JP4430440B2 - 固体電解コンデンサ用陽極体の製造方法 - Google Patents

固体電解コンデンサ用陽極体の製造方法 Download PDF

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本発明は、固体電解コンデンサ用陽極体の製造方法に関するものである。
従来の固体電解コンデンサに用いられる陽極体は、図2のように弁作用金属粉末3とバインダーとを混合することにより、弁作用金属粉末3の造粒を行い、これを加圧成形し、この成形体に陽極リード2を植立したものを高温・真空焼結することにより得られる。
上記の固体電解コンデンサ陽極体は、弁作用金属粉末3をポリビニルアルコール(PVA)等の液状または霧状バインダーを用いて造粒し、弁作用金属粉末の流れ性・成形性を高めたのち、加圧成形、焼結を行うことにより製造される(例えば特許文献1参照)。
さらに、液状または霧状バインダーで造粒した弁作用金属粉末をそのまま使用すると、焼結後の陽極体において、弁作用金属粉末間が密に接し合っているため、固体電解質形成の工程において、陽極体内へ固体電解質母液(例えば、硝酸マンガン溶液)を含浸するパス(経路)が狭くなり、tanδ値、ESR値が増大するという問題があり、その対策として、図3のように、液状バインダー混合後の造粒粉末にさらに固形バインダー7をそのまま混合し、該パスを拡大する技術が用いられている(例えば、特許文献2参照)。
また、一般に成形体からバインダーを除去する方法としては、高温・真空での熱分解・飛散が用いられている。
特開平5−65502号公報 特開平9−134854号公報
上記のように、液状バインダーで一旦造粒し、その後、固形バインダー7をそのまま混合した弁作用金属粉末3を加圧成形する従来の方法では、陽極体内へ固体電解質母液が含浸するパスを拡大し、容量出現率を増加させ、tanδ値、ESR値を低減することは、ある程度まで可能であるが、焼結体8の密度バラツキにより部分的に機械的強度が低下し、固体電解コンデンサの製造過程、または製造後のストレスにより、漏れ電流が増加するという問題がある。
これは、固形バインダー7が弁作用金属粉末3に対し比重が極端に小さいため、両者の混合粉末を成形金型に導入すると、固形バインダー7は上方向に、弁作用金属粉末3は下方向に偏り、不均一な分散状態になることによるものである。そして、焼結後、焼結体内部に空孔11のバラツキ(偏り)が生じるため(図6)、固体電解コンデンサのtanδ値、ESR値にバラツキが発生するという問題もあった。
また、固形バインダー7を用いない場合、造粒時の液状バインダーの量を増加することにより、陽極体内へ固体電解質母液が含浸するパスを拡大し、容量出現率を増加させ、tanδ値、ESR値を低減することは可能であるが(図5)、この場合、焼結体全体の機械的強度が低下してしまい、固体電解コンデンサ製造過程、または製造後のストレスにより、漏れ電流が増加するという問題がある。
上記のような問題があったため、漏れ電流の増加を抑え、かつtanδ値、ESR値を低減し、バラツキを抑えることができる固体電解コンデンサ用陽極体の製造方法が求められていた。
本発明は、上記の問題を解決するもので、tanδ、ESR特性を改善し、そのバラツキを小さくするとともに、漏れ電流特性を改善した固体電解コンデンサ用陽極体の製造方法を提供するものである。
すなわち、バインダーを混合した弁作用金属の粉末を加圧成形する工程と、該成形体を焼結する工程とを有する固体電解コンデンサ用陽極体の製造方法において、
加圧成形する工程が、第1のバインダーにて第1の弁作用金属粉末を造粒後、陽極リード2を植立して加圧成形する第1の工程と、該成形体を、第2のバインダーにて第2の弁作用金属粉末を造粒した造粒粉末で覆い加圧成形する第2の工程とからなり、弁作用金属粉末に対する第1のバインダーの混合率が、3.0〜30.0wt%であり、第2のバインダーの混合率が0.1〜3.0wt%であることを特徴とする固体電解コンデンサ用陽極体の製造方法である。
さらに、第1および/または第2のバインダーが液状または霧状で、弁作用金属粉末と混合することを特徴とする固体電解コンデンサ用陽極体の製造方法である。
また、上記のバインダーが、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、アクリル系樹脂、安息香酸、または樟脳であることを特徴とする固体電解コンデンサ用陽極体の製造方法である。
外周部を覆う第2の加圧成形に使用する弁作用金属粉末5のバインダー量が相対的に少ないことにより、固体電解コンデンサ形成過程または形成後のストレスに対して強い焼結体外周部となり、陽極リード2植立部基部の機械的強度も強くなる。
また、陽極リード2を植立する第1の加圧成形に使用する弁作用金属粉末4のバインダー量を相対的に多くし、固体電解質母液が含浸しにくい陽極体内部の空孔率を均一に高くすることで、容量出現率を増加させ、tanδ値、ESR値を低減することができる。
よって、固体電解コンデンサ製造過程または製造後のストレスによる、漏れ電流増加が抑えられる。
さらに、液状バインダーだけを使用すると、弁作用金属粉末3を均一にコーティングでき、焼結体内部に偏りのない均一な空孔が形成されるため、弁作用金属の密度バラツキもなく、部分的な機械的強度低下も起こらない。
このように、漏れ電流、tanδ、ESR各特性において、レベル/バラツキとも優れ、容量出現率が高く、かつ耐熱試験においても漏れ電流値が安定した固体電解コンデンサ用陽極体を得ることができる。
次に、本発明の実施例について図面を参照しながら説明する。
[実施例1]
本発明による固体電解コンデンサ用陽極体を以下のようにして作製した。
まず、1〜400μm程度の粒度分布を有する、弁作用金属であるタンタル粉末3に、弁作用金属重量に対して10.0wt%のポリビニルアルコールを水に溶解した液状バインダー(第1のバインダー)を混合し、造粒粉末4を得た。
また、同様の粒度分布を有するタンタル粉末3に、弁作用金属重量に対して、1.0wt%のポリビニルアルコールを水に溶解した液状バインダー(第2のバインダー)を混合し、造粒粉末5を得た。
次に、上記の造粒粉末4を用いて陽極リード2を植立させ、第1の加圧成形を行い成形体を形成した。
そして、上記成形体の外周部を造粒粉末5で覆い、第2の加圧成形を行い、図1に示す成形体1を形成した。
その後、1325℃の高真空雰囲気中で成形体中のバインダーを熱分解して飛散させた後、1325℃で焼結し、タンタル陽極体8を得た。
更に、この陽極体を0.1wt%リン酸溶液中で18V化成し、酸化タンタル皮膜を形成し、その上に固体電解質層として二酸化マンガン層、陰極引出層としてカーボン層および銀ペースト層を順次形成して、タンタル固体電解コンデンサ素子を得た。
そして、このコンデンサ素子の陽極リード2を、溶接により陽極端子に接続するとともに、陰極層を導電性塗料により陰極端子に接続した後、外装樹脂を施すことによりチップ形タンタル固体電解コンデンサを作製した。
[実施例3、4、7、8、比較例2、5、6、9
表1に示すように、液状バインダー量を弁作用金属重量に対して1.0〜40.0wt%の範囲で混合して造粒粉末4とし、また、液状バインダー量を弁作用金属重量に対して0.05〜5.0wt%の範囲で混合して造粒粉末5とし、上記実施例1と同様にして、造粒粉末4による第1の加圧成形、造粒粉末5による第2の加圧成形、加熱処理、焼結、化成、組立てを行い、実施例3、4、7、8、比較例2、5、6、9のチップ形タンタル固体電解コンデンサを作製した。
(比較例
表1に示すように、液状バインダー量を弁作用金属重量に対して3.0wt%で混合して造粒粉末4とし、また、液状バインダー量を弁作用金属重量に対して10.0wt%で混合して造粒粉末5とし、上記実施例1と同様にして造粒粉末4による第1の加圧成形、造粒粉末5による第2の加圧成形、加熱処理、焼結、化成、組立てを行い、比較例のチップ形タンタル固体電解コンデンサを作製した。
Figure 0004430440
(従来例1)
実施例1と同様、1〜400μm程度の粒度分布を有するタンタル粉末3に、弁作用金属重量に対して3.0wt%のポリビニルアルコールを水に溶解した液状バインダーを混合し、造粒粉末6を得た。
次に、固形バインダー7として弁作用金属重量に対して3.0wt%で、粒径200μm以下のポリビニルアルコールを、上記造粒粉末6と混合した。
上記混合タンタル粉末を使用し、陽極リード2を植立させ、加圧成形して図3に示す成形体8を形成した。
次に、実施例1と同様に、加熱処理、焼結、化成、組立てを行い、チップ形タンタル固体電解コンデンサを作製した。
(従来例2)
実施例1と同様、1〜400μm程度の粒度分布を有するタンタル粉末3に、弁作用金属重量に対して10.0wt%のポリビニルアルコールを水に溶解した液状バインダーを混合し、造粒粉末4を得た。
上記造粒粉末4を使用し、陽極リード2を植立させ、加圧成形して図2に示す成形体1を形成した。
次に、実施例1と同様に、加熱処理、焼結、化成、組立てを行い、チップ形固体電解コンデンサを作製した。
図1〜3は、タンタル成形体1(タンタル造粒粉末の加圧成形後、バインダー除去前)を示す模式断面図であり、図1は実施例1、図2は従来例2、図3は従来例1の断面図である。
図4〜6は、タンタル焼結体8(酸化タンタル皮膜形成前)を示す模式断面図であり、図4は実施例1、図5は従来例2、図6は従来例1の模式断面図である。
図7は、タンタル焼結体8の空孔径と空孔体積率との関係を、実施例1、従来例1、2で比較した図である。
次に、上記のとおり作製したチップ形固体電解コンデンサの実施例1、従来例1、2の特性を比較した結果を、図8〜12に示す。
図8は漏れ電流値(定格電圧印加、1分後)、図9は120Hzでの容量出現率、図10はtanδ値、図11は100kHzでのESR値を比較した結果である。
また、図12は耐熱試験(260℃、10秒エアーリフロー×3回)前後の漏れ電流値の変化を比較した図である。
さらに、図13は表1の実施例1、3、4、7、8、比較例2、5、6、9、比較例に用いた造粒粉末4の液状バインダー量、造粒粉末5の液状バインダー量と、電気特性との関係を示す図である。
まず、成形体の模式断面図(図1〜3)について比較する。
図3に示すとおり、従来例1の成形体1では固形バインダー6が弁作用金属粉末6に対し比重が極端に小さいため、両者の混合粉末を金型で成形すると、固形バインダー7は上方向に、弁作用金属粉末6は下方向に偏り、空孔が不均一な分散状態になっている。
また、従来例1では、図2に示すとおり、空孔が全体に均一な分散状態になっている。
一方、実施例1では、図1に示すとおり、焼結体内部と外周部で、空孔がそれぞれ均一な分散状態になっている。
次に、焼結体の模式断面図(図4〜6)について比較する。
図4〜6では上記バインダーの分散状態がバインダー除去後そのままの形になっている。
実施例1、従来例1、2とも固体電解質母液が含浸される空孔が形成されているが、その状態は各々異なる。
従来例1の焼結体8では、図6に示すとおり、空孔11が上方向に偏り、上部の機械的強度が弱い状態になっている。
また、従来例2では、図5に示すとおり、全体に均一な分散状態になっているが、焼結体全体の機械的強度が低下している。
一方、実施例1では、図4に示すとおり、焼結体内部と外周部で各々、空孔が均一に分散しており、焼結体外周部と陽極リード2の植立部の基部は空孔が少なく、固体電解コンデンサ形成過程または形成後のストレスに対して、強度が強くなっている。
さらに、タンタル焼結体8の空孔径と空孔体積率との関係図(図7)について比較する。
従来例2では1種類の空孔径を有しているのに対し、実施例1では2種類の空孔径を有しており、焼結体内部と外周部に別々の空孔状態を形成していることが分かる。
従来例1は2種類の空孔径を有してはいるが、一方は固形バインダー7による極端に大きい空孔径であり、密度バラツキが大きいことが分かる。
次に、チップ形タンタル固体電解コンデンサの漏れ電流値について比較する。
図8に示すとおり、実施例1は従来例1、2よりレベル、バラツキとも良好な結果を示している。
実施例1では、固体電解コンデンサ形成過程のストレスに対して弱い焼結体外周部と、陽極リード2植立部基部の機械的強度が強くなり、漏れ電流が低レベルに抑えられていると考えられる。
さらに、チップ形タンタル固体電解コンデンサの容量出現率、tanδ値、ESR値について比較する。
図9〜11に示すとおり、実施例1は従来例1、2に比べ、レベル、バラツキとも良好な結果を示している。
実施例1では、固体電解質母液が含浸しやすくなるように焼結体内部に均一かつ十分な量の空孔が形成されていると考えられる。
次に、チップ形タンタル固体電解コンデンサの耐熱試験前後の漏れ電流値変化について比較する。
図12に示すとおり、実施例1は、従来例1、2よりレベル、バラツキとも良好な結果を示した。
実施例1は、固体電解コンデンサ形成後のストレスに対して弱い焼結体外周部と、陽極リード2植立部基部の機械的強度が強くなり、漏れ電流が低レベルに抑えられていると考えられる。
次に、表1の実施例3、4、7、8、比較例2、5、6、9、比較例に用いた造粒粉末4の液状バインダー量、造粒粉末5の液状バインダー量と、電気特性との関係を示す図13について説明する。
造粒粉末4に使用する液状バインダーの量は、弁作用金属重量に対して3.0wt%未満であると、焼結体内部に形成される空孔が小さくなり、容量出現率、tanδ特性、ESR特性の改善効果が得られない。
また、弁作用金属重量に対して30.0wt%を超えると、加圧後の成形体の機械的強度が極端に弱くなり、チップ形固体電解コンデンサ形成後の漏れ電流が増大するため、造粒粉末4に使用する液状バインダーの量は弁作用金属重量に対して3.0〜30.0wt%の範囲であることが望ましい。
なお、造粒粉末4に使用する液状バインダーの量を弁作用金属に対して3.0wt%、造粒粉末5に使用する液状バインダーの量を弁作用金属に対して10.0wt%とし(比較例)、上記実施例8と混合率の大小を逆にした場合、容量出現率、tanδ特性、漏れ電流特性が悪化しており、好ましくないことが分かる。
さらに、造粒粉末5に使用する液状バインダーの量は、弁作用金属重量に対して0.1wt%未満であると、弁作用金属粉末の造粒効果が小さく、粉末の流れ性が悪化する。
また、弁作用金属重量に対して3.0wt%を超えると、焼結体外周部の機械的強度が低下し、チップ形固体電解コンデンサ形成過程と形成後の漏れ電流特性改善効果が得られないため、造粒粉末5に使用する液状バインダーの量は弁作用金属重量に対して0.1〜3.0wt%の範囲であることが望ましい。
上記実施例における造粒粉末4,5の液状バインダーとして、ポリビニルアルコールを液状で使用したが、ポリビニルブチラール、アクリル系樹脂、安息香酸、樟脳を使用しても同様の効果が得られる。
また、上記実施例における造粒粉末4、5の液状バインダーはいずれもポリビニルアルコールを液状で使用したが、造粒粉末4の液状バインダーと造粒粉末5の液状バインダーをポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、アクリル系樹脂、安息香酸、樟脳のうち、2種類以上を組み合わせて使用しても同様の効果が得られる。
そして、上記実施例においてバインダーは液状で弁作用金属に混合したが、霧状で混合しても同様の効果が得られる。
上記実施例の弁作用金属粉末として、タンタルを使用したが、ニオブ、アルミニウム、チタン等を使用しても同様の効果が得られる。
また、上記実施例の固体電解質として、二酸化マンガンを使用したが、ポリチオフェン、ポリピロールまたはポリアニリン等の導電性高分子で、公知のものが使用できる。
本発明の実施例によるタンタル粉末加圧成形体の模式断面図である。 従来例によるタンタル粉末加圧成形体の模式断面図である。 他の従来例によるタンタル粉末加圧成形体の模式断面図である。 本発明の実施例によるタンタル焼結体8の模式断面図である。 従来例によるタンタル焼結体の模式断面図である。 他の従来例によるタンタル焼結体の模式断面図である。 本発明の実施例1と従来例1、2のタンタル焼結体の空孔径と空孔体積率との関係を比較した図である。 本発明の実施例1と従来例1、2のチップ形タンタル固体電解コンデンサ漏れ電流値を比較した図である。 本発明の実施例1と従来例1、2のチップ形タンタル固体電解コンデンサの容量出現率を比較した図である。 本発明の実施例1と従来例1、2のチップ形タンタル固体電解コンデンサのtanδ値を比較した図である。 本発明の実施例1と従来例1、2のチップ形タンタル固体電解コンデンサのESR値を比較した図である。 本発明の実施例1と従来例1、2のチップ形タンタル固体電解コンデンサの耐熱試験前後の漏れ電流値を比較した図である。 本発明の実施例1、3、4、7、8、比較例2、5、6、9、比較例に用いた造粒粉末4の液状バインダー量、造粒粉末5の液状バインダー量と、電気特性との関係を示した図である。
符号の説明
1 成形体
2 陽極リード
3 弁作用金属粉末
4 液状バインダー10.0wt%の造粒粉末
5 液状バインダー1.0wt%の造粒粉末
6 液状バインダー3.0wt%の造粒粉末
7 固形バインダー
8 焼結体
9 空孔の多い焼結体部分
10 空孔の少ない焼結体部分
11 固形バインダーによる空孔

Claims (3)

  1. バインダーを混合した弁作用金属の粉末を加圧成形する工程と、該成形体を焼結する工程とを有する固体電解コンデンサ用陽極体の製造方法において、
    加圧成形する工程が、第1のバインダーにて第1の弁作用金属粉末を造粒後、陽極リードを植立して加圧成形する第1の工程と、
    該成形体を、第2のバインダーにて第2の弁作用金属粉末を造粒した造粒粉末で覆い加圧成形する第2の工程とからなり、
    弁作用金属粉末に対する第1のバインダーの混合率が、3.0〜30.0wt%であり、第2のバインダーの混合率が0.1〜3.0wt%であることを特徴とする固体電解コンデンサ用陽極体の製造方法。
  2. 請求項1記載の第1および/または第2のバインダーが液状または霧状で、弁作用金属粉末と混合することを特徴とする固体電解コンデンサ用陽極体の製造方法。
  3. 請求項1記載のバインダーが、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、アクリル系樹脂、安息香酸、または樟脳であることを特徴とする固体電解コンデンサ用陽極体の製造方法。
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