JP4502269B2 - 頭髪化粧料用基剤 - Google Patents
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Description
頭髪化粧料用基剤としては、例えばN−ビニルピロリドンの重合体、共重合体等を用いるノニオン性基剤及びカチオン性基剤(特公昭56-4533号公報、特開昭59-75911号公報等)や、例えばシリコーン系共重合体等を用いるアニオン性基剤 (特開平4-359912号公報、特開平2-25411号公報、特開平5-924号公報等)等が知られている。
しかしながら、ノニオン性基剤及びカチオン性基剤は、一般に耐湿性が悪いという問題点を有している。また、アニオン性基剤は、ノニオン性基剤に比べ耐湿性は良好であるが、仕上がり具合が自然でない等の問題点を有している。そのため、これらの問題点を補うために、各種基剤を混合して用いている状況にあるが、未だ充分満足のいく頭髪化粧料用基剤は得られていない。
(式中、R1は同一または異なって、水素原子、低級アルキル基またはシアノ基を表し、R2は同一または異なって、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基またはアリール基を表し、AはNHまたはOを表し、Bは酸素原子を介していてもよい低級アルキレン基を表し、pは0または1〜6の整数を表し、mは0または1〜200の整数を表す。)で示される繰り返し単位を有するポリシロキサンセグメント、又は上記一般式[1a]で示される繰り返し単位と一般式[2]
(式中、−CO−Y−CO−は二塩基酸残基を表し、R2,A,B及びmは前記に同じ。)で示される繰り返し単位の組み合わせからなるポリシロキサンセグメント5〜90重量%と、一般式[3a]
(式中、R3は水素原子、低級アルキル基、カルボキシル基またはカルボキシ低 級アルキル基を表し、R4は水素原子、低級アルキル基またはカルボキシ低級アルキル基を表す。)で示されるエチレン性不飽和カルボン酸単位10〜95重量%であり、数平均分子量が6万〜15万である、溶液重合により得られるブロック共重合体、の発明である。
一般式[1a]
(式中、R1、R2、A、B、p及びmは前記に同じ)で示される繰り返し単位を有するポリシロキサンセグメント、又は上記一般式[1a]で示される繰り返し単位と一般式[2]
(式中、−CO−Y−CO−は二塩基酸残基を表し、R2,A,B及びmは前記に同じ。)で示される繰り返し単位の組み合わせからなるポリシロキサンセグメント5〜85重量%、一般式[3a]
(式中、R3、R4は前記に同じ)で示されるエチレン性不飽和カルボン酸単位10〜90重量%並びに一般式[4a]
(式中、R5は水素原子、低級アルキル基、アルキルオキシカルボニル基、カル ボキシ低級アルキル基またはアルキルオキシカルボニルアルキル基を表し、R6 は水素原子、低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基またはアルキルオキシカルボニルアルキル基を表し、R7はアルキル基またはアラルキル基を表す。)で示されるエチレン性不飽和カルボン酸エステル単位5〜85重量%であり、数平均分子量が6万〜15万である、溶液重合により得られるブロック共重合体、の発明である。
(式中、R1、R2、A、B、p及びmは前記に同じ)で示される繰り返し単位を有するアゾ基含有ポリシロキサン化合物、または上記一般式[1]で示される繰り返し単位と下記一般式[2]
(式中、−CO−Y−CO−、R2,A,B及びmは前記に同じ。)で示される繰り返し単位の組み合わせからなるアゾ基含有ポリシロキサン化合物の存在下に、一般式[3a]
(式中、R3、R4は前記に同じ)で示されるエチレン性不飽和カルボン酸を溶液重合反応に付して得られる、ブロック共重合体の構成率がポリシロキサン化合物5〜90重量%及びエチレン性不飽和カルボン酸10〜95重量%であり且つ数平均分子量が6万〜15万であるブロック共重合体、の発明である。
(式中、R1、R2、A、B、p及びmは前記に同じ)で示される繰り返し単位を有するアゾ基含有ポリシロキサン化合物、または上記一般式[1]で示される繰り返し単位と下記一般式[2]
