JP4411100B2 - 露光装置 - Google Patents
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Claims (10)
- 原版ステージ上に保持された原版のパターンを、投影光学系を介して基板に投影転写する露光装置において、
前記原版ステージに設けられ、第1の当接面を有し前記原版を保持する第1の保持手段と、
前記原版ステージに設けられ、第2の当接面を有し前記原版を保持する第2の保持手段と、
前記第1の当接面と前記第2の当接面の間に形成される溝に設けられ、第3の当接面を有し前記原版を保持する複数のピンと、
前記溝を介して前記原版を吸引する吸引手段と、を備え、
前記第2及び第3の当接面は、前記第1の当接面に対して変位可能で、
前記第2及び第3の当接面は、前記原版ステージ上で前記第1の当接面に接触した前記原版に、変位して接触することを特徴とする露光装置。 - 前記吸引手段は、前記原版が前記第1の当接面に接触してから前記第2及び第3の当接面が変位して前記原版に接触するまでの間に、吸引を開始することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。
- 前記第2保持手段は、前記第1保持手段から分離して支持されるとともに、前記第2の当接面が変位して前記原版に接触する際、前記第1の保持手段と前記第2の保持手段が当接するように構成され、
前記第1の保持手段と前記第2保持手段が当接する部位がテーパ構造であることを特徴とする請求項1または2に記載の露光装置。 - 前記第2の当接面が前記第1の当接面を取り囲むように設けられることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の露光装置。
- 前記原版ステージは、4組の前記第1の保持手段および前記第2の保持手段を備えることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の露光装置。
- 前記原版ステージ、および、前記基板を保持する基板ステージを露光光に対してスキャン移動させて露光することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1つに記載の露光装置。
- 請求項1〜6のいずれか1つに記載の露光装置を用いてデバイスを製造する工程を有するデバイス製造方法。
- 原版に描かれたパターンを、投影光学系を介して基板に投影露光する露光装置において、
前記原版に当接する第1保持面を有し、前記原版を前記投影光学系の光軸方向に位置決めする第1保持手段と、
前記原版に当接する第2保持面と、吸着溝と、該吸着溝の内部に形成され前記第2保持面とは異なる位置で前記原版に当接するピンとを有する第2保持手段と、
前記吸着溝の内部の空間を排気する真空吸引手段とを備え、
前記第2保持面および前記ピンが前記第1保持面に対して、前記光軸方向に変位可能に構成されることを特徴とする露光装置。 - 前記吸着溝は、前記第2保持面に囲まれることを特徴とする請求項8に記載の露光装置。
- 前記第1及び第2保持手段は一体構造であり、
前記吸引手段の吸引にともない前記第2保持手段が弾性変形することによって、前記第2の保持面および前記ピンが変位して前記原版に当接することを特徴とする請求項8または9に記載の露光装置。
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