JP4413488B2 - 液晶表示装置用パターンレイアウト方法、その装置および液晶表示装置用パターンレイアウトプログラムを記憶した記録媒体 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、スペーサを適切な領域に発生させる液晶表示装置用パターンレイアウト方法、その装置および液晶表示装置用パターンレイアウトプログラムを記憶した記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、テレビジョン表示やグラフィックスディスプレイなどの大型で高密度の液晶表示装置が開発されている。
【0003】
このような液晶表示装置は、アレイ基板に対向基板を対向させ、これらアレイ基板および対向基板のそれぞれに配向膜を設け、これら配向膜を対向した状態でアレイ基板および対向基板を間隙を介して対向させて周辺領域をシール剤および封止剤で貼り合わせ、アレイ基板および対向基板間に液晶層を挟持している。
【0004】
また、アレイ基板および対向基板間には、これらアレイ基板および対向基板間の距離を保持するために、たとえばフォトリソグラフィ法により形成された樹脂のスペーサ柱が配置され、カラー表示する場合には、アレイ基板または対向基板の一方に、赤色(R)、緑色(G)および青色(B)の着色層が配置されている。
【0005】
また、液晶表示装置1は、図41に示すように、中央に表示領域2を有し、この表示領域2の周囲の額縁領域3に表示領域2を駆動する駆動回路4が形成されている。このため、間隙を保持するスペーサ柱を配置するための配置領域5は液晶表示装置1の周辺部に集中的に配置される。
【0006】
ところが、図42に示すように、液晶表示装置1の周辺の配置領域5にも、たとえばセルの組立マーク6などが存在し、この組立マーク6とスペーサ柱とが重なると液晶表示装置1の組み立てができなくなるので、たとえば組立マーク6などの周囲にスペーサ柱を配置してはならない禁止領域7が多数存在する。
【0007】
そして、アレイ基板を設計する際に、レイア概念を持った二次元平面図を描画できるCADシステムが用いられている(たとえば特許文献1参照)。
【0008】
ここで、このようなCADシステムを用いた従来例の液晶表示装置のアレイ基板のスペーサ柱パターンを設計する方法について、図43を参照して説明する。
【0009】
まず、アレイ基板のスペーサ柱パターンを発生させる配置領域5を確認する(ステップ1)。
【0010】
次に、図44に示すように、この配置領域5内でスペーサ柱パターンを発生してはいけない禁止領域7を確認する(ステップ2)。
【0011】
さらに、この禁止領域7を除く配置領域5上を覆い尽くすように発生領域8を設定し、この発生領域8にスペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させる(ステップ3)。
【0012】
そして、発生したマトリックス状のスペーサ柱パターンと禁止領域7に重なりがないか判定する(ステップ4)。
【0013】
このステップ4で重なりがあると判断されるとステップ3に戻り、ステップ4で重なりがないと判断されるとマトリックス状のスペーサ柱パターンがない発生領域8がないか判断する(ステップ5)。
【0014】
そして、ステップ4でマトリックス状のスペーサ柱がない発生領域8があると判断されるとステップ3に戻り、ステップ4で全ての発生領域8にマトリックス状のスペーサ柱パターンがあれば、アレイパターンおよびマトリックス状のスペーサ柱パターンを有するガラス基板パターンを保存する(ステップ6)。
【0015】
このように従来の液晶表示装置のアレイ基板のスペーサ柱の設計では、全ての設計工程を手作業で進めなければならないとともに、マトリックス状のスペーサ柱パターンと禁止領域との重なり判断、全ての発生領域にマトリックス状のスペーサ柱パターンを発生できたか否かの判断を人手を介してしなければならず、繰り返し作業も多い。
【0016】
なお、このような液晶表示装置のアレイ基板上のマトリックス状のスペーサ柱パターンを設計するためには、レイア概念を持った二次元平面図を描画できるCADシステムが一般に用いられる。そして、二次元平面を描画するためにCADシステムは、データベース上に原点とXY軸を設定し、指定されたレイアによってアレイ基板のパターンが描画できる。また、レイアとはCADシステム上に描画されたパターンを表現する要素の一つで、アレイ基板の製造に用いるマスクをいい、CADシステム上に描画されたデータベース上のパターンは、レイアと頂点座標リストによって最小構成が表される。
【0017】
【特許文献1】
特開2002−163323号公報(第3頁−第7頁)
【0018】
【発明が解決しようとする課題】
上述のように、マトリックス状のスペーサ柱パターンの発生作業では、禁止領域を避けて所定のサイズのマトリックス状のスペーサ柱を発生させなければならず、繰り返し作業が多く膨大な時間がかかる上に、人による判断が必要で、設計ミスのおそれがある問題を有している。
【0019】
本発明は、上記問題点に鑑みなされたもので、設計期間が大幅に短縮し設計効率の向上を図って必要な部分に確実にスペーサの発生が可能な液晶表示装置用パターンレイアウト方法、その装置および液晶表示装置用パターンレイアウトプログラムを記憶した記録媒体を提供することを目的とする。
【0020】
【課題を解決するための手段】
本発明は、スペーサを発生させたい発生領域を長方形でない多角形で指定し、この発生領域内のスペーサの発生を禁止する禁止領域を長方形でない多角形で指定し、長方形でない多角形の発生領域を長方形に分割して形成し、長方形でない多角形の禁止領域を長方形に分割して形成し、この禁止領域で長方形に分割できなかった禁止領域を含む最小の長方形を形成し、この最小の長方形を禁止領域に加え、発生領域を分割した長方形群と禁止領域を分割した長方形群との座標に基づき、発生領域の長方形群を、禁止領域の長方形群を避けるようにさらに長方形に分割し、これら禁止領域を避けて分割した長方形の発生領域にスペーサを配置させるもので、長方形でない多角形の発生領域を長方形に分割して形成し、かつ、発生領域内の長方形でない多角形の禁止領域を長方形に分割して形成するとともに、この禁止領域で長方形に分割できなかった禁止領域を含む最小の長方形を形成してこの最小の長方形を禁止領域に加え、発生領域を分割した長方形群と禁止領域を分割した長方形群との座標に基づき、発生領域の長方形群を、禁止領域の長方形群を避けるようにさらに長方形に分割し、これら禁止領域を避けて分割した長方形の発生領域にスペーサを配置させることにより、効率的に発生領域および禁止領域を形成でき、簡単に必要な部分に確実にスペーサの発生を可能にする。
【0021】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施の形態の液晶表示装置用パターンレイアウト装置を図面を参照して説明する。なお、従来例で説明した部分に対応する部分については同一符号を付して説明する。
【0022】
この実施の形態も、たとえば図41に示す液晶表示装置1を形成する際に用いるもので、ステッパ式露光装置を用いる場合のコンピュータのCADシステムによる設計方法にも有効である。
【0023】
すなわち、図41に示すように、液晶表示装置1の表示領域2の周囲の額縁領域3に表示領域2を駆動する駆動回路4が形成され、これら表示領域2および額縁領域3を避けて、間隙を保持するスペーサ柱を配置するための配置領域5を液晶表示装置1の周辺部に集中的に配置している。
【0024】
まず、一関連技術の基本的な動作について、図1に示すフローチャートを参照して説明する。
【0025】
最初に、図形処理手段などを用いてアレイ基板パターンのスペーサ柱パターンを発生させなければならない配置領域5を配置領域指定手段により図2(a)に示すように長方形で指定する(ステップ11)。
【0026】
次に、配置領域5内のスペーサ柱パターンを発生してはならない禁止領域7を禁止領域指定手段により長方形で指定する(ステップ12)。
【0027】
そして、配置領域5内で禁止領域7でない領域を、長方形に分割し複数の発生領域8群を発生領域形成手段により図2(b)に示すように形成する(ステップ13)。
【0028】
このようにして、配置領域5内の長方形の禁止領域7を避けて、発生領域8を長方形に分割し、発生可能領域の長方形の頂点座標をファイルなどの記憶装置に保存し、この座標ファイルを用いてスペーサ配置手段によりスペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させる(ステップ14)。
【0029】
ここで、ステップ13の配置領域5内のスペーサ柱パターンを発生してはならない禁止領域7を長方形で指定することについての具体的な動作を、図3に示すフローチャートを参照して説明する。
【0030】
まず、発生領域8の長方形の座標を保存するための配列CO、禁止領域7の長方形の座標を保存するための配列MK、作業用の配列UNを、コンピュータ上の仮想記憶領域に確保し、初期化する(ステップ21)。
【0031】
次に、配列MKに禁止領域7の長方形を左上座標で比較して、図4に示すように、Y座標が大きい順でY座標が同じ場合はX座標が小さい順にソーティングして保存する(ステップ22)。
【0032】
そして、作業用配列UN[1]に発生領域8の座標を保存する(ステップ23)。さらに、i=1、j=1として(ステップ24)、UN[i]とMK[j]に重なりがあるか検査する(ステップ25)。重なりがなければ、jがJ以上であるか否かを判断し(ステップ26)、jがJ以上になるまではステップ24に戻り、jがJ以上になるまでj=j+1として重なりを検査する(ステップ27)。
【0033】
さらに、全てのjに対してUN[i]とMK[j]に重なりがないときは、重なりがない場合の処理をする(ステップ28)。
【0034】
一方、ステップ25で重なりがあるとされた場合は、重なりがある場合の処理をする(ステップ29)。
【0035】
そして、これらステップ28またはステップ29の処理をした後は、作業用配列UNにデータがあるかを確認し(ステップ30)、ある場合にはステップ24に戻り、ない場合には発生領域8の配列COの座標をファイルに書き出す(ステップ31)。
【0036】
次に、ステップ28の重なりがない場合の処理について、図5に示すフローチャートを参照して説明する。
【0037】
まず、重なりがない場合は、対象としたUN[1]の内部に禁止領域7が存在しないということなので、UN[1]は全体が発生領域8となる。すなわち、発生領域8用の配列CO[K+1]にUN[1]の内容を代入する(ステップ41)。そして、配列COの配列数Kに1を加え(ステップ42)、iを1からI−1まで、UN[i]にUN[i+1]の内容を代入し(ステップ43)、作業用配列の配列数Iを−1する(ステップ44)。
【0038】
次に、ステップ29で重なりがあるとした場合の処理について図6に示すフローチャートについて説明する。
【0039】
まず、禁止領域7の配列MK[j]がUN[i]に含まれるか判定し(ステップ51)、含まれると判断された場合には含まれている場合の処理をする(ステップ52)。
【0040】
また、ステップ51で含まれないと判断された場合には禁止領域7の配列MK[j]がUN[i]の上辺と重なるか判定し(ステップ53)、上辺に重なると判断された場合には上辺に重なる場合の処理をする(ステップ54)。
【0041】
さらに、ステップ53で上辺と重ならないと判断された場合には禁止領域7の配列MK[j]がUN[i]の左辺と重なるか判定し(ステップ55)、左辺に重なると判断された場合には左辺に重なる場合の処理をする(ステップ56)。
【0042】
またさらに、ステップ55で左辺と重ならないと判断された場合には禁止領域7の配列MK[j]がUN[i]の下辺と重なるか判定し(ステップ57)、下辺に重なると判断された場合には下辺に重なる場合の処理をする(ステップ58)。
【0043】
そしてまた、ステップ57で下辺と重ならないと判断された場合にはいずれにも該当せず禁止領域7の配列MK[j]がUN[i]の右辺と重なるので、右辺に重なると判断された場合には右辺に重なる場合の処理をする(ステップ59)。
【0044】
ここで、ステップ52の禁止領域7の配列MK[j]がUN[i]に含まれると判断された場合の処理について図7に示すフローチャートを参照して説明する。
【0045】
まず、図8に示すように、禁止領域7の配列MK[j]の上辺および下辺をX軸と変更に延ばした線分で作業配列UN[i]の長方形の配置領域5を4つの長方形の発生領域8に分割し、禁止領域7の上辺側にある長方形を上辺側長方形、左辺側を左辺側長方形、下辺側を下辺側長方形、右辺側を右辺側長方形とし、それぞれ発生領域8を形成する(ステップ61)。
【0046】
そして、上辺側長方形の発生領域8には禁止領域7は含まれていないので、発生領域8の配列CO[K+1]に上辺側長方形の座標を代入する(ステップ62)。
【0047】
次に、配列COの個数Kに1を加え(ステップ63)、UN[I+1]に左辺側長方形の発生領域8の座標を代入し(ステップ64)、UN[I+2]に下辺側長方形の発生領域8の座標を代入し(ステップ65)、UN[I+3]に右辺側長方形の発生領域8の座標を代入し(ステップ66)、配列UNの個数Iに3を加える(ステップ67)。
【0048】
そして、iを1からI−1まで、UN[i]にUN[i+1]の内容を代入し(ステップ68)、作業用配列の配列数Iを−1する(ステップ69)。
【0049】
次に、ステップ54の禁止領域7の配列MK[j]がUN[i]の上辺と重なると判断された場合の処理について図9に示すフローチャートを参照して説明する。
【0050】
まず、図10に示すように、禁止領域7の配列MK[j]の下辺をX軸と変更に延ばした線分で作業配列UN[i]の長方形の配置領域5を3つの長方形の発生領域8に分割し、禁止領域7の左辺側を左辺側長方形、下辺側を下辺側長方形、右辺側を右辺側長方形とし、それぞれ発生領域8を形成する(ステップ71)。
【0051】
そして、UN[I+1]に左辺側長方形の発生領域8の座標を代入し(ステップ72)、UN[I+2]に下辺側長方形の発生領域8の座標を代入し(ステップ73)、UN[I+3]に右辺側長方形の発生領域8の座標を代入し(ステップ74)、配列UNの個数Iに3を加える(ステップ75)。
【0052】
また、iを1からI−1まで、UN[i]にUN[i+1]の内容を代入し(ステップ76)、作業用配列の配列数Iを−1する(ステップ77)。
【0053】
また、ステップ52の禁止領域7の配列MK[j]がUN[i]の左辺に重なると判断された場合の処理について図11に示すフローチャートを参照して説明する。
【0054】
まず、図12に示すように、禁止領域7の配列MK[j]の上辺および下辺をX軸と変更に延ばした線分で作業配列UN[i]の長方形の配置領域5を3つの長方形の発生領域8に分割し、禁止領域7の上辺側にある長方形を上辺側長方形、下辺側を下辺側長方形、右辺側を右辺側長方形とし、それぞれ発生領域8を形成する(ステップ81)。
【0055】
そして、上辺側長方形の発生領域8には禁止領域7は含まれていないので、発生領域8の配列CO[K+1]に上辺側長方形の座標を代入する(ステップ82)。
【0056】
次に、配列COの個数Kに1を加え(ステップ83)、UN[I+1]に下辺側長方形の発生領域8の座標を代入し(ステップ84)、UN[I+2]に右辺側長方形の発生領域8の座標を代入し(ステップ85)、配列UNの個数Iに2を加える(ステップ86)。
【0057】
そして、iを1からI−1まで、UN[i]にUN[i+1]の内容を代入し(ステップ87)、作業用配列の配列数Iを−1する(ステップ88)。
【0058】
さらに、ステップ52の禁止領域7の配列MK[j]がUN[i]の下辺に重なると判断された場合の処理について図13に示すフローチャートを参照して説明する。
【0059】
まず、図14に示すように、禁止領域7の配列MK[j]の上辺をX軸と変更に延ばした線分で作業配列UN[i]の長方形の配置領域5を3つの長方形の発生領域8に分割し、禁止領域7の上辺側にある長方形を上辺側長方形、左辺側を左辺側長方形、右辺側を右辺側長方形とし、それぞれ発生領域8を形成する(ステップ91)。
【0060】
そして、上辺側長方形の発生領域8には禁止領域7は含まれていないので、発生領域8の配列CO[K+1]に上辺側長方形の座標を代入する(ステップ92)。
【0061】
次に、配列COの個数Kに1を加え(ステップ93)、UN[I+1]に左辺側長方形の発生領域8の座標を代入し(ステップ94)、UN[I+2]に右辺側長方形の発生領域8の座標を代入し(ステップ95)、配列UNの個数Iに2を加える(ステップ96)。
【0062】
そして、iを1からI−1まで、UN[i]にUN[i+1]の内容を代入し(ステップ97)、作業用配列の配列数Iを−1する(ステップ98)。
【0063】
またさらに、ステップ52の禁止領域7の配列MK[j]がUN[i]の右辺に重なると判断された場合の処理について図15に示すフローチャートを参照して説明する。
【0064】
まず、図16に示すように、禁止領域7の配列MK[j]の上辺および下辺をX軸と変更に延ばした線分で作業配列UN[i]の長方形の配置領域5を3つの長方形の発生領域8に分割し、禁止領域7の上辺側にある長方形を上辺側長方形、左辺側を左辺側長方形、下辺側を下辺側長方形とし、それぞれ発生領域8を形成する(ステップ101)。
【0065】
そして、上辺側長方形の発生領域8には禁止領域7は含まれていないので、発生領域8の配列CO[K+1]に上辺側長方形の座標を代入する(ステップ102)。
【0066】
次に、配列COの個数Kに1を加え(ステップ103)、UN[I+1]に左辺側長方形の発生領域8の座標を代入し(ステップ104)、UN[I+2]に下辺側長方形の発生領域8の座標を代入し(ステップ105)、配列UNの個数Iに2を加える(ステップ106)。
【0067】
そして、iを1からI−1まで、UN[i]にUN[i+1]の内容を代入し(ステップ107)、作業用配列の配列数Iを−1する(ステップ108)。
【0068】
このようにして、配置領域5の長方形を禁止領域7の長方形を避けて、発生領域8の長方形に分割することができ、発生可能領域の長方形の頂点座標をファイルに保存できる。なお、いずれも配置領域5、禁止領域7および発生領域8長方形にすることにより、データ処理が簡単になり、データ処理時間を短くできる。
【0069】
さらに、ステップ14で配置領域5内の長方形の禁止領域7を避けて発生領域8を長方形に分割し、発生領域8の長方形の頂点座標をファイルに保存し、この座業ファイルを用いてスペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させることを、図17に示すフローチャートを参照して説明する。
【0070】
まず、ファイルに保存した発生可能領域の頂点座標を読み込む(ステップ111)。
【0071】
また、K=1として(ステップ112)、k番目の発生可能領域内にスペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させ、全ての発生領域についての処理する(ステップ113)。
【0072】
そして、全ての発生領域8内にスペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させ、全ての発生領域8内にスペーサ柱パターンがマトリックス状に発生したか否かを判断し(ステップ114)、k=k+1として(ステップ115)ステップ113に戻り、ガラス基板パターンをハードディスク上などの記憶装置に保存する(ステップ116)。
【0073】
このようにすることで、指定した配置領域5内の禁止領域7を除いた部分の発生領域8内にスペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させたガラス基板パターンを、容易に作成できる。
【0074】
従来例では、スペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させるのに5時間かかっていたが、上記関連技術によれば、発生作業が1時間になり、1/5に短縮され、設計ミスの低減が達成できた。
【0075】
次に、図4に示す配置領域5から禁止領域7を除いた部分に発生領域8を形成する具体的な動作について図18ないし図23を参照して説明する。
【0076】
まず、図4に示すように、配置領域5内の5つの禁止領域7をソーティングする。
【0077】
そして、配置領域5内には5つの第1ないし第5の禁止領域7が含まれているので、ステップ52により、図8に示すように、第1番目の禁止領域7の上辺および下辺をX軸方向に延長し、4つの長方形の発生領域8を分割して形成する。
【0078】
次に、第1および第2の発生領域8には禁止領域7が含まれないので、第1および第2の発生領域8はステップ28の重なりがない処理をし、第3の発生領域8は第2および第3の禁止領域7の上辺が重なっているので、ステップ54により、第2の禁止領域7の下辺をX軸方向に延長し、図18に示す第3の発生領域8を、図19に示すように3つの第3ないし第5の発生領域8に分割する。また、第4の発生領域8は、第6の発生領域8とする。
【0079】
また、第3の発生領域8には禁止領域7が含まれないので、第3の発生領域8はステップ28の重なりがない処理をし、第4の発生領域8は第4および第5の禁止領域7が含まれているので、ステップ52により、第4の禁止領域7の上辺および下辺をX軸方向に延長し、図19に示す第4の発生領域8を、図20に示すように4つの第4ないし第7の発生領域8に分割する。また、第5および第6の発生領域8は、第8および第9の発生領域8とする。
【0080】
さらに、第4および第5の発生領域8には禁止領域7が含まれないので、第4および第5の発生領域8はステップ28の重なりがない処理をし、第6の発生領域8は第5の禁止領域7が含まれているので、ステップ54により、第4の禁止領域7の下辺をX軸方向に延長し、図20に示す第4の発生領域8を、図21に示すように3つの第6ないし第8の発生領域8に分割する。また、第7ないし第9の発生領域8は、第9ないし第11の発生領域8とする。
【0081】
またさらに、第6ないし第8の発生領域8には禁止領域7が含まれないので、第6ないし第8の発生領域8はステップ28の重なりがない処理をし、第9の発生領域8は第5の禁止領域7が含まれているので、ステップ58により、第5の禁止領域7の上辺をX軸方向に延長し、図21に示す第9の発生領域8を、図22に示すように3つの第9ないし第11の発生領域8に分割する。また、第10および第11の発生領域8は、第12および第13の発生領域8とする。
【0082】
そして、第9ないし第11の発生領域8には禁止領域7が含まれないので、第9ないし第11の発生領域8はステップ28の重なりがない処理をし、第12の発生領域8は第3の禁止領域7が含まれているので、第3の禁止領域7により、図22に示す第12の発生領域8を、図23に示すように2つの第12および第13の発生領域8に分割する。また、第13の発生領域8は、第4の発生領域8とする。
【0083】
このように、配置領域5を禁止領域7を避けて14の発生領域8に分割し、それぞれの発生領域8にスペーサ柱のマトリックスを配置して、禁止領域7内にスペーサ柱パターンを発生させることなく、発生領域8内に確実にスペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させることにより短時間で高精度な液晶表示装置用パターンレイアウトを形成する。
【0084】
次に、一実施の形態について説明する。
【0085】
まず、本実施の形態の基本的な動作について、図24に示すフローチャートを参照して説明する。なお、*はパターン間のAND、+はパターン間のOR、−はパターンとパターンの削除を示す。
【0086】
最初に、図形処理手段などを用いてアレイ基板パターンのどの領域にスペーサ柱パターンを発生させなければならないかの発生領域を多角形で指定する(ステップ121)。次に、スペーサ柱パターンを発生してはならない発生禁止領域を多角形で指定する(ステップ122)。
【0087】
そして、ステップ121で指定した発生領域となる発生領域パターンを長方形のパターン群に分割する(ステップ123)。
【0088】
ここで、ステップ123の工程について図25を参照して説明する。
【0089】
まず、初期値としてスペーサ柱パターンの最小線間隔をiに代入する(ステップ131)。次に、図26のように認識したパターン全てに対してAとラベル付けする。この時点で発生領域分割パターンが既にあればBとし、認識した発生領域分割パターン全てに対してBとラベル付けする。なお、図26に示す状態では発生領域分割パターンは存在していない。次に、図27に示すように、A、Bそれぞれのパターンの辺をそれぞれ辺AE、辺BEとする(ステップ132)。なお、図27の点線は辺AEのみを示している。
【0090】
そして、ステップ132で求めた辺AE、辺BEに対して、辺AEまたは辺BEから、辺AEであり辺BEである辺を除いた辺であるとともに、辺AEである辺を辺CEとする(ステップ133)。また、平行な辺CE同士で、それぞれの辺CEが対向する辺となる長方形を形成し、辺CEの間隔がi以下となる長方形を長方形COとする(ステップ134)。さらに、長方形COの中でAまたはBに重ならない長方形を長方形Cとする(ステップ135)。そして、図28に示すアパターンおよびイパターンを長方形Cを発生領域分割パターン、Bパターンとして保存する(ステップ136)また、iが最大線間隔を超えているか否かを判断し(ステップ137)、iが最大線間隔を超えていなければ、iに抽出ステップ幅を加えてiとし(ステップ138)、図29に示すように、ステップ132に戻りステップ137までのフローを繰り返す。そして、iが最大線間隔を超えていれば、Bパターンを発生領域分割パターンとして長方形パターンの集合が得られ、これら長方形パターンを保存する(ステップ139)。
【0091】
次に、ステップ122で指定した発生禁止領域パターンを長方形のパターン群に分割する(ステップ124)。
【0092】
このステップ124では、図30に示すように、初期値として最小線間隔をiに代入する(ステップ141)。次に、図31に示すように認識したパターン全てに対してDとラベル付けし、この時点で発生禁止領域分割パターンが既にあれば、認識した発生領域分割パターン全てに対してEとラベル付けする。なお、図31にはEとラベル付けされる該当パターンはない。そして、D、Eそれぞれのパターンの辺をそれぞれ辺DE、辺EEとする(ステップ142)。
【0093】
そして、ステップ142で求めた辺DE、辺EEに対して、辺DEまたは辺EEから、辺DEであり辺EEである辺を除いた辺であるとともに、辺DEである辺を辺FEとする(ステップ143)。また、平行な辺FE同士で、それぞれの辺FEが対向する辺となる長方形を形成し、辺FEの間隔がi以下となる長方形を長方形FOとする(ステップ144)さらに、長方形FOの中でDまたはEに重ならない長方形を長方形Fとする(ステップ145)。そして、図31に示す長方形Fを発生禁止領域分割パターン、Eパターンとして保存する(ステップ146)。また、iが最大線間隔を超えているか否かを判断し(ステップ147)、iが最大線間隔を超えていなければ、iに抽出ステップ幅を加えてiとし(ステップ148)、図32に示すように、ステップ142に戻りステップ147までのフローを繰り返す。そして、iが最大線間隔を超えていれば、発生禁止パターンDで発生禁止分割パターンEとならなかった領域があるか判定する(ステップ149)。
【0094】
さらに、たとえば図32に示す場合は、三角形状のパターンが残ることになる。三角形領域が残っている場合は、図33に示す三角形は図34に示す長方形に、図35に示す三角形は図36に示す長方形に、それぞれ三角形領域を含む最小の長方形を発生禁止領域パターンEに加える(ステップ150)。そして、このように形成されたEパターンを発生禁止領域分割パターンとして長方形パターンの集合が得られ、これら長方形パターンを保存する(ステップ151)。
【0095】
このようにして、ステップ123およびステップ124により、対象パターンが発生領域の場合には図37に示すように、対象パターンが発生禁止領域の場合には図38に示すように、それぞれ長方形パターンが形成される。
【0096】
次に、発生領域分割パターンから、発生禁止領域分割パターンを避けるように、長方形に分割する(ステップ125)。このステップ125は、上記関連技術の図1のステップ13と同様に処理する。
【0097】
このようにして、発生領域の多角形を、発生禁止領域の多角形を避けて発生可能領域の長方形に分割することができ、発生可能領域の長方形の頂点座標をファイルに保存できる。この頂点座標ファイルを用いてスペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させ、全ての発生領域内にスペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させたガラス基板パターンをハードディスク上に保存する(ステップ126)。
【0098】
したがって、指定した発生領域内の発生禁止領域を除いた部分にスペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させたガラス基板パターンを、容易に作成することができる。
【0099】
特に、上記関連技術に比べ、本実施の形態では、スペーサ柱パターンをマトリックス状に発生させるのに2時間かかっていたのに対し、発生作業が1時間になり、1/2に短縮され、さらに、設計ミスの低減が達成できる。また、本実施の形態によれば、図39に示すように発生禁止領域同士が重なって、図40に示すように発生禁止領域が多角形になっても、発生禁止領域の重なりがないかの判断を人手を介して確認する必要なく、正常にスベーサ柱パターンのマトリックスを発生できる。
【0100】
なお、パターンの認識、発生には、DRCツールを利用してもよい。
【0101】
また、上述のプログラムを、光学あるいは磁気ディスク、その他の液晶表示装置用パターンレイアウトプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体に記憶させて用いても同様の効果を得ることができる。
【0102】
【発明の効果】
本発明によれば、長方形でない多角形の発生領域を長方形に分割して形成し、かつ、発生領域内の長方形でない多角形の禁止領域を長方形に分割して形成するとともに、この禁止領域で長方形に分割できなかった禁止領域を含む最小の長方形を形成してこの最小の長方形を禁止領域に加え、発生領域を分割した長方形群と禁止領域を分割した長方形群との座標に基づき、発生領域の長方形群を、禁止領域の長方形群を避けるようにさらに長方形に分割し、これら禁止領域を避けて分割した長方形の発生領域にスペーサを配置させることにより、効率的に発生領域および禁止領域を形成でき、簡単に必要な部分に確実にスペーサの発生を可能にできる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一関連技術のアレイ基板パターンのスペーサ柱パターンを発生させる動作を示すフローチャートである。
【図2】 同上スペーサ柱パターンを形成するための配置領域を禁止領域を避けて分割して発生領域を形成する説明図である。
【図3】 同上スペーサ柱パターンを形成するための配置領域を禁止領域を避けて分割して発生領域を形成する動作を示すフローチャートである。
【図4】 同上禁止領域が複数ある場合のソーティングを示す説明図である。
【図5】 同上配置領域に禁止領域がない場合の動作を示すフローチャートである。
【図6】 同上配置領域に禁止領域がある場合の動作を示すフローチャートである。
【図7】 同上発生領域に禁止領域が含まれる場合の動作を示すフローチャートである。
【図8】 同上発生領域に禁止領域が含まれる状態を示す説明図である。
【図9】 同上発生領域に禁止領域の上辺と重なる場合の動作を示すフローチャートである。
【図10】 同上発生領域に禁止領域の上辺が重なる状態を示す説明図である。
【図11】 同上発生領域に禁止領域の左辺と重なる場合の動作を示すフローチャートである。
【図12】 同上発生領域に禁止領域の左辺が重なる状態を示す説明図である。
【図13】 同上発生領域に禁止領域の下辺と重なる場合の動作を示すフローチャートである。
【図14】 同上発生領域に禁止領域の下辺が重なる状態を示す説明図である。
【図15】 同上発生領域に禁止領域の右辺と重なる場合の動作を示すフローチャートである。
【図16】 同上発生領域に禁止領域の右辺が重なる状態を示す説明図である。
【図17】 同上分割した発生領域にスペーサ柱パターンを発生させる動作を示すフローチャートである。
【図18】 同上配置領域内の禁止領域を避けて発生領域を具体的に分割形成する状態を示す説明図である。
【図19】 同上配置領域内の禁止領域を避けて発生領域を分割形成する図18の次の状態を示す説明図である。
【図20】 同上配置領域内の禁止領域を避けて発生領域を分割形成する図19の次の状態を示す説明図である。
【図21】 同上配置領域内の禁止領域を避けて発生領域を分割形成する図20の次の状態を示す説明図である。
【図22】 同上配置領域内の禁止領域を避けて発生領域を分割形成する図21の次の状態を示す説明図である。
【図23】 同上配置領域内の禁止領域を避けて発生領域を分割形成する図22の次の状態を示す説明図である。
【図24】 同上一実施の形態のアレイ基板パターンのスペーサ柱パターンを発生させる動作を示すフローチャートである。
【図25】 同上発生領域を指定する動作を示すフローチャートである。
【図26】 同上発生領域パターンを示す説明図である。
【図27】 同上図26の発生領域パターンの分割を示す説明図である。
【図28】 同上図27の発生領域パターンの分割を示す説明図である。
【図29】 同上図28の発生領域パターンの分割を示す説明図である。
【図30】 同上発生禁止領域を指定する動作を示すフローチャートである。
【図31】 同上発生禁止領域パターンを示す説明図である。
【図32】 同上図31の発生禁止領域パターンの分割を示す説明図である。
【図33】 同上三角形領域の発生禁止パターンを示す説明図である。
【図34】 同上三角形領域の発生禁止パターンを長方形にした状態を示す説明図である。
【図35】 同上他の三角形領域の発生禁止パターンを示す説明図である。
【図36】 同上三角形領域の発生禁止パターンを長方形にした状態を示す説明図である。
【図37】 同上対象パターンが発生領域の場合の長方形パターンを示す説明図である。
【図38】 同上対象パターンが発生禁止領域の場合の長方形パターンを示す説明図である。
【図39】 同上発生禁止領域同士が重なった状態を示す説明図である。
【図40】 同上発生禁止領域が多角形の状態を示す説明図である。
【図41】 同上配置パターンを示す説明図である。
【図42】 同上配置パターンの禁止領域を拡大して示す説明図である。
【図43】 従来例のアレイ基板パターンのスペーサ柱パターンを発生させる動作を示すフローチャートである。
【図44】 従来例のアレイ基板パターンのスペーサ柱パターンを発生させる状態を示す説明図である。
【符号の説明】
7 禁止領域
8 発生領域
Claims (6)
- スペーサを発生させたい発生領域を長方形でない多角形で指定し、
この発生領域内のスペーサの発生を禁止する禁止領域を長方形でない多角形で指定し、
長方形でない多角形の発生領域を長方形に分割して形成し、
長方形でない多角形の禁止領域を長方形に分割して形成し、
この禁止領域で長方形に分割できなかった禁止領域を含む最小の長方形を形成し、
この最小の長方形を禁止領域に加え、
発生領域を分割した長方形群と禁止領域を分割した長方形群との座標に基づき、発生領域の長方形群を、禁止領域の長方形群を避けるようにさらに長方形に分割し、
これら禁止領域を避けて分割した長方形の発生領域にスペーサを配置させる
ことを特徴とする液晶表示装置用パターンレイアウト方法。 - スペーサは、発生領域にマトリックス状に配置される
ことを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置用パターンレイアウト方法。 - スペーサを発生させたい発生領域を長方形でない多角形で指定する発生領域指定手段と、
この発生領域内のスペーサの発生を禁止する禁止領域を長方形でない多角形で指定する禁止領域指定手段と、
長方形でない多角形の発生領域を長方形に分割して形成する発生領域分割手段と、
長方形でない多角形の禁止領域を長方形に分割して形成する禁止領域分割手段と、
この禁止領域で長方形に分割できなかった禁止領域を含む最小の長方形を形成する禁止領域形成手段と、
この禁止領域形成手段で形成された最小の長方形を禁止領域に加える禁止領域追加手段と、
発生領域を分割した長方形群と禁止領域を分割した長方形群との座標に基づき、発生領域の長方形群を、禁止領域の長方形群を避けるようにさらに長方形に分割する長方形群分割手段と、
禁止領域を避けて長方形群分割手段により分割された長方形の発生領域にスペーサを配置させるスペーサ配置手段と
を具備したことを特徴とする液晶表示装置用パターンレイアウト装置。 - スペーサ配置手段は、スペーサを発生領域にマトリックス状に配置させる
ことを特徴とする請求項3記載の液晶表示装置用パターンレイアウト装置。 - スペーサを発生させたい発生領域を長方形でない多角形で指定し、
この発生領域内のスペーサの発生を禁止する禁止領域を長方形でない多角形で指定し、
長方形でない多角形の発生領域を長方形に分割して形成し、
長方形でない多角形の禁止領域を長方形に分割して形成し、
この禁止領域で長方形に分割できなかった禁止領域を含む最小の長方形を形成し、
この最小の長方形を禁止領域に加え、
発生領域を分割した長方形群と禁止領域を分割した長方形群との座標に基づき、発生領域の長方形群を、禁止領域の長方形群を避けるようにさらに長方形に分割し、
これら禁止領域を避けて分割した長方形の発生領域にスペーサを配置させる
ことを特徴とする液晶表示装置用パターンレイアウトプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。 - スペーサは、発生領域にマトリックス状に配置される
ことを特徴とする請求項5記載の液晶表示装置用パターンレイアウトプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002315401A JP4413488B2 (ja) | 2001-11-09 | 2002-10-30 | 液晶表示装置用パターンレイアウト方法、その装置および液晶表示装置用パターンレイアウトプログラムを記憶した記録媒体 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001-344795 | 2001-11-09 | ||
JP2001344795 | 2001-11-09 | ||
JP2002315401A JP4413488B2 (ja) | 2001-11-09 | 2002-10-30 | 液晶表示装置用パターンレイアウト方法、その装置および液晶表示装置用パターンレイアウトプログラムを記憶した記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003207786A JP2003207786A (ja) | 2003-07-25 |
JP4413488B2 true JP4413488B2 (ja) | 2010-02-10 |
Family
ID=27667059
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002315401A Expired - Fee Related JP4413488B2 (ja) | 2001-11-09 | 2002-10-30 | 液晶表示装置用パターンレイアウト方法、その装置および液晶表示装置用パターンレイアウトプログラムを記憶した記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4413488B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005276863A (ja) * | 2004-03-22 | 2005-10-06 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | パターンレイアウト方法、その装置、そのプログラム、およびこのプログラムを記録した媒体 |
-
2002
- 2002-10-30 JP JP2002315401A patent/JP4413488B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2003207786A (ja) | 2003-07-25 |
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|
A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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