part in the light emitting element has, for example, a structure in which at least a functional layer is sandwiched between a mirror made of a light reflecting material and a semi-transparent half mirror, and the light emitted from the light emitting unit of the functional layer is mirrored. And the half mirror to resonate and take out from the half mirror side. As the half mirror, an almost transparent film having a refractive index different from that of an inorganic film or an organic film having a predetermined reflectance and transmittance and an organic film used as a light emitting unit is used. In addition, the resonance in the resonance part includes not only the case where the relative intensity is increased but also an interference state where the relative intensity is not so high. The light emitting units of the respective colors are set at positions where light can be easily extracted in order of decreasing luminous efficiency.

このような構成の表示装置では、発光ユニットとして同一構成の積層有機層を用い、各発光素子に設定されたミラーとハーフミラーとの間の共振部の光学的距離に対応する波長領域の光が共振によって強められた状態で取り出される。このため、同一構成の発光ユニットを持つ発光素子を用いながらも、所望の発光波長の取り出し効率が十分な大きさとなるように各発光素子におけるミラーとハーフミラーの間の光学的距離および積層順、ならびに位置を設計することで、各発光素子からは異なる発光色の光を取り出すことができる。   In the display device having such a configuration, a stacked organic layer having the same configuration is used as the light emitting unit, and light in a wavelength region corresponding to the optical distance of the resonance portion between the mirror and the half mirror set in each light emitting element is emitted. It is taken out in a state enhanced by resonance. Therefore, while using a light emitting element having a light emitting unit of the same configuration, the optical distance between the mirror and the half mirror in each light emitting element and the stacking order so that the extraction efficiency of a desired light emission wavelength is sufficiently large, In addition, by designing the position, light of different emission colors can be extracted from each light emitting element.

したがって、青、緑、赤の発光が十分な強度を持って取り出されるようにミラーとハーフミラーとの間の光学的距離が調整された各発光素子を配列させることで、フルカラー表示の表示装置となる。   Therefore, by arranging each light emitting element in which the optical distance between the mirror and the half mirror is adjusted so that blue, green, and red light can be extracted with sufficient intensity, a display device for full color display is provided. Become.

また、各発光素子において、各色の発光ユニットを同一素子内で構成したことにより、発光ユニットを含む機能層の全体を同一にできる。このため、機能層全体を発光素子の発光色毎に作り分ける必要がなくなり、機能層を作り分ける際に必要となる各機能層間の合わせ裕度を発光素子間に設定する必要もなくなり、画素間ピッチを狭められ、高開口率化が可能になる。   Moreover, in each light emitting element, the light emitting unit of each color is configured in the same element, so that the entire functional layer including the light emitting unit can be made the same. For this reason, it is not necessary to create the entire functional layer for each light emitting color of the light emitting element, and it is not necessary to set the margin of alignment between the functional layers required when creating the functional layer between the light emitting elements. The pitch can be narrowed, and a high aperture ratio can be achieved.

そして、発光ユニットを含む機能層全体を同一層で構成した場合、ミラーとハーフミラーとを電極として構成し、これらの間に機能層と共に透明導電膜(透明層)を狭持させる。この透明導電膜は、ミラーとハーフミラーとの間の光学的距離を調整するための調整層として用いられる。なお、ここで用いる透明とは、特定の波長に対して十分な透過率を有することを言う。透明導電膜は、リソグラフィ処理によって形成したレジストパターンをマスクに用いたエッチングによってパターン形成されるため、金属マスクを用いたパターン形成やインクジェットによるパターン形成が必要となる機能層と比較して、パターニング精度良好に形成されたものとなる。   And when the whole functional layer containing a light emitting unit is comprised by the same layer, a mirror and a half mirror are comprised as an electrode, and a transparent conductive film (transparent layer) is sandwiched with a functional layer between these. This transparent conductive film is used as an adjustment layer for adjusting the optical distance between the mirror and the half mirror. As used herein, the term “transparent” means having sufficient transmittance for a specific wavelength. Since the transparent conductive film is patterned by etching using a resist pattern formed by lithography as a mask, the patterning accuracy is higher than that of a functional layer that requires pattern formation using a metal mask or inkjet pattern formation. It will be well formed.

また本発明の表示装置の製造方法は、下部電極の上に機能層を形成し、その機能層の上に上部電極を形成して、上部電極と下部電極との間を共振部とする発光素子を構成する製造方法であり、異なる波長に対応させた少なくとも3つの発光素子を組みとしてピクセルを構成するにあたり、ピクセルの第1の発光素子における共振部の光学的距離と第2の発光素子における共振部の光学的距離とが等しくなるよう構成し、第1の発光素子における共振部の光学的距離と第3の発光素子における共振部の光学的距離とが異なり、さらに、3つの発光素子における上部電極と下部電極との間および機能層の膜厚が目的とする波長を共振させる共振部となるように構成する方法である。そして、請求項14に係る製造方法にあっては、第1の発光素子の光取り出し面側には、共振部で共振して取り出される波長領域のうち第1の発光素子が目的とする波長領域の光を透過するカラーフィルタを設け、第2の発光素子の光取り出し面側には、共振部で共振して取り出される波長領域のうち第2の発光素子が目的とする波長領域の光を透過するカラーフィルタを設ける。 In the method for manufacturing a display device of the present invention, a functional layer is formed on a lower electrode, an upper electrode is formed on the functional layer, and a light emitting element having a resonance part between the upper electrode and the lower electrode In forming a pixel by combining at least three light emitting elements corresponding to different wavelengths, the optical distance of the resonance part in the first light emitting element of the pixel and the resonance in the second light emitting element The optical distances of the resonance parts in the first light emitting element are different from the optical distances of the resonance parts in the third light emitting element, and the upper part of the three light emitting elements In this method, the thickness of the functional layer between the electrode and the lower electrode becomes a resonance part that resonates the target wavelength . In the manufacturing method according to claim 14, on the light extraction surface side of the first light-emitting element, the wavelength region targeted by the first light-emitting element among the wavelength areas extracted by resonance at the resonance unit is obtained. A color filter that transmits the light of the second light emitting element is provided, and on the light extraction surface side of the second light emitting element, the second light emitting element transmits light in the target wavelength area of the wavelength area that is extracted by resonance at the resonance unit. A color filter is provided.

このような本発明では、少なくとも3つの発光素子を組みとするピクセルを備えた共振器構造の表示装置を製造する場合、第1の発光素子における共振部の光学的距離と第2の発光素子における共振部の光学的距離とが等しくなり、第1の発光素子における共振部の光学的距離と第3の発光素子における共振部の光学的距離とが異なっているため、2種類の光学的距離の設定で済むことから、共振器構造の表示装置を正確かつ容易に実現できるようになる。   In the present invention, when manufacturing a display device having a resonator structure including a pixel including at least three light emitting elements as a set, the optical distance of the resonance portion in the first light emitting element and the second light emitting element Since the optical distance of the resonance part is equal and the optical distance of the resonance part in the first light emitting element is different from the optical distance of the resonance part in the third light emitting element, the two types of optical distances are different. Since setting is sufficient, a display device having a resonator structure can be realized accurately and easily.

ここで、例えば、光反射材料からなるミラーと光半透過性のハーフミラーとの間に少なくとも発光ユニットを含む機能層を挟持して共振部を構成する場合、基板上の各発光素子形成領域にミラーまたはハーフミラーを形成した後、光学的距離の異なる透明導電膜(透明層)をパターン形成する工程と前記発光ユニットを一括形成する工程とをこの順または逆の順に行う。   Here, for example, when a resonance part is configured by sandwiching at least a functional layer including a light emitting unit between a mirror made of a light reflecting material and a light semi-transmissive half mirror, each light emitting element forming region on the substrate After forming the mirror or the half mirror, the step of patterning transparent conductive films (transparent layers) having different optical distances and the step of forming the light emitting units at once are performed in this order or reverse order.

このような製造方法では、各発光素子形成領域のミラーまたはハーフミラー上に、一括形成されることで同一の構成となる発光ユニットと、異なる光学的距離を有する透明導電膜との積層体が設けられ、かつ各色の発光ユニットの積層順が最適化された発光素子が形成される。そして、機能層を一括形成した同一層としたことにより、全体を一括形成することもでき、機能層の設計を含む製造工程数の削減が図られる。   In such a manufacturing method, a laminated body of a light emitting unit having the same structure by being collectively formed on a mirror or a half mirror of each light emitting element forming region and a transparent conductive film having a different optical distance is provided. In addition, a light emitting element in which the stacking order of the light emitting units of the respective colors is optimized is formed. And by making it the same layer which formed the functional layer collectively, the whole can also be formed collectively and reduction of the number of manufacturing processes including the design of a functional layer is achieved.

したがって、本発明の表示装置によれば、各発光素子における発光ユニットを共通化しながらも、各発光素子から所望の発光色の光を十分な強度で取り出すことが可能となる。したがって、発光ユニットの共通化によって発光素子および発光素子間の微細化が実現されることで高精細な表示が可能であり、しかも所望の発光色の光が十分な強度で取り出されることで色再現性に優れたフルカラー表示が可能となる。   Therefore, according to the display device of the present invention, it is possible to extract light of a desired light emission color from each light emitting element with sufficient intensity while sharing a light emitting unit in each light emitting element. Therefore, high-definition display is possible by realizing miniaturization between the light-emitting elements and the light-emitting elements through the common use of the light-emitting unit, and color reproduction is achieved by extracting light of the desired emission color with sufficient intensity. Full color display with excellent performance is possible.

また、本発明の表示装置の製造方法によれば、各発光素子における発光ユニットを一括形成しながらも、各発光素子から所望の発光色の光を十分な強度で取り出すことが可能な表示装置が得られる。したがって、発光ユニットの共通化によって発光素子の微細化が実現されることで高精細な表示が可能であり、しかも所望の発光色の光が十分な強度で取り出されることで色再現性に優れた表示が可能な表示装置を、より簡便に製造することが可能になる。   In addition, according to the method for manufacturing a display device of the present invention, there is provided a display device capable of taking out light of a desired emission color from each light emitting element with sufficient intensity while collectively forming light emitting units in each light emitting element. can get. Therefore, by making the light-emitting element finer by using a common light-emitting unit, high-definition display is possible, and excellent light reproducibility is achieved by extracting light with a desired emission color with sufficient intensity. A display device capable of display can be more easily manufactured.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

<表示装置の概要>
図1は、本実施形態に係る表示装置の概略構成を説明する模式図である。すなわち、本実施形態に係る表示装置は、上部電極3と下部電極2との間に機能層10−1、10−2、10−3が配置され、上部電極3と下部電極2との間を共振部として機能層10−1、10−2、10−3で発光した光を共振させて取り出す少なくとも3つの発光素子(有機EL素子EL1、EL2、EL3)を基板1に設けたもので、この少なくとも3つの有機EL素子EL1、EL2、EL3によって1つのピクセルを構成している。図1(a)に示す例では、第1の色に対応した第1の有機EL素子EL1と、第2の色に対応した第2の有機EL素子EL2と、第3の色に対応した第3の有機EL素子EL3の3つによって1つのピクセルが構成されている。
<Outline of display device>
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a schematic configuration of a display device according to the present embodiment. That is, in the display device according to this embodiment, the functional layers 10-1, 10-2, and 10-3 are arranged between the upper electrode 3 and the lower electrode 2, and the space between the upper electrode 3 and the lower electrode 2 is arranged. The substrate 1 is provided with at least three light emitting elements (organic EL elements EL1, EL2, and EL3) that resonate and extract the light emitted from the functional layers 10-1, 10-2, and 10-3 as resonating portions. At least three organic EL elements EL1, EL2, and EL3 constitute one pixel. In the example shown in FIG. 1A, the first organic EL element EL1 corresponding to the first color, the second organic EL element EL2 corresponding to the second color, and the first organic EL element EL2 corresponding to the third color. One pixel is composed of three organic EL elements EL3.

このような表示装置において、本実施形態では、1つのピクセルを構成する少なくとも3つの有機EL素子EL1、EL2、EL3の各共振部の光学的距離として、第1の有機EL素子EL1に対応した共振部の光学的距離と、第2の有機EL素子EL2に対応した共振部の光学的距離とが等しく設けられ、第1の有機EL素子ELに対応した共振部の光学的距離と、第3の有機EL素子EL3に対応した共振部の光学的距離とが異なるよう設けられている点に特徴がある。   In such a display device, in this embodiment, the resonance distance corresponding to the first organic EL element EL1 is used as the optical distance between the resonance portions of at least three organic EL elements EL1, EL2, and EL3 constituting one pixel. And the optical distance of the resonance part corresponding to the second organic EL element EL2, the optical distance of the resonance part corresponding to the first organic EL element EL, and the third It is characterized in that it is provided so that the optical distance of the resonance part corresponding to the organic EL element EL3 is different.

上記のような関係から成る光学的距離を設定するため、図1に示す例では、第1の有機EL素子EL1に対応した機能層10−1と下部電極2との間、および第2の有機EL素子EL2に対応した機能層10−2と下部電極2との間に共通の透明導電膜20aを設け、第3の有機EL素子EL3に対応した機能層10−3と下部電極2との間に上記透明導電膜20aとは高さの異なる別の透明導電膜20bを設けている。   In order to set the optical distance having the above relationship, in the example shown in FIG. 1, the functional layer 10-1 corresponding to the first organic EL element EL 1 and the lower electrode 2, and the second organic A common transparent conductive film 20a is provided between the functional layer 10-2 corresponding to the EL element EL2 and the lower electrode 2, and between the functional layer 10-3 corresponding to the third organic EL element EL3 and the lower electrode 2. Further, another transparent conductive film 20b having a height different from that of the transparent conductive film 20a is provided.

つまり、共振部の光学的距離を設定するため、機能層と下部電極との間に透明導電膜を設けているが、3つの発光素子で1つのピクセルを構成する場合、2つの透明導電膜によって光学的距離を設定している。このように、ピクセルを構成する発光素子の数よりも少ない数の透明導電膜によって光学的距離を設定するようにすれば、各発光素子に対して各々高さの異なる透明導電膜を形成する場合に比べて工程数を削減することができるようになる。   That is, in order to set the optical distance of the resonance part, a transparent conductive film is provided between the functional layer and the lower electrode. However, when one pixel is constituted by three light emitting elements, two transparent conductive films are used. The optical distance is set. In this way, when the optical distance is set by a smaller number of transparent conductive films than the number of light emitting elements constituting the pixel, a transparent conductive film having a different height is formed for each light emitting element. Compared to the above, the number of processes can be reduced.

図1(a)に示す例では3つの発光素子(有機EL素子EL1、EL2、EL3)によって1ピクセルを構成しているが、この場合、第1の色、第2の色、第3の色として、R(赤)、B(青)、G(緑)を用いることでフルカラーの表示装置を構成できる。また、3色より多い発光素子で構成する場合でも適用可能である。上記の3色の他に、シアン、マゼンタ、イエローのうち1つ以上を追加して構成することもできる。特に、自然界ではシアンで表される色が多く存在するため、シアンを追加することで色の表現力を高めることができる。RGBだけでも高純度なものを用いれば100%以上に出来ます。   In the example shown in FIG. 1A, one pixel is constituted by three light emitting elements (organic EL elements EL1, EL2, and EL3). In this case, the first color, the second color, and the third color are used. As described above, a full-color display device can be configured by using R (red), B (blue), and G (green). Further, the present invention can be applied even when the light emitting element includes more than three colors. In addition to the above three colors, one or more of cyan, magenta, and yellow may be added. In particular, there are many colors expressed in cyan in the natural world, so the color expression can be enhanced by adding cyan. If you use high-purity RGB alone, you can achieve over 100%.

このように、3つより多い発光素子によって構成する場合、例えば、4つの発光素子によって1ピクセルを構成する場合には、透明導電膜として、3つの発光素子に共通な透明導電膜と、残りの1つの発光素子に対応した透明導電膜との2種類であったり、2つの発光素子に共通な透明導電膜と、残りの2つに共通な透明導電膜との2種類であったり、2つの発光素子に共通な透明導電膜と、残りの2つに対応して各々設けられた透明導電膜との3種類が考えられる。   As described above, in the case where the light emitting element is configured by more than three light emitting elements, for example, when one pixel is configured by four light emitting elements, a transparent conductive film common to the three light emitting elements and the remaining Two types of transparent conductive film corresponding to one light emitting element, two types of transparent conductive film common to two light emitting elements, and two types of transparent conductive film common to the remaining two, There are three types of transparent conductive films common to the light emitting elements and transparent conductive films provided corresponding to the remaining two.

同様に、5つ、6つ…の発光素子に対応することも可能である。つまり、n個(nは3以上の整数)の発光素子によって1つのピクセルを構成する場合、透明導電膜の種類としては2種類以上(n−1)種類以下にすることで、本発明の特徴的な構成を実現することができる。   Similarly, it is possible to correspond to five, six... Light emitting elements. That is, in the case where one pixel is configured by n (n is an integer of 3 or more) light emitting elements, the number of types of transparent conductive films is two or more (n−1) types or less, which is a feature of the present invention. Can be realized.

なお、図1(a)に示す表示装置では、透明導電膜を用いて発光素子である有機EL素子の共振部における光学的距離を設定しているが、透明導電膜以外で光学的距離を設定してもよい。例えば、機能層を構成する各層の厚さによって調整したり、また、図1(a)に示す透明導電膜20a、20bに対応する部分を下部電極2で構成してもよい。   In the display device shown in FIG. 1A, the optical distance is set in the resonance portion of the organic EL element, which is a light emitting element, using a transparent conductive film, but the optical distance is set except for the transparent conductive film. May be. For example, the thickness may be adjusted according to the thickness of each layer constituting the functional layer, or the portion corresponding to the transparent conductive films 20a and 20b shown in FIG.

各発光素子である有機EL素子EL1、EL2、EL3の機能層10−1、10−2、10−3は、種々の発光ユニットによって構成される。図1(b)〜(g)は、各機能層の発光ユニットの構成例である。なお、ここではRを赤、Gを緑、Bを青とする。図1(b)に示す例は、2つの発光ユニットを積層したタンデム型であり、下側の発光ユニットがR,Gを発光し、上側の発光ユニットがBを発光する。また、図1(c)に示す例は、図1(b)と同じ2つの発光ユニットによるタンデム型であるが、下側にB、上側にR,Gを発光する発光ユニットが積層されている。また、図1(d)に示す例では、1つの発光ユニットによって構成されるもので、白色を発光するもの、図1(e)は同じ1つの発光ユニットによって構成されるものであるが、特定波長の単色を発光するものである。図1(f)に示す例は3つの発光ユニットを積層したタンデム型であり、下側からG、R、Bの順に積層されている。また、図1(g)に示す例は4つの発光ユニットを積層したタンデム型であり、下側からG、B、R、Bの順に積層されている。   The functional layers 10-1, 10-2, and 10-3 of the organic EL elements EL1, EL2, and EL3 that are the respective light emitting elements are configured by various light emitting units. FIGS. 1B to 1G are configuration examples of light emitting units of each functional layer. Here, R is red, G is green, and B is blue. The example shown in FIG. 1B is a tandem type in which two light emitting units are stacked. The lower light emitting unit emits R and G, and the upper light emitting unit emits B. In addition, the example shown in FIG. 1C is a tandem type using the same two light emitting units as in FIG. 1B, but the light emitting units for emitting B on the lower side and R and G on the upper side are stacked. . Further, in the example shown in FIG. 1 (d), the light emitting unit is composed of one light emitting unit and emits white light, and FIG. 1 (e) is composed of the same single light emitting unit. It emits a single color of wavelength. The example shown in FIG. 1F is a tandem type in which three light emitting units are stacked, and are stacked in the order of G, R, and B from the lower side. In addition, the example shown in FIG. 1G is a tandem type in which four light emitting units are stacked, and are stacked in the order of G, B, R, and B from the lower side.

なお、図1(b)〜(g)に示す機能層の構成は一例であり、他の構成であってもよい。例えば、発光ユニットを3色以上で構成することも可能である。すなわち、R、G、Bの3色に加え、シアン、マゼンタ、イエローのうち1つ以上を追加して4色以上の構成を行ってもよい。特に、自然界ではシアンで表される色が多く存在するため、シアンを追加することで色の表現力を高めることができる。   In addition, the structure of the functional layer shown to FIG.1 (b)-(g) is an example, Other structures may be sufficient. For example, it is possible to configure the light emitting unit with three or more colors. That is, in addition to the three colors of R, G, and B, one or more of cyan, magenta, and yellow may be added to configure four or more colors. In particular, there are many colors expressed in cyan in the natural world, so the color expression can be enhanced by adding cyan.

以下に、本実施形態の具体的構成を説明するが、ここでは図1(g)に示す4つの発光ユニットを積層したタンデム型の機能層を有する発光装置を例として説明する。   Hereinafter, a specific configuration of the present embodiment will be described. Here, a light emitting device having a tandem type functional layer in which four light emitting units shown in FIG. 1G are stacked will be described as an example.

<表示装置の具体的構成>
図2は本実施形態に係る表示装置の一構成例を模式的に示す断面図である。この図に示す表示装置は、基板1上に、赤(R)、青(B)、緑(G)の各色の光が取り出される各有機EL素子を発光素子として配列形成してなる、フルカラーの表示装置である。ここで、赤(R)に対応した有機EL素子をEL−R、青(B)に対応した有機EL素子をEL−B、緑(G)に対応した有機EL素子をEL−Gとする。
<Specific configuration of display device>
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a configuration example of the display device according to the present embodiment. The display device shown in this figure is a full-color display formed by arranging, on a substrate 1, organic EL elements from which light of each color of red (R), blue (B), and green (G) is extracted as light emitting elements. It is a display device. Here, an organic EL element corresponding to red (R) is EL-R, an organic EL element corresponding to blue (B) is EL-B, and an organic EL element corresponding to green (G) is EL-G.

各有機EL素子EL−R、EL−B、EL−Gは、基板1側から順に、下部電極2、透明導電膜(透明層)20a、20b、機能層10R、10B、10Gおよび上部電極3を積層した構成となっており、機能層10R、10B、10Gにおいて生じた発光波長を基板1と反対の上部電極3側から取り出す、いわゆるトップエミッション型として構成されている。以下、各部材の詳細な構成を説明する。   Each organic EL element EL-R, EL-B, EL-G includes a lower electrode 2, transparent conductive films (transparent layers) 20a, 20b, functional layers 10R, 10B, 10G and an upper electrode 3 in order from the substrate 1 side. It has a laminated structure, and is configured as a so-called top emission type in which the emission wavelength generated in the functional layers 10R, 10B, and 10G is extracted from the side of the upper electrode 3 opposite to the substrate 1. Hereinafter, the detailed configuration of each member will be described.

基板1は、ガラス、シリコン、プラスチック基板、さらには薄膜トランジスタ(TFT)が形成されたTFT基板などからなる。   The substrate 1 is made of glass, silicon, a plastic substrate, a TFT substrate on which a thin film transistor (TFT) is formed, or the like.

そして、基板1上に設けられた下部電極2は、光反射性に優れた導電性材料を用いてミラーとして構成される。通常、下部電極2は、陽極または陰極として用いられるが、本実施形態においては、この下部電極2上に透明導電膜20a、20bを介して機能層10R、10B、10Gが設けられるため、透明導電膜20a、20bが実質的な陽極または陰極となる。このため、本実施形態においては、下部電極2は、反射性に優れた材料で構成されればよい。   And the lower electrode 2 provided on the board | substrate 1 is comprised as a mirror using the electroconductive material excellent in light reflectivity. Usually, the lower electrode 2 is used as an anode or a cathode. In this embodiment, the functional layers 10R, 10B, and 10G are provided on the lower electrode 2 via the transparent conductive films 20a and 20b. The films 20a and 20b become substantial anodes or cathodes. For this reason, in this embodiment, the lower electrode 2 should just be comprised with the material excellent in reflectivity.

また、下部電極2は、この表示装置の駆動方式によって適する形状にパターニングされていることとする。例えば、駆動方式が単純マトリックス型である場合には、この下部電極2は例えばストライプ状に形成される。また、駆動方式が画素毎にTFTを備えたアクティブマトリックス型である場合には、下部電極2は複数配列された各画素に対応させてパターン形成され、同様に各画素に設けられたTFTに対して、これらのTFTを覆う層間絶縁膜に形成されたコンタクトホール(図示省略)を介してそれぞれが接続される状態で形成されることとする。   The lower electrode 2 is patterned into a suitable shape according to the driving method of the display device. For example, when the driving method is a simple matrix type, the lower electrode 2 is formed in a stripe shape, for example. When the driving method is an active matrix type in which a TFT is provided for each pixel, the lower electrode 2 is formed in a pattern corresponding to each of a plurality of pixels arranged in the same manner, and similarly to the TFT provided in each pixel. Each of these TFTs is formed in a state of being connected through a contact hole (not shown) formed in an interlayer insulating film covering the TFT.

そして、この下部電極2上に設けられた透明導電膜20a、20bは透明電極材料で構成され、特に本実施形態においては、上述したように実質的な陽極または陰極として用いられている。なお、図2においては、透明導電膜20a、20bが陽極として用いられる場合を代表して示しており、例えば、酸化インジウム錫(ITO)を用いて陽極となる透明導電膜20a、20bが設けられていることとする。   The transparent conductive films 20a and 20b provided on the lower electrode 2 are made of a transparent electrode material. In particular, in this embodiment, the transparent conductive films 20a and 20b are used as a substantial anode or cathode as described above. In addition, in FIG. 2, the case where the transparent conductive films 20a and 20b are used as anodes is shown as a representative. For example, indium tin oxide (ITO) is used to provide the transparent conductive films 20a and 20b serving as anodes. Suppose that

この透明導電膜20a、20bは、3つの有機EL素子EL−R、EL−B、EL−Gについて、有機EL素子EL−R、EL−Bで同じ透明導電膜20aを用いている。つまり、RとBに対応した光学的距離が(例えば、L=310nm)で等しくなるよう透明導電膜20aがパターニングされている。また、有機EL素子EL−Gに対応した透明導電膜20bはGに対応した光学的距離(例えば、L=240n)となるようパターニングされている。このため、各有機EL素子EL−R、EL−B、EL−Gに設けられる透明導電膜20a、20bは、2種類の厚さ(透明導電膜の光学的距離Lt)を有していれば良いことになる。なお、透明導電膜20a、20bは同一材料で構成されている必要はない。透明導電膜20a、20bの光学的距離Ltの設定については、以降に詳しく説明する。   The transparent conductive films 20a and 20b use the same transparent conductive film 20a for the three organic EL elements EL-R, EL-B, and EL-G. That is, the transparent conductive film 20a is patterned so that the optical distances corresponding to R and B are equal (for example, L = 310 nm). The transparent conductive film 20b corresponding to the organic EL element EL-G is patterned so as to have an optical distance corresponding to G (for example, L = 240 n). For this reason, if the transparent conductive films 20a and 20b provided in each organic EL element EL-R, EL-B, and EL-G have two types of thicknesses (optical distance Lt of the transparent conductive film). It will be good. The transparent conductive films 20a and 20b do not need to be made of the same material. The setting of the optical distance Lt between the transparent conductive films 20a and 20b will be described in detail later.

各機能層10R、10B、10Gは、異なる波長の光を発光する複数の発光ユニット11〜14を積層したものから成る。本実施形態では、下部電極2側から緑(G)に対応した第1の発光ユニット11、青(B)に対応した第2の発光ユニット12、赤(R)に対応した第3の発光ユニット13、青(B)に対応した第4の発光ユニット14の順に積層されている。ここでは、一般にcd/A(単位電流当たりの光度)で表される発光効率が最も低い青に対応した発光ユニットを他の波長の発光ユニットよりも多い2層にしている。   Each of the functional layers 10R, 10B, and 10G is formed by stacking a plurality of light emitting units 11 to 14 that emit light having different wavelengths. In the present embodiment, the first light emitting unit 11 corresponding to green (G), the second light emitting unit 12 corresponding to blue (B), and the third light emitting unit corresponding to red (R) from the lower electrode 2 side. 13 and the fourth light emitting unit 14 corresponding to blue (B) are stacked in this order. Here, the light emitting unit corresponding to blue having the lowest light emission efficiency, which is generally represented by cd / A (luminance per unit current), is made into two layers more than the light emitting units of other wavelengths.

図3は、透明導電膜上に積層される機能層の詳細を説明する模式断面図である。機能層10(図2に示す機能層10R、10B、10Gの各々に対応)は、複数の発光ユニット(図2では、11、12のみ表示)が積層されたもので、主として有機材料で構成された複数層からなる。一つの発光ユニット(例えば、発光ユニット11)は、例えば、下部電極2側から順に、正孔注入層61、正孔輸送層62、発光層(有機層)11a、電荷輸送層72、電荷注入層71によって構成され、接続層を介して繰り返すことで他の発光ユニット12および他の発光ユニット13、14(図2参照)も構成されている。接続層は各発光ユニットを接続するための層であり、電荷発生層80のみであったり、電荷発生層80を含む層である。 FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating details of a functional layer laminated on the transparent conductive film. The functional layer 10 (corresponding to each of the functional layers 10R, 10B, and 10G shown in FIG. 2) is a laminate of a plurality of light emitting units (shown only 11 and 12 in FIG. 2), and is mainly composed of an organic material. It consists of multiple layers. One light emitting unit (for example, the light emitting unit 11) includes, for example, in order from the lower electrode 2 side, a hole injection layer 61, a hole transport layer 62, a light emitting layer (organic layer) 11a, a charge transport layer 72, and a charge injection layer. The other light emitting units 12 and the other light emitting units 13 and 14 (see FIG. 2) are also configured by repeating through the connection layer . The connection layer is a layer for connecting each light emitting unit, and is a layer including only the charge generation layer 80 or including the charge generation layer 80 .

このような構成により、下部電極2から注入された正孔と接続層の電荷発生層80において発生した電子が有機層で結合し、同時に陰極から注入された電子と接続層の電荷発生層80において発生した正孔が発光ユニット11、12…で結合する際に所定波長の光を発生する。図2に示す各機能層10R、10B、10Gの各発光ユニットは同一構成で設けられている。また、この機能層10R、10B、10Gの各有機層は、対応する層の厚さがほぼ等しく設けられている。つまり、対応する各層は同一工程で形成されることになる。また、機能層10R、10B、10Gの各有機層は、各画素毎にパターン形成されていても良いし、ベタ膜状に形成されていても良い。 With such a configuration, holes injected from the lower electrode 2 and electrons generated in the charge generation layer 80 of the connection layer are combined in the organic layer, and at the same time, electrons injected from the cathode and the charge generation layer 80 of the connection layer are combined. When the generated holes are combined by the light emitting units 11, 12,..., Light having a predetermined wavelength is generated. The light emitting units of the functional layers 10R, 10B, and 10G shown in FIG. 2 are provided with the same configuration. In addition, the organic layers of the functional layers 10R, 10B, and 10G are provided with substantially equal thicknesses of the corresponding layers. That is, each corresponding layer is formed in the same process. In addition, the organic layers of the functional layers 10R, 10B, and 10G may be patterned for each pixel or may be formed in a solid film shape.

各発光ユニット間に配置される接続層は、電荷注入層71、電荷発生層80、正孔注入層61からなるが、電荷注入層71が電荷発生層80を兼ねても良く、また、正孔注入層61が無くても良く、2層で構成される場合もある。電荷発生層80の構成は、有機層によって構成される有機電界発光素子の電子輸送層62と有機層によって構成される正孔注入層61の特性によって適宜選択される。   The connection layer disposed between the light emitting units includes the charge injection layer 71, the charge generation layer 80, and the hole injection layer 61. The charge injection layer 71 may also serve as the charge generation layer 80. The injection layer 61 may not be provided, and there are cases where the injection layer 61 is constituted by two layers. The configuration of the charge generation layer 80 is appropriately selected depending on the characteristics of the electron transport layer 62 and the hole injection layer 61 composed of the organic layer of the organic electroluminescent element composed of the organic layer.

一般的には、特開2003−45676号公報および特開2003−272860号公報に記載されているV25等の材料を電荷発生層として用いて接続層を構成することが多いが、この構成以外にも薄膜内で電子−正孔を発生させることができる構成であれば、これに限ったものではない。 In general, the connection layer is often formed by using a material such as V 2 O 5 described in JP-A-2003-45676 and JP-A-2003-272860 as a charge generation layer. Other than the configuration, the configuration is not limited to this as long as it can generate electrons and holes in the thin film.

ここで、本実施形態の表示装置においてフルカラー表示を得るためには、有機EL素子EL−R、EL−B、EL−Gによって構成されるピクセルを複数配列し、各ピクセルにおいて生じる発光光が、赤、青、緑の波長領域で各々発光強度を有していることが必要である。特に、赤、青、緑として認識される所望の波長領域に発光強度の極大を持ち、不要な波長領域の発光強度が小さい構成の機能層10R、10B、10Gであることが好ましい。このような機能層10R、10B、10Gを用いることにより、必要な発光領域の光の取り出し効率が高く、色純度が高い表示装置が得られる。また、赤、青、緑に対応する光取り出しの極大値は、視野角特性等を考慮して適宜決定される。   Here, in order to obtain a full color display in the display device of the present embodiment, a plurality of pixels configured by the organic EL elements EL-R, EL-B, and EL-G are arranged, and emitted light generated in each pixel is It is necessary to have emission intensity in each of the red, blue, and green wavelength regions. In particular, the functional layers 10R, 10B, and 10G having a configuration that has a maximum emission intensity in a desired wavelength region recognized as red, blue, and green and a small emission intensity in an unnecessary wavelength region are preferable. By using such functional layers 10R, 10B, and 10G, a display device with high light extraction efficiency and high color purity can be obtained. Further, the maximum values of light extraction corresponding to red, blue, and green are appropriately determined in consideration of viewing angle characteristics and the like.

なお、機能層10R、10B、10Gの膜厚(光学的距離Lf)は、透明導電膜とを合わせた下部電極2と上部電極3との間が、目的とする波長を共振させる共振部となるように、以降に詳細に説明するように設定されていることが重要となる。   The film thickness (optical distance Lf) of the functional layers 10R, 10B, and 10G is a resonance part that resonates the target wavelength between the lower electrode 2 and the upper electrode 3 combined with the transparent conductive film. Thus, it is important that the setting is made as described in detail later.

そして、このような機能層10R、10B、10Gの上部に設けられた上部電極3は、ハーフミラーとして構成され、上述した下部電極2(透明導電膜20a、20b)が陽極である場合には陰極として用いられ、下部電極2(透明導電膜20a、20b)が陰極である場合には陽極として用いられる。上部電極3が陽極として用いられる場合、上部電極2を構成する材料としては、ニッケル、銀、金、白金、パラジウム、セレン、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、レニウム、タングステン、モリブデン、クロム、タンタル、ニオブやこれらの合金、あるいは酸化錫(SnO2)、酸化インジウム錫(ITO)、酸化亜鉛、酸化チタン等の仕事関数が大きい導電性材料が選択して用いられる。 The upper electrode 3 provided above the functional layers 10R, 10B, and 10G is configured as a half mirror. When the lower electrode 2 (transparent conductive films 20a and 20b) described above is an anode, the upper electrode 3 is a cathode. When the lower electrode 2 (transparent conductive films 20a and 20b) is a cathode, it is used as an anode. When the upper electrode 3 is used as an anode, the materials constituting the upper electrode 2 include nickel, silver, gold, platinum, palladium, selenium, rhodium, ruthenium, iridium, rhenium, tungsten, molybdenum, chromium, tantalum, niobium, A conductive material having a high work function such as an alloy of these, or tin oxide (SnO 2 ), indium tin oxide (ITO), zinc oxide, titanium oxide or the like is selected and used.

また、この上部電極3が陰極として用いられる場合(図2の場合)、上部電極3を構成する材料としては、例えば、Li、Mg、Ca等の活性な金属とAg、Al、In等の金属との合金等の仕事関数が小さい導電性材料が選択して用いられ、これらを積層した構造としても良い。また、機能層10R、10B、10Gとの間に例えば、Li、Mg、Ca等の活性な金属とフッ素、臭素等のハロゲンや酸素等との化合物層を薄く挿入した構造としても良い。なお、上部電極3は、機能層10R、10B、10Gで生じた発光を取り出す側となるハーフミラーとして用いられるため、その光透過率が膜厚等で調整されていることとする。   When the upper electrode 3 is used as a cathode (in the case of FIG. 2), the material constituting the upper electrode 3 is, for example, an active metal such as Li, Mg, or Ca and a metal such as Ag, Al, or In. A conductive material having a small work function, such as an alloy, may be selected and used, and a structure in which these are laminated may be used. Further, for example, a structure in which a compound layer of an active metal such as Li, Mg, or Ca and a halogen such as fluorine or bromine, oxygen, or the like is thinly inserted between the functional layers 10R, 10B, and 10G may be employed. Since the upper electrode 3 is used as a half mirror on the side from which the light emitted from the functional layers 10R, 10B, and 10G is extracted, the light transmittance is adjusted by the film thickness and the like.

また、上部電極3は、この表示装置が、単純マトリックス型である場合には、下部電極2のストライプと交差するストライプ状に形成され、これらが交差して積層された部分が有機EL素子となる。また、この表示装置が、アクティブマトリックス型である場合には、上部電極3は、基板1上の一面を覆う状態で成膜されたベタ膜状で良く、各ピクセルに共通の電極として用いられることとする。   In addition, when the display device is a simple matrix type, the upper electrode 3 is formed in a stripe shape that intersects with the stripe of the lower electrode 2, and a portion where these are intersected and laminated is an organic EL element. . When this display device is an active matrix type, the upper electrode 3 may be a solid film formed so as to cover one surface of the substrate 1 and be used as an electrode common to each pixel. And

そして、この上部電極3と上述した下部電極2との間には、図3に示すように電流注入用の駆動電源が接続されていることとする。   A driving power source for current injection is connected between the upper electrode 3 and the lower electrode 2 described above as shown in FIG.

次に、各有機EL素子における下部電極2と上部電極3との間の共振部の光学的距離Lおよび、透明導電膜20a、20bの光学的距離Ltについて説明する。   Next, the optical distance L of the resonance part between the lower electrode 2 and the upper electrode 3 in each organic EL element and the optical distance Lt of the transparent conductive films 20a and 20b will be described.

すなわち、各有機EL素子において、下部電極2と上部電極3との間の共振部の光学的距離Lは、それぞれの有機EL素子に設定した所望の波長領域の光が共振部の両端で共振する値にそれぞれ設定されている。このため、例えば、共振部の両端において発光ユニット11〜14で発生した発光光が反射する際に生じる位相シフトをΦラジアン、共振部の光学的距離をL、発光ユニット11〜14で発生した発光光のうちの取り出したい光のスペクトルのピーク波長をλとした場合、下記式(1)をほぼ満たす範囲で共振部の光学的距離Lが構成されていることとする。   That is, in each organic EL element, the optical distance L of the resonance part between the lower electrode 2 and the upper electrode 3 is such that light in a desired wavelength region set in each organic EL element resonates at both ends of the resonance part. Each is set to a value. For this reason, for example, the phase shift that occurs when the light emitted by the light emitting units 11 to 14 is reflected at both ends of the resonance unit is Φ radians, the optical distance of the resonance unit is L, and the light emission generated by the light emission units 11 to 14 When the peak wavelength of the spectrum of light to be extracted out of light is λ, the optical distance L of the resonance portion is configured in a range that substantially satisfies the following formula (1).

(2L)/λ+Φ/(2π)=m(mは整数) …(1)   (2L) / λ + Φ / (2π) = m (m is an integer) (1)

この際、機能層10Bについては、取り出したい光のスペクトルのピーク波長λとして青色の領域内にピーク波長(例えばλ=460nm)を設定し、共振部の光学的距離Lを算出する。また、機能層10Gについては、取り出したい光のスペクトルのピーク波長λとして緑色の領域内にピーク波長(例えばλ=530nm)を設定して、共振部の光学的距離Lを算出する。さらに、機能層10Rについては、取り出したい光のスペクトルのピーク波長λとして赤色の領域内にピーク波長(例えばλ=630nm)を設定して、共振部の光学的距離Lを算出する。   At this time, for the functional layer 10B, the peak wavelength (for example, λ = 460 nm) is set in the blue region as the peak wavelength λ of the spectrum of light to be extracted, and the optical distance L of the resonance part is calculated. For the functional layer 10G, the peak wavelength (for example, λ = 530 nm) is set in the green region as the peak wavelength λ of the spectrum of light to be extracted, and the optical distance L of the resonance portion is calculated. Further, for the functional layer 10R, the peak wavelength (for example, λ = 630 nm) is set in the red region as the peak wavelength λ of the spectrum of light to be extracted, and the optical distance L of the resonance part is calculated.

なお、各共振部の光学的距離Lは、上記式(1)を満たす値であれば良い。   In addition, the optical distance L of each resonance part should just be a value which satisfy | fills said Formula (1).

そして、各機能層10R、10B、10Gは、発光ユニット11〜14を含む同一層で構成されているため、共振部の光学的距離Lは、各透明導電膜20a、20bの光学的距離Ltによって調整されていることとする。したがって、透明導電膜20a、20bの光学的距離をLt、発光ユニット11〜14を含む機能層10R、10B、10Gの光学的距離をLfとした場合、下記式(2)を満たすように各機能層10R、10B、10Gの透明導電膜10a、20bの光学的距離Lt(膜厚)が設置されていることとする。   And since each functional layer 10R, 10B, 10G is comprised by the same layer containing the light emission units 11-14, the optical distance L of a resonance part is based on the optical distance Lt of each transparent conductive film 20a, 20b. It has been adjusted. Therefore, when the optical distance of the transparent conductive films 20a and 20b is Lt and the optical distance of the functional layers 10R, 10B, and 10G including the light emitting units 11 to 14 is Lf, each function is satisfied so as to satisfy the following formula (2). It is assumed that the optical distance Lt (film thickness) of the transparent conductive films 10a and 20b of the layers 10R, 10B, and 10G is installed.

L=Lt+Lf …(2)
ただし、LfはLより小さい一定値であることとする。
L = Lt + Lf (2)
However, Lf is a constant value smaller than L.

なお、このような構成の表示装置にカラーフィルタ4を組み合わせて設ける場合には、各機能層10R、10B、10Gから取り出したいスペクトルのピーク波長λ近傍の光のみを透過するカラーフィルタ4R、4B、4Gを、それぞれの機能層10R、10B、10Gの光取り出し面側に設けることとする。   In the case where the color filter 4 is provided in combination in the display device having such a configuration, the color filters 4R, 4B, which transmit only light in the vicinity of the peak wavelength λ of the spectrum desired to be extracted from the functional layers 10R, 10B, 10G. 4G is provided on the light extraction surface side of each of the functional layers 10R, 10B, and 10G.

以上説明した構成の表示装置によれば、同一層で形成された機能層10R、10B、10Gを有する各有機EL素子のそれぞれが、赤、青、緑の各波長を共振させる共振器構造として構成されている。これにより、同一構成の繰り返し発光ユニットを含む機能層10R、10B、10Gを用いながらも、各有機EL素子から赤、青、緑の各波長の光のみを多重干渉によって強めて取り出すことが可能になるため、フルカラー表示が行われる表示装置が構成される。   According to the display device having the above-described configuration, each organic EL element having the functional layers 10R, 10B, and 10G formed of the same layer is configured as a resonator structure that resonates each wavelength of red, blue, and green. Has been. As a result, while using functional layers 10R, 10B, and 10G including repetitive light emitting units of the same configuration, it is possible to intensify and extract only light of each wavelength of red, blue, and green from each organic EL element by multiple interference. Therefore, a display device that performs full-color display is configured.

そして、各有機EL素子EL−R、EL−B、EL−Gから取り出される光は、それぞれの有機EL素子EL−R、EL−B、EL−Gの共振部で共振されて取り出されるため、赤、青、緑に対応する所望の波長領域の光のみが十分な強度で取り出されることになる。したがって、色再現性に優れたフルカラー表示が可能となる。   And since the light extracted from each organic EL element EL-R, EL-B, EL-G is resonated and extracted by the resonance part of each organic EL element EL-R, EL-B, EL-G, Only light in a desired wavelength region corresponding to red, blue, and green is extracted with sufficient intensity. Therefore, full color display with excellent color reproducibility is possible.

しかも、上述したように、各有機EL素子においては、発光ユニット11〜14を含む機能層10R、10B、10G全体が同一層で構成されているため、金属マスクを用いた蒸着法や転写法、インクジェット法等によって形成される機能層10R、10B、10Gを、有機EL素子EL−R、EL−B、EL−G毎に作り分けたものとする必要がない。このため、機能層10R、10B、10Gを作り分ける際に必要となる各機能層間の合わせ裕度を画素間に設定する必要もなくなり、画素間ピッチが狭められる。   In addition, as described above, in each organic EL element, the functional layers 10R, 10B, and 10G including the light emitting units 11 to 14 are entirely formed of the same layer, so that a vapor deposition method or a transfer method using a metal mask, It is not necessary that the functional layers 10R, 10B, and 10G formed by the inkjet method or the like are separately made for each organic EL element EL-R, EL-B, and EL-G. For this reason, it is not necessary to set the alignment tolerance between the functional layers required when creating the functional layers 10R, 10B, and 10G separately, and the pitch between the pixels is narrowed.

なお、各機能層10R、10B、10Gにおける光学的距離Lは、2つの透明導電膜20a、20bの光学的距離Ltによって調整されるため、RおよびBに対応した透明導電膜20aを作り分ける必要が生じない。これにより、透明導電膜を形成する際の工程を簡素化することができる。   In addition, since the optical distance L in each functional layer 10R, 10B, 10G is adjusted by the optical distance Lt of the two transparent conductive films 20a, 20b, it is necessary to make a transparent conductive film 20a corresponding to R and B separately. Does not occur. Thereby, the process at the time of forming a transparent conductive film can be simplified.

ここで、透明電極膜20a、20bはリソグラフィ処理によって形成したレジストパターンをマスクに用いたエッチングによってパターン形成されるため、金属マスクを用いたパターン形成やインクジェットによるパターン形成が必要となる機能層10R、10B、10Gと比較して、パターニング精度が良好である。   Here, since the transparent electrode films 20a and 20b are patterned by etching using a resist pattern formed by lithography as a mask, the functional layer 10R that requires pattern formation using a metal mask or ink jet pattern formation, Compared with 10B and 10G, the patterning accuracy is good.

そして、以上のように画素間の微細化が実現されることにより、高精細なフルカラー表示が可能となる。   As described above, by realizing miniaturization between pixels, high-definition full-color display is possible.

また、発光ユニット11〜14が同一層からなるため、特定の色の有機EL素子の駆動電圧が他色と比べて特異的に高くなるといった現象が生じることもなく、各色の有機EL素子の駆動条件が異なることを考慮した駆動回路設計を行う必要もない。   In addition, since the light emitting units 11 to 14 are made of the same layer, the driving voltage of the organic EL element of a specific color is not specifically increased as compared with other colors, and the driving of the organic EL element of each color is performed. There is no need to design a drive circuit considering different conditions.

<表示装置の製造方法>
次に、上述した構成の表示装置の製造方法を説明する。
<Manufacturing method of display device>
Next, a method for manufacturing the display device having the above-described configuration will be described.

先ず、基板1上に、下部電極2を構成する電極材料膜を成膜し、この電極材料膜上に、それぞれの画素部に形成される有機EL素子毎に設定された光学的距離Ltを有する各透明導電膜20a、20bをパターン形成する。これらの各透明導電膜20a、20bのパターン形成方法は特に限定されることはないが、各透明導電膜20a、20bが同一材料からなる場合には、例えば次のように行う。   First, an electrode material film constituting the lower electrode 2 is formed on the substrate 1, and the optical distance Lt set for each organic EL element formed in each pixel portion is formed on the electrode material film. Each transparent conductive film 20a, 20b is patterned. The pattern forming method of each of the transparent conductive films 20a and 20b is not particularly limited. However, when the transparent conductive films 20a and 20b are made of the same material, for example, the following is performed.

先ず、最も光学的距離Ltが小さい透明導電膜20bの膜厚と同一の膜厚で第1透明導電材料膜を形成し、機能層10Gが配置される画素のみを覆う状態で第1レジストパターンを形成する。次に、第1透明導電材料膜の上に膜厚が透明導電膜20aと同一となるように第2透明導電材料膜を形成し、機能層10R、10Bが配置される画素のみを覆う状態で第2レジストパターンを形成する。   First, the first transparent conductive material film is formed with the same film thickness as the transparent conductive film 20b having the smallest optical distance Lt, and the first resist pattern is formed so as to cover only the pixels on which the functional layer 10G is disposed. Form. Next, a second transparent conductive material film is formed on the first transparent conductive material film so that the film thickness is the same as that of the transparent conductive film 20a, and only the pixels on which the functional layers 10R and 10B are disposed are covered. A second resist pattern is formed.

次いで、第2レジストパターンをマスクにして第2透明導電材料膜をエッチングする。続けて、第1レジストパターンが露出したところで、第1レジストパターンおよび第2レジストパターンをマスクにして第1透明導電材料膜をエッチングする。これにより、第1レジストパターンの下には第1透明導電膜からなる透明導電膜20bがパターン形成され、第2レジストパターンの下には第1透明導電膜および第2透明導電膜からなる透明導電膜20aがパターン形成されることになる。   Next, the second transparent conductive material film is etched using the second resist pattern as a mask. Subsequently, when the first resist pattern is exposed, the first transparent conductive material film is etched using the first resist pattern and the second resist pattern as a mask. Thereby, the transparent conductive film 20b made of the first transparent conductive film is patterned under the first resist pattern, and the transparent conductive film made of the first transparent conductive film and the second transparent conductive film is formed under the second resist pattern. The film 20a is patterned.

本実施形態に係る製造方法では、R,B,Gに対応した3つの有機EL素子をピクセルとして用いるが、光学的距離を調整するための透明導電膜としてR、Bに対応するものを同じ厚さのもの(同じ透明導電膜20a)を用いることから、Gに対応した透明導電膜20bと合わせて2種類の厚さからなる透明導電膜20a、20bを形成すればよいことになる。つまり、各色の有機EL素子EL−R、EL−B、EL−Gに合わせて厚さの異なる透明導電膜を形成する必要がないことから、製造工程の簡素化や、厚さ管理を容易にすることが可能となる。   In the manufacturing method according to the present embodiment, three organic EL elements corresponding to R, B, and G are used as pixels, but transparent conductive films for adjusting the optical distance have the same thickness corresponding to R and B. Therefore, the transparent conductive films 20a and 20b having two kinds of thicknesses may be formed together with the transparent conductive film 20b corresponding to G. That is, since it is not necessary to form transparent conductive films having different thicknesses in accordance with the organic EL elements EL-R, EL-B, and EL-G of the respective colors, the manufacturing process can be simplified and the thickness can be easily managed. It becomes possible to do.

以上のようにして透明導電膜20a、20bをパターン形成した後、さらに第1、第2レジストパターンをマスクに用いて電極材料膜をエッチングして下部電極2をパターン形成する。   After patterning the transparent conductive films 20a and 20b as described above, the lower electrode 2 is patterned by further etching the electrode material film using the first and second resist patterns as a mask.

その後、パターン形成された透明導電膜20a、20bおよび下部電極2を覆う状態で、基板1上に正孔輸送層、発光層および電子輸送層を含む発光ユニット11〜14を順次積層形成し、各画素に同一層からなる機能層10R、10B、10Gを一括形成する。これらの各層は、周知の方法にて合成された各有機材料を用いて、真空蒸着やスピンコートなどの周知の方法を適用して、各機能層に対応した各層を同一工程で形成することができる。そして最後に、上部電極3を積層形成することにより、上述した構成の有機EL素子EL−R、EL−B、EL−Gを配列形成してなる表示装置を得ることができる。   Thereafter, light emitting units 11 to 14 including a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer are sequentially stacked on the substrate 1 so as to cover the patterned transparent conductive films 20a and 20b and the lower electrode 2, Functional layers 10R, 10B, and 10G made of the same layer are collectively formed on the pixel. Each of these layers can be formed using the organic materials synthesized by a well-known method and by applying a well-known method such as vacuum deposition or spin coating to form each layer corresponding to each functional layer in the same process. it can. Finally, by stacking the upper electrode 3, it is possible to obtain a display device in which the organic EL elements EL-R, EL-B, and EL-G having the above-described configuration are formed.

以上説明した製造方法によれば、上述した構成の表示装置の製造において、各色の有機EL素子EL−R、EL−B、EL−Gに対応した機能層10R、10B、10Gを一括形成することにより、機能層10R、10B、10Gの設計を含む製造工程数の削減を図ることができる。したがって、機能層10R、10B、10Gの共通化によって発光素子の微細化が実現されることで高精細な表示が可能であり、しかも所望の発光色の光が十分な強度で取り出されることで色再現性に優れた表示が可能な表示装置を、より簡便に製造することが可能になる。   According to the manufacturing method described above, the functional layers 10R, 10B, and 10G corresponding to the organic EL elements EL-R, EL-B, and EL-G of the respective colors are collectively formed in the manufacture of the display device having the above-described configuration. Thus, the number of manufacturing steps including the design of the functional layers 10R, 10B, and 10G can be reduced. Accordingly, the use of the functional layers 10R, 10B, and 10G realizes miniaturization of the light-emitting element, thereby enabling high-definition display, and by extracting light with a desired emission color with sufficient intensity. A display device capable of displaying with excellent reproducibility can be more easily manufactured.

なお、以上説明した実施形態においては、図2を用いて発光光を基板1と反対の上部電極3側から取り出す、いわゆるトップエミッション型の表示装置の構成およびその製造方法を説明した。しかしながら、本発明は、基板1側から発光光を取り出す、いわゆるボトムエミッション型の表示装置にも適用される。この場合、基板1上に設けられる下部電極2は光反射性の材料を用いてハーフミラーとして構成され、上部電極3は光反射性の良好な材料を用いてミラーとして構成されること以外は、上述した実施形態と同様の構成として良く、同様の効果を得ることができる。ただし、表示装置の駆動方式としてアクティブマトリックス型を採用する場合には、図2に示したトップエミッション型を用いることで素子の開口率を向上させることが好ましい。   In the embodiment described above, the configuration of a so-called top emission type display device that extracts emitted light from the side of the upper electrode 3 opposite to the substrate 1 and the manufacturing method thereof have been described with reference to FIG. However, the present invention is also applied to a so-called bottom emission type display device that extracts emitted light from the substrate 1 side. In this case, the lower electrode 2 provided on the substrate 1 is configured as a half mirror using a light reflective material, and the upper electrode 3 is configured as a mirror using a light reflective material. The configuration may be the same as that of the above-described embodiment, and the same effect can be obtained. However, when the active matrix type is adopted as the driving method of the display device, it is preferable to improve the aperture ratio of the element by using the top emission type shown in FIG.

また、上述した実施形態においては、下部電極2上に透明導電膜20a、20bを設けた構成としたが、透明導電膜20a、20bは機能層10R、10B、10Gと上部電極3との間に設けられても良い。この場合、下部電極2が実質的な陽極または陰極となり、上部電極3に変わって透明電極20a、20bが実質的な陰極または陽極となる。また、上述した実施形態においては、透明導電膜20a、20bはリソグラフィを用いてパターン形成したが、蒸着マスクや、インクジェット等の方法を用いてパターン形成してもよい。   In the above-described embodiment, the transparent conductive films 20a and 20b are provided on the lower electrode 2, but the transparent conductive films 20a and 20b are provided between the functional layers 10R, 10B, and 10G and the upper electrode 3. It may be provided. In this case, the lower electrode 2 becomes a substantial anode or cathode, and instead of the upper electrode 3, the transparent electrodes 20a and 20b become substantial cathodes or anodes. In the above-described embodiment, the transparent conductive films 20a and 20b are patterned using lithography. However, the transparent conductive films 20a and 20b may be patterned using a method such as a vapor deposition mask or an inkjet.

さらに、上述した実施形態においては、下部電極2と上部電極3とをミラーとハーフミラーとしてこの間を共振部とした各有機EL素子を用いた例を説明した。しかしながら、本発明の表示装置は、このような構成に限定されることはない。すなわち、下部電極2または上部電極3をミラーとし、機能層10R、10B、10Gを構成する何れかの層をハーフミラーとし、これらのミラーとハーフミラーとの間に同一層からなる発光ユニット11〜14を狭持させ、これらのミラーとハーフミラーとの間に狭持された発光ユニット11〜14以外の機能層の膜厚によって共振部の光学的距離を調整した構成であっても良い。また、ミラーやハーフミラーは上部電極3または下部電極2の外側から発光ユニット11〜14を狭持する構成であってもよい。このような場合であっても、発光ユニット11〜14を同一層として製造工程の簡便化を図ることが可能である。また、各有機EL素子EL−R、EL−B、EL−Gの共振部における光学的距離の設定に透明導電膜20a、20bを用いているが、透明導電膜を用いないで発光ユニット11〜14の層厚によって調整する構成や、例えば透明導電膜20aのみを用いて20bを用いない構成でも良い。   Furthermore, in the above-described embodiment, the example in which each organic EL element using the lower electrode 2 and the upper electrode 3 as a mirror and a half mirror and having a resonance part therebetween is described. However, the display device of the present invention is not limited to such a configuration. That is, the lower electrode 2 or the upper electrode 3 is used as a mirror, and any of the layers constituting the functional layers 10R, 10B, and 10G is used as a half mirror, and the light emitting units 11 to 11 formed of the same layer between these mirrors and the half mirror. 14 may be configured such that the optical distance of the resonance portion is adjusted by the film thickness of the functional layer other than the light emitting units 11 to 14 sandwiched between these mirrors and the half mirror. Further, the mirror or the half mirror may be configured to sandwich the light emitting units 11 to 14 from the outside of the upper electrode 3 or the lower electrode 2. Even in such a case, it is possible to simplify the manufacturing process by using the light emitting units 11 to 14 as the same layer. Moreover, although the transparent conductive films 20a and 20b are used for the setting of the optical distance in the resonance part of each organic EL element EL-R, EL-B, EL-G, the light emitting units 11-11 are used without using a transparent conductive film. For example, a configuration in which the thickness is adjusted according to the layer thickness of 14 or a configuration in which only the transparent conductive film 20a is used and 20b is not used may be used.

次に、本発明の具体的な実施例、および実施例に対する比較例の表示装置の製造手順を説明し、その後これらの評価結果を説明する。   Next, a specific example of the present invention and a manufacturing procedure of a display device of a comparative example with respect to the example will be described, and then the evaluation results will be described.

<実施例の表示装置の作製>
実施例では、図2を用いて説明したフルカラー表示を行うトップエミッション型の表示装置を、次のように作製した。
<Preparation of Display Device of Example>
In the example, the top emission type display device that performs the full color display described with reference to FIG. 2 was manufactured as follows.

先ず、ガラス板からなる基板1上に、ミラーとなる陽極としてAPC(Ag-Pd-Cu)(膜厚約100nm)からなる下部電極2と、各膜厚のITOからなる透明導電膜20a、20bをパターン形成した。次に、透明導電膜20a、20bの表面中央部における2mm×2mmの発光領域以外を絶縁膜(図示省略)でマスクした有機EL素子用のセルを作製した。   First, on a substrate 1 made of a glass plate, a lower electrode 2 made of APC (Ag—Pd—Cu) (film thickness of about 100 nm) as an anode to be a mirror, and transparent conductive films 20a, 20b made of ITO of each film thickness. The pattern was formed. Next, a cell for an organic EL element in which a region other than the light emitting region of 2 mm × 2 mm at the center of the surface of the transparent conductive films 20a and 20b was masked with an insulating film (not shown) was produced.

次に、各発光領域となる透明導電膜20a、20bの露出部上に開口を有する金属マスクを基板1上に近接して配置し、10-4Pa以下の真空下での真空蒸着法により、緑、青、赤、青(以下、GBRBのように表す)の順で発光ユニット11〜14を、透明導電膜20a、20bおよび絶縁膜の上部に積層し、機能層10R、10B、10G形成した。各発光ユニット11〜14の膜厚は適当な値を選択すればよいが、発光に十分な膜厚を確保できることが望ましい。今回の場合、各発光ユニット11〜14の膜厚は50nm〜70nmの範囲でほぼ均等になるようにした。 Next, a metal mask having an opening on the exposed portions of the transparent conductive films 20a and 20b serving as the light emitting regions is disposed close to the substrate 1, and vacuum deposition is performed under a vacuum of 10 −4 Pa or less. The light emitting units 11 to 14 were laminated on the transparent conductive films 20a and 20b and the insulating film in the order of green, blue, red, and blue (hereinafter referred to as GBRB) to form functional layers 10R, 10B, and 10G. . Although the film thickness of each light emitting unit 11-14 should just select an appropriate value, it is desirable that the film thickness sufficient for light emission can be ensured. In this case, the film thicknesses of the light emitting units 11 to 14 were made almost uniform in the range of 50 nm to 70 nm.

その後、ハーフミラーとなる陰極として、MgとAgの共蒸着比10:1の薄膜を9nmの膜厚で成膜し、さらにITOを150nmの膜厚で成膜して上部電極3を形成し、実施例の表示装置を得た。   Thereafter, as a cathode to be a half mirror, a thin film with a co-evaporation ratio of 10: 1 of Mg and Ag is formed with a thickness of 9 nm, and ITO is further formed with a thickness of 150 nm to form the upper electrode 3. The display device of the example was obtained.

なお、実施例の表示装置においては、R,B,Gの各有機EL素子EL−R、EL−B、EL−Gから赤:波長λ=630nm、青:波長λ=460nm、緑:波長λ=530nmの光の取り出しが十分大きくなるように、上述した式(1)を満たす共振部の光学的距離Lのうちの最小値となる光学的距離Lを設定した。そして、機能層10R、10B、10Gの膜厚を220nmとし、上述した式(2)を満たすように、各透明導電膜20a、20bの光学的距離Ltを、Lt(赤)=80nm、Lt(青)=80nm、Lt(緑)=10nmに設定した。   In the display device of the example, red: wavelength λ = 630 nm, blue: wavelength λ = 460 nm, green: wavelength λ from the organic EL elements EL-R, EL-B, EL-G of R, B, G = The optical distance L that is the minimum value among the optical distances L of the resonating portion that satisfies the above-described formula (1) is set so that extraction of light of 530 nm is sufficiently large. Then, the thickness of the functional layers 10R, 10B, and 10G is set to 220 nm, and the optical distance Lt between the transparent conductive films 20a and 20b is set to Lt (red) = 80 nm and Lt ( Blue) = 80 nm and Lt (green) = 10 nm.

<比較例の表示装置の作製>
比較例では、実施例と同一の材料を使用した機能層を用いており、各色の固有の波長に最適化されていない積層順で各機能層における複数の発光ユニットを積層した。複数の発光ユニットの積層順をGRBB、およびBRBGとした以外は、全ての工程を実施例と同一として、比較例1および比較例2の表示装置を得た。
<Production of display device of comparative example>
In the comparative example, a functional layer using the same material as that of the example was used, and a plurality of light emitting units in each functional layer were laminated in a lamination order that was not optimized for the specific wavelength of each color. Except that the stacking order of the plurality of light emitting units was set to GRBB and BRBG, all the steps were the same as those of the examples, and the display devices of Comparative Example 1 and Comparative Example 2 were obtained.

<評価結果>
以上の様にして作製した実施例および比較例の表示装置について、各有機EL素子からの取り出し光のスペクトルを測定した。
<Evaluation results>
About the display apparatus of the Example and comparative example which were produced as mentioned above, the spectrum of the extraction light from each organic EL element was measured.

図4、図5は、実施例の表示装置の各有機EL素子からの取り出し光のスペクトルである。図4に緑色領域この発光波長が取り出されているL=240nmの場合、図5に青および赤色領域の発光波長が取り出されているL=310nmの場合を示した。各図の縦軸は、光共振が行われていない場合の発光強度からの相対強度を示している。これらの図から、青、緑、赤の波長領域でスペクトルの発光強度が大きく異なり、B,G,R各有機EL素子から取り出したい波長領域の光が多重干渉効果によって選択的に取り出されていることが確認された。   4 and 5 are spectra of extracted light from each organic EL element of the display device of the example. FIG. 4 shows the case where L = 240 nm where the emission wavelength is extracted in the green region, and FIG. 5 shows the case where L = 310 nm where the emission wavelengths in the blue and red regions are extracted. The vertical axis of each figure shows the relative intensity from the light emission intensity when optical resonance is not performed. From these figures, the emission intensity of the spectrum is greatly different in the blue, green, and red wavelength regions, and light in the wavelength region desired to be extracted from each of the B, G, R organic EL elements is selectively extracted by the multiple interference effect. It was confirmed.

なお、この場合、青と赤は光学的距離を同一にしているため、両方の色が発光されている。図5からわかるように、今回の例では緑色領域の発光強度に大きな依存性はないものの、青、赤の発光強度には大きな差が生じることがわかった。   In this case, since blue and red have the same optical distance, both colors are emitted. As can be seen from FIG. 5, in this example, although there is no great dependence on the emission intensity in the green region, it has been found that there is a large difference between the emission intensity of blue and red.

つまり、本実施例のように、機能層における発光ユニットの積層順(発光位置)をGBRBにすることで、赤、青、緑の全てにおいて選択的に光を取り出せることが可能となる。なお、上記のように青と赤とでは光学的距離を同一にしているため、赤の発光強度が他の色に比べて小さくなっているものの、相対強度で50%以上となっていることで、十分選択的に取り出すことができる。   That is, as in this embodiment, by setting the stacking order (light emitting position) of the light emitting units in the functional layer to GBRB, light can be selectively extracted in all of red, blue, and green. In addition, since the optical distance is the same between blue and red as described above, the emission intensity of red is smaller than other colors, but the relative intensity is 50% or more. Can be taken out selectively enough.

そして、図6、7、8には、このような表示装置における発光面側に、G、B、R各有機EL素子に対応させて、それぞれの色の波長のみを透過する各色のカラーフィルタを設けた場合のシミュレーション結果を示す。各図に示すように、カラーフィルタを組み合わせて設けることにより、実施例のスペクトルの不要な波長領域成分が減少され、B,G,R各有機EL素子から取り出される青、緑、赤の光の色純度が向上することが確認された。また、光学的距離が同一であるため、青と赤が発光される画素においては、カラーフィルタによって青、あるいは赤の画素として使用できることが分かる。   6, 7, and 8, color filters for each color that transmit only the wavelengths of the respective colors are provided on the light emitting surface side of such a display device so as to correspond to the G, B, and R organic EL elements. The simulation result when provided is shown. As shown in each figure, by providing a combination of color filters, unnecessary wavelength region components of the spectrum of the embodiment are reduced, and blue, green, and red light extracted from the B, G, and R organic EL elements are reduced. It was confirmed that the color purity was improved. Further, since the optical distance is the same, it can be seen that a pixel emitting blue and red can be used as a blue or red pixel by a color filter.

一方、図9、図10は、実施例の表示装置における各有機EL素子からの取り出し光強度を表した図である。これらの図から、各波長領域において、発光ユニットの積層順に対して、光取り出しやすさに大きな差があることがわかる。各図の縦軸に、光共振が起こらない場合を1とした相対的な光取り出しやすさを示す。また、図11に各波長領域において、光取り出しが極大になる場合を1としたときの相対的な光取り出しやすさの指標を示す。この図から、積層順をGBRBとすることにより、フルカラーに必要なRGB3色について、光取り出しが良好に行われていることがわかる。 On the other hand, FIG. 9, FIG. 10 is a figure showing the extraction light intensity | strength from each organic EL element in the display apparatus of an Example . From these figures, it can be seen that there is a large difference in the light extraction easiness with respect to the stacking order of the light emitting units in each wavelength region. The vertical axis of each figure shows the relative ease of extracting light when the optical resonance does not occur. FIG. 11 shows an index of relative ease of light extraction when the light extraction is maximized in each wavelength region. From this figure, it can be seen that the light extraction is satisfactorily performed for the three RGB colors necessary for the full color by setting the stacking order to GBRB.

以上から、本発明による表示装置は、簡便で精度の高い製造プロセスを使用しながらも、十分な発光効率と、色純度を併せ持つ発光素子を使用した装置となった。   From the above, the display device according to the present invention is a device using a light emitting element having both sufficient luminous efficiency and color purity while using a simple and highly accurate manufacturing process.

本実施形態に係る表示装置の概略構成を説明する模式図である。It is a schematic diagram explaining schematic structure of the display apparatus which concerns on this embodiment. 本実施形態に係る表示装置の一構成例を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the example of 1 structure of the display apparatus which concerns on this embodiment. 透明導電膜上に積層される機能層の詳細を説明する模式断面図である。It is a schematic cross section explaining the detail of the functional layer laminated | stacked on a transparent conductive film. 実施例の表示装置の各有機EL素子からの取り出し光のスペクトル(L=240nm)を示す図である。It is a figure which shows the spectrum (L = 240nm) of the extraction light from each organic EL element of the display apparatus of an Example. 実施例の表示装置の各有機EL素子からの取り出し光のスペクトル(L=310nm)を示す図である。It is a figure which shows the spectrum (L = 310nm) of the extraction light from each organic EL element of the display apparatus of an Example. 各色のカラーフィルタを設けた場合のシミュレーション結果を示す図(その1)である。It is FIG. (1) which shows the simulation result at the time of providing the color filter of each color. 各色のカラーフィルタを設けた場合のシミュレーション結果を示す図(その2)である。It is FIG. (2) which shows the simulation result at the time of providing the color filter of each color. 各色のカラーフィルタを設けた場合のシミュレーション結果を示す図(その3)である。FIG. 11 is a diagram (part 3) illustrating a simulation result when color filters for each color are provided; 各有機EL素子からの取り出し光強度を表した図(その1)である。It is the figure (the 1) showing the extraction light intensity from each organic EL element. 各有機EL素子からの取り出し光強度を表した図(その2)である。It is the figure (the 2) showing the extraction light intensity from each organic EL element. 各波長領域において、光取り出しが極大になる場合を1としたときの相対的な光取り出しやすさの指標を示す図である。It is a figure which shows the parameter | index of the relative ease of light extraction when the case where light extraction becomes the maximum in each wavelength area is set to 1.

符号の説明Explanation of symbols

1…基板、2…下部電極、3…上部電極、4…カラーフィルタ、10R、10B、10G…機能層、11…第1の発光ユニット、12…第2の発光ユニット、13…第3の発光ユニット、14…第4の発光ユニット、20a…透明導電膜、20b…透明導電膜   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Board | substrate, 2 ... Lower electrode, 3 ... Upper electrode, 4 ... Color filter, 10R, 10B, 10G ... Functional layer, 11 ... 1st light emission unit, 12 ... 2nd light emission unit, 13 ... 3rd light emission Unit, 14 ... fourth light emitting unit, 20a ... transparent conductive film, 20b ... transparent conductive film

Claims (18)

上部電極と下部電極との間に機能層が配置され、前記上部電極と前記下部電極との間を共振部として前記機能層で発光した光を共振させて取り出す発光素子を備えており、
異なる波長に対応させた少なくとも3つの前記発光素子を組みとしてピクセルを構成する表示装置において、
前記ピクセルを構成する第1の発光素子における前記共振部の光学的距離と第2の発光素子における前記共振部の光学的距離とが等しく設けられ、前記第1の発光素子における前記共振部の光学的距離と第3の発光素子における共振部の光学的距離とが異なるよう設けられており、
3つの前記発光素子のそれぞれは、前記共振部の光学的距離を設定するため前記機能層と前記下部電極との間に透明層を備えており、
前記第1の発光素子における前記透明層と前記第2の発光素子における前記透明層とが等しい厚さで設けられており、
前記第1の発光素子における前記透明層と前記第3の発光素子における前記透明層とが異なる厚さで設けられており、
3つの前記発光素子における前記透明層を合わせた前記上部電極と前記下部電極との間および前記機能層の膜厚が、目的とする波長を共振させる共振部となるように設定されており、
前記第1の発光素子の光取り出し面側には、前記共振部で共振して取り出される波長領域のうち、前記第1の発光素子が目的とする波長領域の光を透過するカラーフィルタが設けられており、
前記第2の発光素子の光取り出し面側には、前記共振部で共振して取り出される波長領域のうち、前記第2の発光素子が目的とする波長領域の光を透過するカラーフィルタが設けられている
表示装置。
A functional layer is disposed between the upper electrode and the lower electrode, and includes a light emitting element that resonates and takes out light emitted from the functional layer as a resonance part between the upper electrode and the lower electrode,
In a display device that constitutes a pixel by combining at least three light emitting elements corresponding to different wavelengths,
The optical distance of the resonance part in the first light-emitting element constituting the pixel is equal to the optical distance of the resonance part in the second light-emitting element, and the optical of the resonance part in the first light-emitting element is provided. And the optical distance of the resonance part in the third light emitting element are different from each other,
Each of the three light emitting elements includes a transparent layer between the functional layer and the lower electrode in order to set an optical distance of the resonance unit,
The transparent layer in the first light emitting element and the transparent layer in the second light emitting element are provided with equal thickness,
The transparent layer in the first light emitting element and the transparent layer in the third light emitting element are provided with different thicknesses,
Thickness between and the functional layer between the upper electrode and the lower electrode combined the transparent layer in the three light emitting elements are set such that the resonance unit for resonating wavelengths of interest,
On the light extraction surface side of the first light emitting element, a color filter is provided that transmits light in a wavelength region intended by the first light emitting element out of the wavelength region that is resonated and extracted by the resonance unit. And
On the light extraction surface side of the second light emitting element, a color filter is provided that transmits light in a wavelength region intended by the second light emitting element out of the wavelength region that is resonated and extracted by the resonance unit. and it has a display device.
上部電極と下部電極との間に機能層が配置され、前記上部電極と前記下部電極との間を共振部として前記機能層で発光した光を共振させて取り出す発光素子を備えており、
異なる波長に対応させた少なくとも3つの前記発光素子を組みとしてピクセルを構成する表示装置において、
前記ピクセルを構成する第1の発光素子における前記共振部の光学的距離と第2の発光素子における前記共振部の光学的距離とが等しく設けられ、前記第1の発光素子における前記共振部の光学的距離と第3の発光素子における共振部の光学的距離とが異なるよう設けられており、
3つの前記発光素子における前記上部電極と前記下部電極との間および前記機能層の膜厚が、目的とする波長を共振させる共振部となるように設定されており、
前記第1の発光素子の光取り出し面側には、前記共振部で共振して取り出される波長領域のうち、前記第1の発光素子が目的とする波長領域の光を透過するカラーフィルタが設けられており、
前記第2の発光素子の光取り出し面側には、前記共振部で共振して取り出される波長領域のうち、前記第2の発光素子が目的とする波長領域の光を透過するカラーフィルタが設けられており、
前記機能層は、異なる波長の光を発光する複数の発光ユニットを有しており、cd/A(単位電流当たりの光度)で表される発光効率が最も低い波長の発光ユニットが他の波長の発光ユニットより多層となっている
表示装置。
A functional layer is disposed between the upper electrode and the lower electrode, and includes a light emitting element that resonates and takes out light emitted from the functional layer as a resonance part between the upper electrode and the lower electrode,
In a display device that constitutes a pixel by combining at least three light emitting elements corresponding to different wavelengths,
The optical distance of the resonance part in the first light-emitting element constituting the pixel is equal to the optical distance of the resonance part in the second light-emitting element, and the optical of the resonance part in the first light-emitting element is provided. And the optical distance of the resonance part in the third light emitting element are different from each other,
The thickness of the functional layer between the upper electrode and the lower electrode in the three light emitting elements is set to be a resonance part that resonates a target wavelength,
On the light extraction surface side of the first light emitting element, a color filter is provided that transmits light in a wavelength region intended by the first light emitting element out of the wavelength region that is resonated and extracted by the resonance unit. And
On the light extraction surface side of the second light emitting element, a color filter is provided that transmits light in a wavelength region intended by the second light emitting element out of the wavelength region that is resonated and extracted by the resonance unit. And
The functional layer has a plurality of light emitting units that emit light of different wavelengths, and the light emitting unit having the lowest light emission efficiency represented by cd / A (luminance per unit current) has the other wavelength. A display device that has multiple layers than the light emitting unit.
上部電極と下部電極との間に機能層が配置され、前記上部電極と前記下部電極との間を共振部として前記機能層で発光した光を共振させて取り出す発光素子を備えており、
異なる波長に対応させた少なくとも3つの前記発光素子を組みとしてピクセルを構成する表示装置において、
前記ピクセルを構成する第1の発光素子における前記共振部の光学的距離と第2の発光素子における前記共振部の光学的距離とが等しく設けられ、前記第1の発光素子における前記共振部の光学的距離と第3の発光素子における共振部の光学的距離とが異なるよう設けられており、
3つの前記発光素子における前記上部電極と前記下部電極との間および前記機能層の膜厚が、目的とする波長を共振させる共振部となるように設定されており、
前記第1の発光素子の光取り出し面側には、前記共振部で共振して取り出される波長領域のうち、前記第1の発光素子が目的とする波長領域の光を透過するカラーフィルタが設けられており、
前記第2の発光素子の光取り出し面側には、前記共振部で共振して取り出される波長領域のうち、前記第2の発光素子が目的とする波長領域の光を透過するカラーフィルタが設けられており、
前記機能層は、前記下部電極側から緑に対応した第1の発光ユニット、青に対応した第2の発光ユニット、赤に対応した第3の発光ユニット、青に対応した第4の発光ユニットの順に積層された複数の発光ユニットから構成される
表示装置。
A functional layer is disposed between the upper electrode and the lower electrode, and includes a light emitting element that resonates and takes out light emitted from the functional layer as a resonance part between the upper electrode and the lower electrode,
In a display device that constitutes a pixel by combining at least three light emitting elements corresponding to different wavelengths,
The optical distance of the resonance part in the first light-emitting element constituting the pixel is equal to the optical distance of the resonance part in the second light-emitting element, and the optical of the resonance part in the first light-emitting element is provided. And the optical distance of the resonance part in the third light emitting element are different from each other,
The thickness of the functional layer between the upper electrode and the lower electrode in the three light emitting elements is set to be a resonance part that resonates a target wavelength,
On the light extraction surface side of the first light emitting element, a color filter is provided that transmits light in a wavelength region intended by the first light emitting element out of the wavelength region that is resonated and extracted by the resonance unit. And
On the light extraction surface side of the second light emitting element, a color filter is provided that transmits light in a wavelength region intended by the second light emitting element out of the wavelength region that is resonated and extracted by the resonance unit. And
The functional layer includes a first light emitting unit corresponding to green from the lower electrode side, a second light emitting unit corresponding to blue, a third light emitting unit corresponding to red, and a fourth light emitting unit corresponding to blue. A display device composed of a plurality of light emitting units stacked in order.
上部電極と下部電極との間に機能層が配置され、前記上部電極と前記下部電極との間を共振部として前記機能層で発光した光を共振させて取り出す発光素子を備えており、
異なる波長に対応させた少なくとも3つの前記発光素子を組みとしてピクセルを構成する表示装置において、
前記ピクセルを構成する第1の発光素子における前記共振部の光学的距離と第2の発光素子における前記共振部の光学的距離とが等しく設けられ、前記第1の発光素子における前記共振部の光学的距離と第3の発光素子における共振部の光学的距離とが異なるよう設けられており、
3つの前記発光素子における前記上部電極と前記下部電極との間および前記機能層の膜厚が、目的とする波長を共振させる共振部となるように設定されており、
前記第1の発光素子の光取り出し面側には、前記共振部で共振して取り出される波長領域のうち、赤の波長領域の光を透過するカラーフィルタが設けられており、
前記第2の発光素子の光取り出し面側には、前記共振部で共振して取り出される波長領域のうち、青の波長領域の光を透過するカラーフィルタが設けられており、
前記第1の発光素子は赤の波長に対応し、前記第2の発光素子は青の波長に対応する
表示装置。
A functional layer is disposed between the upper electrode and the lower electrode, and includes a light emitting element that resonates and takes out light emitted from the functional layer as a resonance part between the upper electrode and the lower electrode,
In a display device that constitutes a pixel by combining at least three light emitting elements corresponding to different wavelengths,
The optical distance of the resonance part in the first light-emitting element constituting the pixel is equal to the optical distance of the resonance part in the second light-emitting element, and the optical of the resonance part in the first light-emitting element is provided. And the optical distance of the resonance part in the third light emitting element are different from each other,
The thickness of the functional layer between the upper electrode and the lower electrode in the three light emitting elements is set to be a resonance part that resonates a target wavelength,
On the light extraction surface side of the first light emitting element, a color filter that transmits light in a red wavelength region out of the wavelength region extracted by resonance in the resonance unit is provided,
On the light extraction surface side of the second light emitting element, a color filter that transmits light in a blue wavelength region out of the wavelength region extracted by resonance in the resonance unit is provided,
The display device according to claim 1, wherein the first light emitting element corresponds to a red wavelength, and the second light emitting element corresponds to a blue wavelength.
上部電極と下部電極との間に機能層が配置され、前記上部電極と前記下部電極との間を共振部として前記機能層で発光した光を共振させて取り出す発光素子を備えており、
異なる波長に対応させた少なくとも3つの前記発光素子を組みとしてピクセルを構成する表示装置において、
前記ピクセルを構成する第1の発光素子における前記共振部の光学的距離と第2の発光素子における前記共振部の光学的距離とが等しく設けられ、前記第1の発光素子における前記共振部の光学的距離と第3の発光素子における共振部の光学的距離とが異なるよう設けられており、
3つの前記発光素子における前記上部電極と前記下部電極との間および前記機能層の膜厚が、目的とする波長を共振させる共振部となるように設定されており、
前記第1の発光素子の光取り出し面側には、前記共振部で共振して取り出される波長領域のうち、前記第1の発光素子が目的とする波長領域の光を透過するカラーフィルタが設けられており、
前記第2の発光素子の光取り出し面側には、前記共振部で共振して取り出される波長領域のうち、前記第2の発光素子が目的とする波長領域の光を透過するカラーフィルタが設けられており、
前記機能層は、異なる波長の光を発光する複数の発光ユニットを有しており
前記複数の発光ユニットの積層順は、取り出す光の発光強度が光共振が行われていない場合の発光強度からの相対強度で50%以上となるように設定されている
表示装置。
A functional layer is disposed between the upper electrode and the lower electrode, and includes a light emitting element that resonates and takes out light emitted from the functional layer as a resonance part between the upper electrode and the lower electrode,
In a display device that constitutes a pixel by combining at least three light emitting elements corresponding to different wavelengths,
The optical distance of the resonance part in the first light-emitting element constituting the pixel is equal to the optical distance of the resonance part in the second light-emitting element, and the optical of the resonance part in the first light-emitting element is provided. And the optical distance of the resonance part in the third light emitting element are different from each other,
The thickness of the functional layer between the upper electrode and the lower electrode in the three light emitting elements is set to be a resonance part that resonates a target wavelength,
On the light extraction surface side of the first light emitting element, a color filter is provided that transmits light in a wavelength region intended by the first light emitting element out of the wavelength region that is resonated and extracted by the resonance unit. And
On the light extraction surface side of the second light emitting element, a color filter is provided that transmits light in a wavelength region intended by the second light emitting element out of the wavelength region that is resonated and extracted by the resonance unit. And
The functional layer has a plurality of light emitting units that emit light of different wavelengths ,
The stacking order of the plurality of light emitting units is set so that the light emission intensity of the extracted light is 50% or more in terms of the relative intensity from the light emission intensity when optical resonance is not performed.
前記ピクセルは、赤、青、緑の波長に対応した3つの発光素子から構成される
請求項1から請求項5の何れか一項に記載の表示装置。
The display device according to claim 1, wherein the pixel includes three light emitting elements corresponding to wavelengths of red, blue, and green.
前記機能層は、異なる波長の光を発光する複数の発光層を有する
請求項1から請求項6の何れか一項に記載の表示装置。
The display device according to any one of claims 1 to 6, wherein the functional layer includes a plurality of light emitting layers that emit light of different wavelengths.
前記機能層は、異なる波長の光を発光する複数の発光ユニットを有する
請求項1から請求項6の何れか一項に記載の表示装置。
The display device according to any one of claims 1 to 6, wherein the functional layer includes a plurality of light emitting units that emit light having different wavelengths.
前記機能層は、前記ピクセルを構成する各発光素子の各機能層において前記複数の発光ユニットの配列が同じとなっている
請求項8に記載の表示装置。
The display device according to claim 8, wherein the functional layer has the same arrangement of the plurality of light emitting units in each functional layer of each light emitting element constituting the pixel.
前記機能層は、各機能層で対応する発光ユニットの厚さがほぼ等しくなっている
請求項9に記載の表示装置。
The display device according to claim 9, wherein the functional layer has substantially the same thickness of the light emitting unit corresponding to each functional layer.
前記機能層で発生した光が前記共振部の両端で反射する際に生じる位相シフトをΦラジアン、前記共振部の光学的距離をL、前記共振部から取り出したい光のスペクトルのピーク波長をλとした場合、
(2L)/λ+Φ/(2π)=m(mは整数)
を満たす範囲で前記光学的距離Lが設定されている
請求項1から請求項10の何れか一項に記載の表示装置。
The phase shift that occurs when the light generated in the functional layer is reflected at both ends of the resonance unit is Φ radians, the optical distance of the resonance unit is L, and the peak wavelength of the spectrum of light that is desired to be extracted from the resonance unit is λ. if you did this,
(2L) / λ + Φ / (2π) = m (m is an integer)
The display device according to any one of claims 1 to 10, wherein the optical distance L is set in a range that satisfies the following conditions.
前記発光素子における共振部の光学的距離Lを設定するため前記機能層と前記下部電極との間に透明層を備えている場合、
前記透明層の光学的距離をLt、前記機能層の光学的距離をLfとした場合、
L=Lt+Lf
を満たすように前記透明層の光学的距離Ltが設定されている
請求項1から請求項10の何れか一項に記載の表示装置。
When a transparent layer is provided between the functional layer and the lower electrode in order to set the optical distance L of the resonance part in the light emitting element,
When the optical distance of the transparent layer is Lt and the optical distance of the functional layer is Lf,
L = Lt + Lf
The display device according to any one of claims 1 to 10, wherein an optical distance Lt of the transparent layer is set so as to satisfy the following condition.
前記第3の発光素子の光取り出し面側には、前記共振部で共振して取り出される波長領域のうち、前記第3の発光素子が目的とする波長領域の光を透過するカラーフィルタが設けられている
請求項1から請求項12の何れか一項に記載の表示装置。
The third on the light extraction surface side of the light-emitting element, among the wavelength regions to be extracted by resonating with the resonance portion, a color filter is provided to the third light emitting element transmits light in the wavelength region of interest The display device according to any one of claims 1 to 12.
下部電極の上に機能層を形成し、その機能層の上に上部電極を形成して、前記上部電極と前記下部電極との間を共振部とする発光素子を構成する表示装置の製造方法において、
異なる波長に対応させた少なくとも3つの発光素子を組みとしてピクセルを構成するにあたり、3つの前記発光素子のそれぞれについて前記機能層と前記下部電極との間に透明層を設け、前記ピクセルの第1の発光素子における前記共振部の光学的距離と第2の発光素子における前記共振部の光学的距離とが等しくなるよう構成し、前記第1の発光素子における前記共振部の光学的距離と第3の発光素子における共振部の光学的距離とが異なるよう構成し、前記第1の発光素子における前記透明層と前記第2の発光素子における前記透明層とを等しい厚さで形成し、3つの前記発光素子における前記透明層を合わせた前記上部電極と前記下部電極との間および前記機能層の膜厚が、目的とする波長を共振させる共振部となるように構成し、
前記第1の発光素子の光取り出し面側には、前記共振部で共振して取り出される波長領域のうち、前記第1の発光素子が目的とする波長領域の光を透過するカラーフィルタを設け、
前記第2の発光素子の光取り出し面側には、前記共振部で共振して取り出される波長領域のうち、前記第2の発光素子が目的とする波長領域の光を透過するカラーフィルタを設ける
表示装置の製造方法。
In a manufacturing method of a display device in which a functional layer is formed on a lower electrode, an upper electrode is formed on the functional layer, and a light emitting element having a resonance portion between the upper electrode and the lower electrode is formed. ,
In configuring a pixel by combining at least three light emitting elements corresponding to different wavelengths, a transparent layer is provided between the functional layer and the lower electrode for each of the three light emitting elements, and the first of the pixels The optical distance of the resonance part in the light emitting element is configured to be equal to the optical distance of the resonance part in the second light emitting element, and the optical distance of the resonance part in the first light emitting element is equal to the third optical distance. The optical distance of the resonance part in the light emitting element is different, and the transparent layer in the first light emitting element and the transparent layer in the second light emitting element are formed with the same thickness, and the three light emitting elements The film thickness of the functional layer between the upper electrode and the lower electrode combined with the transparent layer in the element is configured to be a resonance part that resonates the target wavelength,
Provided on the light extraction surface side of the first light emitting element is a color filter that transmits light in a wavelength region intended by the first light emitting element, out of the wavelength region that is resonated and extracted by the resonance unit,
A display provided on the light extraction surface side of the second light-emitting element is provided with a color filter that transmits light in a wavelength region intended by the second light-emitting element out of the wavelength region that is resonated and extracted by the resonance unit. Device manufacturing method.
前記ピクセルにおける各発光素子の機能層を一括形成する
請求項14に記載の表示装置の製造方法。
The method for manufacturing a display device according to claim 14, wherein functional layers of the respective light emitting elements in the pixel are collectively formed.
赤、青、緑の波長に対応した3つの共振型発光素子を形成してピクセルを構成する表示装置の製造方法において、
基板上に下部電極を形成する工程と、
前記下部電極上に赤に対応した透明層および青に対応した透明層を同じ膜厚で形成し、緑に対応した透明層を前記赤および青に対応した透明層と異なる膜厚で形成する工程と、
前記赤、青および緑の各々に対応した透明層の上に、異なる波長の光を発光する複数の発光ユニットを順次積層して3つの機能層を形成する工程と、
前記3つの機能層の上に上部電極を形成する工程と
を有し、
3つの前記発光素子における前記透明層を合わせた前記上部電極と前記下部電極との間および前記機能層の膜厚が、目的とする波長を共振させる共振部となるように構成する 表示装置の製造方法。
In a manufacturing method of a display device in which pixels are formed by forming three resonant light emitting elements corresponding to red, blue, and green wavelengths,
Forming a lower electrode on the substrate;
Forming a transparent layer corresponding to red and a transparent layer corresponding to blue on the lower electrode with the same film thickness, and forming a transparent layer corresponding to green with a film thickness different from the transparent layer corresponding to red and blue When,
A step of sequentially laminating a plurality of light emitting units that emit light of different wavelengths on the transparent layers corresponding to each of red, blue, and green to form three functional layers;
Forming an upper electrode on the three functional layers,
The display device is configured such that the thickness of the functional layer between the upper electrode and the lower electrode including the transparent layers in the three light emitting elements is a resonance unit that resonates a target wavelength. Method.
赤、青、緑の波長に対応した3つの共振型発光素子を形成してピクセルを構成する表示装置の製造方法において、
基板上に下部電極を形成する工程と、
前記下部電極上に赤に対応した透明層および青に対応した透明層を同じ膜厚で形成し、緑に対応した透明層を前記赤および青に対応した透明層と異なる膜厚で形成する工程と、
前記赤、青および緑の各々に対応した透明層の上に、異なる波長の光を発光する複数の発光ユニットを順次積層して3つの機能層を形成する工程と、
前記3つの機能層の上に上部電極を形成する工程と
を有し、
3つの前記発光素子における前記上部電極と前記下部電極との間および前記機能層の膜厚が、目的とする波長を共振させる共振部となるように構成し、
前記3つの機能層における複数の発光ユニットは、前記下部電極側から緑に対応した第1の発光ユニット、青に対応した第2の発光ユニット、赤に対応した第3の発光ユニット、青に対応した第4の発光ユニットの順に積層する
表示装置の製造方法。
In a manufacturing method of a display device in which pixels are formed by forming three resonant light emitting elements corresponding to red, blue, and green wavelengths,
Forming a lower electrode on the substrate;
Forming a transparent layer corresponding to red and a transparent layer corresponding to blue on the lower electrode with the same film thickness, and forming a transparent layer corresponding to green with a film thickness different from the transparent layer corresponding to red and blue When,
A step of sequentially laminating a plurality of light emitting units that emit light of different wavelengths on the transparent layers corresponding to each of red, blue, and green to form three functional layers;
Forming an upper electrode on the three functional layers,
The thickness of the functional layer between the upper electrode and the lower electrode in the three light emitting elements is configured to be a resonance unit that resonates a target wavelength,
The plurality of light emitting units in the three functional layers correspond to the first light emitting unit corresponding to green, the second light emitting unit corresponding to blue, the third light emitting unit corresponding to red, and blue from the lower electrode side. A display device manufacturing method in which the fourth light emitting units are stacked in this order.
前記ピクセルにおける各発光素子の機能層を一括形成する
請求項16または請求項17に記載の表示装置の製造方法。
The method for manufacturing a display device according to claim 16, wherein functional layers of the respective light emitting elements in the pixel are collectively formed.
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