JP4416540B2 - 収差測定方法 - Google Patents
収差測定方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4416540B2 JP4416540B2 JP2004062472A JP2004062472A JP4416540B2 JP 4416540 B2 JP4416540 B2 JP 4416540B2 JP 2004062472 A JP2004062472 A JP 2004062472A JP 2004062472 A JP2004062472 A JP 2004062472A JP 4416540 B2 JP4416540 B2 JP 4416540B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical system
- numerical aperture
- lens
- light
- projection optical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Description
被検レンズ400の開口数が数式1を満足した状態で、波面収差の測定を軸上及び軸外の任意の点について行うことで、高精度な波面収差の測定が行える。ここで、図3を使って、開口数NA1の状態において回折光が波面収差の測定に対して与える影響について説明する。図3は、円形瞳の一断面における波面収差を示す図である。横軸が瞳中心を通る一断面の瞳座標、縦軸は波面収差の値を示す。図3に示すように、位相変化は、被検レンズ400の開口数NA0乃至NA1の範囲(図3中の波面収差の変化している範囲)のみとなり、被検レンズ400の有効開口数の内部には発生しない。この結果、被検レンズ400の有効開口数内部の瞳全面において、高精度な波面収差の測定が可能となる。ここで、図3は、収差測定装置100における被検レンズ400の瞳周辺の波面収差を示す概略模式図である。
110 光源
120 干渉計ユニット
121 集光レンズ
122 空間フィルター
123 ハーフミラー
124 コリメータレンズ
125 空間フィルター
126 結像レンズ
127 CCDカメラ
130 引き回し光学系
140 TS−XYZステージ
150 TSレンズ
160 RS−XYZステージ
168 RSミラー
170 開口数変更手段
172 駆動部
174 制御部
180 主制御装置
200 露光装置
210 光源
212 ビーム整形光学系
214 光路切り替えミラー
216 インコヒーレント化光学系
218 照明光学系
220 マスク
222 投影光学系
222a 開口絞り
224 ウェハ
226 ウェハステージ
230 引き回し光学系
232 集光レンズ
234 ピンホール
236 コリメータレンズ
238 ハーフミラー
250 補正手段
400 被検レンズ
410 開口絞り
Claims (5)
- 集光光学系により集光した光束を被検光学系に入射させ、前記被検光学系を介した光束を前記被検光学系の光射出側の集光点に曲率中心を設定した反射光学系により反射して再度前記被検光学系に入射させ、再度前記被検光学系を介した光束を利用して前記被検光学系の波面収差を干渉縞として検出する収差測定方法であって、
前記被検光学系の開口数を、前記被検光学系を実際に使用する際の最大開口数よりも大きな開口数に設定するステップと、
その設定された開口数において前記被検光学系の波面収差を測定するステップとを有することを特徴とする収差測定方法。 - 前記被検光学系を実際に使用する際の最大開口数をNA0、前記設定された開口数をNA1とするとき、
NA0/NA1 < 0.995
なる条件を満足することを特徴とする請求項1記載の収差測定方法。 - 開口数が可変の投影光学系を有し、該投影光学系によりレチクルに形成されたパターンをウェハ上に投影する露光装置であって、
前記投影光学系の光入射側に配置された集光光学系と、前記投影光学系の光射出側に配置された反射光学系と、前記投影光学系の波面収差を干渉縞として検出する検出光学系とを備える収差測定系を有し、該収差測定系は、前記集光光学系により集光した光束を前記投影光学系に入射させ、前記投影光学系を介した光束を前記投影光学系の光射出側の集光点に曲率中心を設定した前記反射光学系により反射して再度前記投影光学系に入射させ、再度前記投影光学系を介した光束を利用して、干渉縞を形成すると共に、前記投影光学系の開口数を実露光時の最大開口数よりも大きな開口数に設定し、その設定された開口数において前記投影光学系の波面収差を測定することを特徴とする露光装置。 - 前記収差測定系が測定した前記波面収差に基づいて、前記投影光学系の波面収差を補正する補正手段を有することを特徴とする請求項3記載の露光装置。
- ウエハにレジストを塗布するステップと、請求項3に記載の露光装置を用いてレジストが塗布されたウエハを露光するステップと、露光された前記レジストを現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004062472A JP4416540B2 (ja) | 2003-03-07 | 2004-03-05 | 収差測定方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003062016 | 2003-03-07 | ||
JP2004062472A JP4416540B2 (ja) | 2003-03-07 | 2004-03-05 | 収差測定方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004297046A JP2004297046A (ja) | 2004-10-21 |
JP4416540B2 true JP4416540B2 (ja) | 2010-02-17 |
Family
ID=33436403
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004062472A Expired - Fee Related JP4416540B2 (ja) | 2003-03-07 | 2004-03-05 | 収差測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4416540B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7688426B2 (en) * | 2004-04-14 | 2010-03-30 | Litel Instruments | Method and apparatus for measurement of exit pupil transmittance |
JP2006135111A (ja) | 2004-11-05 | 2006-05-25 | Canon Inc | 波面収差測定装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
JP5129702B2 (ja) * | 2008-09-17 | 2013-01-30 | キヤノン株式会社 | 測定装置、露光装置およびデバイス製造方法 |
CN109029935B (zh) * | 2018-08-30 | 2024-02-27 | 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所 | 光学镜头的间距偏心和波前像差一体化测量装置 |
-
2004
- 2004-03-05 JP JP2004062472A patent/JP4416540B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004297046A (ja) | 2004-10-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100879306B1 (ko) | 측정방법 및 장치와, 노광장치 | |
JP3796369B2 (ja) | 干渉計を搭載した投影露光装置 | |
JP4944690B2 (ja) | 位置検出装置の調整方法、位置検出装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP3796368B2 (ja) | 投影露光装置 | |
JP5219534B2 (ja) | 露光装置及びデバイスの製造方法 | |
JP4408040B2 (ja) | 干渉を利用した測定方法及び装置、それを利用した露光方法及び装置、並びに、デバイス製造方法 | |
JP2005244126A (ja) | 測定装置を搭載した露光装置 | |
JP3774590B2 (ja) | 投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 | |
JP2002071514A (ja) | 検査装置、該検査装置を備えた露光装置、およびマイクロデバイスの製造方法 | |
US6977728B2 (en) | Projection exposure apparatus and aberration measurement method | |
JP2005166785A (ja) | 位置検出装置及び方法、並びに、露光装置 | |
JP3762323B2 (ja) | 露光装置 | |
US20060227334A1 (en) | Aberration measuring method for projection optical system with a variable numerical aperture in an exposure apparatus | |
JP4912205B2 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP4416540B2 (ja) | 収差測定方法 | |
JP2005294404A (ja) | 測定装置、測定方法及びそれを有する露光装置及び露光方法、それを利用したデバイス製造方法 | |
JP2008124308A (ja) | 露光方法及び露光装置、それを用いたデバイス製造方法 | |
JP4311713B2 (ja) | 露光装置 | |
JP3673731B2 (ja) | 露光装置及び方法 | |
JP2005175383A (ja) | 露光装置、アライメント方法、及び、デバイスの製造方法 | |
JP4250439B2 (ja) | 収差測定装置 | |
JP2006080444A (ja) | 測定装置、テストレチクル、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP6226525B2 (ja) | 露光装置、露光方法、それらを用いたデバイスの製造方法 | |
JP4343545B2 (ja) | 測定方法 | |
JP2004281904A (ja) | 位置計測装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070227 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091111 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091117 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091124 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4416540 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121204 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131204 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |