JP4440571B2 - 量子カスケードレーザ - Google Patents
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Description
C.Sirtori et. al., "Low-loss Al-free waveguides for unipolar semiconductor lasers", Appl. Phys. Lett. vol.75 (1999) pp.3911-3913.
(第1の実施形態)
図1及び図2を参照して、本発明による量子カスケードレーザの第1の実施形態の構成について説明する。図1は、本実施形態の量子カスケードレーザ1を示す側面断面図である。図1に示したレーザ1は、基板の半導体材料としてGaAsを用いた量子カスケードレーザである。
(第2の実施形態)
図11は、本発明による量子カスケードレーザの第2の実施形態の構成を示す側面断面図である。図11に示したレーザ2は、図1に示したレーザ1と同様に、GaAs基板を用いた量子カスケードレーザである。
(第3の実施形態)
図14は、本発明による量子カスケードレーザの第3の実施形態の構成を示す側面断面図である。図14に示したレーザ3は、図1に示したレーザ1と同様に、GaAs基板を用いた量子カスケードレーザである。
Claims (3)
- GaAsからなる半導体基板と、
前記半導体基板上に設けられており、量子井戸構造におけるサブバンド間遷移によって光を生成する複数の量子井戸発光層、及び、それら複数の量子井戸発光層間夫々に設けられ前記量子井戸発光層と共にカスケード構造を形成している複数の注入層を有する活性層と、
前記活性層上に設けられGaAsからなるGaAs層と、
を備え、
前記活性層の前記量子井戸発光層及び前記注入層が、V族元素としてAs、P及びSbのうちの少なくとも1つと窒素とを含むIII-V族化合物半導体を含んで構成されており、
前記半導体基板、前記活性層及び前記GaAs層は、前記半導体基板及び前記GaAs層を導波路クラッドとする導波路構造を構成している、
ことを特徴とする量子カスケードレーザ。 - 前記III-V族化合物半導体における前記窒素の組成比が0.1%以上40%以下であることを特徴とする請求項1に記載の量子カスケードレーザ。
- 前記半導体基板と前記活性層との間、及び、前記活性層と前記GaAs層との間のうちの少なくとも一方に前記活性層に隣接して設けられ、V族元素としてAs、P及びSbのうちの少なくとも1つと窒素とを含むIII-V族化合物半導体から構成される半導体層を備えることを特徴とする請求項1に記載の量子カスケードレーザ。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003274306A JP4440571B2 (ja) | 2003-07-14 | 2003-07-14 | 量子カスケードレーザ |
US10/776,615 US7359418B2 (en) | 2003-02-13 | 2004-02-12 | Quantum cascade laser |
US11/979,294 US7756178B2 (en) | 2003-02-13 | 2007-11-01 | Quantum cascade laser |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003274306A JP4440571B2 (ja) | 2003-07-14 | 2003-07-14 | 量子カスケードレーザ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2005039045A JP2005039045A (ja) | 2005-02-10 |
JP4440571B2 true JP4440571B2 (ja) | 2010-03-24 |
Family
ID=34211303
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003274306A Expired - Fee Related JP4440571B2 (ja) | 2003-02-13 | 2003-07-14 | 量子カスケードレーザ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4440571B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100818632B1 (ko) | 2005-07-26 | 2008-04-02 | 한국전자통신연구원 | 부밴드 천이 반도체 레이저 |
JP2007250896A (ja) * | 2006-03-16 | 2007-09-27 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体光素子 |
JP2009231773A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Sumitomo Electric Ind Ltd | フォトニック結晶面発光レーザ素子およびその製造方法 |
JP5350940B2 (ja) | 2009-08-19 | 2013-11-27 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザモジュール |
JP5355599B2 (ja) | 2011-01-19 | 2013-11-27 | 株式会社東芝 | 半導体発光装置およびその製造方法 |
JP5764173B2 (ja) * | 2013-08-26 | 2015-08-12 | 株式会社東芝 | 半導体発光装置 |
JP6190407B2 (ja) * | 2015-03-09 | 2017-08-30 | 株式会社東芝 | 半導体発光装置およびその製造方法 |
JP2017157865A (ja) * | 2017-06-07 | 2017-09-07 | 株式会社東芝 | 半導体発光装置およびその製造方法 |
-
2003
- 2003-07-14 JP JP2003274306A patent/JP4440571B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005039045A (ja) | 2005-02-10 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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