JP4496933B2 - 感光性樹脂組成物及びパターン形成方法 - Google Patents
感光性樹脂組成物及びパターン形成方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4496933B2 JP4496933B2 JP2004334398A JP2004334398A JP4496933B2 JP 4496933 B2 JP4496933 B2 JP 4496933B2 JP 2004334398 A JP2004334398 A JP 2004334398A JP 2004334398 A JP2004334398 A JP 2004334398A JP 4496933 B2 JP4496933 B2 JP 4496933B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive resin
- resin composition
- contact angle
- time
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Materials For Photolithography (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
この要求に対応するため、レジスト組成物には、解像度や感度等の転写特性に優れているばかりではなく、塗布ムラ等がなく膜厚が高精度に均一な塗布膜を形成できることが必要とされる。
これまで、塗布膜の均一性を向上させるために、感光性樹脂組成物を構成する溶媒の選択、界面活性剤の添加等々、種々の方法が提案されている。
このような大型基板に感光性樹脂を塗布するに当たっては、従来用いられてきた回転塗布型の塗布装置を用いることができない。このため、スピンレススリットコート法が採用されている。
ところが、このような非回転型の塗布装置を用いると、回転型の塗布装置を用いた場合に比べて、得られる感光性樹脂膜の平坦性が悪い。即ち、回転型塗布装置では、基板の回転によりある程度の塗布膜平坦性が担保され、更に大部分の溶媒が回転により除去されるので残存する溶媒を加熱除去した後の感光性樹脂膜の平坦性低下が少ない。ところが、非回転塗布装置を用いた場合は、感光性樹脂組成物が基板上に塗布された状態で平坦性の程度がほぼ決定される。更に、感光性樹脂組成物には、良好な塗布性を担保するために多量の溶媒が用いられるので、乾燥後、加熱によって除去される溶媒量が多くなる。このため、得られる感光性樹脂膜にはムラが生じ、平坦性が低下する傾向が高くなる。
このような要望に対処するため、着色感光性樹脂組成物の表面張力を界面活性剤の添加により制御する方法が開示されている(特許文献1)。
また、粘度、固形分濃度及び基板との接触角をそれぞれ特定範囲内に規定したポジ型感光性樹脂組成物も提案されている(特許文献2)。
これらの方法によれば、一定の改善効果を得ることができるが、十分ではない。
本発明の感光性樹脂組成物は、5〜25度の静的接触角を有することが好ましい。
また、本発明の感光性樹脂組成物は、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤及び炭化水素系界面活性剤から選ばれる少なくとも1種の界面活性剤を含むことが好ましい。
本発明の感光性樹脂組成物は、非回転塗布型塗布装置に好適に適用することができる。
更に、本発明によれば、上記感光性樹脂組成物を、基板上に塗布し、乾燥して感光性樹脂膜を形成する工程、この感光性樹脂膜を所定形状のフォトマスクを介して露光する工程、及び露光された感光性樹脂膜を現像して感光性樹脂パターンを形成する工程を有するパターン形成方法が提供される。
本発明のパターン形成方法は、感光性樹脂組成物の基板上への塗布が非回転塗布型塗布装置を用いて行われる際に好適に適用される。
本発明の感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂、感光剤及び溶媒を含有してなる。
本発明において用いられるアルカリ可溶性樹脂は、アルカリ性水溶液等からなる現像液に可溶性の樹脂であれば特に限定されないが、例えば、ノボラック樹脂、レゾール樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、スチレン−アクリル酸共重合体、ヒドロキシスチレン重合体、ポリビニルヒドロキシベンゾエート等を挙げることができる。これらのうち、ノボラック樹脂が好ましい。
ノボラック樹脂を製造するために用いられるフェノール化合物は、一価のフェノールであっても、レゾルシノール等の二価以上の多価フェノールであってもよい。
フェノール化合物は、1種類を単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
これらのフェノール化合物のうち、o−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、2,5−キシレノール、3,5−キシレノール、2,3,5−トリメチルフェノールが好ましい。
アルデヒド化合物は、1種類を単独で使用してもよく、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
脂肪族アルデヒドの具体例としては、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、トリオキサン、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、n−ブチルアルデヒド、i−ブチルアルデヒド、トリメチルアセトアルデヒド、n−ヘキシルアルデヒド、アクロレイン、クロトンアルデヒド等を挙げることができる。
脂環式アルデヒドの具体例としては、シクロヘキサンアルデヒド、シクロペンタンアルデヒド、フルフラール、フリルアクロレイン等を挙げることができる。
芳香族アルデヒドの具体例としては、ベンズアルデヒド、o−トルアルデヒド、m−トルアルデヒド、p−トルアルデヒド、p−エチルベンズアルデヒド、2,4−ジメチルベンズアルデヒド、2,5−ジメチルベンズアルデヒド、3,4−ジメチルベンズアルデヒド、3,5−ジメチルベンズアルデヒド、o−クロロベンズアルデヒド、m−クロロベンズアルデヒド、p−クロロベンズアルデヒド、o−ヒドロキシベンズアルデヒド、m−ヒドロキシベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、o−アニスアルデヒド、m−アニスアルデヒド、p−アニスアルデヒド、テレフタルアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、α−フェニルプロピオンアルデヒド、β−フェニルプロピオンアルデヒド、桂皮アルデヒド等を挙げることができる。
縮合反応生成物を良溶媒、例えばメタノール、エタノール等のアルコール;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン;エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のアルキレングリコール溶媒;テトラヒドロフラン等のエーテル溶媒;等に溶解し、次いで水中に注いで沈殿させる。
本発明において好適に使用されるアルカリ可溶性ノボラック樹脂は、その重量平均分子量が、通常、2,000〜20,000、好ましくは2,500〜12,000、更に好ましくは3,000〜8,000のものである。
このキノンジアジド化合物としては、従来、キノンジアジド−ノボラック樹脂系レジストで用いられている公知の感光剤を用いることができる。
キノンジアジド化合物は一般にナフトキノンジアジドスルホン酸クロライドやベンゾキノンジアジドスルホン酸クロライド等の酸ハライドと、これと縮合反応可能な官能基(水酸基、アミノ基等。好ましくは水酸基。)を有する低分子化合物又は高分子化合物とを反応させることによって得られるキノンジアジドスルホン酸エステルが好ましい。
キノンジアジドスルホン酸ハライドとヒドロキシ化合物とから得られるキノンジアジドスルホン酸エステルのエステル化率は、好ましくは50%以上、より好ましくは60%以上である。
これらの水酸基含有化合物は、1種類を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
キノンジアジドスルホン酸ハライドとヒドロキシ化合物との反応は、通常、ジオキサン、N−メチルピロリドン、ジメチルアセトアミド等の有機溶媒中、トリエタノールアミン、炭酸アルカリ又は炭酸水素アルカリのような塩基性縮合剤の存在下で行う。
これらの溶媒は、1種類を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
溶媒の配合量は、後述する感光性樹脂組成物の動的接触角や固形分濃度を勘案して適宜設定すればよい。
エーテル溶媒の具体例としては、テトラヒドロフラン等を挙げることができる。
エステル溶媒の具体例としては、酢酸エチル、酢酸n―ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン等を挙げることができる。
炭化水素溶媒の具体例としては、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素等を挙げることができる。
ケトン溶媒の具体例としては、メチルエチルケトン、2−ヘプタノン、シクロヘキサノン等を挙げることができる。
アミド溶媒の具体例としては、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等を挙げることができる。
この時間が200ミリ秒未満であっても800ミリ秒を超えても、感光性樹脂組成物の塗布膜にスジが生じる。この時間が200〜800ミリ秒の範囲内にあるときに、スジが発生せず、平坦性が良好となる。
この動的接触角は、液滴法により測定される。
動的接触角の経時変化率は、感光性樹脂組成物をモリブデン被覆ガラス基板に滴下して、その後、接触角計を用いて時間を追って動的接触角を測定する。動的接触角の時間変化率は任意の2測定点間の測定値の差を両者の時間間隔で除したものである。単位は、度/ミリ秒である。
動的接触角の経時変化率の時間微分値は、動的接触角を、横軸を時間、縦軸を動的接触角とするグラフにプロットして、これから時間−動的接触角曲線を求め、これから動的接触角の時間変化率[該曲線の勾配]を求め、更にこれを時間で微分することにより求めることができる。
動的接触角の測定に用いる接触角計としては、例えば、協和界面科学社製、自動接触角計CA−X150型接触角計を示すことができる。
静的接触角は、6〜23度の範囲内にあることがより好ましく、7〜21度の範囲内にあることが更に好ましい。
ここで、静的接触角は、前述の動的接触角の測定において、動的接触角の経時変化率の時間微分値が0となったときから30秒後の動的接触角測定値として求められる。
これらのうち、界面活性剤を添加する方法は、簡便であり、動的接触角及び静的接触角の制御が容易なので、好ましい。
メラミン化合物の具体例としては、Cymel−300、303(三井化学社製)、MW−30MH、MW−30、MS−11、MS−001、MX−750、MX−706(三和ケミカル社製)等が挙げられる。メラミン化合物の使用量は、アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して、通常、20重量部以下、好ましくは0.5〜18重量部、更に好ましくは1.0〜15重量部である。
一方、シラン化合物の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
シラン化合物の使用量は、アルカリ可溶性樹脂100重量部に対して、通常、2重量部以下、好ましくは0.001〜1重量部、更に好ましくは0.005〜0.8重量部である。
また、接着助剤としてはアルキルイミダゾリン、酪酸、アルキル酸、ポリヒドロキシスチレン、ポリビニルメチルエーテル、t−ブチルノボラック、エポキシシラン、メラミン樹脂、エポキシポリマー、シランカップリング剤等を挙げることができる。
本発明の感光性樹脂組成物の固形分含量は、特に限定されないが、通常、6〜16重量%、好ましくは7〜15重量%、更に好ましくは8〜14重量%に調整する。固形分含量をこの範囲内に設定することにより、スジやモヤといった塗布ムラを生じることなく、塗布膜を形成することができる。
本発明の感光性樹脂組成物の粘度は、室温(25℃)において、通常、2.0〜5.0cP、好ましくは2.2〜4.8cP、更に好ましくは2.5〜4.5cPである。粘度がこの範囲内にあれば、スジやモヤといった塗布ムラが生じにくく、且つ基板内部の塗布均一性も良好に保たれる。
また、これらの基板は、シランカップリング剤等の薬品による処理、プラズマ処理、イオンプレーティング処理、スパッタリング処理、気相反応処理、真空蒸着処理等の前処理が施されていてもよい。
更に、シリコン基板の上に電荷結合素子、薄膜トランジスタ(TFT)等が形成されたものであってもよい。
大型基板としては、例えば、液晶ディスプレイ等に用いられる無アルカリ性ガラス、ソーダガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、石英ガラス及びこれらのガラスに金属膜や透明導電膜を付着させたものや、固体撮像素子等に用いられる光電変換素子基板、例えばシリコン基板等が挙げられる。これらの基板は、少なくとも一辺の長さが800mm以上のものであって、好ましくは少なくとも一辺の長さが1,000mm以上である。
非回転塗布型塗布方法の代表的なものとして、スピンレススリットコート法を挙げることができる。スピンレススリットコート法は、感光性樹脂組成物を供給するスリットを移動させることにより、基板にスリットが接触することなく感光性樹脂組成物を塗布するものである。
スピンレススリットコート法による塗布には、スピンレスコーター(東京応化工業社製)、テーブルコーター(中外炉工業社製)、リニアコーター(大日本スクリーン製造社製)、ヘッドコーター(平田機工社製)、スリットダイコーター(東レエンジニアリング社製)、東レスリットコーター(東レ社製)等の、市販のコーターを用いればよい。
パターンの現像後、通常、水で洗浄し、更に圧縮空気や圧縮窒素で風乾する。次いで、このパターンをホットプレート、オーブンなどの加熱装置により、所定温度、例えば100〜250℃で、所定時間、例えばホットプレート上なら2〜60分間、オーブン中では2〜90分間加熱処理(ポストベーク)をすることによって、目的とするパターンを得ることができる。
また、評価は、以下の方法によった。
[動的接触角]
自動接触角計(協和界面科学社製、CA−X15型)を用いて、液滴法により測定する。
[動的接触角の経時変化率の時間微分値]
動的接触角の経時変化率は、感光性樹脂組成物4マイクロリットルをモリブデン被覆ガラス基板に滴下して、その後、接触角計を用いて時間を追って動的接触角を測定する。動的接触角の時間変化率は任意の2測定点間の測定値の差を両者の時間間隔で除したものである。単位は、度/ミリ秒である。
動的接触角の経時変化率の時間微分値は、動的接触角を、横軸を時間、縦軸を動的接触角とするグラフにプロットして、これから時間−動的接触角曲線を求め、これから動的接触角の時間変化率[該曲線の勾配]を求め、更にこれを時間で微分する
静的接触角は、前述の動的接触角の測定において、動的接触角の経時変化率の時間微分値が0となったときから30秒後の動的接触角測定値として求められる。
[塗布膜の平坦性]
ナトリウムランプ(東芝干渉縞検査灯、東芝ライテック社製)を用いて、塗布膜のスジの有無を目視観察した。スジが認められないものを平坦性良好、認められたものを平坦性不良とする。
感光性樹脂組成物を、東レスリットコーター(東レ社製、TC511T)を用いて、85mm/秒の塗布速度で、ガラス基板(サイズ1100×1200mm)に塗布後、減圧乾燥し、115℃、3分間、ホットプレート上でプリベークして約1.5μmの塗布膜を形成する。
[感光性樹脂組成物1の調製]
m−クレゾール/p−クレゾール混合クレゾール(混合比=5:5)とホルムアルデヒドとをシュウ酸の存在下、縮重合させて得られたノボラック樹脂(重量平均分子量=約5500)17.7部、2,3,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノンと1,2−ナフトキノンジアジド−5−スルホン酸クロライドとから得られたエステル化率70%のキノンジアジド化合物4.3部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート70.8部及び乳酸エチル7.8部を混合して混合物1を得た。混合物1にシロキサン結合を有するシリコーン系界面活性剤SH29PA(東レ・ダウコーニング・シリコーン社製)0.04部を混合して感光性樹脂組成物1を得た。
この感光性樹脂組成物について、動的接触角の経時変化率の時間微分値が0となるまでの時間及び静的接触角を測定し、平坦性を評価した。結果を表1に示す。
界面活性剤の種類及び/又は使用量を表1に示すように変更するほかは、実施例1と同様にして、それぞれ、感光性樹脂組成物2〜4及びC1〜C2を得た。
これらの感光性樹脂組成物について、動的接触角の経時変化率の時間微分値が0となるまでの時間及び静的接触角を測定し、平坦性を評価した。結果を表1に示す。
*1 シリコーン系界面活性剤(東レ・ダウコーニング・シリコーン社製)
*2 フルオロカーボン鎖を持つフッ素系界面活性剤(大日本インキ化学工業社製)
*3 エチレンオキシド基を持つ炭化水素系界面活性剤(竹本油脂社製)
*4 シリコーン系界面活性剤(東レ・ダウコーニング・シリコーン社製)
Claims (3)
- 感光性樹脂組成物を、基板上に塗布し、乾燥して感光性樹脂膜を形成する工程、この感光性樹脂膜に活性光線を照射して所定形状の潜像パターンを形成する工程及びこの潜像パターンをアルカリ現像液で現像して感光性樹脂パターンを形成する工程を有するパターン形成方法であって、感光性樹脂組成物が、少なくとも1種の界面活性剤を含むものであって、5〜25度の静的接触角を有し、且つ、これをモリブデン被覆ガラス基板に滴下したときのモリブデン被覆ガラス基板に対する動的接触角の経時変化率の時間微分値が0となるまでに要する時間が、滴下直後から200〜800ミリ秒の範囲内にあることを特徴とするパターン形成方法。
- 前記感光性樹脂組成物に含まれる前記少なくとも1種の界面活性剤がシリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤及び炭化水素系界面活性剤から選ばれるものである請求項1に記載のパターン形成方法。
- 前記感光性樹脂組成物の基板上への塗布が非回転塗布型塗布装置を用いて行われるものである請求項1又は2に記載のパターン形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004334398A JP4496933B2 (ja) | 2004-11-18 | 2004-11-18 | 感光性樹脂組成物及びパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004334398A JP4496933B2 (ja) | 2004-11-18 | 2004-11-18 | 感光性樹脂組成物及びパターン形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006145735A JP2006145735A (ja) | 2006-06-08 |
JP4496933B2 true JP4496933B2 (ja) | 2010-07-07 |
Family
ID=36625535
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004334398A Expired - Fee Related JP4496933B2 (ja) | 2004-11-18 | 2004-11-18 | 感光性樹脂組成物及びパターン形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4496933B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012171994A (ja) * | 2011-02-18 | 2012-09-10 | Nippon Zeon Co Ltd | 樹脂組成物および半導体素子基板 |
KR102528774B1 (ko) * | 2017-05-24 | 2023-05-08 | 도레이 카부시키가이샤 | 투명 수지 조성물, 투명 피막 및 투명 수지 피복 유리 기판 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004233981A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Qimei Industry Co Ltd | ポジ型感光性樹脂組成物 |
JP2004233993A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Qimei Industry Co Ltd | 液晶ディスプレイの製造方法 |
JP2004233975A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Qimei Industry Co Ltd | スペーサー用感光性樹脂組成物 |
JP2004318111A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-11-11 | Sumitomo Chem Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
-
2004
- 2004-11-18 JP JP2004334398A patent/JP4496933B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004233981A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Qimei Industry Co Ltd | ポジ型感光性樹脂組成物 |
JP2004233993A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Qimei Industry Co Ltd | 液晶ディスプレイの製造方法 |
JP2004233975A (ja) * | 2003-01-30 | 2004-08-19 | Qimei Industry Co Ltd | スペーサー用感光性樹脂組成物 |
JP2004318111A (ja) * | 2003-03-28 | 2004-11-11 | Sumitomo Chem Co Ltd | 着色感光性樹脂組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006145735A (ja) | 2006-06-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4978800B2 (ja) | 金属配線付き基板の製造方法 | |
JP3996573B2 (ja) | ポジ型感光性樹脂組成物 | |
KR20090094216A (ko) | 패턴 형성 방법 및 이것에 사용하는 감광성 수지 조성물 | |
KR101658859B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 및 이를 사용하여 패턴을 형성하는 방법 | |
JP2004347617A (ja) | 感光性樹脂組成物用基板密着性向上剤及びそれを含有する感光性樹脂組成物 | |
KR20030076204A (ko) | 액정 표시 소자 제조용 포지티브형 포토레지스트 조성물및 레지스트 패턴의 형성 방법 | |
KR100754232B1 (ko) | 롤 피복용 감광성 수지 조성물 및 롤 피복 방법 | |
US20210191263A1 (en) | Method of manufacturing high-defined pattern and method of manufacturing display device using the same | |
EP0851298B1 (en) | Use of a solvent mixture for roller coating a radiation sensitive composition | |
JP4496933B2 (ja) | 感光性樹脂組成物及びパターン形成方法 | |
KR19990006795A (ko) | 감방사선성 수지 조성물 | |
JP2013088711A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP2005284114A (ja) | スピンレススリットコート用感放射線性樹脂組成物及びその利用 | |
JP3844236B2 (ja) | 感光性樹脂組成物塗布性向上剤を含有する感光性樹脂組成物 | |
KR20070116665A (ko) | 패턴 형성 방법 | |
TWI644173B (zh) | 正型感光性樹脂組成物及其應用 | |
JPH1165108A (ja) | ポジ型フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | |
JP5637043B2 (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP2006145734A (ja) | ポジ型フォトレジスト組成物 | |
JP2005284115A (ja) | スリットスピンコート用感放射線性樹脂組成物及びその利用 | |
JP2007103432A (ja) | パターン化金属膜を有する基板の製造方法 | |
KR100499983B1 (ko) | 포지티브형 포토레지스트 조성물 및 액정표시소자 제조용레지스트패턴의 형성방법 | |
JP2007101673A (ja) | 感光性レジスト組成物及び基板の製造方法 | |
CN100365509C (zh) | 正型感光性树脂组成物 | |
KR101920783B1 (ko) | 감광성 수지 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070919 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091217 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091222 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100219 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100323 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100405 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130423 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140423 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |