JP4367154B2 - Liquid crystal display device and manufacturing method thereof - Google Patents
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Description
本発明は、液晶表示装置およびその製造方法に関し、とくに、反射型表示と透過型表示とが併用される併用型の液晶表示装置およびその製造方法に関するものである。 The present invention relates to a liquid crystal display device and a manufacturing method thereof, and more particularly to a combined type liquid crystal display device in which a reflective display and a transmissive display are used in combination and a manufacturing method thereof.
液晶表示装置は、ＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ Ｒａｙ Ｔｕｂｅ）よりも、薄型、軽量、低消費電力といった利点を有しており、パーソナルコンピューター、携帯電話、デジタルカメラなど、さまざまな電子機器の表示装置として使用されている。 Liquid crystal display devices have advantages over CRT (Cathode Ray Tube) such as thinness, light weight, and low power consumption, and are used as display devices for various electronic devices such as personal computers, mobile phones, and digital cameras. Yes.
液晶表示装置は、透過型と反射型とに大別される。液晶表示装置は、ＣＲＴと異なり、自発光型の表示装置ではない。このため、透過型の液晶表示装置は、光源として、バックライトと呼ばれる平面光源を背面に設け、バックライトからの光を液晶パネルに透過させて表示している。透過型の液晶表示装置は、バックライトを用いて表示を行うため、周囲の光が弱い場合であっても影響を受けず、高い輝度、高コントラストで表示できるなどの利点を有する。しかし、バックライトは液晶表示装置の全消費電力の５０％以上を占めているため、透過型液晶表示装置は、消費電力を低減化することが困難であるといった問題を有する。また、周囲の光が強い場合には、表示が暗く見え、視認性が悪化するという問題もある。 Liquid crystal display devices are roughly classified into a transmission type and a reflection type. Unlike a CRT, a liquid crystal display device is not a self-luminous display device. For this reason, the transmissive liquid crystal display device is provided with a flat light source called a backlight on the back surface as a light source, and transmits light from the backlight to the liquid crystal panel for display. Since a transmissive liquid crystal display device performs display using a backlight, it has the advantage that it can be displayed with high brightness and high contrast without being affected even when ambient light is weak. However, since the backlight accounts for 50% or more of the total power consumption of the liquid crystal display device, the transmissive liquid crystal display device has a problem that it is difficult to reduce the power consumption. In addition, when the ambient light is strong, there is a problem that the display looks dark and visibility is deteriorated.
一方、反射型液晶表示装置は、周囲の光を光源として用い、反射板などを備えた光反射部でその周囲の光を反射させ、その反射光を液晶層に透過させて表示している。周囲の光を表示面上で面表示させるため、反射板は、拡散反射できるように凹凸形状の表面となっている。このような反射型液晶表示装置は、透過型液晶表示装置と異なってバックライトを使用しないため、消費電力が少ない利点を有する。しかし、周囲が暗い場合は、反射する光が少なくなるために、輝度、コントラストが不十分となり、視認性が悪化するなどの問題が発生する。特に、カラー表示する場合、反射光がカラーフィルタに吸収されるため、反射光の利用効率が低下してしまい、視認性が著しく悪化する。 On the other hand, the reflection type liquid crystal display device uses ambient light as a light source, reflects the ambient light with a light reflecting portion provided with a reflection plate or the like, and transmits the reflected light to the liquid crystal layer for display. In order to display ambient light on the display surface, the reflector has an uneven surface so that it can be diffusely reflected. Unlike the transmissive liquid crystal display device, such a reflective liquid crystal display device does not use a backlight and thus has an advantage of low power consumption. However, when the surroundings are dark, less light is reflected, resulting in problems such as insufficient brightness and contrast and poor visibility. In particular, in the case of color display, since reflected light is absorbed by the color filter, the utilization efficiency of the reflected light is lowered and the visibility is remarkably deteriorated.
透過型および反射型液晶表示装置の問題点を解消するため、透過型と反射型とを併用する併用型の液晶表示装置が知られている（たとえば、特許文献１）。併用型の液晶表示装置は、たとえば、周囲が明るい場合には周囲の光の反射を利用して表示し、周囲が暗い場合にはバックライトを利用して表示する。
図６および図７は、電解複屈折制御（ＥＣＢ：Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モードにて動作する併用型の液晶表示装置の構成を示す構成図である。 6 and 7 are configuration diagrams showing a configuration of a combined type liquid crystal display device that operates in an electrolytic birefringence (ECB) mode.
図６は、ノーマリブラックの表示モードの場合を示している。ここで、図６において、図６（ａ）は、液晶表示装置の画素部の断面図を示している。そして、図６（ｂ）は、図６（ａ）における第２基板８０の表面の平面図を示しており、第１基板１０に形成されるカラーフィルタ層を点線で示している。なお、図６（ａ）の断面は、たとえば、図６（ｂ）のＸ１−Ｘ２線部の断面に相当する。
FIG. 6 shows a normally black display mode. Here, in FIG. 6, FIG. 6A shows a cross-sectional view of the pixel portion of the liquid crystal display device. FIG. 6B is a plan view of the surface of the
図６に示すように、ノーマリブラックの表示モードの液晶表示装置は、第１基板１０と、第２基板８０と、液晶層１９と有する。第１基板１０と間隔を隔てて第２基板８０が対向しており、第１基板１０と第２基板８０との間に挟まれて液晶層１９が配置されている。
As shown in FIG. 6, the normally black display mode liquid crystal display device includes a
第１基板１０の液晶層１９側の面には、正面光と背面光とを透過させて着色するカラーフィルタ層９０が形成されている。図６（ｂ）に示すように、カラーフィルタ層９０として、赤のカラーフィルタ層９０Ｒと、緑のカラーフィルタ層９０Ｂと、青のカラーフィルタ層９０Ｂとの３原色が１組で構成されている。それぞれのカラーフィルタ層９０は、第２基板８０の画素部に対応するように、たとえば、ストライプ状に形成されている。
On the surface of the
また、液晶層１９側に対して反対側となる第１基板１００の面には、上側位相差板２９０と上側偏光板２８０とが順次設けられている。ここで、上側位相差板２９０ａは、概ねλ／２のリタデーションを有するように形成されている。
Further, an upper retardation film 290 and an upper polarizing plate 280 are sequentially provided on the surface of the first substrate 100 that is opposite to the
一方、第２基板８０の液晶層１９側の面には、半導体素子であるＴＦＴ（Ｔｈｉｎ Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）２０と、光反射部１１と光透過部１２とが画素部に形成されている。ここで、ＴＦＴ２０は、スイッチング素子として機能する。
On the other hand, on the surface of the
光反射部１１は、周囲の光を拡散反射する領域であり、第１基板１０側から液晶層１９を介して入射する正面光を拡散反射する。光反射部１１には、拡散反射するように凹凸形状の表面を有する反射電極６２が、平坦化された層間絶縁膜４１の上に透明電極５１を介して形成されている。光反射部１１の反射電極６２は、たとえば、銀を用いて形成されている。
The
光透過部１２は、バックライト２００の光が透過する領域であり、図６（ｂ）に示すように、光反射部１１に開口部を設けることによって構成される。光透過部１２には、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などの透明電極５１が形成されている。また、バックライト２００は、液晶層１９が配置されている第２基板８０の面に対して他方となる面側に設けられている。
The
また、液晶層１９側に対して反対側となる第２基板８０の面には、下側偏光板２１０が設けられている。
Further, a lower polarizing plate 210 is provided on the surface of the
図７は、ノーマリホワイトの表示モードの場合を示しており、液晶表示装置の画素部の断面図を示している。第２基板８０にリタデーションがλ／４の下側位相差板２２０が設けられていることと、上側位相差板２９０ｂのリタデーションがλ／４であることを除き、前述の図６に示したノーマリブラックの表示モードの場合と同様である。
FIG. 7 shows a case of a normally white display mode, and shows a cross-sectional view of a pixel portion of a liquid crystal display device. Except that the
図６および図７に示したように、併用型の液晶表示装置は、反射による表示を行う正面光と、透過による表示を行う背面光との両者において発生する偏光状態の差を補償するために、第１基板１０と第２基板８０とのそれぞれには、偏光板と位相差板とが設けられている。
As shown in FIGS. 6 and 7, the combined liquid crystal display device compensates for the difference in polarization state generated between the front light for displaying by reflection and the back light for displaying by transmission. Each of the
上述したように、ノーマリブラックの表示モードの場合においては、第１基板１０に上側偏光板２８０と上側位相差板２９０ａとが設けられ、第２基板８０に下側偏光板２１０が設けられている。また、ノーマリホワイトの表示モードの場合においては、第１基板１０に上側偏光板２８０と上側位相差板２９０ｂとが設けられ、第２基板８０に下側偏光板２１０と下側位相差板２２０とが設けられている。
As described above, in the normally black display mode, the upper polarizing plate 280 and the upper retardation plate 290a are provided on the
ここで、下側偏光板２１０および下側位相差板２２０は、透過による表示を行うための背面光のみに対して光学的に機能し、反射による表示を行うための正面光に対しては光学的に機能しない。このため、併用型の液晶表示装置は、反射型のみの場合よりも多くの偏光板や位相差板が設けられている。また、ノーマリホワイトの表示モードの場合においては、波長分散の影響を抑制して反射による表示を行うために、λ／４のリタデーションを有する上側位相差板２９０ｂが第１基板１０に設けられているため、透過型のみの場合では不要となる下側位相差板２２０が、透過による表示を行うために追加されている。
Here, the lower polarizing plate 210 and the lower retardation plate 220 function optically only for the back light for performing display by transmission, and are optical for the front light for performing display by reflection. Does not work. For this reason, the combined liquid crystal display device is provided with more polarizing plates and retardation plates than in the case of only the reflective type. In the case of the normally white display mode, an upper retardation plate 290b having a retardation of λ / 4 is provided on the
このように併用型の液晶表示装置は、透過型または反射型のみの液晶表示装置と比較して、多くの偏光板と位相差板とを必要としている。このため、併用型の液晶表示装置は、装置全体として厚みを薄くすることができず、装置を小型化することが困難になっており、多くの偏光板および位相差板を設けているために材料コストが増している。また、偏光板および位相差板を基板に貼り合わせて設けているために、工程が複雑化して製造コストが増し、また、貼り合わせ工程にて異物混入などの製造トラブルが発生して、製造歩留まりが低下する場合がある。また、下側偏光板２１０は、背面光の一部を吸収するため、透過する光量が減り透過表示の際の画像品質が低下する。特に、ノーマリホワイトの表示モードの場合は、下側偏光板２１０と下側位相差板２２０との組み合わせにより、反射防止の機能が発現されるため、透過する光量が著しく減って透過表示の際の画像品質が低下する。さらに、液晶層１９側に対して反対側の第１基板１０と第２基板８０との面に、偏光板と位相差板とが設けられているため、たとえば、高温高湿の環境下や紫外線が照射される環境下によって偏光板と位相差板との光学特性が変化して装置の信頼性が低下する場合がある。
As described above, the combined liquid crystal display device requires a larger number of polarizing plates and retardation plates than a transmissive or reflective liquid crystal display device. For this reason, the combined type liquid crystal display device cannot be thinned as a whole, and it is difficult to reduce the size of the device, and a large number of polarizing plates and retardation plates are provided. Material costs are increasing. In addition, since the polarizing plate and the retardation plate are bonded to the substrate, the process becomes complicated and the manufacturing cost increases, and manufacturing troubles such as contamination of foreign substances occur in the bonding process, resulting in a manufacturing yield. May decrease. Further, since the lower polarizing plate 210 absorbs part of the back light, the amount of transmitted light is reduced, and the image quality at the time of transmissive display is lowered. Particularly in the normally white display mode, the combination of the lower polarizing plate 210 and the lower retardation plate 220 provides an antireflection function, so that the amount of transmitted light is remarkably reduced and transmissive display is performed. The image quality is reduced. Furthermore, since the polarizing plate and the retardation plate are provided on the surfaces of the
したがって、本発明の目的は、小型化することができ、製造歩留まりの向上や信頼性の向上が可能な液晶表示装置およびその製造方法を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device that can be miniaturized and can improve manufacturing yield and reliability, and a manufacturing method thereof.
上記目的を達成するために、本発明の液晶表示装置は、第１基板と、前記第１基板から間隔を隔てて配置され、光反射部と光透過部とが画素部に設けられている第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置されている液晶層とを有し、前記第１基板には、前記第２基板の前記光反射部と前記光透過部とに対応する前記液晶層側の領域に第１偏光層が形成されると共に、前記第１偏光層に対応する前記液晶層側の領域に第１位相差層が形成されている。 In order to achieve the above object, a liquid crystal display device according to the present invention includes a first substrate, a first substrate, a distance from the first substrate, and a light reflection portion and a light transmission portion provided in the pixel portion. Two substrates, and a liquid crystal layer disposed between the first substrate and the second substrate, and the first substrate includes the light reflecting portion and the light transmitting portion of the second substrate. The first polarizing layer is formed in the region on the liquid crystal layer side corresponding to, and the first retardation layer is formed in the region on the liquid crystal layer side corresponding to the first polarizing layer.
