JP4441356B2 - 成膜装置 - Google Patents
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Description
前記中央部及び被処理体の外周を包囲し、且つ前記外周部の表面を覆うように環状に形成された環状部材とを有し、前記載置部材の前記外周部に対向する前記環状部材の裏面、前記環状部材の裏面に対向する前記載置部材の前記外周部の表面、及び前記載置部材の前記外周部の表面とは反対の裏面のうち少なくとも一つの面に、熱線を反射するための熱反射加工が施されていることを特徴とする成膜装置が提供される。上述の成膜装置において、前記熱反射加工により金属膜が形成されたこととしてもよい。
12a,70a 載置台
14 シャワーヘッド
16 排気トラップ
18 真空ポンプ
20 ガス供給装置
22 Pb溶液原料タンク
24 Zr溶液原料タンク
26 Ti溶液原料タンク
30,32,34 液体マスフローコントローラ
40,46,52 気化器
44,50,56 ガス供給配管
57 酸化ガス供給配管
58 バイパス配管
60 載置台本体
62,62A,62B,62C カバープレート又はサセプタ
62a 凹部
62b 底面
64,64A ガイドリング
64a 延在部
66 発熱体
68 酸化物
70b 支持部
72 透明石英窓
74 ランプ
76 ランプ支持台
78 ソケット
80 ピン
100 サセプタ
100a 中央部
100b 外周部
102 カバーリング
102a 切り欠き
102A 下カバーリング
102B 上カバーリング
104 支持部
106 凹部
108,110,112 空隙
114,116,118 金属膜
120 部材
122 位置決めピン
124 位置決め部材
Claims (6)
- 被処理体に処理ガスを供給しながら被処理体上に膜を形成する成膜装置であって、
前記被処理体が載置される載置領域を有する略平面状の載置部材を有し、
前記載置部材は前記被処理体が載置される中央部と、前記被処理体の外周に沿って延在する溝部と、前記溝部の外周に延在する外周部とを有するものであって、
前記載置部材の前記外周部を覆う環状部材を更に有し、
前記溝部の内周は、前記被処理体の外周と同じ、又は外周より小さく、前記溝部の外周は、前記環状部材の内周と同じ、又は内周より大きく、
前記被処理体の表面と前記環状部材の表面とは、略同一の平面となる
ことを特徴とする成膜装置。 - 請求項1記載の成膜装置であって、
前記載置部材を加熱することにより、載置された前記被処理体を所定の温度に維持するための加熱手段を更に有することを特徴とする成膜装置。 - 請求項1または2記載の成膜装置であって、
前記被処理体上に形成される膜は金属酸化物の薄膜であり、処理ガスと酸化ガスとを前記載置部材が配置された処理チャンバ内に供給するガス供給手段を更に有することを特徴とする成膜装置。 - 請求項3記載の成膜装置であって、
前記金属酸化物の薄膜は、Pb原料ガス、Zr原料ガス、Ti原料ガスの混合ガスと酸化ガスとを反応させて生成されるPZT膜であることを特徴とする成膜装置。 - 請求項3記載の成膜装置であって、
前記金属酸化物の薄膜は、BST膜、SBT膜又はBLT膜であることを特徴とする成膜装置。 - 請求項1乃至5のうちいずれか一項記載の成膜装置であって、
前記載置部材は、窒化アルミニウム(AlN)又はアルミナ(Al2O3)又は炭化ケイ素(SiC)又は石英(SiO2)又は窒化シリコン(Si3N4)又はアモルファスカーボンを主成分とする材料により形成されたことを特徴とする成膜装置。
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