JP4507406B2 - 製造中で使用した重合物及び樹脂のクリーニング組成物及びクリーニング方法 - Google Patents

Description

【０００１】
【技術分野】
本発明は、例えば光学レンズの製造における、製造物品または製造設備から、プラスチック樹脂やポリマーのクリーニングし、溶解し及び／又は除去するための方法、およびそのための有用な組成物に関する。より詳細には、本発明はポリマーと接触する材料、例えば以下に限定するものではないが、有機レンズの製造方法で使用するレンズ、金型、ホルダー、ラック、製造機械および製造設備から、プラスチックレンズ樹脂残査またはポリマー残査を除去するために使用する溶液および混合溶液、ならびにそれら残査を除去する方法に関する。
【０００２】
【背景技術】
近年、無機成分から製造されるレンズに比較して、軽量性、可染性、さらには耐久性がよいことより、プラスチックレンズがメガネやカメラレンズ、さらには光学デバイスに多く使用されてきている。当初の透明なプラスチック樹脂およびポリマーの開発は、よりよい性質を持たせること、および光学ガラスの屈折率であるほぼ１．５２と同じ屈折率をもたせることに目標が置かれていた。この用途のために開発され、今日広く市場で使用されている一般的な樹脂は、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート（ＤＥＧＢＡＧ）（ＰＰＧインダストリー社；商品名「ＣＲ−３９」）をラジカル重合することにより得られた物質である。この樹脂は、衝撃耐性、軽量性、可染性、ならびに裁断、研削および研磨工程における良好な機械工作性を有するなど、種々のポジティブな特性を有していた。この樹脂は、無機レンズの屈折率であるおよそ１．５２より低い屈折率１．５０を有するものとして見出された。
【０００３】
無機ガラスレンズと光学的に同等なものを得るには、レンズの湾曲に沿って中央部と周囲の厚みを大きくしなければならなかった。有機樹脂レンズは際立ったポジティブな利点を有するにもかかわらず、この厚みの増大は、光学レンズのユーザーにとって好ましいものではなかった。したがって、高い屈折率を有し、その結果より薄く、より軽いレンズを得ることができる新たな樹脂ならびにポリマーが開発され、また開発検討されている。
【０００４】
プラスチックレンズの屈折率を増大させる方法として、モノマー混合物を慣用されている他のモノマーに混合させることにより共重合させ、得られたポリマーに高い屈折率を付加させる方法は公知である。このようにして得られた高屈折率ポリマーならびにプラスチックレンズは、高い屈折率（＞１．４９）を有するばかりでなく、光学レンズとして良好な物理的、機械的ならびに化学的特性を有しているものでもある。プラスチックから光学レンズを製造する技術には、アクリレート、メタクリレート、メチルメタクリレートポリカーボネート、フタレート、イソシアネート、ポリウレタン、ウレタンのポリマーおよびコポリマー、ならびに他のモノマー構造のものが使用されており、これらのものは良く知られておりまた文献に記載されている。最近のモノマー技術では、屈折率を増大させるであろう塩素または臭素のようなハロゲン分子の使用が行われている。
【０００５】
レンズならびにポリマー工業では、より高い屈折率を有する物質の開発が展開されている。最近の研究では、ポリマーの一部に硫黄を使用することが行われている。ポリマーマトリックスへの硫黄の添加は、ポリマーの屈折率を著しく増大させており、加えて望ましい物理的および光学的特性が保持させている。硫黄の添加は、また、ポリマーの化学的抵抗性を増大させるものであり、光学レンズの製造に使用する装置の清掃をより困難なものにしている。
【０００６】
このプラスチックレンズの製造法は、文献によく記載されている。レンズは、モノマー混合物を、ガラスから形成された鋳造金型、金属製またはプラスチック製金型ピース、およびエラストマー（典型的にはエチレン−ビニル酢酸共重合体）または金属製のガスケット中で鋳形する方法で製造される。ポリマーは、モノマーの重合を開始させ、抑制させならびに重合させる目的としての添加物を含有することができる。次いで金型を予め設定した温度にまで、予め設定した時間加熱し、そして、紫外線照射を行ない得るか、行ない得ることなく、例えば、あるいは所望の方法によりプラスチックレンズの重合を開始または抑制する化学的処置が施される。この工程は、重合が所望のレベルに到達するまで予め設定した時間続けられる。次いで、レンズを、通常、金型ピース及びガスケットから分離しすることにより金型から取り出し、次いで、更なる工程処理に付す。
【０００７】
金型ピースおよびガスケットは、通常非常に高価なものであり、再使用に先駆けてクリーニングが要求される。時として、金型ピースは金型の外側サイドにオーバーフローされたポリマーで汚染されている場合があり、したがってクリーニングが要求されることとなる。更に、このオーバーフローされたポリマーの存在は、製造工程で使用し当該ポリマーと接触されるホルダー、ラック、道具ならびに他の装置あるいは設備にまで認められることもある。光学ポリマーの設計としては、強い物理的特性と化学的耐性をを有するレンズ製品を確保するものであることから、オーバーフローされたポリマーは同じ特性を発揮する。したがって、装置からオーバーフローされた物質の除去は、非常に困難なものであり、また、使用するクリーニング技術が道具や装置を損傷させると、非常に高価なものになる。
【０００８】
最近の技術では、種々のポリマーの除去方法が採用されているが、以下の一般的な３方法である。第一の方法は、機械的な方法であり、所望の装置、道具、および金型より、ポリマーを擦り取り手段、および砂吹き付け手段による除去する方法である。この方法は労働集約的であり、厄介なものであり、時間がかかるという欠点があり、また、何回も行なうとデリケートな金型ならびに装置にダメージを与えることとなる。第二の方法は、熱による方法であり、ポリマーをオーブン中、あるいは砂のような加熱した媒体により燃焼させてしまう方法である。この方法は、エネルギーコストの面、揮発性の物質が生成する面、ならびに火災の可能性の面より望ましいものではない。さらに、清掃のために高温度が必要であり、部品のいくつかは物理的に損傷した部品となり、使用不可となる。第三の方法は、化学的な方法であり、ポリマーが除去されるまで金型、道具及び/又は装置を化学溶液と接触させる方法である。この方法は、他の２方法に比較して、作業コスト、作業時間の面で望ましいものである。
【０００９】
望ましくないポリマー、またはオーバーフローしたポリマーの除去ための化学的クリーニング方法では、無機強酸類または強塩基類が使用される。この技術分野で最も一般的に使用されているものは、硫酸、硝酸または塩酸等の無機の強酸である。これらの酸の酸化作用は高温度で最も有効であるため、望ましくないポリマーを除去するため、これらの酸は、主として１４０Ｆ（６０℃）を超える温度で使用される。これら酸を使用する場合の欠点は、これらの酸が危険なものであるため、鋳形金型および装置を腐食させ、その使用耐年数を減少させることである。
【００１０】
大抵の場合、クリーニング処理を行なうための特別な装置、特別な操作、および特別な部屋が必要とされる。アルカリを使用すること、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物の使用が、またこの技術分野で見出されている。これらの物質には、強酸の場合に類する同じような制約と、欠点があり、高温度下において高濃度で使用する場合のみ有効であるといえる。高濃度の場合には、これら物質はガラス金型に好ましくない影響を与え、金型の使用耐年数を減少させて高コストとなる。
【００１１】
アメリカ特許第５，１３０，３９３には、メチレンクロライドと強塩基との組合せによる金型のクリーニング、ならびにまた、金型からレンズを取り出す場合の補助としての使用が開示されている。クリーニングに使用する条件及び/又は濃度についての開示はなく、硫黄及び／又はハロゲンを含むポリマーに対して有効であるか否かの教示もない。
【００１２】
【発明の開示】
本発明は、現状の問題点および欠点を解決するものであり、前記した方法に対して優れた特性または結果を発揮する効果的なクリーニング方法、クリーニング用混合物を提供するものである。本発明の目的は、光学有機レンズの製造工程で使用される幅広いポリマーおよび樹脂を除去するために、有効的であり、経費削減効果の良好な、工業的スケールで好適に適用し得るクリーニング方法を提供することである。
【００１３】
本発明は、ポリマーと接触する材料、例えば以下に限定するものではないが、有機レンズの製造方法で使用するレンズ、鋳型、ホルダー、ラック、製造機械および製造設備から、プラスチックレンズ樹脂残査またはポリマーの残査を除去するのに使用する溶液および混合溶液、ならびにそれら残査を除去する方法に関するものである。
【００１４】
その一態様として、本発明は、少なくとも一つの含窒素化合物を含有し、そのｐＨが約７より大きな値を有する新規なクリーニング用組成物に関する。クリーニング用組成物の好ましい化合物は含窒素化合物であり、また一つのハイドロキシル基を有するものである。添加することができる他の有効な物質は、以下の１またはそれ以上の物質：水；アルコール類；無機水酸化物類；エステル類；エーテル類；環状エーテル類；ケトン類；アルカン類；テルペン類；二基エステル類；グリコールエーテル類；ピロリドン類；または低級もしくはオゾン層非破壊性の塩素化および塩素化及び／又はフッ素化炭化水素類である。本発明の組成物はまた、当該技術により、緩衝剤、界面活性剤、キレート剤、着色剤、顔料、芳香剤、指示薬、抑制剤および他の有効成分等を添加することにより、その特性を改良するすることができる。
【００１５】
より詳細には、本発明のクリーニング用組成物は、一般的にｐＨが７．０より大きなものであり、そして次式（Ｉ）：
Ｎ_xＣ_yＨ_zＯ_a （Ｉ）
（式中、ｘ＝１〜２であり、ｙ＝０〜３０であり、ｚ＝３〜６３であり、そしてａ＝０〜４である。）
で示される化合物の有効量を含有する。
【００１６】
これらの含窒素有化合物の例としては、アミン類；ジアミン類；アルカノールアミン類；第４級アンモニウムハイドロキサイド類；アンモニウムハイドロキサイドおよびアンモニアである。
【００１７】
本発明によるポリマーおよび樹脂を洗浄する好ましい方法、および組成物は、次式（ＩＩ）：
【００１８】
【化４】

【００１９】
（式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄は、それぞれ独立して、炭素原子数１から約１０までのアルキル基、アリール基、炭素原子数１から約１０までのアルコキシ基であるか、あるいは、Ｒ₁とＲ₂は窒素原子と一緒になって芳香族または非芳香族複素環を形成するアルキレン基を表わす。但し、複素環が−Ｃ＝Ｎ−結合を含有する芳香族環の場合には、Ｒ₃がその第二結合基となる。）
で示される第４級アンモニウムハイドロキサイドの少なくとも１つの有効量を含有する。
【００２０】
好ましい具体例において、Ｒ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は、互いに独立して、炭素原子数１から約１０までのアルキル基、より好ましくは炭素原子数１から４までのアルキル基である。炭素原子数１から約１０までのアルキル基の具体例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニルおよびデシル基が挙げられる。種々のアリール基の例としては、フェニル、ベンジルおよびそれと同等の基である。
【００２１】
本発明の方法に使用することができる、特に好ましい第４級アンモニウムハイドロキサイドの例としては、テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロキサイド、テトラプロピルアンモニウムハイドロキサイド、トリメチルエチルアンモニウムハイドロキサイド、メチルトリエチルアンモニウムハイドロキサイド、ジメチルジエチルアンモニウムハイドロキサイド、メチルトリブチルアンモニウムハイドロキサイド、メチルトリプロピルアンモニウムハイドロキサイド、テトラブチルアンモニウムハイドロキサイド、フェニルトリメチルアンモニウムハイドロキサイド、フェニルトリメチルアンモニウムハイドロキサイド、およびベンジルトリメチルアンモニウムハイドロキサイドである。最も好ましいものは、テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド、テトラブチルアンモニウムハイドロキサイドおよびテトラエチルアンモニウムハイドロキサイドである。
【００２２】
他の好ましい例として、式（ＩＩ）中のＲ₁，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は、互いに独立して、炭素原子数１から約１０のアルキル／アルコキシ基であり、より好ましくは炭素原子数１から４のアルキル／アルコキシ基である。炭素原子数１から約１０のアルキル／アルコキシ基の具体例としては、メチル／メトキシ基、エチル／エトキシ基、プロピル／プロポキシ基、ブチル／ブトキシ基、ペンチル／ペントキシ基、ヘキシル／ヘキソキシ基、ヘプチル／ヘプトキシ基、オクチル／オクトキシ基、ノニル／ノノキシ基、およびデシル／デコシキ基である。
【００２３】
本発明の方法に使用することができる特異的な第４級アンモニウムハイドロキサイドの例としては、トリメチル−２−ヒドロキシエチルアンモニウムハイドロキサイド（コリン）、トリメチル−３−ヒドロキシプロピルアンモニウムハイドロキサイド、トリメチル−３−ヒドロキシブチルアンモニウムハイドロキサイド、トリメチル−４−ヒドロキシブチルアンモニウムハイドロキサイド、トリエチル−２−ヒドロキシエチルアンモニウムハイドロキサイド、トリプロピル−２−ヒドロキシエチルアンモニウムハイドロキサイド、トリブチル−２−ヒドロキシエチルアンモニウムハイドロキサイド、ジメチルエチル−２−ヒドロキシエチルアンモニウムハイドロキサイド、ジメチル（２−ヒドロキシシエチル）アンモニウムハイドロキサイドおよびモノメチルトリ（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムハイドロキサイドである。
【００２４】
本発明において有用な第４級アンモニウムハイドロキサイドには、環状第４級アンモニウムハイドロキサイドを挙げることができる。ここで、「環状第４級アンモニウムハイドロキサイド」とは、第４級置換窒素原子が、２から約８個の非芳香族環状原子、あるいは５または６個の芳香族環状原子を構成する化合物を意味する。すなわち、式（ＩＩ）において、Ｒ₁およびＲ₂は窒素原子と一緒になって芳香族あるいは非芳香族複素環を形成する。もしも複素環が−Ｃ＝Ｎ−結合を有する場合（例えば、当該複素環が不飽和または芳香族環である場合）には、式（ＩＩ）中のＲ₃が第２の結合基である。
【００２５】
第４級窒素原子含有の環には、例えば、硫黄原子、酸素原子または窒素原子のような他のヘテロ原子を含有することもできる。また、第４級窒素原子含有の環としては、２環性あるいは３環性化合物における一つの環となることもできる。第４級窒素原子は、環が芳香族性であるか非芳香族性であるかによって、第４級窒素原子には、１または２個のアルキル基が置換され、この２個の置換基は同一または異なったものでもよい。窒素原子に結合するアルキル基は、好ましくは炭素原子数１から４のアルキル基であり、より好ましくはメチル基である。第４級窒素含有環の残りの原子には、所望により置換基を有することができる。
【００２６】
本発明の方法で有用な環状第４級アンモニウムハイドロキサイドは、次式で示すことができる。
【００２７】
【化５】

【００２８】
（式中、Ｒ₃およびＲ₄は、それぞれ独立して、炭素原子数１から１０のアルキル基、好ましくは１から４のアルキル基、最も好ましくはメチル基であり、Ａは酸素原子、硫黄原子または窒素原子であり、もしも複素環が芳香族性を有する場合（すなわち、−Ｃ＝Ｎ−結合が存在する場合）には、Ｒ₃が第２の結合基として窒素原子上に置換する。）
【００２９】
環状第４級アンモニウムハイドロキサイド類は、当業者によく知られた方法で製造することができる。これらのハイドロキサイドの例としては以下のものが挙げられる。Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ’−メチルピリジニウムハイドロキサイド；Ｎ，Ｎ−ジメチルモルホリニウムハイドロキサイド；およびＮ−メチル−Ｎ’−メチルイミダゾリニウムハイドロキサイドである。他の環状第４級アンモニウムハイドロキサイドもまた他の複素環式化合物、例えば、ピリジン、ピロール、ピラゾール、トリアゾール、チアゾール、ピリダジン、ピリミジン、アントラニール、ベンゾオキサゾール、キナゾリン等、またはそれらの誘導体等より製造することができる。上記した第４級アンモニウムハイドロキサイドの溶液を使用する場合には、これら化合物の市販品は水溶液であるか、また約０．１〜６０重量％もしくはそれ以上の当該第４級アンモニウムハイドロキサイドを含有することができる。
【００３０】
この場合においては、溶液は、水溶性第４級アンモニウムハイドロキサイドの約０．０１〜約１００重量％からなるもの、あるいはクリーム状（ｎｅａｔ）の第４級アンモニウムハイドロキサイドの約０．０１〜約６０重量％からなるものであってもよい。第４級アンモニウムハイドロキサイドの水溶液が、本発明の方法の実施において、現在のところ好ましいものである。
【００３１】
本発明にしたがって光学ポリマーまたは光学樹脂の洗浄に使用される、他の有用な含窒素組成物は、次式（ＩＶ）：
【００３２】
【化６】

【００３３】
（式中、Ｒ₅、Ｒ₆およびＲ₇は、それぞれ独立して、水素原子、水酸基、炭素原子数１から約１０までのアルキル基、アリール基、炭素原子数１から約１０までのアミノ基、または炭素原子数１から約１０までのアルコキシ基を表わす。）
で示される含窒素化合物の、少なくとも一つからなるものである。
【００３４】
好ましい具体例として、Ｒ₅，Ｒ₆は水素原子であり、Ｒ₇は炭素原子数１から約１０までのアルキル、アルコキシまたはアミノ基、より好ましい具体例は、炭素原子数１から６のアルキル、アルコキシまたはアミノ基である。
【００３５】
本発明の方法に使用することができる特異的含窒素化合物の例としては、アンモニア、ヒドロキシアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、１−アミノ−２−プロパノール、１−アミノ−３−プロパノール、２−（２−アミノエトキシ）エタノール、２−（２−アミノエチルアミノ）エタノール、２−（２−アミノエチルアミノ）エチルアミン、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、１，３−ペンタンジアミン、ｎ−イソプロピルヒドロキシアミン、２−メチルペンタメチレンジアミン等であり、またグアニジンのような含窒素の強有機塩基である。より好ましくは、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、１−アミノ−２−プロパノール、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、１，３−ペンタンジアミン、ｎ−イソプロピルヒドロキシアミン、および２−メチルペンタメチレンジアミンである。
【００３６】
本発明による光学ポリマーおよび光学樹脂類の洗浄に有用な含窒素化合物は、種々の溶媒中に可溶である。そのような溶媒は、例えば、水、アルコール類、水溶性無機水酸化物類、エステル類、エーテル類、環状エーテル類、ケトン類、アルカン類、テルペン類、二基性エステル類、グリコールエーテル類、ピロリドン類；または低級もしくはオゾン層非破壊性の塩素化および塩素化／フッ素化炭化水素類である。
【００３７】
したがって、本発明の方法に有用な組成物あるいは混合物で、上記した含窒素化合物の１つまたはそれ以上からなるものは、クリーニング用組成物の更なる成分としての前記した溶媒の１種またはそれ以上の中に溶解することができる。以下の詳細な説明は、付加成分として選択し得るものを記載するがこれに限定する意図はない。したがって、本発明の組成物は、上記した溶媒の１つまたはそれ以上を含むことができる。第４級アンモニウムハイドロキサイド類、有機アミン類およびアルカノールアミン類の水溶液は、本発明の実施において好ましいものであるが、他の溶媒をそれと一緒に使用することもできる。洗浄に使用する場合の組成物の形態は、種々の温度条件下で、組成物として選択した成分により、液状から噴霧状、エアロゾール状、あるいは他の分散形態まで変化させることができる。本発明のクリーニング用組成物にはまた、緩衝剤、腐食防止剤および他の添加剤を添加することができる。
【００３８】
固体表面から除去されるべきポリマー、あるいは本発明により洗浄されるべきポリマーは、１．４９を超える屈折率を有する光学製品の製造過程で使用されるどのような重合性物質であってもよい。工業的な実施において、最も一般的なものは、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート（ＤＥＧＢＡＣ）（ＰＰＧインダストリー社。商品名「ＣＲ−３９」）をラジカル重合して得られた重合性物質である。この物質は、他のモノマー、例えばこれに限定されるものではないが、アクリレート類、メタクリレート類、メチルメタクリレート類、ポリカーボネート類、フタレート類、イソシアネート類、ポリエーテル類、ウレタン類と共重合することができる。
【００３９】
本発明により、製造部品から、あるいは製造部材から除去でき、または洗浄できる他の一般的なポリマーまたは樹脂は、アクリレート類、メタクリレート類、メチルメタクリレート類、ポリカーボネート類、フタレート類、イソシアネート類、ポリエーテル類、ウレタン類、チオまたは硫黄含有ポリマー類、およびハロ−または塩素及び／又は臭素含有ポリマー等、どのようなポリマーであってもよい。
【００４０】
本発明方法により、あるいは本発明の組成物により洗浄される部品あるいは部材の例としては、１つまたはそれ以上の有機化合物より製造される、レンズの製造工程で使用されるレンズ類、金型類、ガスケット類、ホルダー類、道具類、および設備類が挙げられる。クリーニング用組成物と部材との接触は、慣用の方法によるか、あるいは当業界で公知の方法、例えばこれに限定するものではないが、拭き取り、スプレー、浸漬、高圧スプレー振動、超音波振動、噴霧除去、および浸透等により行なうことができる。これらの工程に使用される備品類は当業界で公知のものであるか、他の技術分野から案出されてものであり、その固体表面に本発明の組成物が適用されるものを包含する。その方法は環境条件および環境温度下、あるいは、選択したクリーニング用組成物の沸点より高い温度下で実施することができる。一般的に、温度範囲は、約３２Ｆ（０℃）から約２１２Ｆ（１００℃）まで使用することができる。温度はまた、洗浄すべき固体表面に対するクリーニング用組成物の接触方法を考慮して決定することができる。本方法は、一般的に常圧下に実施されるが、加圧下、真空下あるいは常圧より低い圧力条件下で行なうこともできる。
【００４１】
部品あるいは部材は、製品にあっては、汚染物の実質的な除去、あるいは汚染物の所望量の実質的な除去が得られるような適切な期間、所望のクリーニング用組成物と接触される。その部品あるいは部材は、また洗浄されるべき「固体表面（ｓｕｒｆａｃｅ）」と称することができる。固体表面から除去されるべき汚染物の痕跡を検出することは不必要である。汚染物は、製造により生じた樹脂またはポリマーであり、残査状態からから明確に目視し得る量として存在し得る。汚染物はまた、オイル、グリース、または製造部品、製造された製品または清掃するべき固体表面と接触する他の組成物であってもよい。
【００４２】
ほとんどの例においては、部品または部材を水により、または上記した溶液の１種によるか、もしくはそれらと水との混合によって、クリーニング用組成物を洗い落とすことが必要であり、あるいは望ましい。当業者は、本記載および使用する化学物質の公知の特性により、数多くのクリーニング用組成物の組み合わせならびにリンス用の溶液を案出することができる。さらに当業者は、選択したクリーニング用組成物のリンス条件を、簡単な試験法により求めることができる。クリーニング用試薬またはクリーニング用組成物の全てを効果的に除去し得るリンス溶液を選択すること、ならびにそのリンス溶液を流動空気、加熱空気及び／又は自然蒸発により乾燥させることは、業界で通常行われていることである。洗浄すべき表面の臭気に効果がある化合物、固体表面の腐食を予防する化合物、界面活性剤として作用する化合物を、クリーニング用組成物またはリンス用溶液中にさらに添加して、洗浄方法に使用することができる。
【００４３】
【発明を実施するための最良の形態】
本発明によれば、新規な組成物が、ポリマーまたは樹脂により汚染されている製造部品または製造された部材の洗浄のために使用される。本発明の当該組成物は、少なくとも１つの含窒素化合物からなり、そのｐＨが７．０を超えるものである。そのような好ましい物質の例は、含窒素化合物であり、また１つのヒドロキシル基を含有するものである。その要約を本発明の組成物および方法における含窒素化合物の一般的構造式としての上記式（Ｉ）−式（ＩＶ）に開示した。
【００４４】
本発明の組成物としての混合物を形成するために添加することができ、及び／又は本発明の方法で使用される他の添加成分としては、次に例示する中の１つまたはそれ以上のものである。そのような物質として、水；アルコール類；無機水酸化物類；エステル類；エーテル類；環状エーテル類；ケトン類；アルカン類；テルペン類；二基性エステル類；グリコールエーテル類；ピロリドン類；または低級もしくはオゾン層非破壊性の塩素化炭化水素、および塩素化／フッ素化炭化水素類である。
【００４５】
得られた混合物はまた、当該技術にしたがって、緩衝剤、界面活性剤、キレート剤、着色剤、顔料、芳香剤、指示薬、抑制剤等を添加することにより、当該混合物の特性を改良するすることができる。
【００４６】
混合物中に添加される上記のアルコール成分は、好ましくは、次式：Ｃ_xＨ_y(ＯＨ)_z （式中、ｘ＝１〜１８であり、ｙ＜２ｘ＋２であり、ｚ＝１または２である。）で示されるアルコール化合物の有効量を含有する。これらアルコールの例としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、２−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、メチルプロパノール、メチルブタノール、トリフロロエタノール、アリルアルコール、１−ヘキサノール、２−ヘキサノール、３−ヘキサノール、２−エチルヘキサノール、１−ペンタノール、１−オクタノール、１−ドデカノール、シクロヘキサノール、シクロペンタノール、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、ビスヒドロキシメチルテトラヒドロフラン、エチレングリコール、プロピレングリコールおよびブチレングリコールである。
【００４７】
これらは、単独あるいは２またはそれ以上の混合して使用することができる。組成物において、ｘとしては１から１２、好ましくは１から８、より好ましくは１から６である。これらの中でもっとも好ましいものは、メタノール、エタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフルフリルアルコールおよびベンジルアルコールである。
【００４８】
混合物中に添加される上記の無機水酸化物成分は、好ましくは、アルカリ金属水酸化物をベースとする無機水酸化物の有効量を含有する。これらの例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよび水酸化リチウムである。これらは単独あるいは２またはそれ以上の混合で使用することができる。これらの中でもっとも好ましいものは、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムである。
【００４９】
混合物中に添加される上記のエステル成分は、好ましくは、次式：Ｒ₁−ＣＯＯ−Ｒ₂（式中、Ｒ₁はＣ₁〜Ｃ₂₀のアルキル基、Ｃ₅〜Ｃ₆のシクロアルキル基、ベンジル基、フラニル基またはテトラヒドロフラニル基であり、Ｒ₂は水素原子、Ｃ₁〜Ｃ₈のアルキル基、Ｃ₅〜Ｃ₆のシクロアルキル基、ベンジル基、フェニル基、フラニル基またはテトラヒドロフラニル基を表わす。）で示されるエステル化合物の有効量を含有する。これらエステルの例としては、ギ酸メチル、酢酸メチル、プロピオン酸メチル、酪酸メチル、ギ酸エチル、酢酸エチル、プロピオン酸エチル、酪酸エチル、ギ酸プロピル、酢酸プロピル、プロピオン酸プロピル、酪酸プロピル、ギ酸ブチル、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸ブチル、メチルソヤーテ、ミリスチン酸イソプロピル、ミリスチン酸プロピルおよびミリスチン酸ブチルである。
【００５０】
組成物中のＲ₁，Ｒ₂としては、Ｃ₁〜Ｃ₂₀、好ましくはＣ₁〜Ｃ₈、より好ましくはＣ₂〜Ｃ₆のアルキル基または水素原子である。これらの中でもっとも好ましいものは、酢酸メチル、酢酸エチルおよび酢酸アミルである。
【００５１】
混合物中に添加される上記のエステル成分は、好ましくは、次式：Ｒ₃−Ｏ−Ｒ₄（式中、Ｒ₃はＣ₁〜Ｃ₁₀のアルキル基またはアルキニル基、Ｃ₅〜Ｃ₆のシクロアルキル基、ベンジル基、フェニル基、フラニル基またはテトラヒドロフラニル基であり、Ｒ₄はＣ₁〜Ｃ₁₀のアルキル基またはアルキニル基、Ｃ₅〜Ｃ₆のシクロアルキル基、ベンジル基、フェニル基、フラニル基またはテトラヒドロフラニル基を表わす。）で示されるエーテル化合物の有効量を含有する。これらのエーテル化合物の例としては、エチルエーテル、メチルエーテル、プロピルエーテル、イソプロピルエーテル、ブチルエーテル、メチル ｔ−ブチルエーテル、エチル ｔ−ブチルエーテル、ビニルエーテル、アリルエーテルおよびアニソールが挙げられる。
【００５２】
組成物中のＲ₃、Ｒ₄としては、Ｃ₁〜Ｃ₁₀のアルキル基またはアルキニル基、好ましくはＣ₁〜Ｃ₆のアルキル基またはアルキニル基、より好ましくはＣ₁〜Ｃ₄のアルキル基またはアルキニル基である。その中でも最も好ましいものは、イソプロピルエーテルおよびプロピルエーテルである。
【００５３】
混合物中に添加される上記の環状エーテル成分は、環状エーテルの有効量を含有する。環状エーテルとして好ましいものは；１，４-ジオキサン、１，３-ジオキサン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、メチルＴＨＦ、ジメチルＴＨＦおよびテトラヒドロピラン（ＴＨＰ）、メチルＴＨＰ、ジメチルＴＨＰ、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド、アミルオキサイドおよびイソアミルオキサイドである。これらの中でもっとも好ましいものは、１，３-ジオキサンおよびテトラヒドロフランである。
【００５４】
混合物中に添加される上記のケトン成分は、好ましくは、次式：Ｒ₅−Ｃ＝Ｏ−Ｒ₆（式中、Ｒ₅はＣ₁〜Ｃ₁₀のアルキル基、Ｃ₅〜Ｃ₆のシクロアルキル基、ベンジル基、フラニル基またはテトラヒドロフラニル基を表わし、Ｒ₆はＣ₁〜Ｃ₁₀のアルキル基、Ｃ₅〜Ｃ₆のシクロアルキル基、ベンジル基、フェニル基、フラニル基またはテトラヒドロフラニル基を表わす。）で示されるケトン化合物の有効量を含有する。これらのケトン化合物の例としては、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、２−ヘキサノン、３−ヘキサノンおよびメチルイソブチルケトンが挙げられる。
【００５５】
組成物中のＲ₅、Ｒ₆としては、Ｃ₁〜Ｃ₁₀のアルキル基、好ましくはＣ₁〜Ｃ₆のアルキル基、より好ましくはＣ₁〜Ｃ₄のアルキル基である。その中でも最も好ましいものは、アセトン、メチルエチルケトン、３−ペンタノンおよびメチルイソブチルケトンである。
【００５６】
混合物中に添加される上記のアルカン成分は、次式：Ｃ_nＨ_n+2（式中、ｎは１−２０を表わす）で示されるアルカン化合物、またはＣ₄〜Ｃ₂₀のシクロアルカン化合物の有効量を含有する。これらのアルカン化合物の例としては、メタン、エタン、プロパン、ブタン、メチルプロパン、ペンタン、イソペンタン、メチルブタン、シクロペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、イソヘキサン、ヘプタン、メチルペンタン、ジメチルブタン、オクタン、ノナンおよびデカンが挙げられる。
【００５７】
組成物中におけるｘは、１〜２０、好ましくは４〜９、より好ましくは５〜７であり、最も好ましいものは、シクロペンタン、シクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ヘキサン、メチルペンタンおよびジメチルブタンである。
【００５８】
混合物中に添加される上記のテルペン成分は、好ましくは、次の一般式：
【００５９】
【化７】

【００６０】
で示されるイソプレン基を少なくとも一つ含有するテルペン化合物の有効量を含有する。そのような分子は、環状または多環状であってもよい。好ましい例としては、ｄ−リモネン、ピネン、テルピノール、テルペンチンおよびジペンテンである。
【００６１】
混合物中に添加される上記の二基性エステル成分は、好ましくは、次式：Ｒ₇−ＣＯＯ−Ｒ₈−ＣＯＯ−Ｒ₉（式中、Ｒ₇はＣ₁〜Ｃ₂₀のアルキル基、Ｃ₅〜Ｃ₆のシクロアルキル基、ベンジル基、フラニル基またはテトラヒドロフラニル基を表わし、Ｒ₈はＣ₁〜Ｃ₂₀のアルキル基、Ｃ₅〜Ｃ₆のシクロアルキル基、ベンジル基、フェニル基、フラニル基またはテトラヒドロフラニル基を表わし、Ｒ₉はＣ₁〜Ｃ₂₀のアルキル基、Ｃ₅〜Ｃ₆のシクロアルキル基、ベンジル基、フラニル基またはテトラヒドロフラニル基を表わす。）で示される二基性エステル化合物の有効量を含有する。これらの二基性エステル化合物の例としては、シュウ酸ジメチル、マロン酸ジメチル、コハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、アジピン酸ジメチル、コハク酸メチルエチル、アジピン酸メチルエチル、コハク酸ジエチルおよびアジピン酸ジエチルが挙げられる。
【００６２】
組成物中のＲ₇、Ｒ₈およびＲ₉としては、Ｃ₁〜Ｃ₁₀のアルキル基、好ましくはＣ₁〜Ｃ₆のアルキル基またはアルキニル基、より好ましくはＣ₁〜Ｃ₄のアルキル基である。そのなかでも最も好ましいものは、コハク酸ジメチルおよびアジピン酸ジメチルである。
【００６３】
混合物中に添加される上記のグリコールエーテル成分は、好ましくは、次式：Ｒ₁₀−Ｏ−Ｒ₁₁−Ｏ−Ｒ₁₂（式中、Ｒ₁₀はＣ₂〜Ｃ₂₀のアルキル基、Ｃ₅〜Ｃ₆のシクロアルキル基、ベンジル基、フラニル基またはテトラヒドロフラニル基を表わし、Ｒ₁₁はＣ₁〜Ｃ₂₀のアルキル基、Ｃ₅〜Ｃ₆のシクロアルキル基、ベンジル基、フェニル基、フラニル基またはテトラヒドロフラニル基を表わし、Ｒ₁₂は水素原子または上記した請求項７から選択されるアルコールを表わす。）で示されるグリコールエーテルの有効量を含有する。これらのグリコールエーテルの例としては、エチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールプロピルエーテル、ジエチレングリコールプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、メチルメトキシブタノール、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、ジプロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテルおよびジプロピレングリコールブチルエーテルが挙げられる。
【００６４】
組成物中のＲ₁₀、Ｒ₁₁およびＲ₁₂としては、Ｃ₁〜Ｃ₁₀のアルキル基、好ましくはＣ₁〜Ｃ₆のアルキル基、より好ましくはＣ₁〜Ｃ₄のアルキル基である。これらの中でもっとも好ましいものは、プロピレングリコールブチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコール、メチルメトキシブタノールおよびジエチレングリコールブチルエーテルである。
【００６５】
混合物中に添加される上記のピロリドン成分は、好ましくは、ピロリドン環のＮ−位に、水素原子、Ｃ₁〜Ｃ₆のアルキル基またはＣ₁〜Ｃ₆のアルカノールが置換したピロリドン化合物の有効成分を含有する。これらのピロリドン化合物の例としては、ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドン、Ｎ−プロピルピロリドン、Ｎ−ヒドロキシメチルピロリドン、Ｎ−ヒドロキシエチルピロリドンおよびＮ−ヘキシルピロリドンが挙げあられる。そのなかでも、Ｎ−メチルピロリドンおよびＮ−エチルピロリドンが最も好ましい。
【００６６】
混合物中に添加される上記の塩素化炭化水素成分は、好ましくは、式：Ｒ₁₃−Ｃｌ_x（式中、アルカン部分のＲ₁₃は、Ｃ₁〜Ｃ₂₀のアルキル基、Ｃ₄〜Ｃ₁₀のシクロアルキル基、Ｃ₂〜Ｃ₂₀のアルケニル基、ベンジル基、フェニル基であり、ｘ＞１であり、そして分子のＯＤＰ（Ｏｚｏｎｅ Ｄｅｐｌｅｔｉｏｎ Ｐｏｔｅｎｔｉａｌ：オゾン層破壊力）が＜０．１５である。）で示される塩素化炭化水素化合物の有効量を含有する。そのような塩素化炭化水素の例としては、メチルクロライド、メチレンクロライド、エチルクロライド、ジクロルエタン、ジクロルエチレン、プロピルクロライド、イソプロピルクロライド、プロピルジクロライド、ブチルクロライド、イソブチルクロライド、ｓｅｃ−ブチルクロライド、ｔｅｒｔ−ブチルクロライド、ペンチルクロライド、およびヘキシルクロライドである。
【００６７】
本発明の混合物中に付加される成分の量は、特に限定されるものではないが、溶解性、揮発性、沸点、難燃性、表面張力、粘度、反応性、および物質相溶性を調整または改良するのに必要な有効量が添加される。混合物はまた、当該技術により、緩衝剤、界面活性剤、キレート剤、着色剤、顔料、芳香剤、指示薬、抑制剤、その他の有効成分等を添加することにより、その混合物の特性を改良するすることができる。
【００６８】
窒素原子含有化合物をベースとする本発明の洗浄溶液のｐＨを下げるために好ましい化合物、またはそのような化合物の混合物は、洗浄力を過度に阻害するものではなく、あるいは洗浄された部品に支障を与えないものであれば、どのようなものでも使用することができる。そのような化合物の例としては、例えば、酸類、緩衝剤として作用する塩基類およびそれらの塩、具体的には、無機鉱酸類およびそれらの塩、ｐＫａが２を超えるものである弱有機酸類およびそれらの塩、アンモニウム塩類、弱酸およびそれとの共役する塩基とからなる緩衝システム、例えば、酢酸と酢酸アンモニウムを挙げることができる。そのなかでも好ましい成分としては、酢酸、ホウ酸、クエン酸、フタール酸ジカリウム、塩化アンモニウムおよび酢酸アンモニウムとの特に１：１の混合物、ならびに酢酸およびアンモニアならびに他のアミン類との混合物である。
【００６９】
【実施例】
以下の実施例は、本発明を説明するためのものであり、本発明の範囲を限定するものでもなく、また限定するものと解釈してはならない。
【００７０】
実施例１
光学用金型として、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート（ＤＥＧＢＡＣ）をベースとするモノマーにより汚染されているものを選択した。金型の出口サイドにポリマーが硬化されており、金型はさらに油分の指紋および泥で汚染されていた。この汚染されている金型を、２．５％テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド、１５％水酸化カリウム、１５％水酸化ナトリウムおよび６７．５％の水からなる溶液中に、１５０から１６０Ｆ（約６５から７１℃）にて、１０分間浸漬させた。金型を溶液から取り出し、水洗し、空気乾燥した。目視検査により汚染物が除去されていることが確認された。
【００７１】
実施例２
光学用金型として、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート（ＤＥＧＢＡＣ）をベースとするモノマーにより汚染されているものを選択した。金型の出口サイドにポリマーが硬化されており、金型はさらに油分の指紋および泥で汚染されていた。この汚染されている金型を、３．７５％テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド、１５％水酸化カリウム、１５％水酸化ナトリウムおよび６６．２５％の水からなる溶液中に、１８０から１８５Ｆ（約８２から８５℃）にて、２分間浸漬させた。金型を溶液から取り出し、水洗し、空気乾燥した。目視検査により汚染物が除去されていることが確認された。
【００７２】
実施例３
硫黄分子（チオエーテル）を含有するポリウレタンベースモノマーで汚染されている３５個の金型を洗浄対象とした。金型の出口サイドにはポリマーが硬化しており、金型はさらに油分の指紋および泥で汚染されていた。これらの金型を、３．７５％テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド、１５％水酸化カリウム、１５％水酸化ナトリウム、および６６．２５％の水からなる溶液中に、１８０から１８５Ｆ（約８２から８５℃）にて、２分間浸漬させた。各金型を溶液から取り出し、水および／またはメタノールで洗浄し、空気乾燥した。目視検査により、３５個中３３個の金型において、汚染物の９８％を超える部分が除去されており、９５％を超える金型が、２分以内の洗浄時間により汚染物の除去ができたことが認められた。
【００７３】
実施例４
光学用金型として、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート（ＤＥＧＢＡＣ）をベースとするモノマーにより汚染されているものを選択した。金型の出口サイドにポリマーが硬化されており、金型はさらに油分の指紋および泥で汚染されていた。この汚染されている金型を、１５％モノエタノールアミン、１３％水酸化カリウム、１３％水酸化ナトリウムおよび５９％の水からなる溶液中に、１８０から１８５Ｆ（約８２から８５℃）にて、２．５分間浸漬させた。金型を溶液から取り出し、水洗し、空気乾燥した。目視検査により汚染物が除去されていることが確認された。
【００７４】
実施例５
硫黄分子（チオエーテル）を含有するポリウレタンベースモノマーで汚染されている光学用金型を洗浄対象とした。金型の出口サイドにはポリマーが硬化しており、金型はさらに油分の指紋および泥で汚染されていた。この金型を、１７．８％のテトラメチルアンモニウムハイドロキサイド、３．８％の界面活性剤および７８．４％の水からなる溶液中に、１４０Ｆ（６０℃）にて５分間、１６０Ｆ（約７１℃）にて５分間、および１６０Ｆにて、７分間浸漬させた。金型を溶液から取り出し、水で洗浄し、空気乾燥した。目視検査によると、１６０Ｆにて７分間浸漬させる手段で汚染物が除去されたものの、１４０Ｆでは浸漬を長時間しないと汚染物は除去しなかった。
【００７５】
実施例６〜９
光学用金型および光学レンズの製造工程で使用した機械からポリマーの物理的除去を、含窒素洗浄溶液中における溶解の決定のために選択した。ポリマーの汚染物は、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート（ＤＥＧＢＡＣ）をベースとするモノマー、および、硫黄分子（チオエーテル）を含有するポリウレタンベースモノマーの混合物を含有していた。試験した含窒素基剤溶液は、水溶液中に第４級アンモニウムハイドロキサイド化合物を含有する市販（Ｓａｃｈｅｍ，Ｉｎｃ．）のものである。ポリマーを、１６０Ｆにて洗浄液中に約４％重量添加し、５分間溶解させた。５分後に目視検査を行ない、溶解率を判定した。
試験結果を下記に示した。
【００７６】

【００７７】
実施例１０−１９
光学レンズの製造工程で使用する光学用金型および機械から、物理的に除去するポリマーを選び、含窒素洗浄溶液中における溶解の程度を、上記にリストした前記実施例と比較して試験した。ポリマー汚染物としては、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート（ＤＥＧＢＡＣ）をベースとするモノマーと、硫黄含有分子（チオエーテル）を含むポリウレタンをベースとするモノマーの混合物である。試験した含窒素基剤溶液は、種々の市販されている窒素含有化合物で、その内のいくつかは水溶液である。ポリマーを、１６０Ｆにて洗浄液中に約４％重量添加し、５分間溶解させた。５分後にその溶解の程度について目視検査を行なった。下記にその試験の結果を示した。
【００７８】

【００７９】
実施例２０−２３
光学レンズの製造工程で使用する光学用金型および機械から、物理的に除去するポリマーを選び、テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド（ＴＭＡＨ）の希釈溶液中における溶解の程度を試験した。ポリマー汚染物としては、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート（ＤＥＧＢＡＣ）をベースとするモノマーと、硫黄含有分子（チオエーテル）を含むポリウレタンをベースとするモノマーの混合物である。ポリマーを、１６０Ｆにて洗浄液中に約４％重量添加し、５分間溶解させた。５分後にその溶解の程度について目視検査を行なった。下記にその試験の結果を示した。
【００８０】

【００８１】
実施例２４−３７
種々のレンズ用金型、および光学レンズの製造工程で用いる光学用金型および機械から物理的に除去されるべきポリマーを使用し、試験した。試験は、本発明中に開示する技術の代表例としての種々の混合物で行なった。混合物の組成と試験の結果を以下に示した。
【００８２】
実施例２４）
混合物の組成：３４％ モノエタノールアミン
４０％ テトラハイドロフルフリルアルコール
２０％ 水
１％ 水酸化ナトリウム
５％ 界面活性剤
試験条件：１６０Ｆにて６分間、攪拌操作なし。
試験結果：金型からポリマーが僅かに除去された。
【００８３】
実施例２５）
混合物の組成：４４％ モノエタノールアミン
４０％ テトラハイドロフルフリルアルコール
１０％ 水
１％ 水酸化ナトリウム
５％ 界面活性剤
試験条件：１６０Ｆにて７分間、攪拌操作なし。
試験結果：金型から９９％のポリマーが除去された。
【００８４】
実施例２６）
混合物の組成：１０．５％ ヘキサメチレンジアミン（７０％溶液；市販品）
４０％ テトラハイドロフルフリルアルコール
４．５％ 水
５％ 界面活性剤
試験条件：１６０Ｆにて６分間、攪拌操作なし。
試験結果：金型からポリマーが極僅かに除去された。
【００８５】
実施例２７）
混合物の組成：１００％ １，３−ペンタンジアミン
試験条件：１６０Ｆにて５分間、攪拌操作なし。
試験結果：金型からポリマーが除去された。
【００８６】
実施例２８）
混合物の組成：１５％ １，３−ペンタンジアミン
８５％ テトラハイドロフルフリルアルコール
試験条件：１６０Ｆにて６分間、攪拌操作なし。
試験結果：金型からポリマーが僅かに除去された。
【００８７】
実施例２９）
混合物の組成： ０．５％ テトラメチル-2-ハイドロキシエチルアンモニウム ハイドロキサイド
（コリン；市販の４５％溶液）
４４％ モノエタノールアミン
４０％ テトラヒドロフルフリルアルコール
１０．５％ 水
５％ 界面活性剤
試験条件：１６０Ｆにて６分間、攪拌操作なし。
試験結果：金型からポリマーが、明瞭に除去された。
【００８８】
実施例３０）
混合物の組成：１５％ ２−メチルペンタメチレンジアミン
８５％ Ｎ−メチルピロリドン
試験条件：１５０Ｆ（約６５℃）にて５分間、攪拌操作なし。
試験結果：金型からポリマーが、明瞭ないし良好に除去された。
【００８９】
実施例３１）
混合物の組成： ３．８％ テトラメチルアンモニウム ハイドロキサイド（２５％溶液）
２７．５％ テトラハイドロフルフリルアルコール
６８．７％ 水
試験条件：１６０Ｆにて６分間、攪拌操作なし。
試験結果：ビーカー中のポリマーが、明瞭溶解した。
【００９０】
実施例３２）
混合物の組成：１５％ ２−メチルペンタメチレンジアミン
４５％ モノエタノールアミン
４０％ アミルアルコール
試験条件：１５０Ｆにて５分間、攪拌操作なし。
試験結果：ビーカー中のポリマーが、明瞭ないし良好に溶解した。
【００９１】
実施例３３）
混合物の組成：１５％ エチレンジアミン
４５％ モノエタノールアミン
４０％ アミルアルコール
試験条件：１５０Ｆにて５分間、攪拌操作なし。
試験結果：ビーカー中のポリマーが、明瞭ないし良好に溶解した。
【００９２】
実施例３４）
混合物の組成：１０％ エチレンジアミン
３０％ モノエタノールアミン
３５％ アミルアルコール
２５％ 水
試験条件：１５０Ｆにて５分間、攪拌操作なし。
試験結果：ビーカー中のポリマーが、明瞭に溶解した。
【００９３】
実施例３５）
混合物の組成：１５％ エチレンジアミン
４５％ モノエタノールアミン
４０％ テトラヒドロフルフリルアルコール
試験条件：１５０Ｆにて３分間、攪拌操作なし。
試験結果：ビーカー中のポリマーが、明瞭ないし良好に溶解した。
【００９４】
実施例３６）
混合物の組成：１０．５％ ヘキサメチレンジアミン（市販品：７０％溶液）
４．５％ 水
８４％ テトラヒドロフルフリルアルコール
１％ 界面活性剤
試験条件：１５０Ｆにて３分間、攪拌操作なし。
試験結果：金型よりポリマーが、明瞭に除去された。
【００９５】
実施例３７）
混合物の組成：２１％ ヘキサメチレンジアミン（市販品：７０％溶液）
２８％ モノエタノールアミン
９％ 水
４１％ テトラヒドロフルフリルアルコール
１％ 界面活性剤
試験条件：１５０Ｆにて１０分間、攪拌操作なし。
試験結果：金型から、ポリマーが９５％除去された。
【００９６】
以上に本発明を詳細に説明および例示したが、例示および実施例は、本発明の説明のためであって、本発明を限定するものではない。本発明の趣旨および範囲は、特許請求の範囲によりのみ限定されるものである。本技術おける当業者は、本発明の範囲を逸脱することなくポリマーおよび樹脂の洗浄に使用する組成物の成分を調整、変化、あるいは改良することが可能である。
【００９７】
例えば、本発明のクリーニング組成物の一つ以上を組み合わせること、所望により部品または部材と組成物を接触させる場合に異なった方法を用いること、また、所望により異なった条件を用いること等により、部品または部材を洗浄することが可能である。さらに、上記の説明は、当業者が特許請求の範囲に記載された発明を実施しすることを可能にするものである。

Claims (21)

1. 固体表面からポリマーまたは樹脂を取り除くのに有効な量の、
   （ａ）テトラヒドロフルフリルアルコール、及び
   （ｂ）テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロキサイド、テトラブチルアンモニウムハイドロキサイド及び２−メチルペンタメチレンジアミンからなる群から選択される含窒素化合物、
   並びに、
   （ｃ）水、
   から実質的になる組成物であり、その組成物のｐＨが７を超える値を有するものである、固体表面からポリマーまたは樹脂を取り除くための組成物。
2. アルカリ金属水酸化物を基礎とする無機水酸化物をさらに含有する、請求項１に記載の組成物。
3. 無機水酸化物が、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムおよび水酸化リチウム、ならびにそれらの混合物からなる群から選択されるものである、請求項２に記載の組成物。
4. 次式：Ｒ_１０−Ｏ−Ｒ_１１−Ｏ−Ｒ_１２［式中、Ｒ_１０はＣ_２〜Ｃ_２０のアルキ基、Ｃ_５〜Ｃ_６のシクロアルキル基、ベンジル基、フラニル基またはテトラヒドロフラニル基を表わし、Ｒ_１１はＣ_１〜Ｃ_２０のアルキレン基、Ｃ_５〜Ｃ_６のシクロアルキレン基、または次式で表わされる基を表し：
   

   

   そしてＲ_１２は水素原子または式：−Ｃ_ｘＨ_ｙ(ＯＨ)_ｚ（ｘ＝１〜１８であり、ｙ＜２ｘ＋２であり、ｚ＝１または２である。）のアルコール残基を表わす。］で示される少なくとも１つの化合物からなるグリコールエーテル成分をさらに含有する、請求項１、２又は３に記載の組成物。
5. グリコールエーテル成分が、エチレングリコールメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールプロピルエーテル、ジエチレングリコールプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、ジエチレングリコールブチルエーテル、メチルメトキシブタノール、プロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、ジプロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテル、ジプロピレングリコールブチルエーテル、およびそれらの混合物からなる群から選択されるものである、請求項４に記載の組成物。
6. ピロリドン環の窒素原子上に水素原子、Ｃ_１〜Ｃ_６のアルキル基、またはＣ_１〜Ｃ_６のアルカノール基が置換した少なくとも一つの化合物からなるピロリドン成分をさらに含有する、請求項１〜５のいずれかに記載の組成物。
7. ピロリドン成分が、ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−エチルピロリドン、Ｎ−プロピルピロリドン、Ｎ−ヒドロキシメチルピロリドン、Ｎ−ヒドロキシエチルピロリドンおよびＮ−ヘキシルピロリドン、ならびにそれらの混合物からなる群から選択されるものである、請求項６に記載の組成物。
8. 界面活性剤をさらに含有する、請求項１〜７のいずれかに記載の組成物。
9. 請求項１〜８に記載の組成物の少なくとも１つの組成物で固体表面を処理することからなる固体表面のクリーニング方法。
10. 固体表面と、請求項１〜８に記載の組成物の少なくとも１つの組成物とを接触させるころからなる、当該固体表面からポリマーまたは樹脂を除去する方法。
11. 固体表面が、光学レンズの製造に使用されるポリマー、樹脂またはモノマーが接触する表面である請求項９又は１０に記載の方法。
12. 固体表面が、有機レンズの製造工程で使用されるレンズ、鋳型、ホルダー、ラック、製造機械または製造設備の少なくとも１つである請求項１１に記載の方法。
13. 固体表面が、屈折率が１．４９より大きな値を有するポリマー残査及び／又は樹脂残査を表面上に有するものである、請求項１２に記載の方法。
14. ポリマー残査及び／又は樹脂残査が、ジエチレングリコールビスアリルカーボネートモノマー、アクリレート、メタクリレート、メチルメタクリレート、ポリカーボネート、フタレート、イソシアネート、ポリエーテル、ウレタンモノマーおよびそれらの混合物からなる群から選択される化合物からなるからなるポリマーである請求項１３に記載の方法。
15. ポリマー残査及び／又は樹脂残査が、硫黄、塩素または臭素含有ポリマーからなるものである請求項１４に記載の方法。
16. 前記組成物を、組成物の沸点までの温度下で使用する請求項９又は１０に記載の方法。
17. 該組成物を、液状で固体表面に接触させる請求項９又は１０に記載の方法。
18. 固体表面と組成物の接触に際し、さらに攪拌、加圧スプレー、及び／又は超音波処理を加える、請求項９又は１０に記載の方法。
19. 固体表面をさらに水で洗浄することからなる請求項９又は１０に記載の方法。
20. 固体表面を、界面活性剤をさらに含有する組成物により改質した請求項９又は１０に記載の方法。
21. 固体表面の悪臭を、香料をさらに含有する組成物により改質した請求項９又は１０に記載の方法。