JP4388627B2 - 処理装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
ドライエッチング技術においては,処理ガスを処理室内に供給し,プラズマ放電などにより反応活性種を生成させる。このため,処理室内の半導体ウェハ(以下,単に「ウェハ」という)等の被処理体に対し処理ガスを均一に供給する技術は重要である。被処理体に対し処理ガスを均一に供給する技術の一例として,処理ガスをシャワー化して処理室内に供給するシャワーヘッド状のガス供給機構(以下,単に「シャワーヘッド」という。)が提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
ところで,処理装置にシャワーヘッドを備えて処理ガスをシャワー化させる場合であっても,被処理体に処理ガスを均一に供給するという点においては,以下の問題点があった。まず第一に,処理ガスを処理室から外部へ排気する排気部付近では,処理ガスが希薄になりがちである。このため,シャワーヘッドから処理ガスを均一に供給したとしても,被処理体に対し処理ガスが均一に供給されないことが起こりうる。すなわち,従来のシャワーヘッドでは,シャワーヘッドに導入される処理ガスを,単にシャワーヘッド内部のガス拡散空間で拡散させて複数のガス供給孔から処理室に供給する構造であったため,シャワーヘッドから処理室内に均一に処理ガスを供給した場合であっても,その処理ガスが被処理体に均一に供給されないという問題点があった。
【0004】
また第二に,処理ガスの使用量によっては,シャワーヘッドに導入された処理ガスがシャワーヘッド内で十分に拡散されることなく処理ガスの導入部付近に集中してしまうことがある。かかる事態が生じると,処理ガスを均一に供給するというシャワーヘッド本来の機能を果たせない。この問題を解消するために,シャワーヘッド内に広いガス拡散空間を設けたり,処理ガスのバッファ機構を設けたりすることは,処理装置の拡大化や製造コスト面で好ましくない。
【0005】
本発明は,従来の処理装置が有する上記問題点に鑑みてなされたものであり,本発明の目的は,処理装置の拡大化やコスト面に影響を与えることなく,処理ガスの被処理体への供給を自在に制御することの可能な新規かつ改良された処理装置を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため,複数のガス供給孔を備えたガス供給装置により処理ガスを処理室内に供給して被処理体を処理する処理装置において,ガス供給装置は1または2以上の遮蔽板により区画される複数のガス拡散室を備え,少なくとも2のガス拡散室間には差圧が形成され,各ガス拡散室にはそれぞれガス供給孔が形成されていることを特徴とする処理装置が提供される。
【0007】
かかる構成によれば,ガス供給装置は遮蔽板により区画される複数のガス拡散室を備え,少なくとも2のガス拡散室間には差圧が形成されるようにしたので,この差圧を調整することにより,処理ガスや被処理体の種類に応じた柔軟な処理ガスの制御が可能である。また,従来の装置構成に遮蔽板を付加することのみで実現できるため,装置構成の拡大化や製造コストの増大を招くことがない。
【0008】
また,遮蔽板には調整孔が形成され,少なくとも一のガス拡散室に導入された処理ガスがガス流通孔を介して他のガス拡散室に導入されることにより,ガス拡散室間の差圧が形成されるようにすることができる。調整孔のコンダクタンスを調整することにより容易に差圧を制御することが可能である。
【0009】
さらに,調整孔の孔径および/または孔数を変化させる調整孔可変機構を備える ことが好ましい。かかる構成によれば,調整孔のコンダクタンスを自在に制御することができるので,処理ガスや被処理体の種類に応じて,あるいは,処理の段階ごとに,差圧を適宜変更することが可能である。
【0010】
また,ガス導入流量の異なる少なくとも2のガス導入系を備え,ガス拡散室にはそれぞれ異なる流量のガスがガス導入系を介して導入されることにより,ガス拡散室間の差圧が形成されるようにすることができる。ガス導入流量を変えることで差圧を調整することができるので,処理ガスや被処理体の種類に応じて,あるいは,処理の段階ごとに,差圧を適宜変更することが可能である。また,複数の処理ガスが用いられる処理にも有効である。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下に添付図面を参照しながら,本発明にかかる処理装置の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお,本明細書及び図面において,実質的に同一の機能構成を有する構成要素については,同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【0012】
(第1の実施の形態)
本実施の形態にかかる処理装置10を,図1〜図3を参照しながら説明する。なお,図1は処理装置10の内部構成を示す説明図であり,図2は処理装置10に用いられるガス供給手段の一例たるシャワーヘッド100の断面図であり,図3はシャワーヘッド100を構成する遮蔽板130の平面図である。
【0013】
処理装置10は,図1に示したように,処理室11内に,互いに対向するシャワーヘッド(上部電極)100及び載置台(下部電極)12から構成される平行平板型のプラズマ発生装置を備えている。載置台12には,マッチング回路13を介して高周波電源14が接続されている。ガス源15からの処理ガスは,流量制御装置(マスフローコントローラ)16を介して処理ガス導入通路(処理ガス導入系)140からシャワーヘッド100へ導入される。処理に用いられた処理ガスは処理室11から排気系19より排気される。このように,処理装置10は,複数のガス供給孔を備えたシャワーヘッド100により,処理ガスを処理室11内に供給して,載置台12上の被処理体の一例たるウェハWを処理する装置である。そして,処理装置10は,このシャワーヘッド100の構成に特徴を有する装置であるため,シャワーヘッド100につき詳細に説明する。
【0014】
(シャワーヘッド100)
シャワーヘッド100は,図2に示したように,略中央部に処理ガス導入通路140が連通されている略円柱形の第1電極板110と,第1電極板110と所定間隔を隔てて対向する位置に配され,複数のガス供給孔120hを備えた略円柱形の第2電極板120と,第1電極板110と第2電極板120との間に介挿された遮蔽板130とにより主に構成されている。
【0015】
(遮蔽板130)
遮蔽板130は,図2に示したように,半径Rの略円柱形をしており,底面及び側面に囲まれた空間がガス拡散空間として形成されている。このガス拡散空間は,半径r(rは遮蔽板130の半径Rの2/3程度)の隔壁130aにより,2つのガス拡散室に区画されている。すなわち,ガス拡散空間は,隔壁130aの内側,すなわち,半径rの円状の部分(第1ガス拡散室150)と,隔壁130aの外側,すなわち,半径rと半径Rの同心円により囲まれる部分(第2ガス拡散室160)の2つの部分に区画されている。処理ガス導入通路140は,第1ガス拡散室150に連通されている。この点についてはさらに後述する。
【0016】
遮蔽板130の底面には,図3に示した例では,放射状に複数のガス流通孔130hが貫通して形成されている。このガス流通孔130hは第2電極板120のガス供給孔120hと連通している。処理ガス導入通路140を介してガス拡散空間に導入された処理ガスは,遮蔽板130のガス流通孔130h,第2電極板のガス供給孔120hを順次介して,処理室11内に供給される。なお,ガス流通孔130hの配置は図3に示した例に限定されず,処理ガスや被処理体の種類に応じて適当な配置とすることができる。
【0017】
ガス拡散空間を区画する隔壁130aにはガスを流通させるための孔130bが穿設されており,処理ガス導入通路140を介して第1ガス拡散室150に導入された処理ガスは,この隔壁130aの孔130bを介して,第2ガス拡散室160へ拡散される。この処理ガスの拡散によりガス拡散室間には差圧が形成される。そして,この隔壁130aの孔径および/または孔数を調節し,そのコンダクタンスを調節することにより,第1ガス拡散室150と第2ガス拡散室160との間の差圧を調節できる。この隔壁130aの孔径や孔数はシミュレーションや経験等により予め設計の段階で適宜設定される。
【0018】
また,隔壁130aの孔径および/または孔数を変化させるガス流通孔可変機構を備えるようにしてもよい。かかるガス流通孔可変機構の一例としては,隔壁を円周方向に複数形成し,これら複数の隔壁を相対的に回転させて孔の位置合わせを行うことでコンダクタンスを調節し,ガス拡散室間の差圧を変化させる機構が考えられる。かかるガス流通孔可変機構を備えれば,処理ごとに,あるいは処理の段階ごとに差圧を適宜変更させることが可能である。
【0019】
処理ガスは,第1ガス拡散室150及び第2ガス拡散室160で拡散され,ガス拡散室間に所定の差圧が形成された後,第2電極板120に穿設されたガス供給孔120hによりそれぞれシャワー化され,処理室11に供給される。
【0020】
本実施の形態では,シャワーヘッド100は,遮蔽板130の隔壁130aにより区画される2のガス拡散室150,160を備え,隔壁130aに穿設された孔130bによりガス拡散室間には差圧が形成されるようにしたので,処理ガスやウェハの種類に応じた柔軟な処理ガスの制御が可能である。また,従来の装置構成に遮蔽板130を付加することのみで実現できるため,装置構成の拡大化や製造コストの増大を招くことがない。
【0021】
(第2の実施の形態)
本実施の形態にかかる処理装置20を,図4〜図6を参照しながら説明する。なお,図4は処理装置20の内部構成を示す説明図であり,図5は処理装置20に用いられるガス供給手段の一例たるシャワーヘッド200の断面図であり,図6はシャワーヘッド200を構成する遮蔽板230の平面図である。
【0022】
処理装置20は,図4に示したように,処理室21内に,互いに対向するシャワーヘッド(上部電極)200及び載置台(下部電極)22から構成される平行平板型のプラズマ発生装置を備えている。載置台22には,マッチング回路23を介して高周波電源24が接続されている。ガス源25からの処理ガスは,流量制御装置(マスフローコントローラ)26を介して第1処理ガス導入通路(処理ガス導入系)240aからシャワーヘッド200へ導入されるとともに,流量制御装置(マスフローコントローラ)27を介して第2処理ガス導入通路(処理ガス導入系)240bからシャワーヘッド200へ導入される。処理に用いられた処理ガスは処理室21から排気系29より排気される。なお,図中符号28はコンダクタンスガスケットであり,流量制御装置26,27及びコンダクタンスガスケット28により2の処理ガス導入通路の流量比が決まる。ただし,流量制御装置26,27及びコンダクタンスガスケット28の配置については,図示した配置に限定されない。このように,処理装置20は,複数のガス供給孔を備えたシャワーヘッド200により,処理ガスを処理室21内に供給して,載置台22上の被処理体の一例たるウェハWを処理する装置である。そして,処理装置20は,このシャワーヘッド200の構成に特徴を有する装置であるため,シャワーヘッド200につき詳細に説明する。
【0023】
(シャワーヘッド200)
上記第1の実施の形態におけるシャワーヘッド100は,ガス拡散室を区画する遮蔽板130に隔壁130aが形成され,第1ガス拡散室150に導入された処理ガスが隔壁130aに穿設された孔130bを介して第2ガス拡散室160に導入されることにより,ガス拡散室間の差圧が形成されていた。本実施の形態におけるシャワーヘッド200は,ガス流量の異なる2の処理ガス導入系を備え,ガス拡散室に異なる流量のガスがこのガス導入系を介して導入されることにより,ガス拡散室間の差圧が形成される場合の一例につき説明する。
【0024】
シャワーヘッド200は,図4に示したように,略中央部及びエッジ部付近に処理ガス導入通路(処理ガス導入系)240a,240bが連通されている略円柱形の第1電極板210と,第1電極板210と所定間隔を隔てて対向する位置に配され,複数のガス導入孔220hを備えた略円柱形の第2電極板220と,第2電極板210と第2電極板220との間に介挿された遮蔽板230とにより主に構成されている。
【0025】
(遮蔽板230)
遮蔽板230は,図5に示したように,半径Rの略円柱から,半径r(rは遮蔽板230の半径Rの約2/3程度)の略同心円柱をくり抜いた略リング形状であり,底面及び側面に囲まれた空間がガス拡散空間として形成されている。このガス拡散空間は,半径rの隔壁230aの内側,すなわち,半径rの円状の部分(第1ガス拡散室250)と,隔壁230aの外側の部分,すなわち,半径rと半径Rの同心円により囲まれる部分(第2ガス拡散室260)の2つの部分に区画されている。
【0026】
略リング形状の底面には,図6に示した例では,放射状に複数のガス流通孔230hが貫通して形成されている。このガス流通孔230hは第2電極板220のガス供給孔220hと連通している。処理ガス導入通路240aを介して第1ガス拡散室250に導入された処理ガスは,直接第2電極板のガス供給孔220hを介して処理室21内に供給される。また,処理ガス導入通路240bを介して第2ガス拡散室260に導入された処理ガスは,遮蔽板230のガス流通孔230hと,第2電極板220のガス供給孔220hを順次介して,処理室21内に供給される。なお,ガス流通孔230hの配置は図6に示した例に限定されず,処理ガスや被処理体の種類に応じて適当な配置とすることができる。
【0027】
上述のように,上記第1の実施の形態における遮蔽板130では,内部に隔壁130aが設けられることにより,遮蔽板130の内部が2のガス拡散室に区画されていたが,本実施の形態では,遮蔽板230が略リング形状であり,この略リング形状の内側の空間と,遮蔽板230の内部とで,2のガス拡散室に区画されている。そして,第1ガス拡散室250に連通される第1処理ガス導入通路240aのガス流量と,第2ガス拡散室260に連通される第2処理ガス導入通路240bのガス流量を異なるものとすることにより,ガス拡散室間の差圧が形成される。ガス流量はシミュレーションや経験等により調節される。
【0028】
処理ガスは,第1ガス拡散室250及び第2ガス拡散室260で拡散され,ガス拡散室間に所定の差圧が形成された後,第2電極板220に穿設されたガス供給孔220hによりそれぞれシャワー化され,処理室21に供給される。
【0029】
本実施の形態では,ガス流量の異なる2の処理ガス導入通路240a,240bを備え,ガス拡散室250,260にはそれぞれ異なる流量のガスが処理ガス導入通路240a,240bを介して導入されることにより,ガス拡散室間に差圧が形成されるようにすることができる。ガス導入流量を変えることで差圧を調節することができるので,処理ガスやウェハの種類に応じて,あるいは,処理の段階ごとに,差圧を適宜変更することが可能である。また,複数種類の処理ガスを導入して行われる処理にも有効である。
【0030】
以上,添付図面を参照しながら本発明にかかる処理装置の好適な実施形態について説明したが,本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば,特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり,それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【0031】
例えば,上記実施の形態においては,1の遮蔽板によりガス拡散空間を複数のガス拡散室に区画する場合について説明したが,本発明はこれに限定されず,遮蔽板を2以上備えるようにしてもよい。また,遮蔽板の隔壁の形状を変えることにより,区画されるガス拡散室の数・形状,ガス拡散室間の体積比等も適宜設計可能である。
【0032】
また,上記実施の形態においては,処理装置は2のガス導入系を備えた場合の一例につき説明したが,本発明はこれに限定されず,3以上のガス導入系を備えるようにしてもよい。
【0034】
また,第1の実施の形態で用いた遮蔽板の底面の形状を第2の実施の形態で用いてもよく,第2の実施の形態で用いた遮蔽板の底面の形状を第1の実施の形態で用いてもよい。
【0035】
【発明の効果】
以上説明したように,本発明の処理装置によれば,処理ガスや被処理体の種類に応じた柔軟な処理ガスの制御が可能である。また,従来構成の拡大化や製造コストの増大を招くことがない。
【0036】
また特に請求項2に記載の処理装置によれば,ガス供給装置のガス流通孔のコンダクタンスを設計後に制御することができるので,処理ガスや被処理体の種類に応じて,あるいは,処理の段階ごとに差圧を適宜変更することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】処理装置の内部構成の説明図である。
【図2】図1の処理装置に用いられるシャワーヘッドの断面図である。
【図3】図2のシャワーヘッドに用いられる遮蔽板の平面図である。
【図4】他の処理装置の内部構成の説明図である。
【図5】図4の処理装置に用いられるシャワーヘッドの断面図である。
【図6】図5のシャワーヘッドに用いられる遮蔽板の平面図である。
【符号の説明】
10,20 処理装置
11,21 処理室
12,22 載置台(下部電極)
13,23 マッチング回路
14,24 高周波電源
15,25 ガス源
16,26,27 流量制御装置(マスフローコントローラ)
28 コンダクタンスガスケット
100,200 シャワーヘッド(上部電極)
110,210 第1電極板
120,220 第2電極板
120h,220h ガス供給孔
130,230 遮蔽板
130a,230a 隔壁
130b 孔
130h,230h ガス流通孔
140 処理ガス導入通路(処理ガス導入系)
240a 第1処理ガス導入通路(処理ガス導入系)
240b 第2処理ガス導入通路(処理ガス導入系)
150,250 第1ガス拡散室
160,260 第2ガス拡散室
Claims (2)
- 複数のガス供給孔を備えたガス供給装置により処理ガスを処理室内に供給して被処理体を処理する処理装置において:
前記ガス供給装置は、
1または2以上の隔壁によって中心部と1または2以上の周縁部とに区画された空間である複数のガス拡散室を含み、底面に前記ガス供給孔と連通するガス流通孔を有する遮蔽板と、
前記遮蔽板の中央部に位置する第1のガス拡散室と上部から連通するガス導入通路と、
を備え、
前記隔壁は、前記隔壁を貫通し所定の孔径および/または孔数の調整孔が形成され、少なくとも2の前記ガス拡散室間を前記調整孔を介してガスが導入されることにより、前記ガス拡散室間に差圧が形成される、処理装置。 - 前記遮蔽板は、円筒形状の前記隔壁を円周方向に少なくとも2以上設け、2以上設けられた前記隔壁のうち少なくとも1の隔壁が、前記隔壁相互の相対的位置が可変となるように回転可能であることにより形成される調整孔可変機構を有する、請求項1に記載の処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19074999A JP4388627B2 (ja) | 1999-07-05 | 1999-07-05 | 処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19074999A JP4388627B2 (ja) | 1999-07-05 | 1999-07-05 | 処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001017852A JP2001017852A (ja) | 2001-01-23 |
