JP4457758B2 - 洗浄加工布 - Google Patents

Description

本発明は、磁気記録媒体用基板表面を洗浄するための洗浄加工布に関するものであり、特にテクスチャ加工後の磁気記録媒体用基板表面の洗浄を効率的に行うための洗浄加工布に関するものである。

磁気記録媒体の高記録密度化が進むにつれて、磁気記録媒体に書き込まれるデータの最小単位である１ビットのサイズは益々小さくなってきている。ビットサイズが小さくなるにつれて、Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ（ＬＦ出力に対するＨＦ出力の割合）が低く、ＳＮＲ（信号に対する雑音の大きさの比）も低下するという電磁変換特性の悪化が顕著になってきた。磁気記録媒体用の基板として、アルミ系基板では、基板表面にＮｉ−Ｐメッキ等の非磁性メッキ処理を施した後に、基板表面円周方向に微細な溝を形成するテクスチャ加工を施しているが、電磁変換特性は十分に満足できるレベルにない。一方、ガラス系基板を用いた磁気記録媒体では等方性媒体が主流であったが、アルミ系基板の異方性媒体と比較して更に電磁変換特性が低い。等方性媒体で異方性媒体と同様な特性を得るためには、円周方向の磁化を高める必要があるため、磁性層の厚さが厚くなり、結果として磁性膜に起因する媒体ノイズが増加する結果となった。そこで、ガラス基板にて、効率的に異方性媒体を製造する必要があり、ガラス基板表面上に直接テクスチャ加工を施して、ガラス基板の異方性媒体を製造するという方法が近年提案されてきた。

従来、磁気記録媒体用基板の製造にあたっては、アルミ系及びガラス系基板共に、テクスチャ加工後に、テクスチャ加工時に基板表面に付着した有機物や微少なゴミ、基板表面上に残存するダイヤモンド等により構成させる研磨砥粒の小片、研磨屑及びスラリー液などの加工残渣を除去するために、カップ式やロール式のスクラブ洗浄や、ディップ層などを使用した薬液や超音波による浸漬洗浄が行われ、次いで乾燥後、下地層、磁性層および保護層の成膜工程に供される。
しかし、近年の磁気記録媒体の高記録密度化に対応するために、テクスチャ加工により形成される基板表面上のテクスチャ溝の密度は高く、粗さは小さくなり、益々微細化してきているために、その溝中に残存する研磨砥粒の小片、研磨屑及びスラリー液などの加工残渣が除去しきれず、磁気記録媒体にした場合にこれらの残存物に起因する磁気欠点やエラー欠陥などの不具合が発生し、磁気記録媒体の性能低下につながるという問題があった。これに対し、従来の洗浄方法の中で、ポリビニルアセタール樹脂よりなるスクラブを用いて洗浄を効率的に行う方法（特許文献１）が提案させているが、基板表面上に付着した有機物を除去するには十分であるが、研磨砥粒の小片、研磨屑、スラリー残渣の除去が不十分であった。
また、有機酸系洗浄剤の水溶液を、直径１０μｍ以下の極細繊維を紡織した織布または該織布を起毛させた起毛布に浸透させ、基板表面に接触させて洗浄する方法（特許文献２）が提案されているが、この方法では、スクラブ洗浄や浸漬洗浄に比べ、洗浄液による異物の表面からの剥離と、極細繊維による異物の掻き出しにより、除去効果は向上するものの、織布の織組織由来の表面の凹凸が存在し、平滑性に劣るために、極細繊維の掻き出しが不十分である箇所が散発し、結果として、磁気欠点やエラー欠陥を十分に抑制できるものではなかった。

そこで、テクスチャ加工により形成された高精度に微細化されたテクスチャ溝に残存する異物を、効率的に掻き出すことが可能な洗浄加工布が求められている。
特開平１０−４９８６８号公報 特開２００３−１７８４３２号公報

本発明は、上記課題を解決し、テクスチャ加工により形成された高精度に微細化された磁気記録媒体用基板のテクスチャ溝に残存する研磨砥粒の小片、研磨屑及びスラリー液などの加工残渣を、効率的に掻き出し、除去することが可能な洗浄加工布を提供するものである。

本発明は、上記課題を解決するため、以下の構成を有する。

すなわち、本発明の洗浄加工布は、
平均繊維径５μｍ以下の極細繊維が絡合してなる不織布の少なくとも一面に、該極細繊維の立毛を有し、テクスチャ加工を施した磁気記録媒体用基板表面を洗浄するための洗浄加工布であって、該立毛を有する面における表面繊維本数の線密度が３０本／１００μｍ幅以上であることを特徴とする洗浄加工布である。
また、本発明の磁気記録媒体用基板表面の洗浄方法は、前記洗浄加工布に、水及び／又は有機酸系洗浄剤の水溶液を浸透させ、磁気記録媒体用基板表面に該洗浄加工布を接触させて洗浄することを特徴とする磁気記録媒体用基板表面の洗浄方法である。

本発明によれば、均一で微細な基材表面を有し、表面の平滑性に優れているため、テクスチャ加工により形成された高精度に微細化されたテクスチャ溝に対するフィット性に優れ、テクスチャ溝に残存する異物の掻き出し、除去効率が極めて高く、磁気記録媒体用基板の不良率を抑えることができるものである。

本発明の洗浄加工布を構成する不織布に含まれる極細繊維の平均繊維径は、５μｍ以下であることが重要である。平均繊維径が５μｍを越えると、テクスチャ加工後に形成される基板表面の微細な凹凸に対するフィット性に劣り、異物の掻き出しが不十分となり、洗浄効率が低下する。また、基板表面の微細な凹凸に対するフィット性と基板表面への繊維の押し付け力、掻き出し力を両立させる観点から、平均繊維径は０．１〜５μｍの範囲でであることが好ましく、０．５〜２μｍの範囲であることがより好ましい。ここでいう平均繊維径は、不織布の厚み方向に切断した断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察し、任意の１００カ所の極細繊維の繊維径を測定して平均値を算出することにより求められるものである。

極細繊維を得る手段は、特に限定されないが、極細繊維発生型繊維を用いることが好ましい。極細繊維発生型繊維としては、溶剤溶解性の異なる２成分の熱可塑性樹脂を海成分・島成分とし、海成分を溶剤などを用いて溶解除去することによって島成分を極細繊維とする海島型複合繊維や、２成分の熱可塑性樹脂を繊維断面放射状あるいは層状に交互に配置し、各成分を剥離分割することによって、極細繊維に割繊する剥離型複合繊維、多層型複合繊維などを採用することができる。中でも、海島型複合繊維は、海成分を除去することによって、島成分間すなわち繊維束の内部の極細繊維間に、適度な空隙を付与することができるために、極細繊維を含む不織布をバッフィング処理して立毛面を形成させた際の立毛の開繊性に優れ、基板表面に極細単繊維が均一に接触することが可能となって除去効率を向上できるので好ましい。

海島型複合繊維を得る方法としては、特に限定されず、例えば（１）２成分以上のポリマーをチップ状態でブレンドして紡糸する方法、（２）予め２成分以上のポリマーを混練してチップ化した後紡糸する方法、（３）溶融状態の２成分以上のポリマーを紡糸機のパック内で静止混練器等で混合し紡糸する方法、（４）特公昭４４−１８３６９号公報等の海島型複合用口金を用いて、海島の２成分を相互配列して紡糸する高分子相互配列体方式、等が挙げられる。本発明においては、ポリマーの選択が容易であり、また極細繊維の分散性に優れ、且つ均一な繊維径の極細繊維が安定的に得られる点で上記（４）の高分子相互配列体方式による海島型複合繊維が好ましい。

特に繊維径の均一性に関しては、極細繊維の繊維径ＣＶ値は１０％以下であることが好ましい。ここでいう繊維径ＣＶ値とは、任意の１００カ所の極細繊維の繊維径を測定して平均値及び標準偏差を算出し、標準偏差を平均値で割った値を百分率（％）表示したものであり、値が小さいほど均一であることを示すものである。繊維径ＣＶ値を１０％以下とすることで、立毛面上の極細繊維の基板表面に対する押し付け力、掻き出し力が、基板表面全体にわたち均一となり、洗浄効率を高めることができるのである。