本発明によれば、第１基板には、第２基板の光反射部と光透過部とに対応する液晶層側の領域に第１偏光層が形成されると共に、第１偏光層に対応する液晶層側の領域に第１位相差層が形成されている。このため、第１偏光層と第１位相差層とが、高温高湿の環境下や紫外線が照射される環境下において、熱、湿度、紫外線の影響を受けなくにくくなっているため、光学特性の変化を防止し、装置の信頼性を向上することができる。 According to the present invention, the first substrate is formed with the first polarizing layer in the region on the liquid crystal layer side corresponding to the light reflecting portion and the light transmitting portion of the second substrate, and corresponds to the first polarizing layer. A first retardation layer is formed in a region on the liquid crystal layer side. For this reason, the first polarizing layer and the first retardation layer are less affected by heat, humidity, and ultraviolet rays in a high-temperature and high-humidity environment or an environment irradiated with ultraviolet rays. Can be prevented, and the reliability of the apparatus can be improved.
上記目的を達成するために、本発明の液晶表示装置の製造方法は、第１基板と、前記第１基板から間隔を隔てて配置され、光反射部と光透過部とが画素部に設けられている第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置されている液晶層とを有する液晶表示装置の製造方法であって、前記第１基板において前記第２基板の前記光反射部と前記光透過部とに対応する前記液晶層側の領域に第１偏光層を形成する工程と、前記第１基板において前記第１偏光層に対応する前記液晶層側の領域に第１位相差層を形成する工程とを有する。 In order to achieve the above object, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention includes a first substrate, a space apart from the first substrate, and a light reflection portion and a light transmission portion provided in the pixel portion. And a liquid crystal layer disposed between the first substrate and the second substrate, wherein the first substrate includes the second substrate. Forming a first polarizing layer in a region on the liquid crystal layer side corresponding to the light reflecting portion and the light transmitting portion; and forming a first polarizing layer on the liquid crystal layer side region corresponding to the first polarizing layer in the first substrate. Forming a single retardation layer.
本発明によれば、第１基板において、第２基板の光反射部と光透過部とに対応する液晶層側の領域に第１偏光層を形成する。そして、第１基板において、第１偏光層に対応する液晶層側の領域に第１位相差層を形成する。 According to the present invention, in the first substrate, the first polarizing layer is formed in a region on the liquid crystal layer side corresponding to the light reflecting portion and the light transmitting portion of the second substrate. Then, on the first substrate, the first retardation layer is formed in a region on the liquid crystal layer side corresponding to the first polarizing layer.
本発明によれば、小型化することができ、製造歩留まりの向上や信頼性の向上が可能な液晶表示装置およびその製造方法を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the liquid crystal display device which can be reduced in size and can improve manufacture yield and reliability, and its manufacturing method can be provided.
本発明にかかる実施形態の一例について、図面を参照して説明する。 An example of an embodiment according to the present invention will be described with reference to the drawings.
＜実施形態１＞
以下より、本発明にかかる実施形態１について説明する。
<Embodiment 1>
Embodiment 1 according to the present invention will be described below.
図１は、実施形態１の液晶表示装置を示す図である。実施形態１においては、ノーマリブラックの表示モードの液晶表示装置を示している。ここで、図１において、図１（ａ）は、液晶表示装置の画素部の断面図を示している。そして、図１（ｂ）は、図１（ａ）における第２基板８０の表面の平面図を示しており、第１基板１０に形成されるカラーフィルタ層９０を点線で示している。図１（ａ）の断面は、たとえば、図１（ｂ）のＸ１−Ｘ２線部の断面に相当する。なお、液晶表示装置の画素部は、複数がマトリクス状に配置されている。
FIG. 1 is a diagram illustrating the liquid crystal display device according to the first embodiment. In the first embodiment, a normally black display mode liquid crystal display device is shown. Here, in FIG. 1, FIG. 1A shows a cross-sectional view of a pixel portion of a liquid crystal display device. FIG. 1B is a plan view of the surface of the
図１に示すように、本実施形態の液晶表示装置は、第１基板１０と、第２基板８０と、液晶層１９と有する。第１基板１０と間隔を隔てて第２基板８０が対向しており、第１基板１０と第２基板８０との間に挟まれて液晶層１９が配置されている。
As shown in FIG. 1, the liquid crystal display device of this embodiment includes a
第１基板１０と第２基板８０は共に、光透過性を有し、たとえば、約０．５ｍｍ厚のガラス板などの透明材料で形成されている。
Both the
第１基板１０は、カラーフィルタ層９０と、上側偏光層２８１と、上側位相差層２９１と、透明電極９１とを液晶層１９側に有する。なお、本実施形態における上側偏光層２８１は、本発明の第１偏光層に相当する。また、本実施形態における上側位相差層２９１は、本発明の第１位相差層に相当する。
The
カラーフィルタ層９０は、図１（ｂ）に示すように、カラーフィルタ層９０として、赤のカラーフィルタ層９０Ｒと、緑のカラーフィルタ層９０Ｂと、青のカラーフィルタ層９０Ｂとの３原色が１組として構成されている。各色のカラーフィルタ層９０は、第２基板８０の画素部に対応するように、たとえば、ストライプ状に形成されている。カラーフィルタ層９０は、たとえば、顔料や染料などの着色剤を含有するアクリル樹脂を用いて形成されており、正面光と背面光とを透過させて着色する。
As shown in FIG. 1B, the
上側偏光層２８１は、後述する第２基板８０の光反射部１１と光透過部１２とに対応する液晶層１９側の領域を覆うように第１基板１０の全面に、サブミクロンオーダーの厚みで形成されている。上側偏光層２８１は、たとえば、リオトロピック液晶を第１基板１０に応力をかけながら塗布した後、硬化させることによって形成される。ここで、上側偏光層２８１は、塗布時にかける応力の方向によって、透過軸が所定の方向になるように形成される。上側偏光層２８１を形成する材料としては、ＴＣＦ（Ｔｈｉｎ Ｃｒｙｓｒａｌ Ｆｉｌｍ，オプティバ社製）が好適である。
The upper
上側位相差層２９１は、上側偏光層２８１に対応する液晶層１９側の領域を覆うように形成されている。上側位相差層２９１は、上側偏光層２８１の上に形成されたポリイミドの配向膜（図示なし）に、たとえば、紫外線硬化性の液晶モノマー膜をスピンコート法により塗布し乾燥させて後、紫外線を照射して硬化させてポリマー化することによって形成される。ここで、本実施形態の上側位相差層２９１は、リタデーションがλ／２となるように膜厚を調整し形成されている。具体的には、中心波長５５０ｎｍに対応するように、上側位相差層２９１はΔｎ＝０．１４の材料を用いて膜厚が２μｍになるように形成されている。
The
透明電極９１は、上側位相差層２９１に対応する液晶層１９側の領域を覆うように形成されている。透明電極９１は、ＩＴＯを用いて、後述する画素電極に対向する対向電極となるように形成される。
The
一方、第２基板８０は、ＴＦＴ２０と、下側偏光層２１１と、透明電極５１と、反射電極６２とを、液晶層１９側の面に有する。また、液晶層１９が配置されている第２基板８０の面に対して他方となる面側には、バックライト２００が設けられている。そして、図１（ｂ）に示すように、第２基板８０の１つの画素部内には光反射部１１と光透過部１２とが並列するように形成されており、反射型表示と透過型表示とを可能な併用型として構成されている。ここで、光反射部１１は、周囲の光を反射する領域であり、第１基板１０側から液晶層１９を介して入射する正面光を反射する。一方、光透過部１２は、バックライト２００の光が透過する領域である。なお、本実施形態における下側偏光層２１１は、本発明の第２偏光層に相当する。
On the other hand, the
ＴＦＴ２０は、画素電極である透明電極５１と反射電極６２とに接続するスイッチング素子として設けられている。本実施形態において、ＴＦＴ２０は、ボトムゲート構造であり、ゲート電極２１と、ゲート絶縁膜２２と、半導体層２３と、チャネルストッパー層２４と、絶縁層２５と、ソース電極２６Ｓと、ドレイン電極２６Ｄとを有する。ここで、ゲート電極２１は、たとえば、モリブデンを用いて形成されており、ゲート絶縁膜２２は、シリコン窒化膜とシリコン酸化膜との積層体を用いて形成されている。また、半導体層２３は、たとえば、ポリシリコンを用いて形成されており、ゲート電極２１と対応する領域に形成されているチャネル形成領域と、チャネル領域を挟むようにして形成されており、ソースまたはドレインとして機能する一対の不純物拡散領域とを有する。そして、チャネルストッパー層２４は、シリコン酸化膜を用いて形成されている。絶縁層２５は、半導体層２３を覆うようにしてシリコン酸化物を用いて形成されている。また、さらに、ソース電極２６Ｓとドレイン電極２６Ｄとが、絶縁層２５に設けられた開口にアルミニウムを埋め込むことによって形成されている。そして、図１においては図示を省略しているが、ＴＦＴ２０のゲート電極２１と接続する走査線（図示なし）と、ＴＦＴ２０のソース電極２６Ｓと接続する信号線（図示なし）とが直交するように形成されている。
The
そして、ＴＦＴ２０を覆って平坦化するように層間絶縁膜４１が形成されている。層間絶縁膜４１には、ＴＦＴ２０と画素電極とを接続するためのコンタクトホール４２が形成されている。また、層間絶縁膜４１には、光透過部１２に対応する領域に開口部４３が形成されている。ここで、光反射部１１と光透過部１２とにおいて液晶層１９のリタデーションがそれぞれ、λ／４とλ／２とになるように液晶層１９の厚みを調整するため、層間絶縁膜４１の厚さが調整されている。
An interlayer insulating
下側偏光層２１１は、第２基板８０の光透過部１２に対応する液晶層１９側の領域に形成されている。本実施形態においては、ゲート絶縁膜２２と絶縁層２５と層間絶縁膜４１とにおいて、光透過部１２に対応する領域に開口部が形成されており、下側偏光層２１１は、その開口部を埋めるようにして形成されている。下側偏光層２１１は、前述の上側偏光層２８１と同様にして、たとえば、リオトロピック液晶を第２基板８０に応力をかけながら塗布した後、硬化させることによって形成される。
The lower
透明電極５１は、第２基板８０の光反射部１１および光透過部１２の画素部に対応するように、ＩＴＯを用いて形成されている。
The
反射電極６２は、第２基板８０の光反射部１１に対応する透明電極５１の上に形成されている。反射電極６２は、ロジウム、チタン、クロム、銀、アルミニウム、クロメルなどの金属膜を用いて形成され、本実施形態では、特に、高い反射率を得るために、銀を用いて形成されている。反射電極６２は、第１基板１０側から液晶層１９を介して入射する正面光を拡散反射するために、凹凸形状の表面を有する。反射電極６２の凹凸形状の表面は、規則的な場合、光干渉によるモアレが発生することがあるため、不規則になるように形成されている。
The
液晶層１９は、第１基板１０と第２基板８０との間に、スペーサにより所定の距離を保持して封入されている。ここでは、光反射部１１と光透過部１２とにおいて液晶層１９のリタデーションがそれぞれλ／４とλ／２とになるようにスペーサを調整する。また、第２基板８０および第１基板１０には、ポリイミドなどの液晶配向膜（図示なし）が設けられ、液晶層１９は、この液晶配向膜の間に配向されて配置されている。本実施形態においては、液晶層１９は、ＥＣＢモードに対応するように形成されている。
The
つぎに、本実施形態の液晶表示装置の製造方法について図２を用いて説明する。図２は、本実施形態の液晶表示装置の製造方法において、第２基板８０側の製造工程について示す断面図である。
Next, a manufacturing method of the liquid crystal display device of the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a cross-sectional view showing a manufacturing process on the
図２（ａ）に示すように、まず、第２基板８０に導電材料を堆積後、フォトリソグラフィによって所定形状に加工してゲート電極２１を形成する。そして、ゲート電極２１を覆うようにして、シリコン窒化膜とシリコン酸化膜とを全面に堆積してゲート絶縁膜２２を形成する。その後、ゲート絶縁膜の上にアモルファスシリコンの半導体層２３を堆積する。そして、半導体層２３を覆うようにしてシリコン酸化膜を堆積する。その後、半導体層２３のチャネル形成領域にシリコン酸化膜をパターン加工して残して、チャネルストッパー層２４を形成する。そして、フォトリソグラフィによって半導体層２３を所定形状にパターン加工した後に、所定の温度で熱処理して、アモルファスシリコンの半導体層２３をポリシリコンとする。そして、ソースおよびドレインとなる領域の半導体層２３に、自己整合的に不純物をドーピングして、ボトムゲート構造のＴＦＴ２０を形成する。
