JP4463244B2 - リソグラフィ装置、デバイス製造方法、および、この方法により製造されて焦点深さの増したデバイス - Google Patents
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Description
1.ステップモードにおいては、個々に制御可能なエレメントのアレイおよび基板は、基本的に静止状態に保たれている。そして、放射線ビームに与えたパターン全体が1回で目標部分Cに投影される(すなわち1回の静止露光)。次に基板テーブルWTがX方向および/あるいはY方向にシフトされ、異なる目標部分Cが照射され得る。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の静止露光で描像される目標部分Cのサイズを制限する。
2.走査モードにおいては、個々に制御可能なエレメントのアレイおよび基板を同期走査する一方、放射線ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する(つまり1回の動的露光)。個々に制御可能なエレメントのアレイに対する基板の速度および方向は、投影系PSの拡大(縮小)および像反転特性によって決定される。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズが、1回の動的露光で目標部分の(非走査方向における)幅を制限し、走査動作の長さが目標部分の(走査方向における)高さを決定する。
3.パルスモードでは、個々に制御可能なエレメントのアレイが基本的に静止状態に維持され、パルス状放射線ソースを使用して、パターン全体を基板Wの目標部分Cに投影する。基板テーブルWTは、基本的に一定の速度で動作し、したがって投影ビームBが基板W全体で線を走査する。基板Wの必要な位置で連続的な目標部分Cが露光されるように、放射線システムのパルスの間に、必要に応じて個々に制御可能なエレメントのアレイ上にあるパターンを更新し、パルスのタイミングをとる。その結果、投影ビームBは基板Wを走査し、1片の基板で完全なパターンを露光することができる。完全な基板Wが線1本ずつ露光されるまで、このプロセスを繰り返す。
4.連続走査モードでは、基本的にパルスモードと同じであるが、変調した放射線のビームBに対して基板Wをほぼ一定の速度で走査し、投影ビームBが基板Wを走査して、それを露光するにつれ、個々に制御可能なエレメントのアレイ上にあるパターンを更新する。ほぼ一定の放射線ソース、または個々に制御可能なエレメントのアレイ上にあるパターンの更新と同期したパルス状放射線ソースを使用することができる。
5.図2のリソグラフィ装置を使用して実行可能なピクセルグリッド描像モードでは、基板W上に形成されるパターンは、パターン付与デバイスPDへと配向されたスポット生成器によって形成されたスポットを、その後に露光することによって実現される。基板W上には、スポットがほぼグリッド状に印刷される。一例では、スポットのサイズは、印刷されたピクセルグリッドのピッチより大きいが、露光スポットグリッドより非常に小さい。印刷されるスポットの強度を変更することによって、パターンが実現される。露光フラッシュとフラッシュの間で、スポットの強度分布を変更する。
以上、本発明の各種例について説明したが、これは例示によってのみ提示されたもので、制限的ではないことを理解されたい。本発明の精神および範囲から逸脱することなく、形態および細部の様々な変更が可能であることが、当業者には明白である。したがって、本発明の幅および範囲は、前記実例のいずれにも制限されず、特許請求の範囲およびその均等物によってのみ定められるべきである。
Claims (18)
- 放射線のビームを供給する照明系を有し、前記放射線のビームは、複数のビーム成分を有し、これは、
第一周波数の周囲に第一周波数スペクトルを有する第一ビーム成分と、
第二周波数の周囲に第二周波数スペクトルを有する第二ビーム成分とを含み、前記第二周波数が前記第一周波数とは異なり、さらに、
前記放射線のビームにパターンを付与する個々に制御可能なエレメントのアレイと、
基板を支持する基板テーブルと、
前記パターン付与されたビームを基板の目標部分に投影する投影系とを有し、前記投影系は、前記第一および第二ビーム成分を前記基板テーブルに対して異なる高さに収束するものであり、
前記投影系が、前記パターン付与されたビームを受け取るように構成されたマイクロレンズアレイを有し、
前記投影系が、前記マイクロレンズアレイに基づく放射線スポットのアレイとして前記パターン付与されたビームを投影し、
前記個々に制御可能なエレメントのアレイが、前記マイクロレンズアレイより小さい開口数を有する、リソグラフィ装置。 - 前記放射線のビームがさらに、第三、第四および第五ビーム成分を有する請求項1に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記投影系が、前記第一および第二ビーム成分の少なくとも1つを、前記目標部分の表面に対応する高さに収束するように構成される請求項1または2に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記第一ビーム成分と前記第二ビーム成分との前記周波数スペクトルが重なる請求項1から3のいずれかに記載されたリソグラフィ装置。
- 前記第一周波数が約355nmである場合に、前記第一周波数と前記第二周波数との差が約4×1015Hz未満である請求項1から4のいずれかに記載されたリソグラフィ装置。
- 前記照明系が前記複数のビーム成分を同時に供給する請求項1から5のいずれかに記載されたリソグラフィ装置。
- 前記照明系が前記複数のビーム成分を順番に供給する請求項1から5のいずれかに記載されたリソグラフィ装置。
- 前記照明系が一連の放射線のパルスを供給し、放射線の各パルスが前記複数のビーム成分のそれぞれを有する請求項1から7のいずれかに記載されたリソグラフィ装置。
- 前記照明系が複数の放射線ソースを有し、前記複数の放射線ソースの各放射線ソースが、前記ビーム成分のそれぞれを提供するように構成される請求項1から8のいずれかに記載されたリソグラフィ装置。
- 各放射線ソースが個々のレーザを有する請求項9に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記照明系が、前記複数のビーム成分を受け取って、前記複数のビーム成分のそれぞれを単一共通ビーム経路に沿って配向するビーム偏向系を更に有する請求項9または10に記載されたリソグラフィ装置。
- 前記照明系が、前記放射線のビームを複数の個々に制御可能なエレメントの前記アレイに供給する請求項1から11のいずれかに記載されたリソグラフィ装置。
- 一定のパターンを前記ビームに与えながら、焦点高さを変動するために前記基板テーブルを制御する制御系を更に有する請求項1から12のいずれかに記載されたリソグラフィ装置。
- 第一周波数の周囲に第一周波数スペクトルを有する第一ビーム成分、および第二周波数の周囲に第二周波数スペクトルを有する少なくとも第二のビーム成分を含む複数のビーム成分を有する照明系から放射線ビームを供給することを含み、前記第二周波数が前記第一周波数と異なり、さらに、
前記ビームにパターンを付与するために、個々に制御可能なエレメントのアレイを使用することと、
投影系を用いて、前記第一および第二ビーム成分が基板テーブルに対して異なる高さに収束するように、前記パターン付与されたビームを前記基板テーブルによって支持された基板の目標部分に投影することとを含み、
前記投影系が、前記パターン付与されたビームを受け取るように構成されたマイクロレンズアレイを有し、
前記投影系が、前記マイクロレンズアレイに基づく放射線スポットのアレイとして前記パターン付与されたビームを投影し、
前記個々に制御可能なエレメントのアレイが、前記マイクロレンズアレイより小さい開口数を有する、デバイス製造方法。 - 前記投影するステップが、前記複数のビーム成分を同時に投影することを含む請求項14に記載されたデバイス製造方法。
- 前記投影するステップが、前記複数のビーム成分を順番に投影することを含む請求項14に記載されたデバイス製造方法。
- 前記放射線のビームが一連の放射線のパルスを有し、放射線の各パルスが前記複数ビーム成分のうち独立成分を有する請求項14から16のいずれかに記載されたデバイス製造方法。
- 複数の個々の放射線ソースから前記複数のビーム成分を受け取ることと、
前記複数のビーム成分のそれぞれを単一共通ビーム経路に沿って個々に制御可能なエレメントの前記アレイへと偏向することとを更に含む請求項14から17のいずれかに記載されたデバイス製造方法。
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