海島型複合繊維および海成分を除去して得られる島繊維の断面形状は特に限定されず、例えば、丸、楕円、扁平、三角などの多角形、扇、十字、Ｙ、Ｈ、Ｘ、Ｗ、Ｃ、π型などが挙げられる。また、用いるポリマー種の数も特に限定されるものではないが、紡糸安定性を考慮すると２ないし３成分であることが好ましく、特に海１成分、島１成分の２成分で構成されることが好ましい。またこのときの成分比は、島繊維の海島型複合繊維に対する重量比で０．２〜０．９であることが好ましく、０．３〜０．８であることがより好ましい。０．２未満であると、海成分の除去率が多く、生産性が著しく低下し、コスト的に好ましくない。また、０．８を越えると、島繊維の開繊性に劣り、均一な立毛面を得ることができず、洗浄効率が低下するため好ましくない。

海島型複合繊維を構成する樹脂としては、極細繊維を発生可能な２種類以上の樹脂の組合せが挙げられる。例えば、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２、共重合ナイロンなどのポリアミド類、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、共重合ポリエステルなどのポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリスチレン、共重合ポリスチレンなどのポリオレフィン類、ポリ乳酸、乳酸共重合体、ポリグリコール酸などの脂肪酸ポリエステル系重合体類、脂肪酸ポリエステルアミド系重合体類などが用いることのできる合成樹脂の例として挙げられる。
海島型複合繊維の極細繊維成分（島成分）は、親水性、耐摩耗性に優れる観点から、ポリアミド類、ポリエステル類が好適に用いられる。とりわけ、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２、共重合ナイロンのポリアミド類やポリトリメチレンテレフタレート、共重合ポリトリメチレンテレフタレートのポリエステル類が、基板洗浄に用いられる水及び／又は有機酸系洗浄剤の水溶液との親和性に優れ、柔軟性に富み、基板表面の微細な凹凸に対するフィット性に優れるため、基板表面に残存する研磨砥粒の小片など加工残渣を極細繊維に把持させながら、掻き出し除去する効果が高く、好適に用いられる。

一方、海島型複合繊維の海成分としては、島成分を構成するポリマーよりも溶解性、分解性の高い化学的性質を有するという点から、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、共重合ポリスチレン、ナトリウムスルホイソフタル酸やポリエチレングリコールなどを共重合成分とした共重合ポリエステル、ポリ乳酸などを用いることが好ましい。海成分を溶解する溶剤としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、共重合ポリスチレンの場合は、トルエンやトリクロロエチレンなどの有機溶剤、共重合ポリエステル、ポリ乳酸の場合は、水酸化ナトリウムなどのアルカリ水溶液を用いることができ、溶剤中に海島型複合繊維を浸漬し、窄液を行うことによって、海成分を除去することができる。

本発明の洗浄加工布を製造する方法の一例は、平均繊維径５μｍ以下の極細繊維を発生し得る複合繊維を紡糸し、延伸、捲縮、カットを経て原綿を得る。この極細繊維発生型繊維からなる原綿を用いて、ニードルパンチング等の絡合処理を施して、不織布を構成する。次いで、複合繊維の一成分（例えば、海島構造からなる複合繊維の海成分）を溶解除去あるいは物理的、化学的作用により剥離、分割して極細繊維化する。次いで、得られたシートの少なくとも片面にバッフィング処理を施し、立毛面を形成する。この過程において、極細繊維化する前もしくは後に、シート中に高分子弾性体を付与すること、ウオータージェットパンチング等の高速流体流処理を施すこと、揉み処理を施すこと、片面にフィルムを積層することを適宜組み合わせ、採用してもよい。

海島型複合繊維の不織布を得るには、海島型複合繊維を短繊維化し、カード・クロスラッパーを用いてシート幅方向に配列させた積層ウエブを形成せしめた後、ニードルパンチ処理を行うことが好ましい。ウエブを形成するという点においては、ランダムウエブなどを用いることも可能である。またメルトブロー、スパンボンドなど紡糸から直接形成する長繊維不織布でもよいが、短繊維不織布は極細繊維相互の絡合及び表面繊維の緻密性に優れ、かつ表面繊維本数密度の粗密ムラが小さく、基板表面の洗浄効率が良いので特に好ましい。
ニードルパンチ処理のパンチング本数としては、繊維の高絡合化による緻密な立毛面形成の観点から、１０００〜４０００本／ｃｍ^２であることが好ましい。１０００本／ｃｍ^２未満では表面繊維の緻密性に劣ることにより、洗浄効率の低下につながり、４０００本／ｃｍ^２を越えると、加工性の悪化を招くとともに繊維損傷が大きく、強度低下につながるため好ましくない。ニードルパンチング後の複合繊維不織布シートの繊維密度は、表面繊維本数の緻密化の観点から、０．２ｇ／ｃｍ^３以上であることが好ましい。

このようにして得られた複合繊維不織布は、表面繊維本数の緻密化の観点から、乾熱または湿熱、あるいはその両者によって収縮させ、さらに高密度化することが好ましい。

また、極細繊維化処理をした後に、極細繊維と極細繊維、極細繊維と極細繊維束、又は極細繊維束と極細繊維束との相互絡合をより高め、緻密化させること及び極細繊維束の開繊性を高め、平滑性を向上させるという点から、ウオータージェットパンチング処理などの高速流体流処理や、液流染色機、ウィンス染色機、ジッガー染色機、タンブラー、リラクサー等を用いた揉み処理を適宜組み合わせて実施しても良い。高速流体流処理と揉み処理を組み合わせて行う場合には、揉み加工時の寸法変動を抑える点から、高速流体流処理を行った後に揉み処理を行うことが好ましい。高速流体流処理として、作業環境の点で水流を使用するウオータージェットパンチング処理が好ましく、ウオータージェットパンチング処理を行う場合には、水は柱状流の状態で行うことが好ましい。柱状流を得るには、通常、直径０．０６〜１．０ｍｍのノズルから圧力１〜６０ＭＰａで噴出させる方法が好適に用いられる。

本発明の洗浄加工布において、微細の凹凸を有する基板表面への立毛面上の極細繊維の押し付け力、フィット性を制御するクッションや繊維形態保持の役割を付与し、基板表面に残存する微細な異物の洗浄効率を高める目的で、極細繊維の不織布内部に高分子弾性体が含有されていることが好ましい。かかる高分子弾性体は、ポリウレタン、アクリル系樹脂、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリオレフィン系などのエラストマー樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂などを使用することができる。中でも、ポリウレタンが本発明プロセスにおける加工性やクッション性の上から好ましい。例えば、ポリウレタン系合成樹脂である場合、ポリウレタンのポリマージオール成分の分子量としては、好ましくは５００〜５０００、より好ましくは１０００〜３０００であるのがよく、その原料であるジオール成分としては、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカーボネートジオール、ポリラクトンジオールもしくはこれらの共重合物が好ましく使用される。また、ジイソシアネート成分としては、芳香族ジイソシアネート、脂環式イソシアネート、脂肪族系イソシアネートなどを使用することができる。

かかるポリウレタンの付与方法としては、ポリウレタンを塗布あるいは含浸後凝固させる方法などを採用することができる。中でも、加工性の点から、極細繊維不織布のシート中にポリウレタン溶液を含浸した後に、湿式凝固させる方法が好ましく使用される。

ポリウレタンの重量平均分子量は１００，０００〜３００，０００が好ましく、より好ましくは１５０，０００〜２５０，０００である。重量平均分子量を１００，０００以上とすることにより、得られるシートの強度を保持し、また立毛面上の極細繊維の脱落を防ぐことができる。また、３００，０００以下とすることで、ポリウレタン溶液の粘度の増大を抑えて不織布への含浸を行い易くすることができる。

また、バッフィング処理を施した際に、立毛面上の極細繊維の緻密性、均一性を満足する観点から、ポリウレタンのゲル化点は２．５〜６．０ｍｌであることが好ましい。より好ましくは、３〜５ｍｌの範囲である。ポリウレタンのゲル化点とは、ポリウレタン１重量％のＮ，Ｎ’−ジメチルホルムアミド（以下、ＤＭＦと略記）溶液１００ｇを攪拌しながら、この溶液中に蒸留水を滴下し、２５±１℃の温度条件でポリウレタンの凝固が開始して微白濁したときの水滴下量の値である。このため、測定に用いるＤＭＦは水分０．０３％以下のものを使用する必要がある。前述の測定方法はポリウレタンＤＭＦ溶液が透明であることを前提にして記載しているが、ポリウレタンＤＭＦ溶液が予め微白濁している場合には、ポリウレタンの凝固が開始し始めて白濁程度が変化した時の水滴下量をゲル化点とみなすことができる。ゲル化点が２．５ｍｌ未満の場合には、ポリウレタンを湿式凝固させる際に、凝固速度が速すぎるため、不織布内部空間に存在するポリウレタンの発泡が大きな粗雑なものとなり、また一部発泡不良を生じる結果、バッフィング処理によりシート表面を研削した場合に、立毛面上の極細繊維の立毛長さに斑が生じたものとなり、基板表面への極細繊維のあたりが不均一となって、異物の掻き出し除去が不十分となる箇所が散発するため好ましくない。一方、ゲル化点が６．０ｍｌを越えると、ポリウレタンを湿式凝固させる際に、凝固速度が遅すぎるため、不織布内部空間に存在するポリウレタンにはほとんど発泡が認められず、非常に膜厚の厚い硬いポリウレタンとして存在し、バッフィング処理によって不織布シートの表面を研削した場合に、ポリウレタンの研削を行いにくく、立毛面上の極細繊維の立毛長さが非常に短く、且つ繊維束の開繊性に劣り、表面繊維本数密度の粗密ムラが大きくなるため、基板表面に残存する異物の掻き出し効率が著しく低下するので好ましくない。

本発明の洗浄加工布において、表面繊維分布の緻密性及び均一性、すなわち立毛繊維を構成する繊維束の開繊性に優れた状態を両立させるためには、ポリウレタンは、極細繊維の繊維束が絡合してなる不織布について、極細繊維の繊維束内部には実質的に存在しないことが好ましい。極細繊維の繊維束内部には実質的に存在しない形態を得る方法としては、ポリウレタンをジメチルホルムアミドなどの溶剤により溶液とし、（１）極細繊維発生型の海島型複合繊維が絡合した不織布に、前記ポリウレタン溶液を含浸し、水もしくは有機溶媒水溶液中で凝固させた後、海島型複合繊維の海成分を、ポリウレタンは溶解しない溶剤で溶解除去する方法、（２）極細繊維発生型の海島型複合繊維が絡合した不織布に、鹸化度が好ましくは８０％以上のポリビニルアルコールを付与し、繊維の周囲の大部分を保護した後、海島型複合繊維の溶液を含浸し、水もしくは有機溶剤水溶液中で凝固させた後、ポリビニルアルコールを除去する方法などを好ましく用いることができる。

本発明の洗浄加工布において、クッション性およびフィット性は、洗浄精度の上で重要であり、極細繊維と高分子弾性体の割合や空隙率（見掛け密度でわかる）によって制御し、調節される。高分子弾性体の含有率は、シート総重量に対し、０．５〜５０％であることが好ましく、含有量によって洗浄加工布の表面状態、空隙率、クッション性、硬度、強度などを適宜調節することができる。０．５％未満である場合には、繊維脱落が多く、洗浄効率の低下につながるため好ましくない。５０％を越えると、加工性及び生産性に劣るともに、シート表面上に高分子弾性体が露出しやすく、基板表面に残存する異物の掻き出し除去が不十分な箇所が散発するため好ましくない。

本発明の洗浄加工布は、極細繊維を含む不織布の少なくとも一面に、極細繊維の立毛を有することが重要である。この立毛は一般的にはバッフィング処理により得られるが、ここでいうバッフィング処理とは、サンドペーパーやロールサンダーなどを用いて極細繊維不織布のシート表面を研削する方法などにより施すことが好ましい。とりわけ、シート表面をサンドペーパーを使用して、起毛処理することにより均一で緻密な立毛を形成することができる。更に、基板表面へのフィット性を高め、洗浄効率を向上させる目的で、極細繊維不織布シート表面上の繊維分布の均一性及び緻密性を向上させ、立毛繊維の方向性を極めて少なくするためには、研削負荷をより小さくすることが好ましい。研削負荷が高い状態では、巻き毛状となる立毛繊維が多く、また立毛繊維が束状に膠着した状態となりやすいため、基板表面への極細繊維の押し付け、掻き出しに斑が生じ、除去しきれず異物の残存する箇所が散発するため好ましくない。研削負荷を小さくするためには、バフ段数、サンドペーパー番手などを適宜調整することが好ましい。中でも、バフ段数は３段以上の多段バッフィングとし、各段に使用するサンドペーパーの番手をＪＩＳ規定の１５０番〜６００番の範囲とすることがより好ましい。

また、本発明の洗浄加工布において、立毛を有する面における表面繊維本数の線密度が３０本／１００μｍ以上であることが好ましい。ここでいう表面繊維本数の線密度は以下により定義されるものである。洗浄加工布の立毛面を観察面として、走査型電子顕微鏡（以下、ＳＥＭと略記）により観察し、不織布シートの連続長手方向において、任意に１ｍｍ間隔で１００μｍ幅の３０カ所を抽出する。各抽出箇所における最表層に存在する極細繊維の繊維本数を測定し、平均値を算出する。得られた値を表面繊維本数の線密度とする。表面繊維本数の線密度が３０本／１００μｍ幅未満である場合には、表面繊維の緻密性に劣り、基板表面に残存する異物の除去効率が低下するため好ましくない。

さらにまた、本発明の洗浄加工布の見掛け密度は、表面繊維の緻密性、シート表面の平滑性、クッション性、基板表面へのフィット性を考慮すると、０．２〜０．８ｇ／ｃｍ^３の範囲にあることが好ましく、０．３〜０．７ｇ／ｃｍ^３であることがより好ましい。

本発明の洗浄加工布で基板表面を洗浄する際に、寸法変化が生じると、基板表面を均一に洗浄することができないため、洗浄加工布に形態安定性を付与するために、片面に補強層を接着するのが好ましい。なお、補強層を設ける場合は、補強層を接着した不織布シートの反対面が立毛面となるようにする。

補強層を接着する方法は、熱圧着法、フレームラミ法、補強層と不織布シート層との間に接着層を設ける方法のいずれを採用してもよい。また接着層としては、ポリウレタン、ＳＢＲ（スチレンブタジエンゴム）、ＮＢＲ（アクリロニトリルブタジエンゴム）、ポリアミノ酸、アクリル系接着剤などゴム弾性を有するものであれば使用可能であるが、コストや実用性を考えるとＮＢＲ、ＳＢＲといった接着剤が好ましい。付与方法としては、エマルジョン、ラテックス状で不織布シートに塗布する。
補強層としては、織編物、熱接着繊維を用いた不織布などを用いてよいが、高精度の洗浄加工を行うには、厚み及び物理特性において均一なフィルム状物を使用することが好ましい。補強層に織編物や熱接着繊維を用いた場合は、補強層の表面の凹凸が大きすぎるために、洗浄加工布全体に補強層の凹凸が反映されることがあり、基板表面への立毛繊維のフィット性を損ない、洗浄効率の低下を招くこともある。一方、フィルム状物は表面の平滑性に優れることから、洗浄加工布表面の平滑性を損なうことなく、高精度の洗浄加工を行うことができる。ここでいうフィルムとなる素材としては、ポリオレフィン系、ポリエステル系、ポリフェニルサルファイド系などのフィルム形状を有するものであれば使用可能であるが、汎用性を考えるとポリエステルフィルムを使用するのが好ましい。フィルムからなる補強層を設ける場合には、洗浄加工時のシートの形態安定性、クッション性、基板表面へのフィット性を全て満足させる点から、不織布からなるシート層との厚みバランスをとることが必要であり、不織布からなるシート層は仕上がり厚みとして０．４ｍｍ以上が好ましく、フィルムの厚みは２０〜１００μｍとすることが好ましい。不織布からなるシート層の厚みが０．４ｍｍ未満であると、洗浄加工時の寸法変化が大きく、均一な洗浄が行えないため補強層が必要であるが、補強層の効果が強くクッション性を失ってしまう。フィルム層の厚みが２０μｍ未満であると、洗浄加工時の寸法変化を抑えることが困難であり、１００μｍを越えると、洗浄加工布全体の剛性が高くなりすぎるために、基板へのフィット性が損なわれ、均一な洗浄を達成できないため好ましくない。

本発明の洗浄加工布を用いて洗浄加工を行う方法は、加工効率と安定性の観点から、３０〜５０ｍｍ幅のテープ状に洗浄加工布をカットしたテープとして用いる。次いで、基板を連続回転させた状態で、テープ状とした洗浄加工布をテクスチャ加工後の基板に押し付けながら、基板の径方向に洗浄加工布または基板を往復運動させ、連続的に洗浄加工布を走行させる。その際に、水及び／又は有機酸系洗浄剤の水溶液を洗浄加工布表面に供給し、表面の極細繊維にて基板表面を洗浄するのが好適な方法である。

ここで使用される有機酸系洗浄剤は、スルホン酸、クエン酸、リンゴ酸、又は酢酸の少なくとも１つを含有するものであることが好ましい。

以下、実施例を用いて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。また実施例、比較例で用いた評価法とその測定条件について以下に説明する。
（１）平均繊維径及び繊維径ＣＶ値
洗浄加工布を厚み方向にカットした断面を観察面として走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察し、任意の１００カ所の極細繊維の繊維径を測定し、これを母集団とした標準偏差及び平均値を算出する。この平均値を平均繊維径とし、標準偏差を平均値で割った値を百分率（％）表示したものを繊維径ＣＶ値とした。
（２）表面繊維本数の線密度及び線密度ＣＶ値
洗浄加工布の立毛面を観察面として、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察し、シート連続長手方向において、任意に１ｍｍ間隔で１００μｍ幅の３０カ所を抽出する。各抽出箇所における最表層に存在する極細繊維の繊維本数を測定し、平均値を算出する。得られた値を表面繊維本数の線密度とした。
（３）不良ディスク発生率
洗浄加工試験において、ディスク基板１００枚を１セットとし、計３セット実施する。各セット毎に、磁気欠点やエラー欠陥という基板表面上に残存する異物起因の不良ディスク発生率を算出し、３セットにおける発生率の平均値を不良ディスク発生率とした。不良ディスク発生率が５％未満を加工性良好とし、５％を越える場合は加工性不良とした。

実施例１
島成分としてナイロン６と、海成分として共重合ポリスチレンを用いて、島本数１００島／ホールの高分子相互配列体方式の海島型複合用口金を通して、島／海重量比率４０／６０で溶融紡糸し、延伸倍率３倍にて延伸した後、捲縮、カットを経て複合繊度４ｄｔｅｘの海島型複合繊維の原綿を形成した。次いで、この原綿を用いて、カード、クロスラッパーを経て積層ウエブとし、２０００本／ｃｍ^２のパンチ本数でニードルパンチし、目付６００ｇ／ｍ^２、密度０．２ｇ／ｃｍ^３の不織布を作製した。
この不織布を８５℃の熱水中で収縮させた後、ポリビニルアルコール１０％水溶液に含浸し、乾燥した。その後、トリクロロエチレン中で海成分である共重合ポリスチレンを溶解除去し、乾燥を行って、極細繊維不織布を得た。
次いで、ポリウレタン（ポリマージオールがポリエーテル系とポリエステル系との比率が７５対２５の割合からなり、ゲル化点が３．５ｍｌのもの）をシート総重量に対し、２５重量％含浸させ、水中で該ポリウレタンを凝固した後、ポリビニルアルコールを熱水にて溶解除去した。

その後、シート表面をＪＩＳ規定２４０番手のサンドペーパーにて３段バッフィングし、厚さ０．４５ｍｍ、目付１５０ｇ／ｍ^２、見掛け密度０．３３ｇ／ｃｍ^３の洗浄加工布を得た。この洗浄加工布中の極細繊維の平均繊維径は１．４μｍ、表面繊維本数の線密度は４０本／１００μｍ幅であった。

この洗浄加工布を４０ｍｍ幅のテープとし、以下の条件で洗浄加工を実施した。
ポリッシング加工にて鏡面化されたガラス基板表面に対し、平均粒径０．１μｍのダイヤモンド砥粒を含むスラリーと平均繊維径２μｍのポリエチレンテレフタレート繊維からなる立毛シートとを用いて、１０秒間テクスチャ加工を施した。テクスチャ加工後の基板表面は、平均表面粗さ２．５×１０^‐10ｍ（オングストローム）、ラインデンシティ１２本／μｍ幅であった。得られたテクスチャ加工後の基板表面に対し、洗浄加工布からなるテープに、２０Ｎの加工張力をかけた状態で、５ｃｍ／分の速度でテープを走行させ、洗浄加工布表面に有機酸洗浄剤を含んだ水溶液を滴下しながら２０秒間洗浄を行った。この作業を、ディスク１００枚１セットとし、計３セット行った。得られたディスクについて不良ディスク発生率を評価した結果、２％であり加工性良好であった。

実施例２
実施例１にて得られた洗浄加工布に、ＮＢＲを主体とする接着剤を裏面に塗布し、厚み５０μｍのポリエステルフィルムを圧着し、洗浄加工布を作製した。この洗浄加工布を用いて、実施例１と同様の方法にて洗浄加工を実施した。得られたディスクについて不良ディスク発生率を評価した結果、１．３％であり加工性は非常に良好であった。

比較例１
経糸、緯糸にそれぞれ海島型繊維（海成分：テレフタル酸と５ナトリウムスルホイソフタル酸の共重合ポリエチレンテレフタレート、島成分：ポリエチレンテレフタレート、島本数：７０島、島／海重量比率：８０／２０）５６ｄｔｅｘ、９フィラメントの生糸を用いて、平織に製織した。次いで、アルカリ水溶液中にて、海島型繊維の海成分を溶解除去した。その後、ピンテンターで１８０℃の条件でヒートセットし、経糸密度１７０本／インチ、緯糸密度１３０本／インチの平織物に仕上げた。

経糸、緯糸それぞれを構成する極細繊維の平均繊維径は３μｍ、表面繊維本数の線密度は１５本／１００μｍ幅であった。

この平織物を洗浄加工布とし、実施例１と同様の方法にて洗浄加工を実施した。得られたディスクについて不良ディスク発生率を評価した結果、１２％であり、残留異物点数が多数検出されるディスクが多く、エラー欠陥が発生し、加工性は不良であった。

比較例２
比較例１の製法にて得られた平織物の片面にサンドペーパーによるバッフィング処理を施し、起毛織物を得た。経糸、緯糸それぞれを構成する極細繊維の平均繊維径は３μｍ、表面繊維本数の線密度は１７本／１００μｍ幅であった。

この起毛織物を洗浄加工布とし、実施例１と同様の方法にて洗浄加工を実施した。得られたディスクについて不良ディスク発生率を評価した結果、１０％であり、残留異物点数が多数検出されるディスクが多く、エラー欠陥が発生し、加工性は不良であった。

Claims (7)

1. 平均繊維径５μｍ以下の極細繊維が絡合してなる不織布の少なくとも一面に、該極細繊維の立毛を有し、テクスチャ加工を施した磁気記録媒体用基板表面を洗浄するための洗浄加工布であって、該立毛を有する面における表面繊維本数の線密度が３０本／１００μｍ幅以上であることを特徴とする洗浄加工布。
2. 該極細繊維の繊維径ＣＶ値が１０％以下であることを特徴とする請求項１に記載の洗浄加工布。
3. 該不織布の内部に高分子弾性体が含有されていることを特徴とする請求項１または２に記載の洗浄加工布。
4. 該高分子弾性体の含有率が、該不織布の総重量に対して０．５〜５０％であることを特徴とする請求項３記載の洗浄加工布。
5. 該不織布の一面にフィルムが積層されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の洗浄加工布。
6. 該フィルムの厚みが２０〜１００μｍであることを特徴とする請求項５記載の洗浄加工布。
7. 請求項１〜６のいずれかに記載の洗浄加工布に、水及び／又は有機酸系洗浄剤の水溶液を浸透させ、磁気記録媒体用基板表面に該洗浄加工布を接触させて洗浄することを特徴とする磁気記録媒体用基板表面の洗浄方法。