As shown in FIG. 2A, first, after depositing a conductive material on the
そして、ＴＦＴ２０を覆うようにして、シリコン酸化膜を堆積して絶縁層２５を形成する。その後、フォトリソグラフィによって、ＴＦＴ２０のソースおよびドレイン領域の表面が露出するように絶縁層２５にコンタクトホールをそれぞれ形成する。
Then, an insulating
そして、ＴＦＴ２０のソースと接続する接続電極であるソース電極２５Ｓと、ＴＦＴ２０のドレインと接続する接続電極であるドレイン電極２５ｄとを形成する。ここでは、ソース電極２５Ｓおよびドレイン電極２５Ｄの形成領域にアルミニウムを堆積し所定形状にパターン加工をすることによって形成する。
Then, a source electrode 25S that is a connection electrode connected to the source of the
そして、ＴＦＴ２０を覆って平坦化するように層間絶縁膜４１を形成する。その後、ＴＦＴ２０のドレイン電極２５Ｄが露出するように、層間絶縁膜４１にコンタクトホール４２を形成する。また、ここで、ゲート絶縁膜２２と絶縁層２５と層間絶縁膜４１とにおいて、光透過部１２に対応する領域に開口部４３を形成する。
Then, an
そして、図２（ｂ）に示すように、層間絶縁膜４１に設けられたコンタクトホール４２と開口部４３とを覆うようにして層間絶縁膜４１の上に、下側偏光層２１１を形成する。たとえば、応力をかけながらリオトロピック液晶を第２基板８０に塗布した後、硬化させることによって下側偏光層２１１を形成する。
Then, as shown in FIG. 2B, a lower
そして、図２（ｃ）に示すように、第２基板８０の光透過部１２に対応するように、下側偏光層２１１をパターン加工する。たとえば、光透過部１２に対応する下側偏光層２１１をレジストマスクで覆い、光透過部１２以外に設けられている下側偏光層２１１を、炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ現像液を用いて除去してパターン加工する。
Then, as shown in FIG. 2C, the lower
その後、図１に示すように、コンタクトホール４２および開口部４３を埋めるようにして、層間絶縁膜４１および下側偏光層２１１の上にＩＴＯを堆積し、画素部に対応するようにパターン加工することによって透明電極５１を形成する。
Thereafter, as shown in FIG. 1, ITO is deposited on the
そして、第２基板８０の光反射部１１に対応する透明電極５１の上に、銀を用いて反射電極６２を形成する。本実施形態においては、拡散反射させるために反射電極６２の表面を凹凸形状に形成する。ここでは、感光性材料を用いて凹凸形状層（図示なし）を形成後、その凹凸形状層を覆うようにして導電材料を堆積し反射電極６２を形成する。
Then, a
一方、第１基板１０においては、図１に示すように、まず、原色に応じて顔料や染料が含有されたアクリル樹脂を用いて、カラーフィルタ層９０を形成する。
On the other hand, on the
そして、第２基板８０の光反射部１１と光透過部１２とに対応する液晶層１９側の領域を覆うように第１基板１０の全面に上側偏光層２８１を形成する。たとえば、リオトロピック液晶を第１基板１０に応力をかけながら塗布し、その後、硬化させることによって上側偏光層２８１を形成する。
Then, the upper
そして、上側偏光層２８１に対応する液晶層１９側の領域を覆うように上側位相差層２９１を形成する。ここでは、まず、上側偏光層２８１の上にポリイミド膜（図示なし）を形成し、ラビング処理することによって配向膜（図示なし）を形成する。そして、ポリイミドの配向膜の上に、紫外線硬化性の液晶モノマー膜をスピンコート法により塗布し乾燥させる。その後、その液晶モノマー膜に紫外線を照射して硬化させてポリマー化し、上側位相差層２９１を形成する。
Then, the
そして、上側位相差層２９１に対応する液晶層１９側の領域を覆うように、ＩＴＯを用いて、透明電極９１を形成する。
Then, the
そして、第１基板１０と第２基板８０との液晶層１９側の表面に液晶配向膜（図示なし）を設け、配向処理を実施する。そして、第１基板１０と第２基板８０との間にスペーサを設け、シール材を用いて両者を貼り合わせる。そして、第１基板１０と第２基板８０との間に液晶層１９となる液晶を注入して封止し、液晶パネルを形成する。
Then, a liquid crystal alignment film (not shown) is provided on the surfaces of the
そして、第２基板８０の液晶層１９側と反対側に面にバックライト２００を配置し、本実施形態の液晶表示装置を製造する。
Then, the
上記の本実施形態は、ノーマリブラックの表示モードであるため、液晶層１９に電界が印加ない場合には暗表示となり、電界が印加される場合は明表示となる。
Since the present embodiment is a normally black display mode, dark display is obtained when no electric field is applied to the
上記の本実施形態において、第１基板１０には、光反射部１１と光透過部１２とに対応する液晶層１９側の領域に上側偏光層２８１が形成されると共に、上側偏光層２８１に対応する液晶層１９側の領域に上側位相差層２９１が形成されている。また、第２基板８０には、光透過部１２に対応する液晶層１９側の領域に下側偏光層２１１が形成されている。ここで、従来においては、偏光板および位相差板を合わせて、１ｍｍ程度の厚みがあったが、本実施形態においては、塗布により形成されているため、上側偏光層２８１と上側位相差層２９１と下側偏光層２１１とは、サブミクロンオーダーの厚みで形成されている。このため、本実施形態は、液晶表示装置を小型化することができる。また、上側偏光層２８１と上側位相差層２９１と下側偏光層２１１とを塗布により形成しているために、偏光板および位相差板を貼り合わせる工程が不要となるため、工程が単純化して製造コストが低下できる。また、貼り合わせ工程における異物混入などの製造トラブルが発生しないため、製造歩留まりを向上することができる。さらに、上側偏光層２８１と上側位相差層２９１と下側偏光層２１１とが第１基板１０と第２基板８０との液晶層１９側の面に設けられているために、上側偏光層２８１と上側位相差層２９１と下側偏光層２１１とが、高温高湿の環境下や紫外線が照射される環境下において、熱、湿度、紫外線の影響を受けなくにくくなっているため、光学特性の変化を防止し、装置の信頼性を向上することができる。
In the present embodiment, the
＜実施形態２＞
以下より、本発明にかかる実施形態２について説明する。実施形態２においては、ノーマリホワイトの表示モードの液晶表示装置を示している。
<Embodiment 2>
Hereinafter, Embodiment 2 according to the present invention will be described. In the second embodiment, a normally white display mode liquid crystal display device is shown.
図３は、実施形態２の液晶表示装置の画素部の断面図である。 FIG. 3 is a cross-sectional view of a pixel portion of the liquid crystal display device according to the second embodiment.
本実施形態の液晶表示装置は、第２基板８０の光透過部１２対応するように下側位相差層２２１が形成されていること、および、上側位相差層２９１のリタデーションがλ／４であることを除いて、実施形態１の液晶表示装置と同様である。このため、重複する個所については、説明を省略する。
In the liquid crystal display device of this embodiment, the
図３に示すように、本実施形態の液晶表示装置において、第２基板８０には、下側偏光層２１１に対応する液晶層１９側の領域に下側位相差層２２１が形成されている。下側位相差層２２１は、下側偏光層２１１の上に形成されたポリイミドの配向膜（図示なし）に、たとえば、紫外線硬化性の液晶モノマー膜をスピンコート法により塗布し乾燥させて後、紫外線を照射して硬化させてポリマー化することによって形成される。ここで、本実施形態の上側位相差層２９１は、リタデーションがλ／４となるように膜厚を調整し形成されている。なお、ここで、本実施形態の下側位相差層２２１は、本実施形態の第２位相差層に相当する。
As shown in FIG. 3, in the liquid crystal display device of the present embodiment, a
また、第１基板１０に形成されている上側位相差層２９１は、リタデーションがλ／４となるように膜厚を調整し形成されている。
The
つぎに、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。図４は、本実施形態の液晶表示装置の製造方法において、第２基板８０側の製造工程について示す断面図である。
Next, a manufacturing method of the liquid crystal display device according to the present embodiment will be described. FIG. 4 is a cross-sectional view showing a manufacturing process on the
図４（ａ）に示すように、実施形態１と同様にして、第２基板８０にボトムゲート構造のＴＦＴ２０と、ソース電極２５Ｓと、ドレイン電極２５ｄとを形成する。そして、ＴＦＴ２０を覆って平坦化するように層間絶縁膜４１を形成する。その後、ＴＦＴ２０のドレイン電極２５Ｄが露出するように、層間絶縁膜４１にコンタクトホール４２を形成する。また、ここで、ゲート絶縁膜２２と絶縁層２５と層間絶縁膜４１とにおいて、光透過部１２に対応する領域に開口部４３を形成する。そして、層間絶縁膜４１に設けられたコンタクトホール４２と開口部４３とを覆うようにして層間絶縁膜４１の上に、下側偏光層２１１を形成する。たとえば、応力をかけながらリオトロピック液晶を第２基板８０に塗布した後、硬化させることによって下側偏光層２１１を形成する。
As shown in FIG. 4A, the bottom
そして、図４（ｂ）に示すように、光透過部１２に対応する液晶層１９側の領域を覆うようにして、紫外線硬化性の液晶モノマー膜２２１ａを形成する。ここでは、まず、下側偏光層２１１の上にポリイミド膜（図示なし）を形成し、ラビング処理することによって配向膜（図示なし）を形成する。そして、ポリイミドの配向膜の上に、前述の液晶モノマー膜２２１ａをスピンコート法により塗布し乾燥させる。
Then, as shown in FIG. 4B, an ultraviolet curable liquid
そして、図４（ｃ）に示すように、マスクを用いることによって、光透過部１２に対応する領域の液晶モノマー膜２２１ａに紫外線を照射して硬化させてポリマー化し、下側位相差層２２１を形成する。
Then, as shown in FIG. 4C, by using a mask, the liquid
そして、図３に示すように、液晶ポリマーの下側位相差層２２１を残すように、ポリマー化されていない液晶モノマー膜２２１ａを炭酸水素ナトリウムなどのアルカリ現像液を用いて除去する。ここで、ポリマー化されていない液晶モノマー膜２２１ａを除去する際において、液晶ポリマーの下側位相差層２２１をマスクとし、下側偏光層２１１を液晶モノマー膜２２１ａと同様にして、除去してパターン加工する。
Then, as shown in FIG. 3, the non-polymerized liquid
その後、層間絶縁膜４１に設けられたコンタクトホール４２および開口部４３を埋めるようにして、層間絶縁膜４１および下側偏光層２１１の上にＩＴＯを堆積し、画素部に対応するようにパターン加工することによって透明電極５１を形成する。
Thereafter, ITO is deposited on the
そして、第２基板８０の光反射部１１に対応する透明電極５１の上に、銀を用いて反射電極６２を形成する。本実施形態においては、実施形態１と同様に、拡散反射させるために、反射電極６２の表面を凹凸形状に形成する。
Then, a
一方、第１基板１０においては、図３に示すように、実施形態１と同様にして、カラーフィルタ層９０と上側偏光層２８１とを形成する。
On the other hand, as shown in FIG. 3, the
そして、実施形態１と同様に、上側偏光層２８１に対応する液晶層１９側の領域を覆うように上側位相差層２９１を形成する。ここでは、実施形態１と異なって、上側位相差層２９１のリタデーションが、λ／４となるように膜厚を調整して形成する。
Then, as in the first embodiment, the
そして、実施形態１と同様に、上側位相差層２９１に対応する液晶層１９側の領域を覆うように、ＩＴＯを用いて、透明電極９１を形成する。
Then, as in the first embodiment, the
そして、第１基板１０と第２基板８０との液晶層１９側の表面に液晶配向膜（図示なし）を設け、配向処理を実施する。そして、第１基板１０と第２基板８０との間にスペーサを設け、シール材を用いて両者を貼り合わせる。そして、第１基板１０と第２基板８０との間に液晶層１９となる液晶を注入して封止し、液晶パネルを形成する。
Then, a liquid crystal alignment film (not shown) is provided on the surfaces of the
そして、第２基板８０の液晶層１９側と反対側に面にバックライト２００を配置し、本実施形態の液晶表示装置を製造する。
Then, the
上記の本実施形態は、ノーマリホワイトの表示モードであるため、液晶層１９に電界が印加ない場合には明表示となり、電界が印加される場合は暗表示となる。
Since the present embodiment is a normally white display mode, the display is bright when an electric field is not applied to the
上記の本実施形態は、実施形態１と異なって、第２基板８０には、下側偏光層２１１に対応する液晶層１９側の領域に下側位相差層２２１が形成されている。本実施形態において下側位相差層２２１は、塗布により形成されているため、サブミクロンオーダーの厚みで形成可能なため、液晶表示装置を小型化することができる。また、下側位相差層２２１を塗布により形成しているために、位相差板を貼り合わせる工程が不要となるため、工程が単純化して製造コストが低下する。また、貼り合わせ工程における異物混入などの製造トラブルが発生しないため、製造歩留まりを向上することができる。さらに、第１基板１０と第２基板８０との液晶層１９側の面に下側位相差層２２１が設けられているために、高温環境下において下側位相差層２２１に熱が伝熱しにくくなっているため光学特性が変化しにくくなり、装置の信頼性を向上することができる。
In the present embodiment, unlike the first embodiment, a
また、本実施形態は、液晶ポリマーの下側位相差層２２１をマスクとし、ポリマー化されていない液晶モノマー膜２２１ａを除去すると共に、下側偏光層２１１を除去しパターン加工している。このため、製造工程を単純化できるため、製造コストを低下させ、製造歩留まりを向上することができる。
In the present embodiment, the
＜実施形態３＞
以下より、本発明にかかる実施形態３について説明する。
<Embodiment 3>
Hereinafter, Embodiment 3 according to the present invention will be described.
図５は、実施形態３の液晶表示装置の断面図である。 FIG. 5 is a cross-sectional view of the liquid crystal display device of the third embodiment.
本実施形態の液晶表示装置は、第１基板１０の上側位相差層２９１が、カラーフィルタ層９０の色に応じて厚さが異なっていることを除いて、実施形態１の液晶表示装置と同様である。このため、重複する個所については、説明を省略する。
The liquid crystal display device of the present embodiment is the same as the liquid crystal display device of the first embodiment, except that the
図５に示すように、本実施形態の液晶表示装置において、第１基板１０の上側位相差層２９１が、カラーフィルタ層９０の色に応じて厚さが異なっている。たとえば、赤色のカラーフィルタ層９０Ｒに対応する領域においては、上側位相差層２９１の厚みＤＲを２．３μｍ厚とする。また、緑色のカラーフィルタ層９０Ｇに対応する領域においては、上側位相差層２９１の厚みＤＧを２．０μｍ厚とする。また、青色のカラーフィルタ層９０Ｂに対応する領域においては、上側位相差層２９１の厚みＤＢを１．６μｍ厚とする。
As shown in FIG. 5, in the liquid crystal display device of the present embodiment, the thickness of the
つぎに、本実施形態に係る液晶表示装置の製造方法について説明する。 Next, a manufacturing method of the liquid crystal display device according to the present embodiment will be described.
第１基板１０においては、図５に示すように、実施形態１と同様にして、カラーフィルタ層９０と上側偏光層２８１とを形成する。そして、上側偏光層２８１に対応する液晶層１９側の領域を覆うように、液晶モノマー膜を形成する。そして、たとえば、ハーフトーン露光法を用いて、カラーフィルタ層９０の色に応じて露光量を調整して、液晶モノマー膜がポリマー化する度合いを制御する。そして、ポリマー化されなかった液晶モノマー膜を除去する。このようにして、上側位相差層２９１をカラーフィルタ層９０の色に応じて厚さが異なるように形成する。その後、上側位相差層２９１に対応する液晶層１９側の領域を覆うように、ＩＴＯを用いて、透明電極９１を形成する。
In the
第２基板８０においては、実施形態１と同様にして、ＴＦＴ２０と、下側偏光層２１１と、層間絶縁膜４１と、透明電極５１と、反射電極６２とを、液晶層１９側の面を形成する。
In the
そして、第１基板１０と第２基板８０との液晶層１９側の表面に液晶配向膜（図示なし）を設け、配向処理を実施する。そして、第１基板１０と第２基板８０との間にスペーサを設け、シール材を用いて両者を貼り合わせる。そして、第１基板１０と第２基板８０との間に液晶層１９となる液晶を注入して封止し、液晶パネルを形成する。
Then, a liquid crystal alignment film (not shown) is provided on the surfaces of the
そして、第２基板８０の液晶層１９側と反対側に面にバックライト２００を配置し、本実施形態の液晶表示装置を製造する。
Then, the
上記の本実施形態は、ノーマリブラックの表示モードであるため、実施形態１と同様に、液晶層１９に電界が印加ない場合には暗表示となり、電界が印加される場合は明表示となる。
Since the present embodiment is a normally black display mode, as in the first embodiment, dark display is obtained when an electric field is not applied to the
上記の本実施形態は、実施形態１と異なり、上側位相差層２９１は、カラーフィルタ層９０の色に応じて厚さが異なっている。位相差層のリタデーションは波長分散を有するため、カラーフィルタ層９０の膜厚が一定の場合、中間調において色つきが発生する場合があるが、波長分散に対応するように、上側位相差層２９１の膜厚を異ならせることによって、適正なリタデーションとすることができる。このため、画像品質を向上させることができる。また、本実施形態において、ハーフトーン露光法を用いて、カラーフィルタ層９０の色に応じて厚さが異なるように上側位相差層２９１を形成している。ハーフトーン露光法を用いているため、液晶モノマー膜の塗布、紫外線照射、エッチングを順次、カラーフィルタ層９０の色ごとに実施する必要がなくなる。このため、製造工程を単純化できるため、製造コストを低下させ、製造歩留まりを向上することができる。
The present embodiment is different from the first embodiment in that the
１０…第１基板、１１…光反射部、１２…光透過部、１９…液晶層、２０…ＴＦＴ、４１…層間絶縁膜、５１，９１…透明電極、６２…反射電極、８０…第２基板、９０…カラーフィルタ層、２００…バックライト，２１１…下側偏光層（第２偏光層）、２２１…下側位相差層（第２位相差層）、２８１…上側偏光層（第１偏光層）、２９１…上側位相差層（第１位相差層）
DESCRIPTION OF
Claims (14)
前記第１基板から間隔を隔てて配置され、光反射部と光透過部とが画素部に設けられている第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置されている液晶層と
を有し、
前記第１基板には、前記第２基板の前記光反射部と前記光透過部とに対応する前記液晶層側の領域に第１偏光層が形成されると共に、前記第１偏光層に対応する前記液晶層側の領域に第１位相差層が形成されており、
前記第２基板には、前記光透過部に対応する前記液晶層側の領域に第２偏光層が形成されている
液晶表示装置。 A first substrate;
A second substrate disposed at a distance from the first substrate and having a light reflection portion and a light transmission portion provided in the pixel portion;
A liquid crystal layer disposed between the first substrate and the second substrate,
Wherein the first substrate, the second substrate of the first polarization layer is formed in a region of the liquid crystal layer side of the light reflecting portion corresponding to said light transmissive portion Rutotomoni, corresponding to the first polarizing layer the first retardation layer in the region of the liquid crystal layer side is formed,
The liquid crystal display device , wherein a second polarizing layer is formed on the second substrate in a region on the liquid crystal layer side corresponding to the light transmission portion .
請求項１に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1.
前記液晶層側の領域を被覆する絶縁層 Insulating layer covering region on the liquid crystal layer side
を有し、 Have
前記絶縁層は、前記液晶層側の領域において前記光透過部に対応する部分に開口部が形成されており、 The insulating layer has an opening formed in a portion corresponding to the light transmission portion in the region on the liquid crystal layer side,
前記第２偏光層は、前記絶縁層の開口部に形成されている、 The second polarizing layer is formed in the opening of the insulating layer.
請求項１または２に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1.
前記第１位相差層は、前記カラーフィルタ層の色に応じて厚さが異なる
請求項１から３のいずれかに記載の液晶表示装置。 A color filter layer is provided on the first substrate so as to correspond to the pixel portion,
The first retardation layer, a liquid crystal display device according to any one of claims 1-3 in which the thickness is different according to the color of the color filter layer.
請求項１または２に記載の液晶表示装置。 Wherein the second substrate, a liquid crystal display device according to claim 1 or 2, the second retardation layer is formed in a region of the liquid crystal layer side corresponding to the second polarizing layer.
前記液晶層側の領域を被覆する絶縁層 Insulating layer covering region on the liquid crystal layer side
を有し、 Have
前記絶縁層は、前記液晶層側の領域において前記光透過部に対応する部分に開口部が形成されており、 The insulating layer has an opening formed in a portion corresponding to the light transmission portion in the region on the liquid crystal layer side,
前記第２偏光層および前記第２位相差層は、前記絶縁層の開口部に形成されている、 The second polarizing layer and the second retardation layer are formed in an opening of the insulating layer,
請求項５に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 5.
前記第１基板において前記第２基板の前記光反射部と前記光透過部とに対応する前記液晶層側の領域に第１偏光層を形成する工程と、
前記第１基板において前記第１偏光層に対応する前記液晶層側の領域に第１位相差層を形成する工程と、
前記第２基板において前記光透過部に対応する前記液晶層側の領域に第２偏光層を形成する工程と
を有する、
液晶表示装置の製造方法。 A first substrate; a second substrate disposed at a distance from the first substrate and having a light reflection portion and a light transmission portion provided in a pixel portion; and between the first substrate and the second substrate. A liquid crystal display device having a liquid crystal layer disposed on the substrate,
Forming a first polarizing layer in a region on the liquid crystal layer side of the first substrate corresponding to the light reflecting portion and the light transmitting portion of the second substrate;
Forming a first retardation layer in a region on the liquid crystal layer side corresponding to the first polarizing layer in the first substrate;
Forming a second polarizing layer in a region on the liquid crystal layer side corresponding to the light transmission portion in the second substrate .
A method for manufacturing a liquid crystal display device.
請求項７に記載の液晶表示装置の製造方法。 In the step of forming the second polarizing layer, the second polarizing layer is formed in a portion corresponding to the light transmitting portion in a region on the liquid crystal layer side in the second substrate, and a portion corresponding to the light reflecting portion. The second polarizing layer is not formed on
A method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 7.
を、さらに有し、 And further
前記絶縁層の形成工程では、前記液晶層側の領域において前記光透過部に対応する部分に開口部を形成し、 In the step of forming the insulating layer, an opening is formed in a portion corresponding to the light transmitting portion in the region on the liquid crystal layer side,
前記第２偏光層の形成工程では、前記第２偏光層を、前記絶縁層の開口部に形成する、In the step of forming the second polarizing layer, the second polarizing layer is formed in the opening of the insulating layer.
請求項７または８に記載の液晶表示装置の製造方法。 The manufacturing method of the liquid crystal display device of Claim 7 or 8.
を有し、
前記第１位相差層を形成する工程においては、前記第１位相差層を前記カラーフィルタ層の色に応じて厚さが異なるように形成する
請求項７から９のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。 Forming a color filter layer on the first substrate so as to correspond to the pixel portion;
10. The liquid crystal display according to claim 7 , wherein in the step of forming the first retardation layer, the first retardation layer is formed so as to have a different thickness depending on a color of the color filter layer. Device manufacturing method.
請求項１０に記載の液晶表示装置の製造方法。 Wherein in the first step of forming a retardation layer of claim 10 which thickness is formed differently in accordance with the first retardation layer using the halftone exposure method in the color of the color filter layer A method for manufacturing a liquid crystal display device.
を有する
請求項７または８に記載の液晶表示装置の製造方法。 The method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 7, further comprising: forming a second retardation layer in a region on the liquid crystal layer side corresponding to the second polarizing layer on the second substrate.
を、さらに有し、 And further
前記絶縁層の形成工程では、前記液晶層側の領域において前記光透過部に対応する部分に開口部を形成し、 In the step of forming the insulating layer, an opening is formed in a portion corresponding to the light transmitting portion in the region on the liquid crystal layer side,
前記第２偏光層の形成工程では、前記第２偏光層を、前記絶縁層の開口部に形成し、 In the step of forming the second polarizing layer, the second polarizing layer is formed in the opening of the insulating layer,
前記第２位相差層の形成工程では、前記第２位相差層を、前記絶縁層の開口部に形成する、 In the step of forming the second retardation layer, the second retardation layer is formed in an opening of the insulating layer.
請求項１２に記載の液晶表示装置の製造方法。 A method for manufacturing a liquid crystal display device according to claim 12.
前記光透過部に対応する前記液晶層側の領域を覆うように液晶モノマー膜を形成する工程と、
前記光透過部に対応する前記液晶層側の領域の前記液晶モノマー膜をポリマー化し液晶ポリマーの前記第２位相差層を形成する工程と、
前記液晶ポリマーの前記第２位相差層を残すように前記ポリマー化されていない液晶モノマー膜を除去する工程と
を有し、
前記第２偏光層を形成する工程においては、
前記ポリマー化されていない液晶モノマー膜を除去する工程にて前記液晶ポリマーの第２位相差層をマスクとして前記第２偏光層をパターン加工する
請求項１２または１３に記載の液晶表示装置の製造方法。 The step of forming the second retardation layer includes
Forming a liquid crystal monomer film so as to cover a region on the liquid crystal layer side corresponding to the light transmission portion;
Polymerizing the liquid crystal monomer film in the region on the liquid crystal layer side corresponding to the light transmission part to form the second retardation layer of liquid crystal polymer;
Removing the non-polymerized liquid crystal monomer film so as to leave the second retardation layer of the liquid crystal polymer, and
In the step of forming the second polarizing layer,
The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 12 or 13, wherein the second polarizing layer is patterned using the second retardation layer of the liquid crystal polymer as a mask in the step of removing the liquid crystal monomer film that is not polymerized. .
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