(式中、−CO−Y−CO−は二塩基酸残基を表し、R2,A,B及びmは前記に同じ。)で示される繰り返し単位の組み合わせからなるアゾ基含有ポリシロキサン化合物の存在下に、一般式[3a]
(式中、R3、R4は前記に同じ)で示されるエチレン性不飽和カルボン酸と一般式[4a]
(式中、R5、R6、R7は前記に同じ)で示されるエチレン性不飽和カルボン酸エステルとを溶液重合反応に付して得られる、ブロック共重合体の構成率がポリシロキサン化合物5〜85重量%、エチレン性不飽和カルボン酸10〜90重量%、及びエチレン性不飽和カルボン酸エステル5〜85重量%であり且つ数平均分子量が6万〜15万であるブロック共重合体、の発明である。
即ち、例えば一般式[5]
即ち、例えば一般式[5]で示されるポリシロキサンセグメントを含有するジアミン又はジオール化合物と例えば一般式[7]
即ち、上記の如くして得たアゾ基含有ポリシロキサン化合物と、前記した如きエチレン性不飽和カルボン酸、更に要すればエチレン性不飽和カルボン酸エステルとを適当な溶媒中、要すれば不活性ガス雰囲気下で常法に従って重合反応を行えば良い。
反応後の後処理等はこの分野に於いて通常行われる後処理法に準じてこれを行うことで足りる。
4-ジメチルアミノピリジン(以下、DMAPと略記する。) 3.5g及び4,4'- アゾビス(4-シアノペンタン酸) 8.0gを塩化メチレン 160mlに溶解し、これにアミノ変性シリコーンKF-8012[前記一般式[5]においてR2がメチル基、Dがアミノ基、Bが(CH2)3、mが平均で約56のもの。信越シリコーン(株)商品名。] 125gとジシクロヘキシルカルボジイミド(以下、DCCと略記する。) 13.0gを順次加え、20〜30℃で4時間撹拌反応させた。次いで塩化メチレン 160ml で希釈し、水、メタノールを加えて反応を停止させた後、析出した結晶を濾去し、濾液を多量のメタノール中に注いで目的物を析出させた。上澄み液を除去後、残渣を室温で減圧乾燥して目的生成物 103gを得た。この生成物は1H-NMRスペクトル及び赤外スペクトルよりポリシロキサンセグメントを有するアゾ基含有ポリシロキサンアミドであることを確認した。このアゾ基含有ポリシロキサンアミドの数平均分子量は、GPC分析の結果より20,000であり、平均アゾ基結合数が4.3個からなるものであった。以下これをMAI−1と略記する。
DMAP 33.7g及び4,4'-アゾビス(4-シアノペンタン酸) 77.3gを塩化メチ レン 2500mlに溶解し、これにアミノ変性シリコーンKF-8012[前記一般式[5]においてR2がメチル基、Dがアミノ基、Bが(CH2)3、mが平均で約56のも の。信越シリコーン(株)商品名。] 1214gとDCC 125gを順次加え、20〜30 ℃で7時間撹拌反応させた。次いで水、メタノールを加えて反応を停止させた後、析出した結晶を濾去し、濾液を多量のメタノール中に注いで目的物を析出させた。上澄み液を除去し、残渣を室温で減圧乾燥して目的生成物 1070gを得た。 この生成物は1H-NMRスペクトル及び赤外スペクトルよりポリシロキサンセグメントを有するアゾ基含有ポリシロキサンアミドであることを確認した。このアゾ基含有ポリシロキサンアミドの数平均分子量は、GPC分析の結果より30,000であり、平均アゾ基結合数が6.5個からなるものであった。以下これをMAI− 2と略記する。
DMAP 3.5g及び4,4'-アゾビス(4-シアノペンタン酸) 8.0gを塩化メチレン 160mlに溶解し、これにアミノ変性シリコーンKF-8012[前記一般式[5]においてR2がメチル基、Dがアミノ基、Bが(CH2)3、mが平均で約56のもの。信越シリコーン(株)商品名。] 125gとDCC 13.0gを順次加え、20〜30℃ で8時間撹拌反応させた。一夜放置後、塩化メチレン 160mlで希釈し、水、メタノールを加えて反応を停止させ、析出した結晶を濾去し、濾液を多量のメタノール中に注いで目的物を析出させた。上澄み液を除去し、残渣を室温で減圧乾燥して目的生成物 114gを得た。この生成物は1H-NMRスペクトル及び赤外スペクトルよりポリシロキサンセグメントを有するアゾ基含有ポリシロキサンアミドであることを確認した。このアゾ基含有ポリシロキサンアミドの数平均分子量は、GPC分析の結果より45,000であり、平均アゾ基結合数が9.7個からなるもので あった。以下これをMAI−3と略記する。
DMAP 3.5g及び4,4'-アゾビス(4-シアノペンタン酸) 8.0gを塩化メチレ ン 160mlに溶解し、これにアミノ変性シリコーンKF-8008[前記一般式[5]においてR2がメチル基、Dがアミノ基、Bが(CH2)3、mが平均で150のもの。信越シリコーン(株)商品名。] 325gとDCC 13.0gを順次加え、20〜30℃で 5時間撹拌反応させた。次いで塩化メチレン 160mlで希釈し、水、メタノールを加えて反応を停止させた後、析出した結晶を濾去し、濾液を多量のメタノール中に注いで目的物を析出させた。上澄み液を除去し、残渣を室温で減圧乾燥して目的生成物 275gを得た。この生成物は1H-NMRスペクトル及び赤外スペクトルよりポリシロキサンセグメントを有するアゾ基含有ポリシロキサンアミドであることを確認した。このアゾ基含有ポリシロキサンアミドの数平均分子量は、GPC分析の結果より47,000であり、平均アゾ基結合数が4.0個からなるものであった。以下これをMAI−4と略記する。
DMAP 13.2g及び4,4'-アゾビス(4-シアノペンタン酸) 30.3gを塩化メチ レン 540mlに溶解し、これにアミノ変性シリコーンKF-8008[前記一般式[5]においてR2がメチル基、Dがアミノ基、Bが(CH2)3、mが平均で150のもの。信越シリコーン(株)商品名。] 1230gとDCC 49.8gを順次加え、20〜30℃で8時間撹拌反応させた。一夜放置後、塩化メチレン 2400mlで希釈し、水、メタノールを加えて反応を停止させた後、析出した結晶を濾去し、濾液を多量のメタノール中に注いで目的物を析出させた。上澄み液を除去し、残渣を室温で減圧乾燥して目的生成物 1050gを得た。この生成物は1H-NMRスペクトル及び赤 外スペクトルよりポリシロキサンセグメントを有するアゾ基含有ポリシロキサンアミドであることを確認した。このアゾ基含有ポリシロキサンアミドの数平均分子量は、GPC分析の結果より86,000であり、平均アゾ基結合数が7.4個からな るものであった。以下これをMAI−5と略記する。
DMAP 3.5g及び4,4'-アゾビス(4-シアノペンタン酸) 8.0gを塩化メチレ ン 160mlに溶解し、これにアミノ変性シリコーンKF-8008[前記一般式[5]に おいてR2がメチル基、Dがアミノ基、Bが(CH2)3、mが平均で150のもの。信越シリコーン(株)商品名。] 325gとDCC 13.0gを順次加え、20〜30℃で12時間撹拌反応させた。次いで塩化メチレン160mlで希釈し、水、メタノール を加えて反応を停止させた後、析出した結晶を濾去し、濾液を多量のメタノール中に注いで目的物を析出させた。上澄み液を除去し、残渣を室温で減圧乾燥して目的生成物 275gを得た。この生成物は1H-NMRスペクトル及び赤外スペクトルよりポリシロキサンセグメントを有するアゾ基含有ポリシロキサンアミドであることを確認した。このアゾ基含有ポリシロキサンアミドの数平均分子量は、GPC分析の結果より125,000であり、平均アゾ基結合数が10.7個からなるもので あった。以下これをMAI−6と略記する。
DMAP 3.5g及び4,4'-アゾビス(4-シアノペンタン酸) 8.0gを塩化メチレ ン 160mlに溶解し、これにアミノ変性シリコーンKF-8012[前記一般式[5]に おいてR2がメチル基、Dがアミノ基、Bが(CH2)3、mが平均で約56のもの。信越シリコーン(株)商品名。] 125gとDCC 13.0gを順次加え、20〜30℃ で7.5時間撹拌反応させた。一夜放置後、塩化メチレン 160mlで希釈し、水、メタノールを加えて反応を停止させ、析出した結晶を濾去し、濾液を多量のメタノール中に注いで目的物を析出させた。上澄み液を除去し、残渣を室温で減圧乾燥して目的生成物 110gを得た。この生成物は1H-NMRスペクトル及び赤外スペクトルよりポリシロキサンセグメントを有するアゾ基含有ポリシロキサンアミドであることを確認した。このアゾ基含有ポリシロキサンアミドの数平均分子量は
、GPC分析の結果より37,200であり、平均アゾ基結合数が9.5個からなるもの であった。以下これをMAI−7と略記する。
DMAP 4.4g及び4,4'-アゾビス(4-シアノペンタン酸) 10.0gを塩化メチレン 200mlに溶解し、これにアルコール変性シリコーンBX16-004[前記一般式[5]においてR2がメチル基、Dが水酸基、mが平均で約90のもの。東レダウコーニング(株)商品名。] 222gとDCC 16.0gを順次加え、20〜30℃で8時間撹 拌反応させた。次いで塩化メチレン 200mlで希釈し、水、メタノールを加えて反応を停止させた後、析出した結晶を濾去し、濾液を多量のメタノール中に注いで目的物を析出させた。上澄み液を除去し、残渣を室温で減圧乾燥して目的生成物 185gを得た。この生成物は1H-NMRスペクトル及び赤外スペクトルよりポリシロキサンセグメントを有するアゾ基含有ポリシロキサンエステルであることを確認した。このものの数平均分子量は、GPC分析の結果より20,000であり、平均アゾ基結合数が2.7個からなるものであった。以下これをMAI−8と略記する。
参考例2で得られたMAI−2 7.5g、メタクリル酸(以下、MAAと略記する。) 90.0g、メタクリル酸tert-ブチル(以下、BMAと略記する。) 35.7g及びn-プロパノール 540gを混合し、窒素気流下、80℃で6時間重合反応させた。反応終了後、反応液をn-ヘキサン中に注いでブロック共重合体を析出さ せた。これを濾取し、洗浄した後、80℃で6時間減圧乾燥してブロック共重合体 64g(収率47%)を得た。NMRの分析結果から、このものの共重合組成は重 量比で、ジメチルシロキサンセグメント(以下、DMSと略記する。):MAA:BMA=5.7:63.7:30.6、又、GPCから数平均分子量は84,000、重量平均 分子量は129,900のビニル−シリコーンブロック共重合体であった。結果を表1 に示す。
実施例1において、使用するMAIの種類と量、MAA、BMAの量および溶媒の種類と量を表で示されるようにした以外は、実施例1と同様にして、目的とするビニル−シリコーン系ブロック共重合体を得た。結果を表1に示す。
参考例5で得られたMAI−5 20g、MAA 48g、BMA 20g及びエタノール 352gを混合し、窒素気流下、77℃で3時間重合反応させた。次いでこれに2,2'-アゾビスイソ酪酸ジメチル[和光純薬工業(株),商品名:V-601] 0.5gを添加し更に4時間重合反応させた。反応終了後、反応液をn-ヘキサン中に注い でブロック共重合体を析出させた。これを濾取し洗浄した後、80℃で6時間減圧乾燥してブロック共重合体 62.4g(収率70.9%)を得た。NMRの分析結果か ら、このものの共重合組成は重量比で、DMS:MAA:BMA=16.0:53.7:30.3、又、GPCから数平均分子量は30,000、重量平均分子量は94,000のビニル−シリコーンブロック共重合体であった。結果を表1に示す。
実施例17において、エタノール 352gに代えてエタノール 282gとした以外は、実施例17と同様にして、目的とするビニル−シリコーン系ブロック共重合体を得た。結果を表1に示す。
実施例1において、MAI−2に代えてMAI−5を用い、また、BMAに代えて、それぞれ順に、メタクリル酸メチル(実施例19)、メタクリル酸エチル(実施例20)、メタクリル酸2-エチルヘキシル(実施例21)、メタクリル酸ステアリル(実施例22)とした以外は、実施例1と同様にして目的とするビニル−シリコーンブロック共重合体を得た。結果を表2に示す。
実施例1において、MAA及びMAI−2に代えて、アクリル酸及びMAI−5を用いた以外は、実施例1と同様にして目的とするビニル−シリコーンブロック共重合体を得た。結果を表2に示す。
実施例1において、MAI,エチレン性不飽和カルボン酸及びエチレン性不飽和カルボン酸エステルの種類及び使用量を代えて、実施例1と同様にして目的とするビニル−シリコーンブロック共重合体を得た。結果を表2に示す。
上記実施例で得られた各ブロック共重合体をエタノールに溶解して20%溶液とした後、2-アミノ-2-メチルプロパノールの水/エタノール(50w/w/50w/w)溶 液を加えてカルボン酸の中和率を70%とした。次に、得られた溶液に樹脂固形分が1%又は2%の溶液となるように精製水を加えて、本発明に係る頭髪化粧料用基剤の評価試料を調製した。
得られた試料と従来の頭髪化粧料用基剤についてのセット保持力、耐湿性及びフレーキング評価試験の比較データを表3に示す。
また、本発明の頭髪化粧料用基剤を用いた処方について、各種評価試験によりその適性を調べた結果を表4及び表5に夫々示す。
尚、評価試料の配合成分組成及び評価方法は、夫々下記の通りである。
実施例11で得られたブロック共重合体 2.0
エタノール 10.0
メチルパラベン 0.1
プロピレングリコール 1.0
2-アミノ-2-メチルプロパノール 0.7
モノステアリン酸ポリオキシエチレンソルビタン(20E.O.) 0.3
香料 0.1
精製水 残部
―――――――――――――――――――――――――――――――
合計 100.0
(原液)
実施例11で得られたブロック共重合体 1.0
エタノール 5.0
メチルパラベン 0.1
塩化ステアリルトリメチルアンモニウム 0.2
グリセリン 1.0
2-アミノ-2-メチルプロパノール 0.4
シリコーンエマルション 1.0
香料 0.1
精製水 残部
―――――――――――――――――――――――――――――――
合計 100.0
(噴霧液)
原液 92.0
液化石油ガス 8.0
―――――――――――――――――――――――――――――――
合計 100.0
実施例4で得られたブロック共重合体 2.0
エタノール 10.0
メチルパラベン 0.1
カルボキシビニルポリマー 0.4
2-アミノ-2-メチルプロパノール 1.0
モノステアリン酸ポリオキシエチレンソルビタン(20E.O.) 0.2
香料 0.1
エデト酸4ナトリウム 0.02
精製水 残部
―――――――――――――――――――――――――――――――
合計 100.0
実施例8で得られたブロック共重合体 1.0
エタノール 5.0
メチルパラベン 0.1
塩化ステアリルトリメチルアンモニウム 0.3
POE変性シロキサン 0.1
2-アミノ-2-メチルプロパノール 0.27
香料 0.1
ジブチルヒドロキシトルエン 0.01
精製水 残部
―――――――――――――――――――――――――――――――
合計 100.0
(原液)
実施例9で得られたブロック共重合体 2.0
エタノール 10.0
メチルパラベン 0.1
2-アミノ-2-メチルプロパノール 0.46
POE(50)硬化ヒマシ油 0.3
香料 0.1
精製水 残部
―――――――――――――――――――――――――――――――
合計 100.0
(噴霧液)
原液 92.0
液化石油ガス 8.0
―――――――――――――――――――――――――――――――
合計 100.0
(原液)
実施例1で得られたブロック共重合体 2.0
エタノール 10.0
メチルパラベン 0.1
2-アミノ-2-メチルプロパノール 0.4
POE(50)硬化ヒマシ油 0.3
香料 0.1
精製水 残部
―――――――――――――――――――――――――――――――
合計 100.0
(噴霧液)
原液 92.0
液化石油ガス 8.0
―――――――――――――――――――――――――――――――
合計 100.0
実施例14で得られたブロック共重合体 2.0
エタノール 10.0
メチルパラベン 0.1
1,3-ブチレングリコール 1.0
2-アミノ-2-メチルプロパノール 0.3
モノステアリン酸ポリオキシエチレンソルビタン(20E.O.) 0.3
プロピレングリコール 1.0
香料 0.1
精製水 残部
―――――――――――――――――――――――――――――――
合計 100.0
実施例15で得られたブロック共重合体 2.0
エタノール 15.0
メチルパラベン 0.1
グリセリン 5.0
シリコーンエマルション 2.0
2-アミノ-2-メチルプロパノール 0.33
POE(50)硬化ヒマシ油 0.3
香料 0.1
精製水 残部
―――――――――――――――――――――――――――――――
合計 100.0
実施例15で得られたブロック共重合体 10.0
メチルポリシロキサン 5.0
セタノール 3.0
モノステアリン酸グリセリル 1.0
メチルパラベン 0.2
プロピルパラベン 0.1
グリセリン 5.0
モノステアリン酸ポリオキシエチレンソルビタン(20E.O.) 1.0
2-アミノ-2-メチルプロパノール 0.33
精製水 残部
―――――――――――――――――――――――――――――――
合計 100.0
尚、従来の頭髪化粧料用基剤については、樹脂固形分が1%又は2%となる水/エタノール(10w/w/90w/w)溶液を夫々調製し、評価試験を行った。
1.セット保持力試験
処方例1〜7で得た試料を、処方例1,3,4及び7については2倍に、処方例2,5及び6については原液を3倍に原液夫々水で希釈し、毛束に塗布した。塗布した毛束について純曲げ試験機により1回目及び10回目の曲げ剛性を測定し、その比を算出し、得られた値を以下の基準に基づいて評価した。
評価基準
○・・・>70%
△・・・50〜70%
×・・・<50%
各試料(処方例2,5及び6については原液)を1mlとり、約2g、30cmの毛束に塗布し、1cmのガラス管に巻き、乾燥させた。乾燥後、ガラス管を外して長さを測定した(L0)。次に、この毛束を35℃、80RH%の恒温恒湿下に2時間置 いた後、カールの伸びを測定した(L2)。測定した値を下記式に代入してカール リテンション値を求め、得られた値を以下の基準に基づいて評価した。
カールリテンション値(%)=(30−L2)/(30−L0)× 100
評価基準
○・・・>80%
△・・・60〜80%
×・・・<60%
各試料を毛束に塗布或いは噴霧し、完全に乾燥させた後、櫛を通してフレーキングの状態を観察した。評価基準は以下の通りである。
評価基準
○・・・フレーキングはみられない。
△・・・若干のフレーキングがみられる。
×・・・フレーキングが多くみられる。
各試料溶液及び処方例8で得た試料を夫々約2g、30cmの毛束に塗布或いは噴霧して乾燥させた。次にこの毛束を、専門パネラー5人で5段階評価(a:表面 の滑らかさ、b:つや、c:ごわつき、d:べたつき)し、そのスコアーの平均値 を求めた(小数点以下、四捨五入)。評価基準は以下の通りである。
評価基準
4−a.表面の滑らかさ
評価5・・・非常に滑らかである
評価4・・・滑らかである
評価3・・・普通
評価2・・・ざらつく
評価1・・・非常にざらつく
4−b.つや
評価5・・・非常につやがある
評価4・・・つやがある
評価3・・・普通
評価2・・・つやがない
評価1・・・甚だしくつやがない
4−c.ごわつき
評価5・・・全くごわつきを感じない
評価4・・・ごわつきを殆ど感じない
評価3・・・少しごわつきを感じるが、気にならない
評価2・・・ごわつきを感じ、気になる
評価1・・・非常にごわつきを感じる
4−d.べたつき
評価5・・・全くべたつきを感じない
評価4・・・べたつきを殆ど感じない
評価3・・・少しべたつきを感じるが、気にならない
評価2・・・べたつきを感じ、気になる
評価1・・・非常にべたつきを感じる
40℃の湯に浸した長さ30cm、重さ約2gの毛束に、1.0wt%ラウリル硫酸ナト リウム水溶液 1mlを塗布し、シャンプーした後、40℃の湯で3分間すすいだ。 (1)得られた毛束に処方例9で得た試料溶液を1g塗布し、髪への塗布のしやすさを評価した。(2)次に、この毛束を40℃の湯で30秒間すすぎ、すすぎ時の髪のすべりを評価した。(3)更に、この毛束を乾燥させた後、つや及びなめらかさを評価した。これら評価を夫々専門パネラー5人で5段階評価(a:表面の 滑らかさ、b:つや、c:ごわつき、d:べたつき)し、そのスコアーの平均値を 求めた(小数点以下、四捨五入)。評価基準は以下の通りである。
評価基準
5−(1).髪への塗布のしやすさ
評価5・・・非常に塗布しやすい
評価4・・・塗布しやすい
評価3・・・普通
評価2・・・塗布しにくい
評価1・・・非常に塗布しにくい
5−(2).すすぎ時の髪のすべり
評価5・・・非常にすべりが良い
評価4・・・すべりが良い
評価3・・・普通
評価2・・・すべりが悪い
評価1・・・甚だしくすべりが悪い
5−(3)−1.乾燥後のつや
評価5・・・非常につやがある
評価4・・・つやがある
評価3・・・普通
評価2・・・つやがない
評価1・・・甚だしくつやがない
5−(3)−2.乾燥後の滑らかさ
評価5・・・非常に滑らかである
評価4・・・滑らかである
評価3・・・普通
評価2・・・ざらつく
評価1・・・非常にざらつく
Claims (2)
- ブロック共重合体の構成率が、
一般式[1a]
(式中、R1は同一または異なって、水素原子、低級アルキル基またはシアノ基を表し、R2は同一または異なって、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基またはアリール基を表し、AはNHまたはOを表し、Bは酸素原子を介していてもよい低級アルキレン基を表し、pは0または1〜6の整数を表し、mは0または1〜200の整数を表す。)で示される繰り返し単位を有するポリシロキサンセグメント、又は上記一般式[1a]で示される繰り返し単位と一般式[2]
(式中、−CO−Y−CO−は二塩基酸残基を表し、R2,A,B及びmは前記に同じ。)で示される繰り返し単位の組み合わせからなるポリシロキサンセグメント15〜60重量%、一般式[3a]
(式中、R3は水素原子、低級アルキル基、カルボキシル基またはカルボキシ低級アルキル基を表し、R4は水素原子、低級アルキル基またはカルボキシ低級アルキル基を表す。)で示されるエチレン性不飽和カルボン酸単位25〜70重量%並びに一般式[4a]
(式中、R5は水素原子、低級アルキル基、アルキルオキシカルボニル基、カルボキシ低級アルキル基またはアルキルオキシカルボニルアルキル基を表し、R6は水素原子、低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基またはアルキルオキシカルボニルアルキル基を表し、R7はアルキル基またはアラルキル基を表す。)で示されるエチレン性不飽和カルボン酸エステル単位15〜60重量%であり、数平均分子量が6万〜15万である、溶液重合により得られるブロック共重合体。 - 一般式[1]
(式中、R1は同一または異なって、水素原子、低級アルキル基またはシアノ基を表し、R2は同一または異なって、水素原子、アルキル基、ハロアルキル基またはアリール基を表し、AはNHまたはOを表し、Bは酸素原子を介していてもよい低級アルキレン基を表し、pは0または1〜6の整数を表し、mは0または1〜200の整数を表す。)で示される繰り返し単位を有するアゾ基含有ポリシロキサン化合物、または上記一般式[1]で示される繰り返し単位と下記一般式[2]
(式中、−CO−Y−CO−は二塩基酸残基を表し、R2,A,B及びmは前記に同じ。)で示される繰り返し単位の組み合わせからなるアゾ基含有ポリシロキサン化合物の存在下に、一般式[3]
(式中、R3は水素原子、低級アルキル基、カルボキシル基またはカルボキシ低級アルキル基を表し、R4は水素原子、低級アルキル基またはカルボキシ低級アルキル基を表す。)で示されるエチレン性不飽和カルボン酸と一般式[4]
(式中、R5は水素原子、低級アルキル基、アルキルオキシカルボニル基、カルボキシ低級アルキル基またはアルキルオキシカルボニルアルキル基を表し、R6は水素原子、低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基またはアルキルオキシカルボニルアルキル基を表し、R7はアルキル基またはアラルキル基を表す。)で示されるエチレン性不飽和カルボン酸エステルとを溶液重合反応に付して得られる、ブロック共重合体の構成率がポリシロキサン化合物15〜60重量%、エチレン性不飽和カルボン酸25〜70重量%、及びエチレン性不飽和カルボン酸エステル15〜60重量%であり且つ数平均分子量が6万〜15万であるブロック共重合体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005240694A JP4502269B2 (ja) | 1995-10-05 | 2005-08-23 | 頭髪化粧料用基剤 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28668595 | 1995-10-05 | ||
JP2005240694A JP4502269B2 (ja) | 1995-10-05 | 2005-08-23 | 頭髪化粧料用基剤 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28167696A Division JP3751384B2 (ja) | 1995-10-05 | 1996-10-03 | 頭髪化粧料用基剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006045576A JP2006045576A (ja) | 2006-02-16 |
JP4502269B2 true JP4502269B2 (ja) | 2010-07-14 |
Family
ID=36024508
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005240694A Expired - Lifetime JP4502269B2 (ja) | 1995-10-05 | 2005-08-23 | 頭髪化粧料用基剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4502269B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20120283381A1 (en) * | 2011-05-04 | 2012-11-08 | Ryuta Tamiya | Macroinitiator containing hydrophobic segment |
-
2005
- 2005-08-23 JP JP2005240694A patent/JP4502269B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006045576A (ja) | 2006-02-16 |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051128 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A02 | Decision of refusal |
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A521 | Written amendment |
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A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
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|
A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
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|
A521 | Written amendment |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100415 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130430 Year of fee payment: 3 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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EXPY | Cancellation because of completion of term |