JP4476883B2 - X線ビーム処理装置、x線受光システム、及びx線分析装置 - Google Patents
X線ビーム処理装置、x線受光システム、及びx線分析装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4476883B2 JP4476883B2 JP2005191635A JP2005191635A JP4476883B2 JP 4476883 B2 JP4476883 B2 JP 4476883B2 JP 2005191635 A JP2005191635 A JP 2005191635A JP 2005191635 A JP2005191635 A JP 2005191635A JP 4476883 B2 JP4476883 B2 JP 4476883B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slit
- ray
- analyzer
- beam processing
- crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
図2において、アナライザ支持装置13が何も支持しない状態とすると、光学系の配置は図5に示すように、X線検出器6に入射するX線R2の角度を2つのスリット12a及び12bによって規制するダブルスリットアナライザの配置となる。この場合には、第1スリット12aのスリット幅と第2スリット12bのスリット幅を制御することで分解能が決められる。なお、このとき、ソーラスリット支持装置23はソーラスリット27を支持していても、あるいは支持していなくても、どちらでも良い。
図2において、アナライザ支持装置13に平行スリットアナライザ18を装着し、さらにスリット12a,12bのX線通過部Bの幅を平行スリットアナライザ18の幅よりも広く開くと、光学系の配置は図6に示すように、平行スリットアナライザ18によってX線ビームを処理する状態となる。この場合、ソーラスリット27は有っても無くても良い。平行スリットアナライザ18を用いれば、強度の強い平行光学系を構築できる。
図2において、アナライザ支持装置13に結晶アナライザ19を装着すると結晶アナライザ19を用いてX線ビームを処理できる。この場合、ソーラスリット27は有っても無くても良い。結晶アナライザ19を用いれば、高分解能の平行光学系を構築できる。結晶アナライザ19としては、図7(a)に示す1個の結晶板24を用いることができ、この場合にはX線がアナライザ19で1回反射する。また、結晶アナライザ19として図7(b)に示す1個のチャンネルカット結晶25を用いることもでき、この場合にはX線がアナライザ19で2回反射する。また、結晶アナライザ19として図7(c)に示す2個のチャンネルカット結晶25a,25bを用いることもでき、この場合にはX線がアナライザ19で4回反射する。
図1のX線分析装置1において集光型の光学系を用いた。また、図5のダブルスリットアナライザにおいて、第2スリット12bをその光学系の集光点に設置した。光学系の分解能を図2のスリット開閉装置17を調整して設定した。スリット開閉装置17を調整することにより、第1スリット12aのスリット幅を集光して来るX線の幅に合わせた。分解能は、集光点の試料からの距離と、集光点に設置したスリットの幅とで決定される。図5において、試料Sから集光点までの距離をL1=285mmとして、この位置に第2スリット12bを置き、スリット幅をL2=0.3mmとした場合の分解能は、約0.06°となる。第1スリット12aと第2スリット12bとの距離をL3=120mmとした場合、集光するX線の集光角度を0.5°とすると、第1スリット12aの幅はL4=約1mmとなる。
図5のダブルスリットアナライザにおいて、第1スリット12aの幅L4と第2スリット12bの幅L2とを同じ幅に設定した。分解能は、スリット間の距離L3とスリット幅L4,L2とで決定される。例えば、スリット間距離をL3=120mmとし、スリット幅をL4=L2=0.07mmとすると、分解能は約0.07°となる。この場合に注意しなければならないことは、2つのスリット12a,12bのスリット中心の位置ずれを10%以内の誤差で設定するためには、0.007mm以内である必要があるので、第2スリット12bの位置を位置調整装置、すなわち図2の検出ユニット移動装置9によって補正することである。但し、測定できる幅は、受光した平行光の幅に対して0.07mmに減じられてしまうことになる。
図6の平行スリットアナライザにおいて、ダブルスリットを構成する第1スリット12a及び第2スリット12bのそれぞれのスリット幅L4及びL2を、平行スリットアナライザ18のX線通過幅よりも広くなるように広げた。分解能は、図3において平行に並んだ箔21の間隔Dと、箔21の長さL5によって決定される。例えば、箔21の間隔をD=0.05mm、箔21の長さをL5=80mmとした場合の分解能はRe=約0.07°となる。箔21の厚さを0.03mmとすると、透明度は約62%である。つまり、X線の幅が1mmの場合、ダブルスリットアナライザで0.07°の分解能を設定すると、7%の幅しか通過できないことになるが、平行スリットアナライザ18で窓幅、すなわちX線通過幅が1mm以上あれば、62%の通過が可能になり、約9倍の強度を得られることになる。
図7(b)の結晶アナライザにおいて、図2のアナライザ回転装置26を用いて結晶25の回折角度を調整し、X線がずれた分を図2の検出ユニット移動装置9を用いた第2スリット12bの位置調整によって調整し、X線の幅に合わせて第2スリット12bのスリット幅を調整した。結晶アナライザ25としてGe等の単結晶を用いた。X線としてCuのKα特性線を用いた。この特性線の波長は約1.5402Åである。結晶アナライザ25としてGeの(220)面の回折を使用すると、回折角度は約22.5°となる。Ge(220)面を使用した2結晶アナライザ25において2つの結晶の間隔をD1=2mmとすると、X線光路のずれδ0はδ0=5mmとなる。このため、第2スリット12bはC−C’方向へ5mm移動する必要がある。Geの(220)面を使用した2結晶アナライザ25を用いた場合、分解能は結晶の分光能力に相当し約0.01%になる。
平行型光学系によるダブルスリットアナライザを使用した場合、分解能を0.07°とするためには、第1スリット12a及び第2スリット12bの2つのスリット幅は0.007mmになる。誤差10%以内で実現するためには、2つのスリットの中心位置で0.007mm以内の組み付け精度が要求されることになる。第2スリット12bの位置調整機構、すなわち図2の検出ユニット移動装置9に0.007mm以内の位置決め精度があれば2つのスリット同士の組み付け精度を要求されることはない。この場合、スリットを斜めに使用することによるスリット幅のずれが問題になるが、スリットが2.5°傾いたとき、スリット幅は0.1%細くなる程度であり、実際には問題は生じない。
4.X線ビーム処理装置、 6.X線検出器(X線検出手段)、 7.本体ベース、
8.検出ベース、 12ダブルスリットアナライザ、 12a.第1スリット、
12b.第2スリット、 13.アナライザ支持装置、 17.スリット開閉装置、
18.平行スリットアナライザ、 19.結晶アナライザ、 21.箔、
23.ソーラスリット支持装置、 24.結晶板、
25,25a,25b.チャンネルカット結晶、 27.ソーラスリット、 28.箔、
B.X線通過部、 D.箔の間隔、 F.X線源、 L1.試料から集光点までの距離、
L2.スリット幅、 L3.第1スリットと第2スリットの距離、
L4.第1スリットの幅、 L5.箔の長さ、 R1.入射X線、 R2.X線、
Re.分解能、 S.試料、 Q.基準平面、 X0.軸線、 δ0.X線光路のずれ、
δ1.スリット中心のずれ、 δ2.角度の補正
Claims (7)
- 試料とX線検出手段との間に設けられるX線ビーム処理装置であって、
前記試料側に配置されていてX線通過部を有する第1スリットと、
該第1スリットのX線通過部の幅を調整する手段と、
前記X線検出手段側に配置されていてX線通過部を有する第2スリットと、
該第2スリットのX線通過部の幅を調整する手段と、
前記第1スリットと前記第2スリットとの間に設けられていて平行スリットアナライザ及び結晶アナライザを1つずつ交換して固定状態で支持できるアナライザ支持手段と、
前記第2スリットを平行移動させるスリット位置移動手段と、を有し
前記スリット位置移動手段による前記第2スリットの平行移動方向は、前記アナライザ支持手段が結晶アナライザを支持したときにその結晶アナライザで回折するX線が進む方向に前記スリットのX線通過部を変位させる方向である
ことを特徴とするX線ビーム処理装置。 - 請求項1記載のX線ビーム処理装置において、
前記アナライザ支持手段は、支持した平行スリットアナライザ又は結晶アナライザを、前記試料へ入射するX線の中心光軸と該試料から出るX線の中心光軸とを含む面である基準平面と直交する軸線を中心として回転させることができ且つ回転させた位置に固定状態に保持できる
ことを特徴とするX線ビーム処理装置。 - 請求項1又は請求項2記載のX線ビーム処理装置において、
前記アナライザ支持手段と前記第2スリットとの間に配置されたソーラスリット支持手段を有し、
該ソーラスリット支持手段は、前記基準平面と直交する方向へのX線の発散を規制するソーラスリットを着脱可能に支持する
ことを特徴とするX線ビーム処理装置。 - X線の進行方向に関して試料の下流側に配置されたX線ビーム処理手段と、該X線ビーム処理手段の下流側に配置されたX線検出手段とを有するX線受光システムであって、
前記X線ビーム処理手段は、請求項1から請求項3のいずれか1つに記載のX線ビーム処理装置である
ことを特徴とするX線受光システム。 - 請求項3を引用する請求項4記載のX線受光システムにおいて、前記ソーラスリット支持手段、前記第2スリット、前記X線検出手段を一体に移動させる検出ユニット移動手段を有し、
前記スリット位置移動手段は前記検出ユニット移動手段である
ことを特徴とするX線受光システム。 - 試料に照射されるX線を発生するX線源と、
前記試料から出るX線を検出するX線検出手段と、
前記試料と前記X線検出手段との間に配置されたX線ビーム処理手段とを有するX線分析装置において、
前記X線ビーム処理手段は、請求項1から請求項3のいずれか1つに記載のX線ビーム処理装置である
ことを特徴とするX線分析装置。 - 請求項6記載のX線分析装置において、前記スリット位置移動手段によって移動させられる前記スリットは前記試料から出たX線の集光点に配置されることを特徴とするX線分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005191635A JP4476883B2 (ja) | 2005-06-30 | 2005-06-30 | X線ビーム処理装置、x線受光システム、及びx線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005191635A JP4476883B2 (ja) | 2005-06-30 | 2005-06-30 | X線ビーム処理装置、x線受光システム、及びx線分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007010486A JP2007010486A (ja) | 2007-01-18 |
JP4476883B2 true JP4476883B2 (ja) | 2010-06-09 |
Family
ID=37749198
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005191635A Expired - Fee Related JP4476883B2 (ja) | 2005-06-30 | 2005-06-30 | X線ビーム処理装置、x線受光システム、及びx線分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4476883B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011106842A (ja) * | 2009-11-13 | 2011-06-02 | Japan Atomic Energy Agency | 回折格子分光器 |
JP5944369B2 (ja) | 2013-11-26 | 2016-07-05 | 株式会社リガク | X線回折装置およびx線回折測定方法 |
JP6202684B2 (ja) * | 2014-06-05 | 2017-09-27 | 株式会社リガク | X線回折装置 |
JP2023118009A (ja) | 2022-02-14 | 2023-08-24 | 株式会社リガク | X線回折装置及び計測方法 |
-
2005
- 2005-06-30 JP JP2005191635A patent/JP4476883B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007010486A (ja) | 2007-01-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007010483A (ja) | X線ビーム処理装置及びx線分析装置 | |
EP1324023B1 (en) | X-ray diffraction apparatus comprising different beam paths for a divergent X-ray beam and a parallel X-ray beam | |
US20030043965A1 (en) | X-ray diffractometer | |
JP4278108B2 (ja) | 超小角x線散乱測定装置 | |
EP1912061B1 (en) | X-ray optical system | |
US7471766B2 (en) | X-ray diffraction apparatus | |
JP4593625B2 (ja) | 角度測定装置及び方法 | |
EP1617210B1 (en) | Method and apparatus for X-Ray reflectance measurement | |
JP4476883B2 (ja) | X線ビーム処理装置、x線受光システム、及びx線分析装置 | |
WO2013108876A1 (ja) | X線回折装置 | |
CN108572184B (zh) | 高分辨率x射线衍射方法和装置 | |
EP2859336B1 (en) | X-ray beam system offering 1d and 2d beams | |
JP4773899B2 (ja) | X線分光測定方法およびx線分光装置 | |
EP2455747B1 (en) | X-ray powder diffractometer in a transmission geometry and method | |
JP2001021507A (ja) | Xafs測定装置 | |
US7983389B2 (en) | X-ray optical element and diffractometer with a soller slit | |
JPH06313757A (ja) | Exafs測定装置 | |
JP3098806B2 (ja) | X線分光装置およびexafs測定装置 | |
JP3677766B2 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
US20230296536A1 (en) | Parallel plate x-ray collimator having a variable acceptance angle and an x-ray analysis apparatus | |
JP2664632B2 (ja) | 全反射蛍光x線分析装置 | |
US20230258586A1 (en) | X-ray diffraction apparatus and measurement method | |
JPH0989813A (ja) | Xafs測定方法及びその装置 | |
JPH0933700A (ja) | X線モノクロメータ及びそれを用いたx線回折装置 | |
JP3761721B2 (ja) | モノクロメータ装置、x線装置及びモノクロメータの位置調整方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070709 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100125 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100210 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100310 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4476883 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130319 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130319 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140319 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
SG99 | Written request for registration of restore |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316G99 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
SG99 | Written request for registration of restore |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316G99 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees | ||
S803 | Written request for registration of cancellation of provisional registration |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316805 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S803 | Written request for registration of cancellation of provisional registration |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316805 |
|
R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |