JP4428646B2 - Gas purge method in the container - Google Patents

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Description

本願の発明は、容器内ガスパージ方法に関し、特に半導体ウエハ等の被処理材を密閉した状態で収容して搬送される容器内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気に簡単に、効率よく置換することができる容器内ガスパージ方法に関する。 The invention of the present application relates to a method for purging a gas in a container, and in particular, an oxidizing gas atmosphere in a container that is accommodated and transported in a sealed state such as a semiconductor wafer is simply and efficiently replaced with a non-oxidizing gas atmosphere. The present invention relates to an in-container gas purge method .

ＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod ）は、半導体ウエハ等の被処理物を処理装置間
で搬送するに際して、被処理物が外部環境により汚染されるのを防ぐために、被処理物を
制御された空間に収容して搬送するのに用いられる前方開放型の容器である。ＦＯＵＰオ
ープナは、ＦＯＵＰ内環境と処理装置内のウェハ転送空間との間を、外部環境に被処理物
を曝すことなく、連通させ、被処理物を処理装置内に配置されたロボット等で転送するこ
とができるようにする役割を担うＦＯＵＰの開閉装置である。これらのＦＯＵＰ及びＦＯ
ＵＰオープナを用いて被処理物が処理装置間で搬送され、また、処理装置内に転送される
ことにより、高い製品歩留りが達成される。 FOUP (Front Opening Unified Pod) accommodates a workpiece in a controlled space in order to prevent the workpiece from being contaminated by the external environment when the workpiece such as a semiconductor wafer is transported between processing devices. It is a forward-opening type container used for transporting. The FOUP opener communicates between the environment in the FOUP and the wafer transfer space in the processing apparatus without exposing the object to be processed to the external environment, and transfers the object to be processed by a robot or the like disposed in the processing apparatus. It is a FOUP opening and closing device that plays a role of enabling the above. These FOUPs and FOs
By using the UP opener, the object to be processed is transported between the processing apparatuses and transferred into the processing apparatus, whereby a high product yield is achieved.

ところで、近年、半導体ウエハは、高微細化が一層進み、オングストロームオーダーで
の膜厚コントロールが求められるようになってきている。このため、従来のように、パー
ティクルの管理に重点を置いてクリーンな雰囲気に保持されたＦＯＵＰ内にウエハを収容
して搬送するだけでは、ＦＯＵＰ内のウエハに自然酸化膜が形成されてしまい、その後の
工程でのウエハの膜厚コントロールに支障が生じる虞がある。 By the way, in recent years, semiconductor wafers have been further miniaturized, and film thickness control on the order of angstroms has been demanded. For this reason, if the wafer is housed and transported in the FOUP held in a clean atmosphere with emphasis on particle management as in the prior art, a natural oxide film is formed on the wafer in the FOUP. There is a possibility that the film thickness control of the wafer in the subsequent process may be hindered.

そこで、ＦＯＵＰ内のウエハに自然酸化膜が形成されるのを回避するために、ＦＯＵＰ
内の雰囲気を、酸化性の雰囲気から、窒素ガス等の不活性ガスで満たされた非酸化性の雰
囲気に置換することが提案され、そのための種々の工夫がなされている。 Therefore, in order to avoid the formation of a natural oxide film on the wafer in the FOUP, the FOUP
It has been proposed to replace the inner atmosphere with an non-oxidizing atmosphere filled with an inert gas such as nitrogen gas from an oxidizing atmosphere, and various contrivances have been made for this purpose.

これらの工夫は、いずれも、ＦＯＵＰオープナの載置台上にＦＯＵＰを載置し、不活性
ガスの供給路および酸化性ガスの排出路上にあるバルブを切り替えるだけで、ＦＯＵＰ内
の酸化性ガスを不活性ガスで置換することができる簡便なパージシステムを提案するが、
ＦＯＵＰ内のガス置換を、ＦＯＵＰドアの開閉の状態等をも考慮しながら、いかに少ない
不活性ガス量で、いかに短時間で、効率的に行なうかという点については、十分に配慮が
なされたものとなっていない。
特開平０８−２０３９９３号公報 特開平１１−１２１６０２号公報 特開平１１−３０７６２３号公報 In any of these devices, the FOUP is mounted on the mounting table of the FOUP opener, and the oxidizing gas in the FOUP is inactivated by simply switching the valves on the inert gas supply path and the oxidizing gas discharge path. We propose a simple purge system that can be replaced with active gas.
Full consideration has been given to how efficiently gas can be replaced in the FOUP with a small amount of inert gas and in a short time, taking into account the state of opening and closing of the FOUP door. Not.
Japanese Patent Application Laid-Open No. 08-203993 Japanese Patent Laid-Open No. 11-121602 Japanese Patent Laid-Open No. 11-307623

本願の発明は、従来の容器内ガスパージシステムが有する前記のような問題点を解決し
て、容器開閉装置の容器載置台上に載置された当該容器に対し、容器のドアの開閉の状態
等をも考慮しながら、簡単に、少ない不活性ガス量で、短時間で、効率的に容器内の酸化
性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気に置換することができる容器内ガスパージ方法を提供することを課題とする。 The invention of the present application solves the above-mentioned problems of the conventional gas purge system in a container, and opens / closes the door of the container with respect to the container mounted on the container mounting table of the container opening / closing device. To provide an in-container gas purging method that can efficiently replace an oxidizing gas atmosphere in a container with a non-oxidizing gas atmosphere in a short time with a small amount of inert gas Is an issue.

前記のような課題は、本願の各請求項に記載された次のような発明により解決される。
すなわち、その請求項１に記載された発明は、被処理材を密閉した状態で収容して搬送される容器の開閉装置の容器載置台上に載置された当該容器内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気に置換するための容器内ガスパージ方法であって、容器内に非酸化性ガスを供給する供給路と、容器内の酸化性ガスを排出する排出路と、前記供給路と前記排出路とをそれぞれの途中で接続するバイパス路とを備え、前記供給路の容器側の一端には、容器に設けられた給気用パージポートに接続される給気ノズルが設けられ、前記供給路と前記バイパス路との接続部よりも上流側には、第１のバルブが設けられ、前記排出路の容器側の一端には、容器に設けられた給排気用パージポートに接続される給排気ノズルが設けられ、前記排出路と前記バイパス路との接続部よりも下流側には、第２のバルブが設けられ、前記バイパス路の中途部には、第３のバルブが設けられ、前記第１のバルブの開、前記第３のバルブの開及び前記第２のバルブの閉動作により、前記給気ノズル及び前記給気用パージポートを介して容器内に非酸化性ガスを供給するとともに、前記給排気ノズル及び前記給排気用パージポートを介して容器内に非酸化性ガスを供給する第１のパージパターンと、前記第１のバルブの開、前記第３のバルブの閉及び前記第２のバルブの開動作により、前記給気ノズル及び前記給気用パージポートを介して容器内に非酸化性ガスを供給するとともに、前記給排気用パージポート及び前記給排気ノズルを介して容器内の酸化性ガスを排出する第２のパージパターンとが選択可能にされており、容器のドアが開いて、開放された状態にある容器のドアが閉じ始め、容器が閉鎖されるまでの間は、前記第１のパージパターンが選択され、容器が閉鎖された後は、前記第２のパージパターンが選択されることを特徴とする容器内ガスパージ方法である。 The above problems can be solved by the following invention described in each claim of the present application.
That is, the invention described in the claim 1, the oxidizing gas atmosphere of the container mounting said container placed on the table of the switchgear of the container to be conveyed accommodates in a closed state of the workpiece A method for purging a gas in a container for replacing with a non-oxidizing gas atmosphere, comprising: a supply path for supplying non-oxidizing gas into the container; a discharge path for discharging oxidizing gas in the container; the supply path; and a bypass passage for connecting the discharge channel in each of the middle, the the container side end of the supply path, the supply air nozzles are provided that will be connected to the air supply purge port provided in the container, the supply on the upstream side of the connecting portion between the a road bypass passage is provided with a first valve, the container side end of the discharge path, Ru is connected to the purge port for air supply and exhaust provided in the container supply An exhaust nozzle is provided, and the exhaust path and the bypass The downstream side of the connection portion of the road, the second valve is provided in the middle portion of the bypass passage, the third valve is provided, opening of the first valve, the third valve By opening the second valve and closing the second valve, non-oxidizing gas is supplied into the container through the supply nozzle and the supply purge port, and the supply / exhaust nozzle and the supply / exhaust purge port are supplied. A first purge pattern for supplying a non-oxidizing gas into the container via the first valve, and opening of the first valve, closing of the third valve, and opening of the second valve. And a second purge pattern for supplying non-oxidizing gas into the container through the air supply purge port and discharging the oxidizing gas in the container through the air supply / exhaust purge port and the air supply / exhaust nozzle. And is made selectable The first purge pattern is selected until the container door is opened, the container door in the opened state begins to close, and the container is closed.After the container is closed, In the container gas purging method , the second purge pattern is selected.

請求項１に記載された発明は、前記のように構成されているので、容器を容器開閉装置
の容器載置台上に載置するだけで、容器に設けられた給気用パージポートを非酸化性ガス供給路の一端に設けられた給気ノズルに接続し、また、容器に設けられた給排気用パージポートを酸化性ガス排出路の一端に設けられた給排気ノズルに接続するように構成することが可能になる。これにより、容器内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気に置換する作業を簡単に行なうことができる。 Since the invention described in claim 1 is configured as described above, the supply air purge port provided in the container is non-oxidized simply by placing the container on the container mounting table of the container opening / closing device. connect to air supply nozzle provided at one end of the sexual gas supply passage, also configured to connect the purge port for air supply and exhaust provided in the container supply and exhaust nozzles provided in one end of the oxidizing gas discharging passage It becomes possible to do. Thereby, the operation | work which replaces the oxidizing gas atmosphere in a container with a non-oxidizing gas atmosphere can be performed easily.

また、第１ないし第３のバルブの各開閉動作の組合せを種々に変えることにより、容器
の開閉状態等に応じた最適のパージパターンを選択して、容器内のガス置換を行なうこと
ができ、少ない非酸化性ガス量で、短時間で、効率的に容器内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気に置換することが可能になる。 In addition, by changing the combination of the opening and closing operations of the first to third valves in various ways, it is possible to select the optimum purge pattern according to the open / closed state of the container and perform gas replacement in the container. less in a non-oxidizing gas amount in a short time, become effectively possible to replace the oxidizing gas atmosphere within the container in a non-oxidizing gas atmosphere.

また、容器のドアが開いて、開放された状態にある容器のドアが閉じ始め、容器が閉鎖されるまでの間は、２つのパージポート（給気用パージポート、給排気用パージポート）から多量の非酸化性ガスを供給して、迅速に酸化性ガスを追い出し、容器が閉じると、１つのパージポート（給気用パージポート）から少量の非酸化性ガスを供給し、残りの１つのパージポート（給排気用パージポート）から酸化性ガスを排出するようにし、容器内において非酸化性ガスの一方向流れを作って、酸化性ガスの滞留域をなくし、容器内を迅速に非酸化性ガスで満たすようにすることができ、全体として、少ない非酸化性ガス量で、短時間で、効率的に容器内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気に置換することが可能になる。 Also , from the time when the container door is opened, the container door in the opened state begins to close, and until the container is closed, the two purge ports (the supply purge port and the supply / exhaust purge port) When a large amount of non-oxidizing gas is supplied to expel the oxidizing gas quickly and the container is closed, a small amount of non-oxidizing gas is supplied from one purge port (supply purge port) and the remaining one from the purge port (purge port for supply and exhaust) to discharge the oxidizing gas, to make a one-way flow of non-oxidizing gas in the container, eliminating the stagnation zone of the oxidizing gas, quickly unoxidized the vessel It can be satisfied by sex gas, as a whole, with less non-oxidizing gas amount, in a short time, become effectively possible to replace the oxidizing gas atmosphere within the container in a non-oxidizing gas atmosphere .

特に、容器のドアが開いて、開放された状態にある容器のドアが閉じ始め、容器が閉鎖
されるまでの間は、酸化性ガスは、容器から追い出され易い状態にあり、この時点で、第
１のパージパターンが実行されて、２つのパージポートから多量の非酸化性ガスが供給されることにより、酸化性ガスを追い出す処理が、非酸化性ガスの無駄な消費なくして、迅速に行なわれる。 In particular, until the container door is opened and the container door in the opened state begins to close and until the container is closed, the oxidizing gas is easily expelled from the container. When the first purge pattern is executed and a large amount of non-oxidizing gas is supplied from the two purge ports, the process of expelling the oxidizing gas is quickly performed without wasteful consumption of the non-oxidizing gas. It is.

また、その請求項２に記載された発明は、被処理材を密閉した状態で収容して搬送される容器の開閉装置の容器載置台上に載置された当該容器内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気に置換するための容器内ガスパージ方法であって、容器内に非酸化性ガスを供給する供給路と、容器内の酸化性ガスを排出する排出路と、前記供給路と前記排出路とをそれぞれの途中で接続するバイパス路とを備え、前記供給路の容器側の一端には、容器に設けられた給気用パージポートに接続される給気ノズルが設けられ、前記供給路と前記バイパス路との接続部よりも上流側には、第１のバルブが設けられ、前記排出路の容器側の一端には、容器に設けられた給排気用パージポートに接続される給排気ノズルが設けられ、前記排出路と前記バイパス路との接続部よりも下流側には、第２のバルブが設けられ、前記バイパス路の中途部には、第３のバルブが設けられ、前記第１のバルブの開、前記第３のバルブの開及び前記第２のバルブの閉動作により、前記給気ノズル及び前記給気用パージポートを介して容器内に非酸化性ガスを供給するとともに、前記給排気ノズル及び前記給排気用パージポートを介して容器内に非酸化性ガスを供給する第１のパージパターンと、前記第１のバルブの開、前記第３のバルブの閉及び前記第２のバルブの開動作により、前記給気ノズル及び前記給気用パージポートを介して容器内に非酸化性ガスを供給するとともに、前記給排気用パージポート及び前記給排気ノズルを介して容器内の酸化性ガスを排出する第２のパージパターンとが選択可能にされており、容器のドアが開いて、開放された状態にある容器のドアが閉じ始め、容器が閉鎖されるまでの間、最初は、前記第１のパージパターンが選択され、容器内に残留する酸化性ガス量が少なくなったときは、容器のドアが開いて、開放された状態であっても、前記第２のパージパターンが選択され、容器が閉鎖された後は、前記第２のパージパターンが選択されることを特徴とする容器内ガスパージ方法である。 In the invention described in claim 2, the oxidizing gas atmosphere in the container mounted on the container mounting table of the opening / closing device of the container to be accommodated and transported in a sealed state is provided. A method for purging a gas in a container for replacing with a non-oxidizing gas atmosphere, comprising: a supply path for supplying non-oxidizing gas into the container; a discharge path for discharging oxidizing gas in the container; the supply path; A bypass passage that connects the discharge passage in the middle of each of the supply passages, and a supply nozzle connected to a supply purge port provided in the container is provided at one end of the supply passage on the container side, and the supply A first valve is provided on the upstream side of the connection portion between the passage and the bypass passage, and one end of the discharge passage on the container side is connected to a supply / exhaust purge port provided in the container. An exhaust nozzle is provided, and the exhaust path and the bypass path A second valve is provided on the downstream side of the connecting portion, and a third valve is provided in the middle portion of the bypass path to open the first valve and open the third valve. And by the closing operation of the second valve, the non-oxidizing gas is supplied into the container through the air supply nozzle and the air supply purge port, and through the air supply / exhaust nozzle and the air supply / exhaust purge port. The first purge pattern for supplying the non-oxidizing gas into the container, the opening of the first valve, the closing of the third valve, and the opening operation of the second valve, A second purge pattern for supplying non-oxidizing gas into the container through the air supply purge port and discharging the oxidizing gas in the container through the air supply / exhaust purge port and the air supply / exhaust nozzle; Has been made selectable Until the container door is opened and the container door in the opened state begins to close until the container is closed, the first purge pattern is initially selected and the oxidizing gas remaining in the container When the volume is reduced, the second purge pattern is selected even when the container door is open and opened, and after the container is closed, the second purge pattern is selected. It is the gas purge method in a container characterized by the above-mentioned.

請求項２に記載された発明は、前記のように構成されているので、ＦＯＵＰ１内に残留する酸化性ガスを迅速に排出することができ、請求項１に記載された発明が奏する前記のような効果と略同様の効果を奏することができる。 Since the invention described in claim 2 is configured as described above, the oxidizing gas remaining in the FOUP 1 can be quickly discharged, and the invention described in claim 1 exhibits the above-described effect. It is possible to achieve substantially the same effect .

さらに、その請求項３に記載された発明は、請求項１又は請求項２に記載の発明におい
て、その容器の底壁の容器開口側の両端寄りにそれぞれ設けられた給気用パージポート及び給排気用パージポートから、容器の奥側に向けて非酸化性ガスが供給されることを特徴としている。 Furthermore, the invention described in claim 3 is the invention described in claim 1 or 2, wherein the supply purge port and the supply port respectively provided near the both ends of the container opening side of the bottom wall of the container. A non-oxidizing gas is supplied from the exhaust purge port toward the inner side of the container .

この結果、容器内に供給された非酸化性ガスは、容器内を残すところなく巡って一方向に流れて、そこに残存していた酸化性ガスを容器の外に追い出すので、容器内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気に置換する作業を一層効率的に行なうことができる。 As a result, the non-oxidizing gas supplied into the container flows in one direction without leaving the inside of the container, and the oxidizing gas remaining there is driven out of the container. The operation of replacing the oxidizing gas atmosphere with the non-oxidizing gas atmosphere can be performed more efficiently.

前記のとおり、本願の発明の容器内ガスパージ方法によれば、容器を容器開閉装置の容器載置台上に載置するだけで、容器に設けられた給気用パージポートを非酸化性ガス供給路の一端に設けられた給気ノズルに接合し、また、容器に設けられた給排気用パージポートを酸化性ガス排出路の一端に設けられた給排気ノズルに接合するように構成することが可能になり、容器内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気で置換する作業を簡単に行なうことができる。 As described above, according to the in-container gas purging method of the present invention, the air supply purge port provided in the container is simply placed on the container mounting table of the container opening / closing device, and the non-oxidizing gas supply path is provided. It can be configured to be joined to the air supply nozzle provided at one end of the gas supply, and the supply / exhaust purge port provided to the container can be joined to the air supply / exhaust nozzle provided at one end of the oxidizing gas discharge path. Thus, the work of replacing the oxidizing gas atmosphere in the container with a non-oxidizing gas atmosphere can be easily performed.

また、第１ないし第３のバルブの各開閉動作の組合せを種々に変えることにより、容器
の開閉状態等に応じて最適のパージパターンを選択して、容器内のガス置換を行なうこと
ができ、少ない非酸化性ガスで、短時間で、効率的に容器内の酸化性ガス雰囲気を非酸化
性ガス雰囲気に置換することが可能になる。 In addition, by changing the combination of the opening and closing operations of the first to third valves in various ways, the optimum purge pattern can be selected according to the open / closed state of the container, and the gas in the container can be replaced. It is possible to efficiently replace the oxidizing gas atmosphere in the container with the non-oxidizing gas atmosphere in a short time with a small amount of non-oxidizing gas .

半導体ウエハ等の被処理材を密閉した状態で収容して搬送される容器の開閉装置の容器
載置台上に載置された当該容器内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気に置換するための容器内ガスパージ方法において、非酸化性ガスの供給路と、容器内の酸化性ガスの
排出路と、これら供給路と排出路とをそれぞれの途中で接続するバイパス路とを具備せしめる。そして、供給路の容器側の一端には、容器に設けられた給気用パージポートに接続する給気ノズルを設け、供給路とバイパス路との接続部よりも上流側には、第１のバルブ
が設ける。また、排出路の容器側の一端には、容器に設けられた給排気用パージポートに
接続する給排気ノズルを設け、排出路とバイパス路との接続部よりも下流側には、第２の
バルブを設ける。さらに、バイパス路には、第３のバルブを設ける。 In order to replace the oxidizing gas atmosphere in the container mounted on the container mounting table of the opening / closing device of the container that is accommodated and transported in a sealed state with the processing object such as a semiconductor wafer with a non-oxidizing gas atmosphere In this in-vessel gas purging method , a non-oxidizing gas supply path, an oxidizing gas discharge path in the container, and a bypass path connecting the supply path and the discharge path in the middle of each other are provided. An air supply nozzle connected to an air supply purge port provided in the container is provided at one end on the container side of the supply path, and the first side is provided upstream of the connection portion between the supply path and the bypass path. A valve is provided. In addition, at one end of the discharge path on the container side, a purge port for supply / exhaust provided in the container
An air supply / exhaust nozzle to be connected is provided, and a second valve is provided downstream of the connection portion between the discharge passage and the bypass passage. Furthermore, a third valve is provided in the bypass path.

このようにして、第１ないし第３のバルブの各開閉動作の組合せを種々に変えることを
可能にして、容器の開閉状態等に応じ、最適のガスパージパターンを選択することができるようにする。 In this way, the combination of the opening and closing operations of the first to third valves can be changed in various ways, and the optimum gas purge pattern can be selected according to the opening and closing state of the container.

また、給気用パージポート及び給排気用パージポートは、容器の底壁の容器開口側の両
端寄りにそれぞれ設けるようにし、これらのパージポートを介して容器内に非酸化性ガスを供給する方向は、容器の奥側に向くように構成する。 In addition, the air supply purge port and the air supply / exhaust purge port are respectively provided near both ends of the container opening side of the container bottom wall, and the non-oxidizing gas is supplied into the container through these purge ports. Is configured to face the inner side of the container.

次に、本願の発明の一実施例について説明する。
図１は、本実施例の容器内ガスパージ方法が適用される容器及び容器開閉装置の概略側面図、図２は、同容器及び容器開閉装置の概略背面図（図１の左方から見た図）であって、ドックプレートを省略して示す図、図３は、同容器及び容器開閉装置の概略平面図、図４は、同容器内ガスパージ方法のシステム構成図である。 Next, an embodiment of the present invention will be described.
Figure 1 is a schematic side view of the container and the container switchgear vessel gas sparge method of this embodiment is applied, FIG 2 is viewed from the vessel and a schematic rear view of the container closing device (left side in FIG. 1 a diagram), figure 3 showing omitted dock plate is a schematic plan view of the container and the container closing device, FIG. 4 is a system configuration view of the container gas purge process.

本実施例の容器内ガスパージ方法は、容器がＦＯＵＰであり、容器開閉装置がＦＯＵＰを開閉するＦＯＵＰオープナである場合の、これらＦＯＵＰ及びＦＯＵＰオープナに適用されるものとして、以下、説明される。また、本実施例において、ＦＯＵＰ内に密閉した状態で収容して搬送される被処理材は、半導体ウエハとされている。 The in-container gas purging method of the present embodiment will be described below as being applied to these FOUP and FOUP opener when the container is a FOUP and the container opening / closing device is a FOUP opener that opens and closes the FOUP. In this embodiment, the material to be processed that is accommodated and transported in a sealed state in the FOUP is a semiconductor wafer.

図１ないし図３には、複数枚の半導体ウエハ２を上下方向に多段に積層して、密閉した
状態で収容したＦＯＵＰ１が、ＦＯＵＰオープナ１０のＦＯＵＰ載置台（ドックプレート
と呼ばれる）１１上に載置されて、後で詳しく説明されるＦＯＵＰ内ガスパージシステム
２０の配管系統と接続された状態が図示されている。 1 to 3, a FOUP 1 in which a plurality of semiconductor wafers 2 are stacked in multiple stages in the vertical direction and accommodated in a sealed state is placed on a FOUP mounting table (called a dock plate) 11 of a FOUP opener 10. It is shown that it is installed and connected to the piping system of the FOUP gas purge system 20 which will be described in detail later.

ＦＯＵＰオープナ１０は、処理装置の室壁の一部を構成するポートプレート４０の処理装置とは反対側の空間内に配置され、該ポートプレート４０に一体に取り付けられている。図１において、ポートプレート４０より右側の空間が処理装置の室内Ａをなし、この室内Ａには、窒素Ｎ２ ガスが充填されていて、室内Ａは、非酸化性のクリーンな環境に保持されている。 The FOUP opener 10 is disposed in a space opposite to the processing device of the port plate 40 constituting a part of the chamber wall of the processing device, and is integrally attached to the port plate 40. In FIG. 1, the space on the right side of the port plate 40 forms a room A of the processing apparatus, and this room A is filled with nitrogen N 2 gas, and the room A is maintained in a non-oxidative clean environment. ing.

ＦＯＵＰオープナ１０は、処理装置の室内Ａ側にポートドア開閉装置１２を有し、この
ポートドア開閉装置１２に備えられたポートドア１３は、ポートプレート４０に形成され
た開口４１を開閉し、その内部にＦＯＵＰ１のドア（図示されず）をＦＯＵＰ本体から着
脱して保持する機構を備えている。そして、ＦＯＵＰ１がドックプレート１１に載置され
た状態でポートプレート４０方向に前進して、その開口側端面がポートプレート４０に近
接した状態においては、ポートドア１３のＦＯＵＰドア着脱・保持機構がＦＯＵＰドアを
ＦＯＵＰ本体から外してこれを保持し、次いで、ポートドア開閉装置１２がポートドア１
３を開口４１から離脱させ、ポートプレート４０から後退させて、室内Ａ内の下方領域に
退避させる。 The FOUP opener 10 has a port door opening / closing device 12 on the room A side of the processing device, and the port door 13 provided in the port door opening / closing device 12 opens and closes an opening 41 formed in the port plate 40. A mechanism for holding a door (not shown) of the FOUP 1 detachably from the FOUP main body is provided inside. When the FOUP 1 moves forward in the direction of the port plate 40 while being placed on the dock plate 11 and the opening side end face is close to the port plate 40, the FOUP door attaching / detaching / holding mechanism of the port door 13 is FOUP. The door is removed from the FOUP body and held, and then the port door opening and closing device 12 is connected to the port door 1.
3 is removed from the opening 41, retracted from the port plate 40, and retracted to a lower region in the room A.

このようにして、開口４１及びＦＯＵＰ１の開口が開けられ、ＦＯＵＰドアは室内Ａ内
に収容されて、ＦＯＵＰ１内のウエハ２を処理装置内に転送する準備が整えられる。そし
て、処理装置内において、ウエハ２に所定の処理が施されると、処理済みのウエハ２は、
先とは逆に転送されて、ＦＯＵＰ１内に収容される。次いで、ＦＯＵＰドアが、ポートド
ア開閉装置１２及びポートドア１３のＦＯＵＰドア着脱・保持機構の作動により、先とは
逆の順序にて、ＦＯＵＰ１の開口に結着されて、ＦＯＵＰ１は密閉される。 Thus, the opening 41 and the opening of the FOUP 1 are opened, the FOUP door is accommodated in the room A, and preparations for transferring the wafer 2 in the FOUP 1 into the processing apparatus are prepared. When a predetermined process is performed on the wafer 2 in the processing apparatus, the processed wafer 2 is
The data is transferred in the reverse direction and stored in the FOUP 1. Next, the FOUP door is attached to the opening of the FOUP 1 in the reverse order by the operation of the FOUP door attaching / detaching / holding mechanism of the port door opening / closing device 12 and the port door 13, and the FOUP 1 is sealed.

ポートドア開閉装置１２の駆動部は、ＦＯＵＰオープナ１０内に収容されており、ポー
トプレート４０に形成された縦長の開口（図示されず）を介してポートドア開閉装置１２
を操作し、これを進退・昇降動させる。 The drive unit of the port door opening / closing device 12 is accommodated in the FOUP opener 10 and is connected to the port door opening / closing device 12 through a vertically long opening (not shown) formed in the port plate 40.
Operate and move it back and forth and up and down.

前記のとおり、室内Ａには窒素Ｎ２ ガスが充填されていて、室内Ａは、非酸化性のクリーンな環境に保持されているので、ＦＯＵＰ１を開放して内部のウエハ２を処理装置内に転送するに先立っては、ＦＯＵＰ１内にも窒素Ｎ２ ガスを充填して、その内部を不活性ガス（非酸化性ガス）で満たされたクリーンな環境に保持しておく必要がある。また、処理済みのウエハ２をＦＯＵＰ１内に収容して、ＦＯＵＰ１を密閉するに先立っては、ウエハ２の処理が完了するまでの待機中に、ＦＯＵＰ１の内部に水蒸気が滲出したり、パーティクルが発生したりして、それらが残留している可能性があるので、改めてＦＯＵＰ１内に窒素Ｎ２ ガスを充填して、その内部を非酸化性のクリーンな環境に保持しておく必要がある。 As described above, since the room A is filled with nitrogen N 2 gas and the room A is maintained in a non-oxidative clean environment, the FOUP 1 is opened and the internal wafer 2 is placed in the processing apparatus. Prior to the transfer, it is necessary to fill the FOUP 1 with nitrogen N 2 gas and keep the inside in a clean environment filled with an inert gas (non-oxidizing gas). Further, before the processed wafer 2 is accommodated in the FOUP 1 and the FOUP 1 is sealed, during the standby until the processing of the wafer 2 is completed, water vapor oozes out or particles are generated inside the FOUP 1. However, since they may remain, it is necessary to refill the FOUP 1 with nitrogen N 2 gas and keep the inside in a non-oxidative clean environment.

これらの必要に応えるために、ＦＯＵＰオープナ１０には、ＦＯＵＰ内ガスパージシス
テム２０の配管系が付設されている。
この配管系は、図４に図示されるように、不活性ガス（窒素Ｎ２ ガス）の供給路２１と、ＦＯＵＰ１内の酸化性ガスの排出路２２と、これら供給路２１と排出路２２とをそれぞれの途中で接続するバイパス路２３とを備えている。 In order to meet these needs, the FOUP opener 10 is provided with a piping system of the gas purge system 20 in the FOUP.
As shown in FIG. 4, the piping system includes an inert gas (nitrogen N 2 gas) supply path 21, an oxidizing gas discharge path 22 in the FOUP 1, and the supply path 21 and the discharge path 22. Are provided in the middle of each of them.

供給路２１のＦＯＵＰ１側の一端には、ＦＯＵＰ１に設けられた給気用パージポート３
に接合（接続）する給気ノズル２４が設けられ、供給路２１とバイパス路２３との接続部よりも上流側には、第１のバルブ２６が設けられている。また、排出路２２のＦＯＵＰ１側の一端には、ＦＯＵＰ１に設けられた給排気用パージポート４に接合（接続）する給排気ノズル２５が設けられ、排出路２２とバイパス路２３との接続部よりも下流側には、第２のバルブ２７が設けられている。さらに、バイパス路２３には、第３のバルブ２８が設けられている。 At one end of the supply path 21 on the FOUP 1 side, an air supply purge port 3 provided in the FOUP 1 is provided.
An air supply nozzle 24 that joins (connects) to the air supply nozzle 24 is provided, and a first valve 26 is provided upstream of the connection portion between the supply passage 21 and the bypass passage 23. In addition, a supply / exhaust nozzle 25 that joins (connects) to the supply / exhaust purge port 4 provided in the FOUP 1 is provided at one end of the discharge path 22 on the FOUP 1 side. Also on the downstream side, a second valve 27 is provided. Further, a third valve 28 is provided in the bypass path 23.

また、供給路２１とバイパス路２３との接続部よりも下流側の供給路２１には、第１のフィルタ２９が設けられ、バイパス路２３の第３のバルブ２８よりも下流側には、第２のフィルタ３０が設けられている。これらのフィルタ２９、３０は、窒素Ｎ２ ガス中の微細な浮遊物を除去する。 In addition, a first filter 29 is provided in the supply passage 21 downstream of the connection portion between the supply passage 21 and the bypass passage 23, and the first filter 29 is provided downstream of the third valve 28 in the bypass passage 23. Two filters 30 are provided. These filters 29 and 30 remove fine suspended matters in the nitrogen N 2 gas.

供給路２１の他端は、窒素Ｎ２ ガスの供給源に接続され、排出路２２の他端は、排気装置により特別の処理装置に導かれ、排気は、最終的には、無害処理が施されて、工場外に廃棄される。窒素Ｎ２ ガスの供給源は、本実施例においては、処理装置の室内Ａとされている。この室内Ａは、本実施例のＦＯＵＰ内ガスパージシステム２０に比べて大容量であり、窒素Ｎ２ ガスが充填された状態で、正圧に維持されており、室内Ａには、窒素Ｎ２ ガスのダウンフローが形成されているので、窒素Ｎ２ ガスをＦＯＵＰ１内に供給するのには、ポンプは必ずしも必要とされず、供給路２１の窒素Ｎ２ ガス導入口３１は、ポートプレート４０の下方部の壁を貫通した部位に設けられている。 The other end of the supply path 21 is connected to a nitrogen N 2 gas supply source, and the other end of the discharge path 22 is led to a special processing device by an exhaust device, and the exhaust is finally subjected to harmless processing. And discarded outside the factory. The supply source of nitrogen N 2 gas is the room A of the processing apparatus in this embodiment. The room A has a larger capacity than the gas purge system 20 in the FOUP of this embodiment, and is maintained at a positive pressure in a state filled with nitrogen N 2 gas. The room A contains nitrogen N 2 gas. Therefore, a pump is not necessarily required to supply nitrogen N 2 gas into the FOUP 1, and the nitrogen N 2 gas inlet 31 of the supply path 21 is located below the port plate 40. It is provided in the site | part which penetrated the wall of the part.

給気用パージポート３、給排気用パージポート４は、詳細には図示されないが、ＦＯＵ
Ｐ１の底壁５（図１参照）であって、そのＦＯＵＰ１の開口側の両端寄りの部分に、それぞれ設けられている。そして、それらの内部には逆止弁が備えられ、これらの逆止弁は、
所定圧以上のガス流により開放されて、当該ガスの一方向流れを許す。なお、給排気用パージポート４の内部には、給気・排気両用の逆止弁が備えられている。 The purge port 3 for supply air and the purge port 4 for supply and exhaust are not shown in detail, but FOU
The bottom wall 5 of P1 (see FIG. 1) is provided at each of the portions near the both ends of the FOUP 1 on the opening side. And check valves are provided inside them, and these check valves are
It is opened by a gas flow above a predetermined pressure, allowing a one-way flow of the gas. The supply / exhaust purge port 4 is provided with a check valve for both supply and exhaust.

したがって、今、供給路２１を通して給気ノズル２４にまで導かれた窒素Ｎ２ ガスは、給気ノズル２４が給気用パージポート３に接合され、給排気ノズル２５が給排気用パージポート４に接合されることにより、給気用パージポート３内の逆止弁を開いて、ＦＯＵＰ１内に噴出し、ＦＯＵＰ１内に供給される。同時に、ＦＯＵＰ１内に残存していた酸化性ガスは、この窒素Ｎ２ ガスにより追い出されて、給排気用パージポート４内の逆止弁を開き、給排気ノズル２５を経て、排出路２２を通り、ＦＯＵＰ１外に排出、廃棄される。 Therefore, the nitrogen N 2 gas led to the supply nozzle 24 through the supply path 21 is now joined to the supply purge port 3 and the supply / exhaust nozzle 25 to the supply / exhaust purge port 4. As a result of the joining, the check valve in the purge port 3 for supplying air is opened, ejected into the FOUP 1 and supplied into the FOUP 1. At the same time, the oxidizing gas remaining in the FOUP 1 is expelled by the nitrogen N 2 gas, opens the check valve in the purge port 4 for supply / exhaust, passes through the supply / exhaust nozzle 25 and passes through the discharge path 22. , Discharged outside FOUP1 and discarded.

窒素Ｎ２ ガスが給気用パージポート３からＦＯＵＰ１内に噴出されるとき、その噴出の向きは、ＦＯＵＰ１の開口側とは反対の奥側に向けられている（図１参照）。また、後述するように、窒素Ｎ２ ガスが給排気用パージポート４からＦＯＵＰ１内に噴出されるようにＦＯＵＰ内ガスパージシステム２０が使用されることもあり、このため、そこからの噴出の向きも、同様に、ＦＯＵＰ１の開口側とは反対の奥側に向けられている。後者の場合の窒素Ｎ２ ガスの噴出の向きは、酸化性ガスがＦＯＵＰ１内から給排気用パージポート４内に排出されるときの排出の向きとは逆になる。 When nitrogen N 2 gas is ejected from the supply purge port 3 into the FOUP 1, the direction of the ejection is directed to the back side opposite to the opening side of the FOUP 1 (see FIG. 1). Further, as will be described later, the FOUP gas purge system 20 may be used so that nitrogen N 2 gas is ejected from the supply / exhaust purge port 4 into the FOUP 1. Similarly, it is directed to the back side opposite to the opening side of the FOUP 1. The direction of nitrogen N 2 gas ejection in the latter case is opposite to the direction of discharge when oxidizing gas is discharged from the FOUP 1 into the supply / exhaust purge port 4.

給気ノズル２４と給気用パージポート３との接合、給排気ノズル２５と給排気用パージ
ポート４との接合は、ＦＯＵＰ１がＦＯＵＰオープナ１０のＦＯＵＰ載置台（ドックプレート）１１上に載置されることにより、自動的に行なわれるように構成することができる。供給路２１、排出路２２は、弾力性のあるホースにより形成されているので、ＦＯＵＰ
１が、ドックプレート１１の進退動により、ポートプレート４０に近づけられたり、遠ざけられたりするときに、これらの両接合部は、これと一体になって、進退動が可能であり、使い勝手が良い。 The FOUP 1 is placed on the FOUP mounting table (dock plate) 11 of the FOUP opener 10 for joining the air supply nozzle 24 and the air supply purge port 3 and joining the air supply / exhaust nozzle 25 and the air supply / exhaust purge port 4. Therefore, it can be configured to be performed automatically. Since the supply path 21 and the discharge path 22 are formed by elastic hoses, FOUP
When 1 is moved closer to or away from the port plate 40 due to the forward / backward movement of the dock plate 11, these two joint portions can be moved forward / backward together with this, which is convenient. .

次に、本実施例のＦＯＵＰ内ガスパージシステム２０の使用形態（ＦＯＵＰ内ガスパージ方法）について説明する。
本実施例のＦＯＵＰ内ガスパージシステム２０によれば、ＦＯＵＰ１の開閉状態等に応
じて、次の２つのパージパターンの選択が可能である。 Next, a usage pattern (FOUP gas purge method) of the FOUP gas purge system 20 of this embodiment will be described.
According to the gas purge system 20 in the FOUP of this embodiment, the following two purge patterns can be selected according to the open / close state of the FOUP 1 and the like.

第１のパージパターンでは、第１のバルブ２６の開、第３のバルブ２８の開及び第２のバルブ２７の閉動作により、給気ノズル２４及び給気用パージポート３を介してＦＯＵＰ１内に窒素Ｎ２ ガスを供給するとともに、給排気ノズル２５及び給排気用パージポート４を介しても、ＦＯＵＰ１内に窒素Ｎ２ ガスを供給する。 In the first purge pattern, the opening of the first valve 26, the opening of the third valve 28, and the closing operation of the second valve 27 cause the FOUP 1 to enter the FOUP 1 through the supply nozzle 24 and the supply purge port 3. It supplies the nitrogen N 2 gas, even through the supply and exhaust nozzle 25 and the supply and exhaust purge port 4, for supplying nitrogen N 2 gas into the FOUP 1.

また、第２のパージパターンでは、第１のバルブ２６の開、第３のバルブ２８の閉及び第２のバルブ２７の開動作により、給気ノズル２４及び給気用パージポート３を介してＦＯＵＰ１内に窒素Ｎ２ ガスを供給するとともに、給排気用パージポート４及び給排気ノズル２５を介してＦＯＵＰ１内の酸化性ガスを排出する。 In the second purge pattern, the first valve 26 is opened, the third valve 28 is closed, and the second valve 27 is opened, so that the FOUP 1 is supplied via the supply nozzle 24 and the supply purge port 3. Nitrogen N 2 gas is supplied to the inside, and the oxidizing gas in the FOUP 1 is discharged through the supply / exhaust purge port 4 and the supply / exhaust nozzle 25.

そして、ＦＯＵＰ１のドアが開いて、開放された状態にあるＦＯＵＰ１のドアが閉じ始
め、ＦＯＵＰ１が閉鎖されるまでの間は、第１のパージパターンを選択し、ＦＯＵＰ１が
閉鎖された後は、第２のパージパターンを選択して、ＦＯＵＰ内ガスのパージを行なうよ
うに、ＦＯＵＰ内ガスパージシステム２０を使用することができる。 Then, the first purge pattern is selected until the door of FOUP1 is opened, the door of FOUP1 in the opened state begins to close, and FOUP1 is closed. After the FOUP1 is closed, The FOUP gas purge system 20 can be used to select two purge patterns to purge the FOUP gas.

このような使用形態によれば、ＦＯＵＰ１のドアが開いて、開放された状態にあるＦＯＵＰ１のドアが閉じ始め、ＦＯＵＰ１が閉鎖されるまでの間は、２つのパージポート（給気用パージポート３、給排気用パージポート４）から多量の窒素Ｎ２ ガスを供給して、迅速に酸化性ガスを追い出し、ＦＯＵＰ１が閉じると、１つのパージポート（給気用パージポート３）から少量の窒素Ｎ２ ガスを供給し、残りの１つのパージポート（給排気用パージポート４）から酸化性ガスを排出するようにして、ＦＯＵＰ１内において窒素Ｎ２ ガスの一方向流れを作って、酸化性ガスの滞留域をなくし、ＦＯＵＰ１内を迅速に窒素Ｎ２ ガスで満たすようにすることができ、全体として、少ない窒素Ｎ２ ガス量で、短時間で、効率的にＦＯＵＰ１内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気に置換することが可能になる。 According to such a form of use, the two FOUP 1 doors open, the FOUP 1 door in the opened state begins to close, and until the FOUP 1 is closed, the two purge ports (supply purge port 3 When a large amount of nitrogen N 2 gas is supplied from the supply / exhaust purge port 4), the oxidizing gas is quickly expelled, and when the FOUP 1 is closed, a small amount of nitrogen N is supplied from one purge port (supply purge port 3). 2 gas is supplied, and the oxidizing gas is discharged from the remaining one purge port (supply / exhaust purge port 4) to create a one-way flow of nitrogen N 2 gas in the FOUP 1. eliminate stagnation zone, it is possible to satisfy rapidly nitrogen N 2 gas within the FOUP 1, as a whole, with a small nitrogen N 2 gas amount, short time, efficiently oxidized in FOUP 1 It is possible to replace the gas atmosphere in a non-oxidizing gas atmosphere.

特に、ＦＯＵＰ１のドアが開いて、開放された状態にあるＦＯＵＰ１のドアが閉じ始め、ＦＯＵＰ１が閉鎖されるまでの間は、酸化性ガスは、ＦＯＵＰ１から追い出され易い状態にあり、この時点で、第１のパージパターンが実行されて、２つのパージポート３、４から多量の窒素Ｎ２ ガスが供給されることにより、酸化性ガスを追い出す処理が、不活性ガスの無駄な消費なくして、迅速に行なわれる。 Particularly, the FOUP 1 door is opened, the door of the opened FOUP 1 begins to close, and until the FOUP 1 is closed, the oxidizing gas is in a state that is easily expelled from the FOUP 1. Since the first purge pattern is executed and a large amount of nitrogen N 2 gas is supplied from the two purge ports 3 and 4, the process of expelling the oxidizing gas can be performed quickly without wasteful consumption of inert gas. To be done.

本実施例のＦＯＵＰ内ガスパージシステム（ＦＯＵＰ内ガスパージ方法）は、前記のように構成されているので、次のような効果を奏することができる。
ＦＯＵＰ１をＦＯＵＰオープナ１０のＦＯＵＰ載置台（ドックプレート）１１上に載置するだけで、ＦＯＵＰ１に設けられた給気用パージポート３を窒素Ｎ２ ガス供給路２１の一端に設けられた給気ノズル２４に接合し、また、ＦＯＵＰ１に設けられた給排気用パージポート４を酸化性ガス排出路２２の一端に設けられた給排気ノズル２５に接合するように構成することが可能になるので、ＦＯＵＰ１内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気に置換する作業を簡単に行なうことができる。 Since the FOUP gas purge system (FOUP gas purge method) of the present embodiment is configured as described above, the following effects can be obtained.
An air supply nozzle provided at one end of a nitrogen N 2 gas supply path 21 is provided with an air supply purge port 3 provided on the FOUP 1 simply by placing the FOUP 1 on the FOUP mounting table (dock plate) 11 of the FOUP opener 10. 24, and the supply / exhaust purge port 4 provided in the FOUP 1 can be joined to the supply / exhaust nozzle 25 provided at one end of the oxidizing gas discharge path 22. The operation of replacing the oxidizing gas atmosphere inside with the non-oxidizing gas atmosphere can be easily performed.

また、第１ないし第３のバルブ２６、２７、２８の各開閉動作の組合せを種々に変えることにより、ＦＯＵＰ１の開閉状態に応じた最適のパージパターンを選択して、ＦＯＵＰ１内のガス置換を行なうことができ、少ない窒素Ｎ２ ガスで、短時間で、効率的にＦＯＵＰ１内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気に置換することができる。 Further, by changing various combinations of opening / closing operations of the first to third valves 26, 27, and 28, an optimum purge pattern corresponding to the opening / closing state of the FOUP 1 is selected, and gas replacement in the FOUP 1 is performed. The oxidizing gas atmosphere in the FOUP 1 can be efficiently replaced with the non-oxidizing gas atmosphere in a short time with a small amount of nitrogen N 2 gas.

また、給気用パージポート３及び給排気用パージポート４が、ＦＯＵＰ１の底壁５のＦＯＵＰ開口側の両端寄りにそれぞれ設けられ、これらのパージポート３、４を介してＦＯＵＰ１内に窒素Ｎ２ ガスを供給する方向が、ＦＯＵＰ１の奥側に向けられているので、ＦＯＵＰ１内に供給された窒素Ｎ２ ガスは、ＦＯＵＰ１内を残すところなく巡って一方向に流れて、そこに残存していた酸化性ガスをＦＯＵＰ１の外に追い出すので、ＦＯＵＰ１内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気に置換する作業を一層効率的に行なうことができる。 An air supply purge port 3 and an air supply / exhaust purge port 4 are provided near both ends of the bottom wall 5 of the FOUP 1 on the FOUP opening side, and nitrogen N 2 is introduced into the FOUP 1 through these purge ports 3 and 4. Since the gas supply direction is directed to the back side of the FOUP 1, the nitrogen N 2 gas supplied into the FOUP 1 flows in one direction without leaving the FOUP 1 and remains there. Since the oxidizing gas is driven out of the FOUP 1, the work of replacing the oxidizing gas atmosphere in the FOUP 1 with a non-oxidizing gas atmosphere can be performed more efficiently.

さらに、本実施例のＦＯＵＰ内ガスパージシステムを使用して行なわれる本実施例のＦ
ＯＵＰ内ガスパージ方法によれば、次のような効果を奏することができる。
ＦＯＵＰ１のドアが開いて、開放された状態にあるＦＯＵＰ１のドアが閉じ始めてから、２つのパージポート（給気用パージポート３、給排気用パージポート４）から多量の不
活性ガスを供給して、迅速に酸化性ガスを追い出し、ＦＯＵＰ１内を迅速に不活性ガスで
満たすようにすることができ、全体として、少ない不活性ガス量で、短時間で、効率的に
ＦＯＵＰ１内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気に置換することが可能になる。 Further, the F of the present embodiment is performed using the gas purge system in the FOUP of the present embodiment.
According to the OUP gas purge method, the following effects can be obtained.
After the door of FOUP1 is opened and the door of FOUP1 in the opened state starts to close, a large amount of inert gas is supplied from two purge ports (supply purge port 3 and supply / exhaust purge port 4). The FOUP 1 can be quickly expelled and the FOUP 1 can be quickly filled with the inert gas. As a whole, the oxidizing gas atmosphere in the FOUP 1 can be efficiently produced in a short time with a small amount of inert gas. Can be replaced with a non-oxidizing gas atmosphere.

特に、ＦＯＵＰ１のドアが開いて、開放された状態にあるＦＯＵＰ１のドアが閉じ始め
る段階では、酸化性ガスは、ＦＯＵＰ１から追い出され易い状態にあり、この時点で、２つのパージポート３、４から多量の不活性ガスが供給されることにより、酸化性ガスを追
い出す処理が、不活性ガスの無駄な消費なくして、迅速に行なわれる。
その他、前記したような種々の効果を奏することができる。 In particular, when the door of the FOUP 1 is opened and the door of the opened FOUP 1 starts to close, the oxidizing gas is easily expelled from the FOUP 1, and at this point, the two purge ports 3, 4 By supplying a large amount of inert gas, the process of expelling the oxidizing gas can be performed quickly without wasteful consumption of the inert gas.
In addition, various effects as described above can be achieved.

本願の発明は、以上の実施例に限定されず、その要旨を逸脱しない範囲において、種々の変形が可能である。
例えば、ＦＯＵＰ１、ＦＯＵＰオープナ１０、半導体ウエハ２は、下方開口型のＳＭＩＦポッド、ＳＭＩＦポッドオープナ、ガラス基板とされてもよい。また、窒素Ｎ２ ガスは、他の不活性ガスに変えられてもよい。 The invention of the present application is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention.
For example, the FOUP 1, the FOUP opener 10, and the semiconductor wafer 2 may be a lower opening type SMIF pod, an SMIF pod opener, and a glass substrate. Further, the nitrogen N 2 gas may be changed to another inert gas.

また、ＦＯＵＰ内ガスパージシステム２０の使用形態において、ＦＯＵＰ１のドアが開
いて、開放された状態にあるＦＯＵＰ１のドアが閉じ始め、ＦＯＵＰ１が閉鎖されるまで
の間であっても、ＦＯＵＰ１内に残留する酸化性ガス量が少ない場合には、第２のパージ
パターンを選択して、ＦＯＵＰ内ガスのパージを行なうように、ＦＯＵＰ内ガスパージシ
ステム２０を使用することが可能である。このようにしても、ＦＯＵＰ１内に残留する酸
化性ガスを迅速に排出することができる。 Further, in the usage mode of the gas purge system 20 in the FOUP, the door of the FOUP 1 is opened, the door of the opened FOUP 1 starts to be closed, and remains in the FOUP 1 even until the FOUP 1 is closed. When the amount of oxidizing gas is small, the FOUP gas purge system 20 can be used to select the second purge pattern and purge the FOUP gas. Even in this case, the oxidizing gas remaining in the FOUP 1 can be quickly discharged.

さらに、処理装置の室内Ａに窒素Ｎ２ ガスが充填されない場合もあり、この場合には、ＦＯＵＰ１内に供給される窒素Ｎ２ ガスの供給源は、通常、工場設備として配備される窒素Ｎ２ ガスの供給配管系から得られることになる。 Furthermore, in some cases nitrogen N 2 gas into the chamber A of the processing apparatus is not filled, in this case, the source of nitrogen N 2 gas supplied into the FOUP1 typically nitrogen N 2 which is deployed as factory equipment It will be obtained from the gas supply piping system.

本実施例の容器内ガスパージ方法が適用される容器及び容器開閉装置の概略側面図である。Is a schematic side view of a container and the container switchgear vessel gas sparging method of the present embodiment is applied. 同容器及び容器開閉装置の概略背面図（図１の左方から見た図）であって、ドックプレートを省略して示す図である。It is a schematic rear view (figure seen from the left side of FIG. 1) of the container and the container opening / closing device, and is a view in which the dock plate is omitted. 同容器及び容器開閉装置の概略平面図である。It is a schematic plan view of the container and the container opening / closing device. 同容器内ガスパージ方法のシステム構成図である。It is a system configuration view of the container in the gas purge method.

１…ＦＯＵＰ（容器）、２…半導体ウエハ、３…給気用パージポート、４…給排気用パ
ージポート、５…底壁、１０…ＦＯＵＰオープナ（容器開閉装置）、１１…ＦＯＵＰ載置
台（ドックプレート）、１２…ポートドア開閉装置、１３…ポートドア、２０…ＦＯＵＰ
内ガスパージシステム、２１…供給路、２２…排出路、２３…バイパス路、２４…給気ノ
ズル、２５…給排気ノズル、２６…第１のバルブ、２７…第２のバルブ、２８…第３のバ
ルブ、２９…第１のフィルタ、３０…第２のフィルタ、３１…ガス導入口、４０…ポート
プレート、４１…開口。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... FOUP (container), 2 ... Semiconductor wafer, 3 ... Supply purge port, 4 ... Supply / exhaust purge port, 5 ... Bottom wall, 10 ... FOUP opener (container opening / closing device), 11 ... FOUP mounting table (dock) Plate), 12 ... port door opening and closing device, 13 ... port door, 20 ... FOUP
Internal gas purge system, 21 ... supply path, 22 ... discharge path, 23 ... bypass path, 24 ... air supply nozzle, 25 ... air supply / exhaust nozzle, 26 ... first valve, 27 ... second valve, 28 ... third Valve, 29 ... 1st filter, 30 ... 2nd filter, 31 ... Gas inlet, 40 ... Port plate, 41 ... Opening.

Claims (3)

被処理材を密閉した状態で収容して搬送される容器の開閉装置の容器載置台上に載置された当該容器内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気に置換するための容器内ガスパージ方法であって、
容器内に非酸化性ガスを供給する供給路と、
容器内の酸化性ガスを排出する排出路と、
前記供給路と前記排出路とをそれぞれの途中で接続するバイパス路と
を備え、
前記供給路の容器側の一端には、容器に設けられた給気用パージポートに接続される給気ノズルが設けられ、
前記供給路と前記バイパス路との接続部よりも上流側には、第１のバルブが設けられ、
前記排出路の容器側の一端には、容器に設けられた給排気用パージポートに接続される給排気ノズルが設けられ、
前記排出路と前記バイパス路との接続部よりも下流側には、第２のバルブが設けられ、
前記バイパス路の中途部には、第３のバルブが設けられ、
前記第１のバルブの開、前記第３のバルブの開及び前記第２のバルブの閉動作により、
前記給気ノズル及び前記給気用パージポートを介して容器内に非酸化性ガスを供給するとともに、前記給排気ノズル及び前記給排気用パージポートを介して容器内に非酸化性ガスを供給する第１のパージパターンと、
前記第１のバルブの開、前記第３のバルブの閉及び前記第２のバルブの開動作により、
前記給気ノズル及び前記給気用パージポートを介して容器内に非酸化性ガスを供給するとともに、前記給排気用パージポート及び前記給排気ノズルを介して容器内の酸化性ガスを排出する第２のパージパターンと
が選択可能にされており、
容器のドアが開いて、開放された状態にある容器のドアが閉じ始め、容器が閉鎖される
までの間は、前記第１のパージパターンが選択され、容器が閉鎖された後は、前記第２の
パージパターンが選択される
ことを特徴とする容器内ガスパージ方法。 In- container gas purge for replacing the oxidizing gas atmosphere in the container placed on the container mounting table of the opening and closing device of the container to be accommodated and transported in a sealed state with a non-oxidizing gas atmosphere A method ,
A supply path for supplying non-oxidizing gas into the container ;
A discharge path for discharging the oxidizing gas in the container;
A bypass path connecting the supply path and the discharge path in the middle of each;
Wherein the container side end of the supply path, the supply air nozzles are provided that will be connected to the air supply purge port provided in the container,
A first valve is provided on the upstream side of the connection portion between the supply passage and the bypass passage,
Wherein the container side end of the discharge path includes a paper exhaust nozzle is provided that will be connected to the purge port for air supply and exhaust provided in the container,
A second valve is provided on the downstream side of the connection portion between the discharge passage and the bypass passage,
A third valve is provided in the middle of the bypass path ,
By opening the first valve, opening the third valve, and closing the second valve,
Supplies the non-oxidizing gas to the air supply through the nozzles and the air supply for the purge port container, supplies a non-oxidizing gas into the container through the supply and exhaust nozzle and the purge port for the supply and exhaust A first purge pattern;
By opening the first valve, closing the third valve, and opening the second valve,
A non-oxidizing gas is supplied into the container through the air supply nozzle and the air supply purge port, and an oxidizing gas in the container is discharged through the air supply / exhaust purge port and the air supply / exhaust nozzle. 2 purge patterns can be selected,
The first purge pattern is selected until the container door is opened, the container door in the opened state begins to close, and the container is closed.After the container is closed, the first purge pattern is selected. 2. A method for purging a gas in a container, wherein two purge patterns are selected. 被処理材を密閉した状態で収容して搬送される容器の開閉装置の容器載置台上に載置された当該容器内の酸化性ガス雰囲気を非酸化性ガス雰囲気に置換するための容器内ガスパージ方法であって、In-container gas purge for replacing the oxidizing gas atmosphere in the container placed on the container mounting table of the opening and closing device of the container to be accommodated and transported in a sealed state with a non-oxidizing gas atmosphere A method,
容器内に非酸化性ガスを供給する供給路と、A supply path for supplying non-oxidizing gas into the container;
容器内の酸化性ガスを排出する排出路と、A discharge path for discharging the oxidizing gas in the container;
前記供給路と前記排出路とをそれぞれの途中で接続するバイパス路とA bypass path connecting the supply path and the discharge path in the middle of each;
を備え、With
前記供給路の容器側の一端には、容器に設けられた給気用パージポートに接続される給気ノズルが設けられ、At one end of the supply path on the container side, an air supply nozzle connected to an air supply purge port provided in the container is provided,
前記供給路と前記バイパス路との接続部よりも上流側には、第１のバルブが設けられ、A first valve is provided on the upstream side of the connection portion between the supply passage and the bypass passage,
前記排出路の容器側の一端には、容器に設けられた給排気用パージポートに接続される給排気ノズルが設けられ、A supply / exhaust nozzle connected to a supply / exhaust purge port provided in the container is provided at one end of the discharge path on the container side,
前記排出路と前記バイパス路との接続部よりも下流側には、第２のバルブが設けられ、A second valve is provided on the downstream side of the connection portion between the discharge passage and the bypass passage,
前記バイパス路の中途部には、第３のバルブが設けられ、A third valve is provided in the middle of the bypass path,
前記第１のバルブの開、前記第３のバルブの開及び前記第２のバルブの閉動作により、By opening the first valve, opening the third valve, and closing the second valve,
前記給気ノズル及び前記給気用パージポートを介して容器内に非酸化性ガスを供給するとともに、前記給排気ノズル及び前記給排気用パージポートを介して容器内に非酸化性ガスを供給する第１のパージパターンと、A non-oxidizing gas is supplied into the container through the supply nozzle and the supply purge port, and a non-oxidizing gas is supplied into the container through the supply / exhaust nozzle and the supply / exhaust purge port. A first purge pattern;
前記第１のバルブの開、前記第３のバルブの閉及び前記第２のバルブの開動作により、By opening the first valve, closing the third valve, and opening the second valve,
前記給気ノズル及び前記給気用パージポートを介して容器内に非酸化性ガスを供給するとともに、前記給排気用パージポート及び前記給排気ノズルを介して容器内の酸化性ガスを排出する第２のパージパターンとA non-oxidizing gas is supplied into the container through the air supply nozzle and the air supply purge port, and an oxidizing gas in the container is discharged through the air supply / exhaust purge port and the air supply / exhaust nozzle. 2 purge patterns and
が選択可能にされており、Is made selectable,
容器のドアが開いて、開放された状態にある容器のドアが閉じ始め、容器が閉鎖されるThe container door opens, the opened container door begins to close, and the container is closed
までの間、最初は、前記第１のパージパターンが選択され、容器内に残留する酸化性ガス量が少なくなったときは、容器のドアが開いて、開放された状態であっても、前記第２のパージパターンが選択され、容器が閉鎖された後は、前記第２のパージパターンが選択されるUntil the first purge pattern is selected and when the amount of oxidizing gas remaining in the container is reduced, the container door is opened and opened. After the second purge pattern is selected and the container is closed, the second purge pattern is selected.
ことを特徴とする容器内ガスパージ方法。And a gas purging method in the container. 前記容器の底壁の容器開口側の両端寄りにそれぞれ設けられた前記給気用パージポート及び前記給排気用パージポートから、容器の奥側に向けて非酸化性ガスが供給されるA non-oxidizing gas is supplied from the air supply purge port and the air supply / exhaust purge port respectively provided near the both ends of the container opening side of the bottom wall of the container toward the inner side of the container.
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の容器内ガスパージ方法。The in-container gas purging method according to claim 1 or 2, wherein:
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