JP4388627B2 true JP4388627B2 (ja) | 2009-12-24 |
Family
ID=16263114
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19074999A Expired - Fee Related JP4388627B2 (ja) | 1999-07-05 | 1999-07-05 | 処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4388627B2 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100702002B1 (ko) * | 2001-06-25 | 2007-03-30 | 삼성전자주식회사 | 반도체 웨이퍼 처리 장치용 샤워헤드 |
JP4482308B2 (ja) | 2002-11-26 | 2010-06-16 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 |
JP4753276B2 (ja) | 2002-11-26 | 2011-08-24 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 |
JP4454964B2 (ja) | 2003-06-09 | 2010-04-21 | 東京エレクトロン株式会社 | 分圧制御システム及び流量制御システム |
JP4550507B2 (ja) | 2004-07-26 | 2010-09-22 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
JP4895167B2 (ja) * | 2006-01-31 | 2012-03-14 | 東京エレクトロン株式会社 | ガス供給装置,基板処理装置,ガス供給方法 |
JP4963694B2 (ja) * | 2008-09-29 | 2012-06-27 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
CN103796413B (zh) * | 2012-11-01 | 2017-05-03 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 等离子反应器及制作半导体基片的方法 |
JP6219179B2 (ja) * | 2014-01-20 | 2017-10-25 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
-
1999
- 1999-07-05 JP JP19074999A patent/JP4388627B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001017852A (ja) | 2001-01-23 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060530 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090428 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090625 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090804 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090828 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090929 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091005 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121009 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151009 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |