JP4397482B2 - 光束分割素子 - Google Patents
光束分割素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4397482B2 JP4397482B2 JP33195599A JP33195599A JP4397482B2 JP 4397482 B2 JP4397482 B2 JP 4397482B2 JP 33195599 A JP33195599 A JP 33195599A JP 33195599 A JP33195599 A JP 33195599A JP 4397482 B2 JP4397482 B2 JP 4397482B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phase
- beam splitting
- phase distribution
- light beam
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、グレーティング型の光束分割素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来のグレーティング型の光束分割素子は、例えば特開平５−３２３１１０号公報、特開平７−２２５３０５号公報に開示されている。これらの公報には、単一の位相高さを持つ不均等幅の矩形パターンを利用して奇数本、あるいは偶数本の回折光を得る光束分割素子が開示される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した公報に記載された従来の光束分割素子は、回折効率が前者の実施例で７０％〜８５％、後者の実施例で８１％と低い値に止まっており、入射光の強度を十分有効に利用することができず、光エネルギーのロスが大きいという課題がある。
【０００４】
なお、上記の特開平７−２２５３０５号公報にも記載されるように、コンピュータに接続される光記録装置、あるいは、光コンピュータの分野では、ディジタル演算の単位が１バイト、すなわち８ビットであり、演算の基本が一般に偶数ビット単位であるため、これらの分野で利用される光記録装置、あるいは光コンピュータにおいても、偶数本の光が利用される場合がある。したがって、光束分割素子も光を偶数本に分割することができれば、入射光の強度を無駄にすることなく有効に利用することができる。
【０００５】
この発明は、上述した従来技術の課題に鑑みてなされたものであり、偶数本の回折光を発生する光束分割素子であって、回折効率を従来の素子よりも高めることができる光束分割素子を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
この発明にかかるグレーティング型の光束分割素子は、上記の目的を達成させるため、以下の特性を持つ第１，第２の位相分布の位相和で全体の位相分布を構成したことを特徴とする。第１の位相分布は、入射光の半波長の段差を持って位相差が矩形波状に変化し、周期がＴ、デューティ比が１となり、第２の位相分布は、位相差が非線形に変化し、周期がＴ／２となり、これら全体で入射光を偶数本の回折光に分離する。第１の位相分布は、入射光を主として±１次回折光に二分し、第２の位相分布は、入射光を主として奇数本の回折光に分離する。
【０００７】
上記の構成によれば、第１の位相分布は、入射光を主として±１次回折光に２分割する機能を有し、第２の位相分布は第１の位相分布による回折角の２倍の回折角で入射光を奇数の回折光に分割する。このため、第２の位相分布により分割されたある次数の回折光は第１の位相分布によりそれぞれ２分割され、同様に２分割された隣の次数の回折光と重なり合う。ここで、最も外側で他の回折光と重ならない成分を消去するように第２の位相分布を調整することにより、偶数本の回折光を得ることができる。
【０００８】
第１、第２の位相分布の形態としては、以下の３種類が考えられる。
(1) 第１、第２の位相分布を複合した位相パターンを単一の部材の一面に形成する。
(2) 第１、第２の位相分布の各位相パターンを、単一の部材の異なる面にそれぞれ独立して形成する。
(3) 第１，第２の位相分布の各位相パターンを、それぞれ異なる部材に独立して形成し、これらの部材を光の進行方向に沿って直列に配置する。
いずれの形態においても、光学的な作用はほぼ同一である。実際の設置時における位置合わせの容易さからは(1),(2)が望ましく、加工の容易さからは(3)が有利である。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、この発明にかかる光束分割素子の実施形態を３例説明する。なお、各実施形態では、第２の位相分布として後述する実施例１に示されるパターンを使用しており、第１の位相分布と合わせて入射光を４分割する素子を構成している。
【００１０】
図１は実施形態の光束分割素子１を示す斜視図、図２は図１の光束分割素子の位相分布を示すグラフである。光束分割素子１は、図１に拡大して示されるように、ｘ方向に延びる帯状の基準位相パターンＰ1，Ｐ2，...を基板Ｂ上に等ピッチでｙ方向に多数並列して形成することにより構成されている。基板Ｂは、基準位相パターンＰ1，Ｐ2，．．．も含めて透明な樹脂材料、またはガラス材料で形成されている。
【００１１】
それぞれの基準位相パターンＰ1，Ｐ2，...は、ｙ方向においてそのピッチ内で与える位相差が非線形に変化するよう形成されている。この位相分布は、図２に示すように、入射光の半波長の段差を持って位相差が矩形波状に変化し、周期がＴ、デューティ比が１となる第１の位相分布と、位相差が非線形に変化し、周期がＴ／２となる第２の位相分布との位相和で構成される複合位相分布である。すなわち、第１の実施形態にかかる光束分割素子１は、第１、第２の位相分布を複合した位相パターンを単一の部材の一面に形成したものである。入射光は、ｘ，ｙ両方向に垂直なｚ方向と平行に入射する。
【００１２】
第１の位相分布は、図３(A)に示すように、入射光を回折角θで±１次回折光に２分割する機能を有し、第２の位相分布は、図３(B)に示すように、第１の位相分布による回折角の２倍の回折角２θで入射光を奇数の回折光(この例では０次、±１次、±２次の５本)に分割する機能を有する。
【００１３】
このような第１，第２の位相分布を合わせることにより、第２の位相分布により分割された各次数の回折光は、第１の位相分布によりそれぞれ２分割される。ここで、第１の位相分布による回折角θは第２の位相分布による回折角２θの１／２であるため、二分割された各次数の回折光は、同様に２分割された隣の次数の回折光と重なり合う。すなわち、図３(C)に破線で示したように、０次光は、L1,L2に分割され、-1次光はL1,L3、+1次光はL2,L4、-2次光はL3,L5、+2次光はL4,L6にそれぞれ分割される。ここで、最も外側で他の回折光と重ならない成分L5,L6を消去することにより、図３(D)に示すようにL1,L2,L3,L4の４本の回折光を得ることができる。
【００１４】
上記のような構成によると、偶数本の回折光を効率よく発生させることができる。一般に回折格子を用いると、回折光は０次回折光(透過光)を中心にプラスマイナスの回折光が対称的に現れて全体として奇数本の回折光が得られる。実施形態の光束分割素子１は、互いに周期が異なる第１の位相分布と第２の位相分布とを組み合わせることにより、偶数本の回折光を発生させている。
【００１５】
なお、図３の説明は、大部分の光に対するもので、厳密な意味では正確でない。すなわち、第１の位相分布は、理論上入射光の１００％を±１次光に分離することはできず、その８１％を±１次の回折光に分離できるに過ぎない。したがって、残りの１９％の光は±３次、±５次の回折光になる。このため、第２の位相分布を重ねたとしても、厳密な意味では等分岐の偶数分岐を得ることはできない。また、最も外側の回折光成分L5,L6も消す必要がある。そこで、実際の設計に当たっては、第１，第２の位相分布(初期値)をコンピュータに入力して重ね合わせ、自動最適化プログラムにより、L5,L6の消去と、残りの偶数本の回折光の等分岐を目標に第２の位相分布を微調整する。その意味では、調整後の第２の位相分布は、入射光を奇数本に等分記できるわけではない。
【００１６】
第１の実施形態のように位相差が非線形に変化するような複雑な位相パターンを持つ回折格子は、通常のリソグラフィ技術では正確に刻むことができない。そこで、ここでは、旋盤を用いた機械刻線法によりマスターとなる金型を作成し、その刻線されたマスターのパターンを樹脂や光学ガラスに転写することにより光束分割素子を作成する。
【００１７】
図４(A)は、第２の実施形態にかかる光束分割素子２の側面図である。この光束分割素子２は、単一の部材の一方の面に第１の位相分布の位相パターンを形成し、他方の面に第２の位相分布の位相パターンを形成して構成されている。
【００１８】
図４(B)は、第３の実施形態にかかる光束分割素子３の側面図である。この光束分割素子３は、第１の位相分布の位相パターンが形成された第１の部材３ａと、第２の位相分布の位相パターンが形成された第２の部材３ｂとを、位相パターンを互いに向かい合わせる状態で、光の進行方向に沿って直列に配置して構成されている。
【００１９】
第２，第３の実施形態における第１の位相分布の位相パターンは、半波長分の深さをコントロールするのみであるため、通常のリソグラフィ技術により容易に形成することができる。これに対して第２の位相分布の位相パターンは、第１の実施形態におけるのと同様に、機械刻線法により形成することができる。
【００２０】
次に、上記の第１の実施形態に基づく具体的な実施例である光束分割素子の構成例を１４例説明する。実施例１は入射光束を４本の回折光に分割する素子、実施例２，３は入射光を６本の回折光に分割する素子、実施例４〜６は入射光束を８本の回折光に分割する素子、実施例７，８は入射光束を１０本の回折光に分割する素子、実施例９，１０は入射光束を１２本の回折光に分割する素子、実施例１１，１２は入射光束を１４本の回折光に分割する素子、実施例１３，１４は入射光束を１６本の回折光に分割する素子の例である。
【００２１】
【実施例１】
表１は、実施例１の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示す。この表は、第２の位相分布の１ピッチ(周期Ｔ／２)を図１のｙ方向、すなわち位相パターンの並列方向に沿って１〜３２の３２の座標に等分割した各座標での光の位相を示しており、その単位はラジアンである。
【００２２】
【表１】
【００２３】
表２は、表１に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。この表は、複合位相分布の１ピッチ(周期Ｔ)を図１のｙ方向、すなわち位相パターンの並列方向に沿って１〜６４の６４の座標に等分割した各座標での光の位相を示しており、その単位はラジアンである。
【００２４】
【表２】
【００２５】
位相パターンの実形状は、位相差０の点からの光の進行方向(図１のｚ方向)の距離として表される場合、空気中での使用を前提とすると、使用波長をλ、素子の屈折率をｎとして、位相×λｎ/(２π(ｎ−１))により求められる。図５は、表２に示される実施例１の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフであり、縦軸が位相、横軸が座標である。
【００２６】
表３は、表２に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。入射光の強度を１として、分割された各光束の光量を−１５次〜＋１５次の奇数次の回折光について示している。偶数次の光量は全て０であるため、省略している。また、「回折効率」は、各実施例が目的とする分割数の回折光の強度が入射光束の強度に占める割合を示し、例えば実施例１では−３次，−１次，１次，３次の４つの回折光強度の合計が、入射光束の強度１に占める割合を示す。図６は、表３に示される回折光の強度分布を示すグラフである。このグラフで、横軸は回折光の次数、縦軸は入射光の強度を１としたときの各次数の回折光の強度を示す。
【００２７】
【表３】
【００２８】
【実施例２】
表４は、実施例２の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表５は表４に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図７は、表５に示される実施例２の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００２９】
【表４】
【００３０】
【表５】
【００３１】
表６は、表５に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図８は、表６に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００３２】
【表６】
【００３３】
【実施例３】
表７は、実施例３の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表８は表７に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図９は、表８に示される実施例３の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００３４】
【表７】
【００３５】
【表８】
【００３６】
表９は、表８に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図１０は、表９に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００３７】
【表９】
【００３８】
【実施例４】
表１０は、実施例４の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表１１は表１０に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図１１は、表１１に示される実施例４の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００３９】
【表１０】
【００４０】
【表１１】
【００４１】
表１２は、表１１に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図１２は、表１２に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００４２】
【表１２】
【００４３】
【実施例５】
表１３は、実施例５の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表１４は表１３に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図１３は、表１４に示される実施例５の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００４４】
【表１３】
【００４５】
【表１４】
【００４６】
表１５は、表１４に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図１４は、表１５に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００４７】
【表１５】
【００４８】
【実施例６】
表１６は、実施例６の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表１７は表１６に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図１５は、表１７に示される実施例６の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００４９】
【表１６】
【００５０】
【表１７】
【００５１】
表１８は、表１７に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図１６は、表１８に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００５２】
【表１８】
【００５３】
【実施例７】
表１９は、実施例２の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表２０は表１９に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図１７は、表２０に示される実施例７の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００５４】
【表１９】
【００５５】
【表２０】
【００５６】
表２１は、表２０に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図１８は、表２１に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００５７】
【表２１】
【００５８】
【実施例８】
表２２は、実施例８の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表２３は表２２に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図１９は、表２３に示される実施例８の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００５９】
【表２２】
【００６０】
【表２３】
【００６１】
表２４は、表２３に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図２０は、表２４に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００６２】
【表２４】
【００６３】
【実施例９】
表２５は、実施例９の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表２６は表２５に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図２１は、表２６に示される実施例９の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００６４】
【表２５】
【００６５】
【表２６】
【００６６】
表２７は、表２６に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図２２は、表２７に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００６７】
【表２７】
【００６８】
【実施例１０】
表２８は、実施例１０の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表２９は表２８に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図２３は、表２９に示される実施例１０の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００６９】
【表２８】
【００７０】
【表２９】
【００７１】
表３０は、表２９に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図２４は、表３０に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００７２】
【表３０】
【００７３】
【実施例１１】
表３１は、実施例１１の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表３２は表３１に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図２５は、表３２に示される実施例２の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００７４】
【表３１】
【００７５】
【表３２】
【００７６】
表３３は、表３２に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図２６は、表３３に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００７７】
【表３３】
【００７８】
【実施例１２】
表３４は、実施例１２の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表３５は表３４に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図２７は、表３５に示される実施例１２の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００７９】
【表３４】
【００８０】
【表３５】
【００８１】
表３６は、表３５に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図２８は、表３６に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００８２】
【表３６】
【００８３】
【実施例１３】
表３７は、実施例１３の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表３８は表３７に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図２９は、表３８に示される実施例１３の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００８４】
【表３７】
【００８５】
【表３８】
【００８６】
表３９は、表３８に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図３０は、表３９に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００８７】
【表３９】
【００８８】
【実施例１４】
表４０は、実施例１４の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表４１は表４０に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図３１は、表４１に示される実施例１４の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００８９】
【表４０】
【００９０】
【表４１】
【００９１】
表４２は、表４１に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図３２は、表４２に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００９２】
【表４２】
【００９３】
各実施例によれば、回折効率を最低でも約８９％、最大では約９８％にまで高めることができる。
【００９４】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、入射光を±１次回折光に二分する第１の位相分布と、第１の位相分布の半分の周期を有して入射光を奇数本の回折光に分離する第２の位相分布との位相和で全体の位相分布を形成することにより、従来より高い回折効率で入射光を偶数本の回折光に分割することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 第１の実施形態の光束分割素子の位相パターンを拡大して示す斜視図。
【図２】 第１の実施形態の光束分割素子の位相分布を示すグラフ。
【図３】 第１の実施形態における第１，第２の位相分布の作用、及び複合位相分布の作用を示す説明図。
【図４】 第２，第２の実施形態の光束分割素子の側面図。
【図５】 実施例１の４分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図６】 実施例１の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図７】 実施例２の６分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図８】 実施例２の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図９】 実施例３の６分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図１０】 実施例３の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図１１】 実施例４の８分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図１２】 実施例４の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図１３】 実施例５の８分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図１４】 実施例５の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図１５】 実施例６の８分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図１６】 実施例６の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図１７】 実施例７の１０分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図１８】 実施例７の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図１９】 実施例８の１０分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図２０】 実施例８の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図２１】 実施例９の１２分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図２２】 実施例９の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図２３】 実施例１０の１２分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図２４】 実施例１０の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図２５】 実施例１１の１４分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図２６】 実施例１１の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図２７】 実施例１２の１４分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図２８】 実施例１２の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図２９】 実施例１３の１６分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図３０】 実施例１３の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図３１】 実施例１４の１６分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図３２】 実施例１４の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【符号の説明】
１ 光束分割素子
Ｐ1，Ｐ2，... 基準位相パターン
Ｂ 基板
【発明の属する技術分野】
この発明は、グレーティング型の光束分割素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来のグレーティング型の光束分割素子は、例えば特開平５−３２３１１０号公報、特開平７−２２５３０５号公報に開示されている。これらの公報には、単一の位相高さを持つ不均等幅の矩形パターンを利用して奇数本、あるいは偶数本の回折光を得る光束分割素子が開示される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した公報に記載された従来の光束分割素子は、回折効率が前者の実施例で７０％〜８５％、後者の実施例で８１％と低い値に止まっており、入射光の強度を十分有効に利用することができず、光エネルギーのロスが大きいという課題がある。
【０００４】
なお、上記の特開平７−２２５３０５号公報にも記載されるように、コンピュータに接続される光記録装置、あるいは、光コンピュータの分野では、ディジタル演算の単位が１バイト、すなわち８ビットであり、演算の基本が一般に偶数ビット単位であるため、これらの分野で利用される光記録装置、あるいは光コンピュータにおいても、偶数本の光が利用される場合がある。したがって、光束分割素子も光を偶数本に分割することができれば、入射光の強度を無駄にすることなく有効に利用することができる。
【０００５】
この発明は、上述した従来技術の課題に鑑みてなされたものであり、偶数本の回折光を発生する光束分割素子であって、回折効率を従来の素子よりも高めることができる光束分割素子を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
この発明にかかるグレーティング型の光束分割素子は、上記の目的を達成させるため、以下の特性を持つ第１，第２の位相分布の位相和で全体の位相分布を構成したことを特徴とする。第１の位相分布は、入射光の半波長の段差を持って位相差が矩形波状に変化し、周期がＴ、デューティ比が１となり、第２の位相分布は、位相差が非線形に変化し、周期がＴ／２となり、これら全体で入射光を偶数本の回折光に分離する。第１の位相分布は、入射光を主として±１次回折光に二分し、第２の位相分布は、入射光を主として奇数本の回折光に分離する。
【０００７】
上記の構成によれば、第１の位相分布は、入射光を主として±１次回折光に２分割する機能を有し、第２の位相分布は第１の位相分布による回折角の２倍の回折角で入射光を奇数の回折光に分割する。このため、第２の位相分布により分割されたある次数の回折光は第１の位相分布によりそれぞれ２分割され、同様に２分割された隣の次数の回折光と重なり合う。ここで、最も外側で他の回折光と重ならない成分を消去するように第２の位相分布を調整することにより、偶数本の回折光を得ることができる。
【０００８】
第１、第２の位相分布の形態としては、以下の３種類が考えられる。
(1) 第１、第２の位相分布を複合した位相パターンを単一の部材の一面に形成する。
(2) 第１、第２の位相分布の各位相パターンを、単一の部材の異なる面にそれぞれ独立して形成する。
(3) 第１，第２の位相分布の各位相パターンを、それぞれ異なる部材に独立して形成し、これらの部材を光の進行方向に沿って直列に配置する。
いずれの形態においても、光学的な作用はほぼ同一である。実際の設置時における位置合わせの容易さからは(1),(2)が望ましく、加工の容易さからは(3)が有利である。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、この発明にかかる光束分割素子の実施形態を３例説明する。なお、各実施形態では、第２の位相分布として後述する実施例１に示されるパターンを使用しており、第１の位相分布と合わせて入射光を４分割する素子を構成している。
【００１０】
図１は実施形態の光束分割素子１を示す斜視図、図２は図１の光束分割素子の位相分布を示すグラフである。光束分割素子１は、図１に拡大して示されるように、ｘ方向に延びる帯状の基準位相パターンＰ1，Ｐ2，...を基板Ｂ上に等ピッチでｙ方向に多数並列して形成することにより構成されている。基板Ｂは、基準位相パターンＰ1，Ｐ2，．．．も含めて透明な樹脂材料、またはガラス材料で形成されている。
【００１１】
それぞれの基準位相パターンＰ1，Ｐ2，...は、ｙ方向においてそのピッチ内で与える位相差が非線形に変化するよう形成されている。この位相分布は、図２に示すように、入射光の半波長の段差を持って位相差が矩形波状に変化し、周期がＴ、デューティ比が１となる第１の位相分布と、位相差が非線形に変化し、周期がＴ／２となる第２の位相分布との位相和で構成される複合位相分布である。すなわち、第１の実施形態にかかる光束分割素子１は、第１、第２の位相分布を複合した位相パターンを単一の部材の一面に形成したものである。入射光は、ｘ，ｙ両方向に垂直なｚ方向と平行に入射する。
【００１２】
第１の位相分布は、図３(A)に示すように、入射光を回折角θで±１次回折光に２分割する機能を有し、第２の位相分布は、図３(B)に示すように、第１の位相分布による回折角の２倍の回折角２θで入射光を奇数の回折光(この例では０次、±１次、±２次の５本)に分割する機能を有する。
【００１３】
このような第１，第２の位相分布を合わせることにより、第２の位相分布により分割された各次数の回折光は、第１の位相分布によりそれぞれ２分割される。ここで、第１の位相分布による回折角θは第２の位相分布による回折角２θの１／２であるため、二分割された各次数の回折光は、同様に２分割された隣の次数の回折光と重なり合う。すなわち、図３(C)に破線で示したように、０次光は、L1,L2に分割され、-1次光はL1,L3、+1次光はL2,L4、-2次光はL3,L5、+2次光はL4,L6にそれぞれ分割される。ここで、最も外側で他の回折光と重ならない成分L5,L6を消去することにより、図３(D)に示すようにL1,L2,L3,L4の４本の回折光を得ることができる。
【００１４】
上記のような構成によると、偶数本の回折光を効率よく発生させることができる。一般に回折格子を用いると、回折光は０次回折光(透過光)を中心にプラスマイナスの回折光が対称的に現れて全体として奇数本の回折光が得られる。実施形態の光束分割素子１は、互いに周期が異なる第１の位相分布と第２の位相分布とを組み合わせることにより、偶数本の回折光を発生させている。
【００１５】
なお、図３の説明は、大部分の光に対するもので、厳密な意味では正確でない。すなわち、第１の位相分布は、理論上入射光の１００％を±１次光に分離することはできず、その８１％を±１次の回折光に分離できるに過ぎない。したがって、残りの１９％の光は±３次、±５次の回折光になる。このため、第２の位相分布を重ねたとしても、厳密な意味では等分岐の偶数分岐を得ることはできない。また、最も外側の回折光成分L5,L6も消す必要がある。そこで、実際の設計に当たっては、第１，第２の位相分布(初期値)をコンピュータに入力して重ね合わせ、自動最適化プログラムにより、L5,L6の消去と、残りの偶数本の回折光の等分岐を目標に第２の位相分布を微調整する。その意味では、調整後の第２の位相分布は、入射光を奇数本に等分記できるわけではない。
【００１６】
第１の実施形態のように位相差が非線形に変化するような複雑な位相パターンを持つ回折格子は、通常のリソグラフィ技術では正確に刻むことができない。そこで、ここでは、旋盤を用いた機械刻線法によりマスターとなる金型を作成し、その刻線されたマスターのパターンを樹脂や光学ガラスに転写することにより光束分割素子を作成する。
【００１７】
図４(A)は、第２の実施形態にかかる光束分割素子２の側面図である。この光束分割素子２は、単一の部材の一方の面に第１の位相分布の位相パターンを形成し、他方の面に第２の位相分布の位相パターンを形成して構成されている。
【００１８】
図４(B)は、第３の実施形態にかかる光束分割素子３の側面図である。この光束分割素子３は、第１の位相分布の位相パターンが形成された第１の部材３ａと、第２の位相分布の位相パターンが形成された第２の部材３ｂとを、位相パターンを互いに向かい合わせる状態で、光の進行方向に沿って直列に配置して構成されている。
【００１９】
第２，第３の実施形態における第１の位相分布の位相パターンは、半波長分の深さをコントロールするのみであるため、通常のリソグラフィ技術により容易に形成することができる。これに対して第２の位相分布の位相パターンは、第１の実施形態におけるのと同様に、機械刻線法により形成することができる。
【００２０】
次に、上記の第１の実施形態に基づく具体的な実施例である光束分割素子の構成例を１４例説明する。実施例１は入射光束を４本の回折光に分割する素子、実施例２，３は入射光を６本の回折光に分割する素子、実施例４〜６は入射光束を８本の回折光に分割する素子、実施例７，８は入射光束を１０本の回折光に分割する素子、実施例９，１０は入射光束を１２本の回折光に分割する素子、実施例１１，１２は入射光束を１４本の回折光に分割する素子、実施例１３，１４は入射光束を１６本の回折光に分割する素子の例である。
【００２１】
【実施例１】
表１は、実施例１の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示す。この表は、第２の位相分布の１ピッチ(周期Ｔ／２)を図１のｙ方向、すなわち位相パターンの並列方向に沿って１〜３２の３２の座標に等分割した各座標での光の位相を示しており、その単位はラジアンである。
【００２２】
【表１】
表２は、表１に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。この表は、複合位相分布の１ピッチ(周期Ｔ)を図１のｙ方向、すなわち位相パターンの並列方向に沿って１〜６４の６４の座標に等分割した各座標での光の位相を示しており、その単位はラジアンである。
【００２４】
【表２】
位相パターンの実形状は、位相差０の点からの光の進行方向(図１のｚ方向)の距離として表される場合、空気中での使用を前提とすると、使用波長をλ、素子の屈折率をｎとして、位相×λｎ/(２π(ｎ−１))により求められる。図５は、表２に示される実施例１の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフであり、縦軸が位相、横軸が座標である。
【００２６】
表３は、表２に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。入射光の強度を１として、分割された各光束の光量を−１５次〜＋１５次の奇数次の回折光について示している。偶数次の光量は全て０であるため、省略している。また、「回折効率」は、各実施例が目的とする分割数の回折光の強度が入射光束の強度に占める割合を示し、例えば実施例１では−３次，−１次，１次，３次の４つの回折光強度の合計が、入射光束の強度１に占める割合を示す。図６は、表３に示される回折光の強度分布を示すグラフである。このグラフで、横軸は回折光の次数、縦軸は入射光の強度を１としたときの各次数の回折光の強度を示す。
【００２７】
【表３】
【実施例２】
表４は、実施例２の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表５は表４に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図７は、表５に示される実施例２の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００２９】
【表４】
【表５】
表６は、表５に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図８は、表６に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００３２】
【表６】
【実施例３】
表７は、実施例３の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表８は表７に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図９は、表８に示される実施例３の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００３４】
【表７】
【表８】
表９は、表８に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図１０は、表９に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００３７】
【表９】
【実施例４】
表１０は、実施例４の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表１１は表１０に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図１１は、表１１に示される実施例４の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００３９】
【表１０】
【表１１】
表１２は、表１１に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図１２は、表１２に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００４２】
【表１２】
【実施例５】
表１３は、実施例５の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表１４は表１３に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図１３は、表１４に示される実施例５の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００４４】
【表１３】
【表１４】
表１５は、表１４に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図１４は、表１５に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００４７】
【表１５】
【実施例６】
表１６は、実施例６の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表１７は表１６に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図１５は、表１７に示される実施例６の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００４９】
【表１６】
【表１７】
表１８は、表１７に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図１６は、表１８に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００５２】
【表１８】
【実施例７】
表１９は、実施例２の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表２０は表１９に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図１７は、表２０に示される実施例７の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００５４】
【表１９】
【表２０】
表２１は、表２０に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図１８は、表２１に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００５７】
【表２１】
【実施例８】
表２２は、実施例８の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表２３は表２２に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図１９は、表２３に示される実施例８の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００５９】
【表２２】
【表２３】
表２４は、表２３に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図２０は、表２４に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００６２】
【表２４】
【実施例９】
表２５は、実施例９の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表２６は表２５に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図２１は、表２６に示される実施例９の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００６４】
【表２５】
【表２６】
表２７は、表２６に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図２２は、表２７に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００６７】
【表２７】
【実施例１０】
表２８は、実施例１０の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表２９は表２８に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図２３は、表２９に示される実施例１０の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００６９】
【表２８】
【表２９】
表３０は、表２９に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図２４は、表３０に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００７２】
【表３０】
【実施例１１】
表３１は、実施例１１の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表３２は表３１に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図２５は、表３２に示される実施例２の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００７４】
【表３１】
【表３２】
表３３は、表３２に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図２６は、表３３に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００７７】
【表３３】
【実施例１２】
表３４は、実施例１２の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表３５は表３４に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図２７は、表３５に示される実施例１２の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００７９】
【表３４】
【表３５】
表３６は、表３５に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図２８は、表３６に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００８２】
【表３６】
【実施例１３】
表３７は、実施例１３の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表３８は表３７に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図２９は、表３８に示される実施例１３の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００８４】
【表３７】
【表３８】
表３９は、表３８に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図３０は、表３９に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００８７】
【表３９】
【実施例１４】
表４０は、実施例１４の光束分割素子に用いられる第２の位相分布を示し、表４１は表４０に示した第２の位相分布を前述の第１の実施形態で示したように同一面上で第１の位相分布と重ね合わせた複合位相分布を示す。図３１は、表４１に示される実施例１４の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフである。
【００８９】
【表４０】
【表４１】
表４２は、表４１に示した基準位相パターンを有する光束分割素子の光束分割性能を示す。図３２は、表４２に示される回折光の強度分布を示すグラフである。
【００９２】
【表４２】
各実施例によれば、回折効率を最低でも約８９％、最大では約９８％にまで高めることができる。
【００９４】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、入射光を±１次回折光に二分する第１の位相分布と、第１の位相分布の半分の周期を有して入射光を奇数本の回折光に分離する第２の位相分布との位相和で全体の位相分布を形成することにより、従来より高い回折効率で入射光を偶数本の回折光に分割することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 第１の実施形態の光束分割素子の位相パターンを拡大して示す斜視図。
【図２】 第１の実施形態の光束分割素子の位相分布を示すグラフ。
【図３】 第１の実施形態における第１，第２の位相分布の作用、及び複合位相分布の作用を示す説明図。
【図４】 第２，第２の実施形態の光束分割素子の側面図。
【図５】 実施例１の４分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図６】 実施例１の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図７】 実施例２の６分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図８】 実施例２の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図９】 実施例３の６分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図１０】 実施例３の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図１１】 実施例４の８分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図１２】 実施例４の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図１３】 実施例５の８分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図１４】 実施例５の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図１５】 実施例６の８分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図１６】 実施例６の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図１７】 実施例７の１０分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図１８】 実施例７の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図１９】 実施例８の１０分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図２０】 実施例８の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図２１】 実施例９の１２分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図２２】 実施例９の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図２３】 実施例１０の１２分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図２４】 実施例１０の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図２５】 実施例１１の１４分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図２６】 実施例１１の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図２７】 実施例１２の１４分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図２８】 実施例１２の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図２９】 実施例１３の１６分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図３０】 実施例１３の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【図３１】 実施例１４の１６分割型の光束分割素子の複合位相分布を示すグラフ。
【図３２】 実施例１４の光束分割素子による回折光の強度分布を示すグラフ。
【符号の説明】
１ 光束分割素子
Ｐ1，Ｐ2，... 基準位相パターン
Ｂ 基板
Claims (4)
- 入射光を回折させて複数の光束に分割するグレーティング型の光束分割素子において、前記入射光の半波長の段差を持って位相差が矩形波状に変化し、周期がＴ、デューティ比が１となる第１の位相分布と、位相差が非線形に変化し、周期がＴ／２となる第２の位相分布との位相和で全体の位相分布が構成され、前記第１、第２の位相分布は、全体として入射光を偶数本の回折光に分離することを特徴とする光束分割素子。
- 前記第１、第２の位相分布を複合した位相パターンが、単一の部材の一面に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の光束分割素子。
- 前記第１、第２の位相分布を生じる各位相パターンが、単一の部材の異なる面にそれぞれ独立して形成されていることを特徴とする請求項１に記載の光束分割素子。
- 前記第１，第２の位相分布を生じる各位相パターンが、それぞれ異なる部材に形成され、これらの部材を光の進行方向に沿って直列に配置したことを特徴とする請求項１に記載の光束分割素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33195599A JP4397482B2 (ja) | 1999-11-22 | 1999-11-22 | 光束分割素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33195599A JP4397482B2 (ja) | 1999-11-22 | 1999-11-22 | 光束分割素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001147308A JP2001147308A (ja) | 2001-05-29 |
| JP4397482B2 true JP4397482B2 (ja) | 2010-01-13 |
Family
ID=18249520
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33195599A Expired - Fee Related JP4397482B2 (ja) | 1999-11-22 | 1999-11-22 | 光束分割素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4397482B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4345625B2 (ja) * | 2004-09-22 | 2009-10-14 | 株式会社島津製作所 | 回折格子 |
| JP4649609B2 (ja) * | 2005-06-02 | 2011-03-16 | 国立大学法人長岡技術科学大学 | 光回折格子素子の製造方法 |
| JP5020647B2 (ja) * | 2007-01-25 | 2012-09-05 | キヤノン株式会社 | フォーカシングスクリーンおよびフォーカシングスクリーンの製造方法 |
| CN101765793B (zh) * | 2007-02-23 | 2011-11-30 | 纳诺科普有限公司 | 一种用于设计衍射光栅结构的方法和衍射光栅结构 |
| CN102544171A (zh) * | 2010-12-21 | 2012-07-04 | 财团法人工业技术研究院 | 多波段集光及能量转换模块 |
| US20200004036A1 (en) * | 2018-06-28 | 2020-01-02 | Viavi Solutions Inc. | Diffractive optical device providing structured light |
-
1999
- 1999-11-22 JP JP33195599A patent/JP4397482B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001147308A (ja) | 2001-05-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS58186718A (ja) | 光波長処理デバイス | |
| CN101726779A (zh) | 一种制作全息双闪耀光栅的方法 | |
| CA2264843A1 (en) | Phase mask for machining optical fibers, and its fabrication method | |
| US9024251B2 (en) | Encoder having a scale that includes block patterns | |
| JP2005077966A (ja) | 回折光学素子 | |
| JP4397482B2 (ja) | 光束分割素子 | |
| JP7377253B2 (ja) | ハイブリッド・コヒーレント及びスペクトルビーム結合のための回折光学素子 | |
| WO2009058556A1 (en) | Multi-segmented aiming diffractive optical elements | |
| JP4106478B2 (ja) | 多ビーム走査型露光装置 | |
| US20230176267A1 (en) | Optical computation system | |
| CN100462747C (zh) | 一种三台阶分束光栅及制作方法 | |
| JP2005084485A (ja) | 回折光学素子 | |
| US6441909B1 (en) | Pattern projection measurement grating | |
| US4759607A (en) | Phase gratings of a combination pattern-refraction modification type | |
| CA2370911A1 (en) | Method of producing phase mask for processing optical fiber and optical fiber with bragg diffraction grating fabricated by using the optical fiber-processing phase mask | |
| JP3283220B2 (ja) | 光束分割素子 | |
| WO2005050285A1 (en) | Optical pattern generating device | |
| CN100395565C (zh) | 量子点阵衍射光栅 | |
| JPH11258413A (ja) | 光束分割素子 | |
| JP3992890B2 (ja) | マルチビーム光学系 | |
| CN215117020U (zh) | 基于液晶偏振光栅的分光器 | |
| JP2001066442A (ja) | グレーティング加工装置 | |
| TW486580B (en) | Planar optical waveguide type dense wavelength division multiplexer | |
| CN114609796A (zh) | 微光学列阵元件 | |
| JP2658156B2 (ja) | 光演算法および光演算装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061018 |
|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20080425 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090202 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090804 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090916 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091013 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091021 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121030 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |