JP2000241809A - Reflection type liquid crystal display device - Google Patents
Reflection type liquid crystal display deviceInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に係
わり、中でも特に、液晶表示装置に入射した外光を反射
し観察者の位置に集光する機能を有し、視野角が広く明
るい画面表示を可能とした反射型液晶表示装置に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to a liquid crystal display device having a function of reflecting external light incident on the liquid crystal display device and condensing it at the position of an observer, and having a wide viewing angle and a bright screen. The present invention relates to a reflective liquid crystal display device capable of displaying.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般に液晶表示装置は、偏光膜と透明電
極が各々配設された対向する一対の基板と、これら基板
間に封入された液晶物質とでその主要部が構成されてい
る。また、カラー画像を表示するカラー液晶表示装置に
あっては、上記一対とした基板のいずれか一方に偏光を
着色するためのカラーフィルター層を設けている。2. Description of the Related Art Generally, a main part of a liquid crystal display device is composed of a pair of opposing substrates on which a polarizing film and a transparent electrode are provided, respectively, and a liquid crystal material sealed between these substrates. In a color liquid crystal display device for displaying a color image, one of the pair of substrates is provided with a color filter layer for coloring polarized light.
【０００３】画面表示を行なう際、対向する透明電極間
に電圧を印加することにより電極基板間に封入された液
晶物質の配向状態を変化させて、この液晶物質を透過す
る光の偏光面を制御すると共に、偏光フィルムによりそ
の透過、不透過を制御している。なお、以下の記述で画
素部とは、挟持した液晶へ電圧を印加し、液晶の配向状
態を変化させる部位（すなわち、光の透過、不透過が制
御される部位であり、通常は、対向した電極が平面視で
重なる部位）を示し、非画素部は、各画素部間の領域を
示す。When displaying a screen, a voltage is applied between the transparent electrodes facing each other to change the orientation of the liquid crystal material sealed between the electrode substrates, thereby controlling the plane of polarization of light transmitted through the liquid crystal material. At the same time, transmission and non-transmission are controlled by a polarizing film. In the following description, the pixel portion is a portion that applies a voltage to the sandwiched liquid crystal and changes the alignment state of the liquid crystal (that is, a portion where light transmission and non-transmission are controlled. (A portion where the electrodes overlap in plan view), and the non-pixel portion indicates a region between the pixel portions.
【０００４】また、上記一対とした基板の少なくとも一
方の基板には、ブラックマトリクスと呼称される、各画
素部に対向する部位に光透過用の開口を形成した遮光層
を配設することが一般的となっている。ブラックマトリ
クスは画素部の外周領域の不要な光を遮光することで、
画面表示のコントラストを向上させるものであり、さら
には、液晶表示素子への配線や液晶駆動用の電極等を遮
光部にて保護する役目を持たせる場合もある。[0004] At least one of the pair of substrates is generally provided with a light-blocking layer, which is called a black matrix and has a light-transmitting opening formed in a portion facing each pixel portion. It has become a target. The black matrix blocks unnecessary light in the outer peripheral area of the pixel section,
It is intended to improve the contrast of the screen display, and further has a role of protecting the wiring to the liquid crystal display element, the electrode for driving the liquid crystal, and the like with the light shielding portion.
【０００５】液晶表示装置として、背面側に位置する電
極基板（上記一対の基板のうち、観察者と反対側に位置
する基板であり、以下背面側電極基板と記す）の裏面も
しくは側面に光源（ライト）を配置し、光源より照射さ
れた光線にて画面表示を行なう、バックライト型もしく
はライトガイド型のランプ内蔵式透過型液晶表示装置が
広く普及している。[0005] As a liquid crystal display device, a light source (a substrate located on the opposite side of the pair of substrates and located on the opposite side of the pair of substrates; hereinafter, referred to as a rear electrode substrate) is provided on the rear surface or side surface of the electrode substrate. A backlight-type or light-guide-type transmissive liquid crystal display device with a built-in lamp, in which a light is disposed and a screen is displayed by a light beam emitted from a light source, is widely used.
【０００６】従来より液晶表示装置においては、低消費
電力で軽量化が可能という特徴を活かし、モバイル機器
等の携帯型表示装置への利用が期待されている。しか
し、ランプ内蔵式透過型液晶表示装置では光源（ライ
ト）による消費電力が大きい（例えば、ＣＲＴやプラズ
マディスプレイ装置等の表示装置と略同等の電力を消費
する）。このため、ランプ内蔵式透過型液晶表示装置は
バッテリーの使用時間が短く、かつ、バッテリーの占め
る割合が大きいため装置が重く、嵩張ることになる。す
なわち、ランプ内蔵式透過型液晶表示装置は液晶表示装
置が本来有すべき利点を活かしきれているとはいえな
い。Conventionally, liquid crystal display devices have been expected to be used for portable display devices such as mobile devices, taking advantage of the feature that they can be reduced in weight with low power consumption. However, in a transmissive liquid crystal display device with a built-in lamp, power consumption by a light source (light) is large (for example, approximately the same power is consumed as a display device such as a CRT or a plasma display device). For this reason, the transmissive liquid crystal display device with a built-in lamp has a short operation time of the battery and has a large proportion of the battery, so that the device is heavy and bulky. In other words, it cannot be said that the transmissive liquid crystal display device with a built-in lamp can take full advantage of the liquid crystal display device.
【０００７】このため、光源（ライト）を内蔵しない反
射型液晶表示装置の開発が検討されている。すなわち、
反射型液晶表示装置は、背面側電極基板に光反射板を配
設し、観察者側電極板（一対の基板のうち、観察者側に
位置する基板）から入射した室内光や自然光等の入射光
（外光）を前記光反射板で反射させ、この反射光で画面
表示を行なうものである。For this reason, development of a reflection type liquid crystal display device without a built-in light source (light) is being studied. That is,
In a reflection type liquid crystal display device, a light reflection plate is provided on a back side electrode substrate, and room light or natural light incident from an observer side electrode plate (a pair of substrates located on the observer side). Light (external light) is reflected by the light reflecting plate, and a screen display is performed using the reflected light.
【０００８】従来用いられている反射型液晶表示装置の
一例を、反射型液晶表示装置の構成を模式的に示す以下
の図面に基づき説明を行なう。図５の反射型液晶表示装
置４０では、背面側電極基板４３を構成する透明基板４
１ａ上にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）アレイを形成して
いる。次いで、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）アレイ上に
光散乱のために表面を凹凸とした絶縁膜４９を形成して
おり、絶縁膜４９上の各画素に対応する領域にＡｌ（ア
ルミ）等からなる金属反射膜４８を積層している。ここ
で、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）アレイと金属反射膜４
８とはバイア（Ｖｉａ）ホールで電気的に接続されてお
り、観察者側電極基板４２に形成した透明電極４５と金
属反射膜４８との間で液晶４４の駆動が行われる。すな
わち図５の例では、金属反射膜４８は液晶４４の駆動用
電極と光反射膜とを兼用させている。なお、図５の観察
者側電極基板４２は、Ｒ（赤）色、Ｇ（緑）色、および
Ｂ（青）色の光透過性着色画素が所定の配列にて複数個
形成されたカラーフィルター層４７を有しており、カラ
ーフィルター層４７にてカラー表示を可能としている。An example of a conventional reflection type liquid crystal display device will be described with reference to the following drawings schematically showing the configuration of the reflection type liquid crystal display device. In the reflection-type liquid crystal display device 40 shown in FIG.
A TFT (thin film transistor) array is formed on 1a. Next, an insulating film 49 having an uneven surface for light scattering is formed on the TFT (thin film transistor) array, and a metal reflection film made of Al (aluminum) or the like is formed on the insulating film 49 in a region corresponding to each pixel. 48 are stacked. Here, the TFT (thin film transistor) array and the metal reflection film 4
8 is electrically connected by a via hole, and the liquid crystal 44 is driven between the transparent electrode 45 formed on the observer-side electrode substrate 42 and the metal reflection film 48. That is, in the example of FIG. 5, the metal reflection film 48 serves both as a driving electrode of the liquid crystal 44 and a light reflection film. The observer-side electrode substrate 42 in FIG. 5 has a color filter in which a plurality of light-transmitting colored pixels of R (red), G (green), and B (blue) are formed in a predetermined arrangement. The color filter layer 47 enables color display.
【０００９】次いで、図６は、従来用いられている反射
型液晶表示装置の他の例の要部を示している。図６の反
射型液晶表示装置５０では、光散乱のために表面を凹凸
としたＡｌ（アルミ）等からなる金属反射膜５８が、透
明接着剤５９等を介し、背面側電極基板６３の外側に配
設されている。背面側電極基板６３および観察者側電極
基板６２に各々配設された所定の形状とした透明電極５
５および透明電極５６間で、両電極基板間に挟持、封止
した液晶６４の駆動が行われる。なお、図６の観察者側
電極基板６２は、Ｒ（赤）色、Ｇ（緑）色、およびＢ
（青）色の光透過性着色画素が所定の配列にて複数個形
成されたカラーフィルター層５７を有しており、カラー
フィルター層５７にてカラー表示を可能としている。FIG. 6 shows a main part of another example of a conventional reflection type liquid crystal display device. In the reflection type liquid crystal display device 50 shown in FIG. 6, a metal reflection film 58 made of Al (aluminum) or the like having an uneven surface for light scattering is provided on the outside of the rear electrode substrate 63 via a transparent adhesive 59 or the like. It is arranged. A transparent electrode 5 having a predetermined shape, which is provided on each of the back electrode substrate 63 and the observer electrode substrate 62.
5 and the transparent electrode 56, the liquid crystal 64 sandwiched and sealed between both electrode substrates is driven. The observer-side electrode substrate 62 shown in FIG. 6 has R (red), G (green), and B
The color filter layer 57 includes a plurality of (blue) light-transmissive colored pixels formed in a predetermined arrangement, and the color filter layer 57 enables color display.
【００１０】上述したように反射型液晶表示装置におい
ては、反射型液晶表示装置に入射する外光を光源として
いる。このため、視野角が広く、かつ、観察者の位置で
の明るい画面表示を可能とするためには、表示装置内に
入射した外光を散乱させることが必要となる。As described above, in a reflective liquid crystal display device, external light incident on the reflective liquid crystal display device is used as a light source. For this reason, in order to enable a wide viewing angle and a bright screen display at the position of the observer, it is necessary to scatter external light that has entered the display device.
【００１１】図５の例に示した反射型液晶表示装置４０
においては、表面を凹凸とした絶縁膜４９上に積層形成
された金属反射膜４８の表面の凹凸にて入射光を散乱さ
せている。しかし、図５の例の反射型液晶表示装置４０
では、絶縁膜４９表面の凹凸の形成、および、ＴＦＴア
レイと金属反射膜４８との電気的導通を取るバイア（Ｖ
ｉａ）ホールの形成に手間が掛かり製造工程が複雑とな
るという問題が有る。さらに、液晶４４の駆動用電極と
なる金属反射膜４８の表面の凹凸が大きくなった場合、
対向する基板間の距離が不均一になり、挟持される液晶
の厚みが不均一になるいわゆるギャップ不良の問題が生
じ、画面表示の品位が落ちることになる。このため図５
の構成では、使用できる液晶駆動方式に制限が有るとい
う問題も生じる。The reflection type liquid crystal display device 40 shown in the example of FIG.
In the method, the incident light is scattered by the unevenness of the surface of the metal reflection film 48 formed on the insulating film 49 having the uneven surface. However, the reflection type liquid crystal display device 40 shown in FIG.
Here, vias (V) are used to form irregularities on the surface of the insulating film 49 and to establish electrical continuity between the TFT array and the metal reflective film 48.
ia) There is a problem that the formation of the hole is troublesome and the manufacturing process is complicated. Further, when the unevenness of the surface of the metal reflection film 48 serving as the driving electrode of the liquid crystal 44 becomes large,
The distance between the opposing substrates becomes non-uniform, and the thickness of the interposed liquid crystal becomes non-uniform. This causes a problem of a so-called gap defect, which degrades the quality of screen display. Therefore, FIG.
In the configuration described above, there is also a problem that there is a limitation on a liquid crystal driving method that can be used.
【００１２】一方、図６の例の反射型液晶表示装置５０
では、背面側電極基板６３の外側に配設した金属反射膜
５８の表面を凹凸に形成することで、入射光を散乱させ
ている。しかし図６の構成では、背面側電極基板６３の
裏面かつ外側に金属反射膜５８を配設したため以下の問
題が生じる。すなわち、背面側電極基板６３を構成する
基板５１ａに厚みがあるため光路差が生じることにな
る。このため、画素部を通過した後に金属反射膜５８で
反射した光が光路差により前記画素部に隣接する画素部
を通過して出力されることになり混色等の表示欠陥をも
たらすことになる。また、入射光が液晶６４と接する透
明電極５６表面と裏面の金属反射膜５８表面とで反射し
２重像となる等の問題も生じることになる。On the other hand, the reflection type liquid crystal display device 50 shown in FIG.
Here, the incident light is scattered by forming the surface of the metal reflection film 58 provided outside the rear electrode substrate 63 into irregularities. However, in the configuration of FIG. 6, the following problem occurs because the metal reflection film 58 is provided on the back surface and the outside of the back electrode substrate 63. That is, since the substrate 51a constituting the back electrode substrate 63 has a thickness, an optical path difference occurs. For this reason, the light reflected by the metal reflection film 58 after passing through the pixel portion is output by passing through the pixel portion adjacent to the pixel portion due to an optical path difference, resulting in display defects such as color mixing. In addition, the incident light is reflected on the surface of the transparent electrode 56 in contact with the liquid crystal 64 and on the surface of the metal reflection film 58 on the back surface, resulting in a problem such as a double image.
【００１３】このため本発明者らは、反射型液晶表示装
置内に、入射した光を散乱させる光散乱膜を形成し、ま
た、光散乱膜はマイクロレンズアレイにて構成すること
を提案している。すなわち、マイクロレンズにより入射
光を屈折させ画素部領域に導こうとしたものである。For this reason, the present inventors have proposed that a light scattering film for scattering incident light be formed in a reflection type liquid crystal display device, and that the light scattering film be constituted by a microlens array. I have. That is, the incident light is refracted by the microlenses and is directed to the pixel region.
【００１４】しかし、上記提案の反射型液晶表示装置で
は、マイクロレンズの無い領域（マイクロレンズとマイ
クロレンズとの間の領域）では光散乱が生じず、また、
マイクロレンズの無い領域（マイクロレンズとマイクロ
レンズとの間の領域）を通過した光は光反射膜でそのま
ま正反射され観察者位置に到達してしまうため、この正
反射光成分により画面表示の品位が下がるという問題も
生じていた。However, in the reflection type liquid crystal display device proposed above, light scattering does not occur in a region where there is no microlens (a region between microlenses).
The light that has passed through the region without the microlens (the region between the microlenses) is specularly reflected by the light reflection film as it is and reaches the observer's position. However, there has been a problem that the cost has decreased.
【００１５】また、前述したギャップ不良を防止するた
めマイクロレンズアレイ上に平坦膜を形成しているが、
マイクロレンズは１μｍ〜２μｍ程度の凹凸を有してお
り、平坦化膜が１層のみでは、平坦化効果が不十分であ
り画面表示の品位が落ちるという問題も有った。Although a flat film is formed on the microlens array to prevent the above-mentioned gap defect,
The microlens has irregularities of about 1 μm to 2 μm, and there is also a problem that if only one flattening film is used, the flattening effect is insufficient and the quality of the screen display deteriorates.
【００１６】[0016]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な問題に鑑みなされたものであり、その課題とするとこ
ろは、散乱光成分を大きくし、それにより、視野角の広
い、明るい画面表示を可能とした反射型液晶表示装置を
提供しようとするものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in consideration of the above-described problems, and has as its object to increase the scattered light component, thereby increasing the viewing angle of a bright screen. An object of the present invention is to provide a reflection type liquid crystal display device capable of performing display.
【００１７】[0017]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討を行い、本発明に至ったものであ
る。すなわち、本発明の請求項１においては、光反射膜
が形成された背面側基板と、観察者側基板と、前記両基
板のいずれか一方に配設された光散乱膜と、前記両基板
間に挟持される液晶物質とを少なくとも備えた反射型液
晶表示装置であって、前記光散乱膜が、一画素領域当た
りマイクロレンズが平面的に２個以上配設された光散乱
素子としてのマイクロレンズアレイと、マイクロレンズ
間を含めマイクロレンズアレイ上に形成された透明樹脂
よりなる透明薄膜層と、前記透明薄膜層上に形成された
平坦化膜との積層体であり、かつ、マイクロレンズの屈
折率と平坦化層の屈折率とが異なり、前記透明薄膜層の
屈折率はマイクロレンズの屈折率と同等もしくは、マイ
クロレンズの屈折率と平坦化層の屈折率との間としたこ
とを特徴とする反射型液晶表示装置としたものである。Means for Solving the Problems The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and have reached the present invention. That is, according to claim 1 of the present invention, a back-side substrate on which a light reflection film is formed, an observer-side substrate, a light-scattering film provided on one of the two substrates, A reflective liquid crystal display device comprising at least a liquid crystal substance sandwiched between the micro lenses, wherein the light scattering film is a micro lens as a light scattering element in which two or more micro lenses are arranged in a plane per pixel area. An array, a laminated body of a transparent thin film layer made of a transparent resin formed on the micro lens array including between the micro lenses, and a flattening film formed on the transparent thin film layer, and the refraction of the micro lenses The refractive index and the refractive index of the flattening layer are different, and the refractive index of the transparent thin film layer is equal to the refractive index of the microlens, or between the refractive index of the microlens and the refractive index of the flattening layer. Reflective type It is obtained by a crystal display device.
【００１８】また、請求項２においては、マイクロレン
ズアレイと同じ材質にて透明薄膜層を形成したことを特
徴とする請求項１に記載の反射型液晶表示装置としたも
のである。According to a second aspect of the present invention, there is provided the reflective liquid crystal display device according to the first aspect, wherein the transparent thin film layer is formed of the same material as the microlens array.
【００１９】かかる構成の反射型液晶表示装置において
は、マイクロレンズアレイ上に、マイクロレンズの屈折
率と同等もしくは、マイクロレンズの屈折率と平坦化膜
の屈折率の間の屈折率とした、透明樹脂からなる透明薄
膜層を形成している。これにより、マイクロレンズ本体
の表面形状が球面に近くなる。また、本発明の実施例を
示す図１の一部位（マイクロレンズ３の近傍）を拡大し
た図面である図３および、本発明の他の実施例を示す図
２の一部位（マイクロレンズ２３の近傍）を拡大した図
面である図４に示すように、マイクロレンズ間（図３お
よび図４中の破線部位）にも透明薄膜が形成されること
から、マイクロレンズ間に透明薄膜にて略マイクロレン
ズ形状のパターンが形成されたことになり、マイクロレ
ンズの充填率が向上したのと同様の効果を奏することと
なる。これにより、散乱光成分を大きくすることが可能
となり、視野角が広く、明るい画面表示が可能となる。In the reflection type liquid crystal display device having such a configuration, a transparent lens having a refractive index equal to the refractive index of the microlens or between the refractive index of the microlens and the refractive index of the flattening film is formed on the microlens array. A transparent thin film layer made of resin is formed. As a result, the surface shape of the microlens body becomes closer to a spherical surface. FIG. 3 is an enlarged view of one part (near the microlens 3) of FIG. 1 showing an embodiment of the present invention, and one part (of the microlens 23) of FIG. 2 showing another embodiment of the present invention. As shown in FIG. 4, which is an enlarged view of the vicinity), a transparent thin film is also formed between the microlenses (broken line portions in FIGS. 3 and 4). Since the lens-shaped pattern is formed, the same effect as that of the improvement in the filling rate of the microlenses can be obtained. As a result, the scattered light component can be increased, and a wide viewing angle and a bright screen can be displayed.
【００２０】なお、マイクロレンズは、光散乱性と集光
性の効果を高めるため、１画素領域毎に平面的に２個以
上配設することが好ましい。すなわち、１画素毎に複数
個のマイクロレンズを高密度に形成することで、光散乱
性と集光性が高まる。It is preferable that two or more microlenses are provided in a plane for each pixel region in order to enhance the effects of light scattering and light collecting. That is, by forming a plurality of microlenses at high density for each pixel, light scattering and light collecting properties are improved.
【００２１】さらに、透明薄膜層の形成によりマイクロ
レンズの凹凸が緩和され、透明薄膜層上に平坦化膜を形
成すれば、実用上十分な平坦性を得ることが可能とな
る。しかし、透明薄膜層の膜厚がマイクロレンズの厚み
に対し厚すぎると逆にマイクロレンズが平坦化され、か
えって散乱効果を阻害することになる。このため、透明
薄膜層の膜厚は、上記散乱効果が得られるようマイクロ
レンズの厚みにより適宜設定することが望ましい。ちな
みに、マイクロレンズの径が約１２μｍ、マイクロレン
ズの厚さが約１．５μｍ、各マイクロレンズ間の距離
（ギャップ）が約３μｍ程度であった場合、透明薄膜の
膜厚は、０．０５μｍ〜１μｍ程度が好ましく、更にい
えば、０．１μｍ〜０．５μｍが好ましいといえる。Furthermore, the formation of the transparent thin film layer alleviates the irregularities of the microlenses, and if a flattening film is formed on the transparent thin film layer, practically sufficient flatness can be obtained. However, if the thickness of the transparent thin film layer is too large with respect to the thickness of the microlens, the microlens is flattened and the scattering effect is hindered. Therefore, it is desirable that the thickness of the transparent thin film layer is appropriately set according to the thickness of the microlens so as to obtain the above-mentioned scattering effect. Incidentally, when the diameter of the micro lens is about 12 μm, the thickness of the micro lens is about 1.5 μm, and the distance (gap) between the micro lenses is about 3 μm, the thickness of the transparent thin film is 0.05 μm to It is preferably about 1 μm, and more preferably 0.1 μm to 0.5 μm.
【００２２】なお、本発明に係わる上記構成とした光散
乱膜の形成位置は、観察者側電極基板の液晶と対向する
面側であっても良く、または、背面側電極基板に形成し
た光反射膜上に形成しても良い。さらには、カラー画像
を表示するためカラーフィルターを形成する場合には、
カラーフィルター上に本発明に係わる光散乱膜を形成し
ても良く、反射型液晶表示装置の構成に合わせて適宜形
成位置を選択して構わない。The light scattering film having the above-described structure according to the present invention may be formed on the surface of the electrode substrate on the observer side facing the liquid crystal, or on the light reflection film formed on the rear electrode substrate. It may be formed on a film. Furthermore, when forming a color filter to display a color image,
The light scattering film according to the present invention may be formed on the color filter, and the formation position may be appropriately selected according to the configuration of the reflection type liquid crystal display device.
【００２３】また、基板間に挟持された液晶を駆動する
電極パターンの形状は、周知の形状で構わず、単純マト
リクス駆動、アクティブマトリクス駆動等、液晶表示装
置の駆動方式に応じて適宜形状を選択して構わない。さ
らに、背面側電極基板に形成する電極は、光反射膜を兼
ねた電極としても構わない。The shape of the electrode pattern for driving the liquid crystal sandwiched between the substrates may be a known shape, and may be appropriately selected according to the driving method of the liquid crystal display device, such as simple matrix driving or active matrix driving. You can do it. Further, the electrode formed on the back-side electrode substrate may be an electrode also serving as a light reflection film.
【００２４】上記構成とした光散乱膜によれば、観察者
側電極板から入射した光は、マイクロレンズおよび透明
薄膜層により均一に散乱され、かつ、光反射膜で反射さ
れ観察者側電極板から射出される。このため、入射光の
入射角度によらず、あらゆる方向で明るい表示画面を観
察することが可能となる。すなわち、斜め方向から表示
装置内に入射した光は、マイクロレンズにより画素部の
中央部領域に集められるため、観察者位置で明るい表示
画面を観察することが可能となる。According to the light scattering film having the above structure, the light incident from the observer-side electrode plate is uniformly scattered by the microlens and the transparent thin film layer, and is reflected by the light-reflection film and is reflected by the observer-side electrode plate. Emitted from. For this reason, a bright display screen can be observed in all directions regardless of the incident angle of the incident light. That is, light that has entered the display device from an oblique direction is collected in the central region of the pixel portion by the microlens, so that a bright display screen can be observed at the observer's position.
【００２５】ここで、単に光散乱性を得るためには、マ
イクロレンズの材料の屈折率は、平坦化膜の屈折率より
低いものであっても良いといえる。しかし、マイクロレ
ンズにて斜め方向より入射した光を画素部の中央部領域
に集めるためには、マイクロレンズとなる材料の屈折率
を平坦化膜の屈折率より高くすることが好ましい。請求
項３に係わる発明はこれに基づきなされたもので、光散
乱性をより高めるためになされたものである。すなわ
ち、請求項３においては、マイクロレンズアレイの材料
の屈折率を、平坦化層となる材料の屈折率よりも高くし
たことを特徴とする請求項１または２に記載の反射型液
晶表示装置としたものである。Here, it can be said that the refractive index of the material of the microlens may be lower than that of the flattening film in order to simply obtain the light scattering property. However, in order to collect the light incident obliquely by the microlens in the central region of the pixel portion, it is preferable that the refractive index of the material to be the microlens be higher than the refractive index of the flattening film. The invention according to claim 3 is based on this, and is made to further enhance light scattering. That is, in the third aspect, the reflective liquid crystal display device according to the first or second aspect, wherein the refractive index of the material of the microlens array is higher than the refractive index of the material to be the flattening layer. It was done.
【００２６】マイクロレンズとなる材料の屈折率と平坦
化膜となる樹脂材料の屈折率が異なり、いずれか一方の
屈折率を高くすれば光散乱性が得られるが、特に集光
（ゲイン）性を持たせるため、マイクロレンズとなる材
料の屈折率を平坦化膜となる樹脂材料の屈折率より高く
するものである。The refractive index of the material forming the microlens is different from the refractive index of the resin material forming the flattening film. If one of the refractive indices is increased, the light scattering property can be obtained. Therefore, the refractive index of the material forming the microlens is made higher than the refractive index of the resin material forming the flattening film.
【００２７】ここで、平坦化膜より高い屈折率とするマ
イクロレンズ材料としては、光透過率が高く、かつ、波
長分散性の小さいものが好ましい。このような材料とし
て、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹
脂、アクリルエポキシ樹脂、フローレン系アクリル樹
脂、ポリイミド樹脂、脂肪族縮合多環化物（化学構造中
にブロム原子やイオウ原子を含むものであっても良い）
等が適用できる。Here, as a microlens material having a higher refractive index than the flattening film, a material having a high light transmittance and a small wavelength dispersion is preferable. As such a material, for example, a polycarbonate resin, a polystyrene resin, an acrylic epoxy resin, a fluorene-based acrylic resin, a polyimide resin, an aliphatic polycondensation product (a material containing a bromine atom or a sulfur atom in the chemical structure may be used. )
Etc. can be applied.
【００２８】次いで、形成するマイクロレンズの形状と
しては、その表面が球面の一部を構成する形状が望まし
い。かかる形状とすれば、マイクロレンズが球面レンズ
の機能を有することとなり、各画素部領域に入射した光
をマイクロレンズにて屈折させ光反射膜にて反射した反
射光を散乱光とすることができる。Next, the shape of the microlens to be formed is desirably a shape whose surface constitutes a part of a spherical surface. With such a shape, the microlens has the function of a spherical lens, and the light incident on each pixel area can be refracted by the microlens and the reflected light reflected by the light reflecting film can be scattered light. .
【００２９】また、マイクロレンズの形状としては、マ
イクロレンズの充填率を上げ、かつ、マイクロレンズの
生産性や製造収率を上げるため、その底面形状を長方形
状や正方形状にしても構わない。加えて、所望する光散
乱効果を得るために、マイクロレンズの表面形状は、球
面に加えてその一部の領域を非球面とすることであって
も構わない。The shape of the microlens may be rectangular or square in order to increase the filling rate of the microlens and increase the productivity and production yield of the microlens. In addition, in order to obtain a desired light scattering effect, the surface shape of the microlens may be such that a part of the surface is aspherical in addition to the spherical surface.
【００３０】また、上述した有機樹脂等を用いてマイク
ロレンズを形成する方法としては、例えば印刷により形
成する方法があげられる。また、以下に記すフォトリソ
法を用いることも可能である。すなわち、有機樹脂を光
感光性樹脂で構成し、この光感光性樹脂を光反射膜上に
塗布して被膜を形成し、所定のパターン露光、現像を行
い光反射膜上の各画素部に相当する部位に選択的に被膜
を残存させる。しかる後に加熱等を行うことで、この残
存した有機樹脂を溶融させ、その表面張力によりマイク
ロレンズ形状に変形させる方法である。As a method of forming a microlens using the above-described organic resin or the like, for example, a method of forming by printing is cited. Further, the photolithography method described below can also be used. That is, the organic resin is composed of a photosensitive resin, and the photosensitive resin is applied on the light reflecting film to form a film, and is subjected to predetermined pattern exposure and development to correspond to each pixel portion on the light reflecting film. The film is selectively left at the portion where the film is to be formed. This is a method in which the remaining organic resin is melted by heating and then deformed into a microlens shape by the surface tension.
【００３１】さらに以下に記す、ドライエッチング法も
適用可能である。すなわち、マイクロレンズ材料として
の有機樹脂を光反射膜上に塗布して被膜を形成する。次
いで、この有機樹脂被膜上に光感光性樹脂を塗布した
後、所定のパターン露光、現像等を行う。このとき、サ
イドエッチング現象により光感光性樹脂被膜はマイクロ
レンズ形状となる。次いで、ドライエッチングを行な
う。このとき、上記マイクロレンズ形状となった光感光
性樹脂被膜の膜厚に応じて有機樹脂被膜のエッチング量
が制御され、有機樹脂被膜がマイクロレンズ形状とな
る。次いで、光感光性樹脂被膜の剥膜等を行なうという
方法である。Further, a dry etching method described below is also applicable. That is, an organic resin as a microlens material is applied on the light reflection film to form a film. Next, after applying a photosensitive resin on the organic resin film, predetermined pattern exposure, development and the like are performed. At this time, the photosensitive resin film has a microlens shape due to the side etching phenomenon. Next, dry etching is performed. At this time, the etching amount of the organic resin film is controlled according to the thickness of the photosensitive resin film having the microlens shape, and the organic resin film has the microlens shape. Next, a method of removing the photosensitive resin film is performed.
【００３２】上述したように、平坦化層の屈折率はマイ
クロレンズの屈折率より低いことが望ましい。本発明者
らは、低屈折率とする平坦化層の材料につき検討を行
い、材料入手の容易性、加工の容易性等を考慮し、屈折
率１．３４〜１．４５のフッ素系樹脂あるいは、屈折率
１．４６〜１．４８の有機シリケートが好ましいことを
経験的に見いだしたものである。As described above, it is desirable that the refractive index of the flattening layer is lower than the refractive index of the microlens. The present inventors have studied the material of the flattening layer having a low refractive index, and in consideration of the availability of the material and the easiness of processing, the fluororesin having a refractive index of 1.34 to 1.45 or the like. It has been empirically found that an organic silicate having a refractive index of 1.46 to 1.48 is preferable.
【００３３】すなわち、請求項４においては、平坦化層
をフッ素系樹脂にて形成したことを特徴とする請求項
１、２または３に記載の反射型液晶表示装置としたもの
であり、また、請求項５においては、平坦化層を有機シ
リケート系樹脂にて形成したことを特徴とする請求項
１、２または３に記載の反射型液晶表示装置としたもの
である。That is, according to a fourth aspect of the present invention, there is provided the reflective liquid crystal display device according to the first, second or third aspect, wherein the flattening layer is formed of a fluorine-based resin. According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the reflective liquid crystal display device according to the first, second or third aspect, wherein the flattening layer is formed of an organic silicate resin.
【００３４】ここで、フッ素系樹脂として、例えば、テ
トラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重
合体（屈折率１．３４）や、フッ素系アクリル樹脂（屈
折率１．３４〜１．４０）等が利用できる。Here, as the fluororesin, for example, a tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (refractive index: 1.34), a fluoroacrylic resin (refractive index: 1.34 to 1.40) or the like is used. it can.
【００３５】また、有機シリケートとしては、例えば東
京応化工業（株）製、商品名「ＦＰＣＦシリーズ（屈折
率１．４６〜１．４８）」等が利用できる。As the organic silicate, for example, "FPCF series (refractive index: 1.46 to 1.48)" manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. can be used.
【００３６】また、上述した平坦化膜は、各マイクロレ
ンズ間の段差を埋めて平坦な面を形成するために設けら
れる。これにより平坦化膜上に設ける透明電極や配向膜
は平坦面上に形成することが可能となり、表示ムラや応
答ムラを防止することができる。本発明においては、マ
イクロレンズと平坦化膜との間に透明薄膜層を介在させ
ており、平坦化膜の平坦性を向上させている。これによ
り、本発明の反射型液晶表示装置は、透明電極の形成面
に高度の平坦性が要求される液晶表示装置（例えばＳＴ
Ｎ液晶、ＯＣＢ、ＨＡＮ、ＥＣＢやＢＴＮ液晶、強誘電
性液晶、反強誘電性液晶等）に適しているといえる。The above-mentioned flattening film is provided to fill a step between the microlenses and form a flat surface. Thus, the transparent electrode and the alignment film provided on the flattening film can be formed on the flat surface, and display unevenness and response unevenness can be prevented. In the present invention, a transparent thin film layer is interposed between the microlens and the flattening film, thereby improving the flatness of the flattening film. Accordingly, the reflective liquid crystal display device of the present invention requires a liquid crystal display device (for example, ST
N liquid crystal, OCB, HAN, ECB, BTN liquid crystal, ferroelectric liquid crystal, antiferroelectric liquid crystal, etc.).
【００３７】次いで、本発明の反射型液晶表示装置に用
いる基板としては、ガラス板の他、プラスチックフィル
ム、プラスチックボード等が利用できる。また、これら
の基板が、各画素部を通過する光を所望する色に着色さ
せるカラーフィルター層を具備するときは、液晶表示装
置はカラー表示が可能となる。なお、カラーフィルター
層の形成位置は、観察者側電極基板もしくは背面側電極
基板のどちらでも構わず、液晶表示装置の構造に応じ
て、適宜形成して構わない。Next, as a substrate used in the reflection type liquid crystal display device of the present invention, a plastic film, a plastic board, or the like can be used in addition to a glass plate. Further, when these substrates are provided with a color filter layer for coloring light passing through each pixel portion into a desired color, the liquid crystal display device can perform color display. The formation position of the color filter layer may be either the observer side electrode substrate or the back side electrode substrate, and may be appropriately formed according to the structure of the liquid crystal display device.
【００３８】すなわち、請求項６に係わる発明は、この
ような技術的理由に基づきなされたもので、背面側基板
もしくは観察者側基板のいずれか一方にカラーフィルタ
を配設したことを特徴とする請求項１、２、３、４また
は５に記載の反射型液晶表示装置としたものである。That is, the invention according to claim 6 is based on such technical reasons, and is characterized in that a color filter is provided on one of the back side substrate and the observer side substrate. A reflection type liquid crystal display device according to the first, second, third, fourth or fifth aspect.
【００３９】次いで、本発明に係わる光反射膜は、光の
反射率が優れていることから金属薄膜とすることが好ま
しく。その中でも特に、光反射率の高い銀もしくは銀合
金とすることが好ましい。すなわち、請求項７において
は、光反射膜を光反射性の金属薄膜としたことを特徴と
する請求項１、２、３、４、５または６に記載の反射型
液晶表示装置としたものであり、また、請求項８におい
ては、光反射膜が銀もしくは銀合金からなる薄膜を構成
要素の一部に含むことを特徴とする請求項１、２、３、
４、５、６または７に記載の反射型液晶表示装置とした
ものである。Next, the light reflecting film according to the present invention is preferably a metal thin film because of its excellent light reflectance. Among them, silver or silver alloy having high light reflectance is particularly preferable. That is, in the seventh aspect, the reflection type liquid crystal display device according to the first, second, third, fourth, fifth or sixth aspect is characterized in that the light reflection film is a light reflection metal thin film. In Claim 8, the light reflection film includes a thin film made of silver or a silver alloy as a part of the constituent elements.
A reflective liquid crystal display device according to 4, 5, 6, or 7.
【００４０】また、耐湿性、耐薬品性、耐熱性等の耐久
性を考慮する場合、光を反射する機能を有する金属酸化
物多層膜としても構わない。すなわち、請求項９におい
ては、光反射膜を光反射機能を有する金属酸化物の多層
膜で形成したことを特徴とする請求項１、２、３、４、
５、６、７または８に記載の反射型液晶表示装置とした
ものである。When durability such as moisture resistance, chemical resistance and heat resistance is taken into consideration, a metal oxide multilayer film having a function of reflecting light may be used. That is, in the ninth aspect, the light reflection film is formed of a metal oxide multilayer film having a light reflection function.
A reflection type liquid crystal display device as described in 5, 6, 7 or 8.
【００４１】ここで多層膜とは、例えば銀や銀合金から
なる金属薄膜の上に薄く金属酸化物を積層形成したもの
であっても良い。また、金属酸化物膜は、Ａｌ（アル
ミ）等を陽極酸化させたものであっても良い。また、金
属酸化物膜は、金属薄膜の反射率を低下させないために
数十オングストローム程度の極めて薄い膜とすることが
好ましいといえ、さらに、消衰係数値が小さく、屈折率
の低い金属酸化物を積層することが好ましい。Here, the multilayer film may be a thin film of a metal oxide formed on a thin metal film made of, for example, silver or a silver alloy. Further, the metal oxide film may be formed by anodizing Al (aluminum) or the like. In addition, it is preferable that the metal oxide film be an extremely thin film of about several tens of angstroms so as not to lower the reflectance of the metal thin film. Further, the metal oxide film has a small extinction coefficient and a low refractive index. Are preferably laminated.
【００４２】また、光反射膜は、表示画面の大きさで一
括して基板に形成することであっても、または、表示画
面の大きさで一括して形成することが困難であれば、複
数に分割して形成する（例えば、複数の画素領域毎に１
面ずつ形成する）ことであっても構わない。すなわち、
請求項１０においては、光反射膜を、表示装置の略表示
画面サイズとした一面で、または、複数個の画素毎に一
面ずつ形成した複数面で形成したことを特徴とする請求
項１、２、３、４、５、６、７、８または９に記載の反
射型液晶表示装置としたものである。The light reflection film may be formed on the substrate all at once according to the size of the display screen, or if it is difficult to form the light reflection film all at once on the size of the display screen, a plurality of light reflection films may be formed. (For example, one for each of a plurality of pixel regions).
(Formed face by face). That is,
According to a tenth aspect of the present invention, the light reflecting film is formed on one surface having a size substantially equal to the display screen size of the display device, or on a plurality of surfaces formed one by one for a plurality of pixels. A reflective liquid crystal display device according to any one of 3, 4, 5, 6, 7, 8, and 9.
【００４３】[0043]
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施形態の例に
つき、図面に基づき説明を行う。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００４４】（実施例１）図１は、本実施例１に係わる
反射型液晶表示装置１０の断面構造を模式的に示す図面
である。図１に示すように、反射型液晶表示装置１０
は、観察者側電極基板１２と背面側電極基板１３とで液
晶１４を挟持、封止した形態としている。(Embodiment 1) FIG. 1 is a drawing schematically showing a cross-sectional structure of a reflection type liquid crystal display device 10 according to Embodiment 1. As shown in FIG. 1, a reflective liquid crystal display device 10
Has a configuration in which a liquid crystal 14 is sandwiched and sealed between an observer-side electrode substrate 12 and a back-side electrode substrate 13.
【００４５】観察者側電極板１２は、厚さ０．７ｍｍの
透明基板１（日本電気硝子（株）製、商品名「ネオセラ
ムガラス」）を用いている。この透明基板１上に、Ｒ
（赤）色、Ｇ（緑）色、およびＢ（青）色の複数の光透
過性着色画素で構成されたカラーフィルター層８、オー
バーコート層５、カラーフィルター層８を構成する各着
色画素毎に複数個形成した厚み１．３μｍのマイクロレ
ンズ３（凸レンズ形状）、マイクロレンズ３と同じ材料
でマイクロレンズ３上に塗布形成した厚み０．２μｍの
透明薄膜層４、これらマイクロレンズ３および透明薄膜
層４を被覆してその表面を平坦にする平坦化膜７、およ
びカラーフィルター層８の画素に対応する部位に透明電
極６（本実施例１では平面視でストライプ状とした）を
順次形成している。The observer-side electrode plate 12 uses a 0.7 mm-thick transparent substrate 1 (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., trade name "Neoceram glass"). On this transparent substrate 1, R
For each color pixel constituting the color filter layer 8, the overcoat layer 5, and the color filter layer 8, which are composed of a plurality of light transmissive colored pixels of (red), G (green), and B (blue) colors A plurality of microlenses 3 (convex lens shape) having a thickness of 1.3 μm, a transparent thin film layer 4 having a thickness of 0.2 μm and formed on the microlenses 3 with the same material as the microlenses 3, these microlenses 3 and the transparent thin film A flattening film 7 that covers the layer 4 to flatten the surface and a transparent electrode 6 (in the first embodiment, formed in a stripe shape in plan view) are sequentially formed on the color filter layer 8 at positions corresponding to pixels. ing.
【００４６】次いで、背面側電極基板１３には、厚さ
０．７ｍｍの透明基板１１（日本電気硝子（株）製、商
品名「ネオセラムガラス」）を用いている。透明基板１
１上には、光反射膜と液晶駆動用の電極を兼ねた反射電
極２（上記透明電極６と平面視で直交するようストライ
プ状とした）を形成している。反射電極２の形成にあた
っては、透明基板１１上に金属反射膜を一様にスパッタ
成膜した後、ポジ型レジストを用いた周知のフォトリソ
グラフィ処理法を用いた。すなわち、まず、透明基板１
１表面をグロー放電を施して洗浄した後、順次、透明酸
化物薄膜（厚さ１０ｎｍ）、銀系薄膜（厚さ１５０ｎ
ｍ）をスパッタリング成膜し、透明基板１１の全面に金
属反射膜となる積層膜を形成した。なお、本実施例１で
は透明酸化物薄膜としてＣｅＯ2 とＮｂ2 Ｏ5 との混合
酸化物を用い、その組成は金属原子換算の原子パーセン
ト（酸素原子はノーカウントとする）にてＮｂを１５ａ
ｔ％（原子パーセント）とした。また、銀系薄膜は、銀
に金（Ａｕ）および銅（Ｃｕ）を混合した銀合金を用
い、その組成は金を１．０ａｔ％（原子パーセント）、
銅を０．５ａｔ％（原子パーセント）とした。Next, as the back-side electrode substrate 13, a 0.7 mm-thick transparent substrate 11 (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., trade name "Neoceram Glass") is used. Transparent substrate 1
On 1, there is formed a reflective electrode 2 (which is formed in a stripe shape so as to be orthogonal to the transparent electrode 6 in plan view) which also serves as a light reflective film and an electrode for driving liquid crystal. In forming the reflective electrode 2, a well-known photolithography process using a positive resist was used after a metal reflective film was uniformly formed on the transparent substrate 11 by sputtering. That is, first, the transparent substrate 1
After one surface was subjected to glow discharge and washed, a transparent oxide thin film (thickness: 10 nm) and a silver-based thin film (thickness: 150 n) were sequentially formed.
m) was formed by sputtering to form a laminated film serving as a metal reflection film on the entire surface of the transparent substrate 11. In the first embodiment, a mixed oxide of CeO 2 and Nb 2 O 5 is used as the transparent oxide thin film, and its composition is 15% of Nb in atomic percent in terms of metal atoms (oxygen atoms are not counted).
t% (atomic percent). The silver-based thin film uses a silver alloy obtained by mixing gold (Au) and copper (Cu) with silver, and has a composition of 1.0 at% (atomic percent) of gold,
Copper was 0.5 at% (atomic percent).
【００４７】次いで、ポジ型レジストを上記積層膜上に
塗布した後、表示画面となる領域に所定のパターン露光
を行い、次いで、透明基板１１に現像等を行った。これ
により、表示画面となる領域に所定のストライプ状とな
ったレジストを残存させた。次いで、硫酸、硝酸、およ
び酢酸の混酸からなるエッチング液にて透明基板１１に
エッチングを行い、レジストより露出した積層膜部位を
除去した。エッチング終了後、レジストの剥膜等を行っ
た。以上の処理により透明基板１１上に所定のストライ
プ形状とした反射電極２を形成した。Next, after a positive resist was applied on the laminated film, a predetermined pattern exposure was performed on a region to be a display screen, and then the transparent substrate 11 was developed. As a result, a resist having a predetermined stripe shape was left in a region to be a display screen. Next, the transparent substrate 11 was etched with an etching solution containing a mixed acid of sulfuric acid, nitric acid, and acetic acid to remove the portion of the laminated film exposed from the resist. After the etching was completed, the resist was stripped off. Through the above processing, the reflective electrode 2 having a predetermined stripe shape was formed on the transparent substrate 11.
【００４８】次いで、観察者側電極基板１２は以下の工
程にて製造した。まず、透明基板１上に、アクリル系透
明感光性樹脂と赤色顔料との混合物からなる赤色感光性
樹脂を塗布して感光性樹脂被膜を形成した。次いで、所
定のパターン露光、現像、バーニング等を行い各赤色の
画素に対応する部位に感光性樹脂被膜を残存させ、所定
の間隔で複数配置された赤色カラーフィルター層８Ｒを
形成した。次いで、アクリル系透明感光性樹脂と緑色顔
料との混合物からなる緑色感光性樹脂および、アクリル
系透明感光性樹脂と青色顔料との混合物からなる青色感
光性樹脂を各々用い、同様の方法にて、緑色カラーフィ
ルター層８Ｇおよび青色カラーフィルター層８Ｂを各々
形成した。次いで、カラーフィルター層８上に透明アク
リル系樹脂にてオーバーコート層５を形成した。Next, the observer-side electrode substrate 12 was manufactured by the following steps. First, a red photosensitive resin composed of a mixture of an acrylic transparent photosensitive resin and a red pigment was applied on the transparent substrate 1 to form a photosensitive resin film. Next, a predetermined pattern exposure, development, burning, and the like were performed to leave a photosensitive resin film at a portion corresponding to each red pixel, thereby forming a plurality of red color filter layers 8R arranged at predetermined intervals. Next, using a green photosensitive resin consisting of a mixture of an acrylic transparent photosensitive resin and a green pigment, and a blue photosensitive resin consisting of a mixture of an acrylic transparent photosensitive resin and a blue pigment, respectively, in the same manner, A green color filter layer 8G and a blue color filter layer 8B were formed. Next, the overcoat layer 5 was formed on the color filter layer 8 using a transparent acrylic resin.
【００４９】次いで、屈折率１．６２の紫外線硬化型の
感光性アクリル樹脂をオーバーコート層５上に塗布形成
した後、所定のパターン露光、現像を行い、各画素部毎
に複数箇所、前記感光性アクリル樹脂を残存させた。次
いで、透明基板１に加熱を行い、その熱により残存させ
た樹脂を溶融させ、その際の表面張力により各樹脂をマ
イクロレンズ形状（寸法１２μｍ×１２μｍ、厚さ１．
５μｍ、パターン間距離３μｍとした凸レンズ状）とし
マイクロレンズ３を形成した。Next, a UV-curable photosensitive acrylic resin having a refractive index of 1.62 is applied on the overcoat layer 5 and then subjected to a predetermined pattern exposure and development. The residual acrylic resin was left. Next, the transparent substrate 1 is heated to melt the residual resin by the heat, and each resin is formed into a microlens shape (dimensions 12 μm × 12 μm, thickness 1.
5 μm and a pattern-to-pattern distance of 3 μm) to form a micro lens 3.
【００５０】次いで、マイクロレンズ３の形成に使用し
たのと同一の紫外線硬化型感光性アクリル樹脂をマイク
ロレンズ３上に厚さ０．２μｍにて塗布し、透明薄膜層
４を形成した。Next, the same ultraviolet curable photosensitive acrylic resin as that used for forming the microlenses 3 was applied on the microlenses 3 with a thickness of 0.2 μm to form a transparent thin film layer 4.
【００５１】次いで、透明薄膜層４上に平坦化膜７を塗
布、形成した。平坦化膜７の材料は、屈折率１．４０の
フッ素化合物変性アクリル樹脂（熱硬化型）を用いた。
なお本実施例１では、カラーフィルター層８とマイクロ
レンズ３と透明薄膜層４と平坦化膜７との合計の厚みは
約５μｍとなるようにしている。Next, a flattening film 7 was applied and formed on the transparent thin film layer 4. As the material of the planarizing film 7, a fluorine compound-modified acrylic resin (thermosetting type) having a refractive index of 1.40 was used.
In the first embodiment, the total thickness of the color filter layer 8, the micro lens 3, the transparent thin film layer 4, and the flattening film 7 is set to about 5 μm.
【００５２】次いで、平坦化膜７上に一様にＩＴＯ（酸
化錫および酸化インジウムからなる混合酸化物）薄膜を
膜厚１５００Åにてスパッタリング成膜した後、ポジ型
レジストを用いた周知のフォトリソグラフィ処理を行
い、ストライプ状の透明電極６を形成した。Next, an ITO (mixed oxide composed of tin oxide and indium oxide) thin film is uniformly formed on the flattening film 7 by sputtering at a thickness of 1500 °, and then a known photolithography using a positive resist is performed. The processing was performed to form a striped transparent electrode 6.
【００５３】上述した工程で製造した観察者側電極基板
１２および背面側電極基板１３を対向させた上で、両基
板間に液晶１４を挟持、封止し、図１に示す反射型液晶
表示装置１０を得た。After the observer-side electrode substrate 12 and the back-side electrode substrate 13 manufactured in the above-described steps are opposed to each other, a liquid crystal 14 is sandwiched and sealed between both substrates, and the reflection type liquid crystal display device shown in FIG. 10 was obtained.
【００５４】次いで、本実施例１の反射型液晶表示装置
１０との比較のため、上述したのと同様の製造工程に
て、透明薄膜層４を形成しない以外は図１と同様の構成
とした反射型液晶表示装置を得た。Next, for comparison with the reflection type liquid crystal display device 10 of the first embodiment, the same configuration as that of FIG. 1 was adopted except that the transparent thin film layer 4 was not formed in the same manufacturing process as described above. A reflective liquid crystal display was obtained.
【００５５】本実施例１で得た反射型液晶表示装置１０
においては、透明薄膜層４の形成により散乱光成分を大
きくしている。これによりマイクロレンズ３間の領域に
入射した光であっても反射電極２で正反射することなく
画素領域に導かれる。このため、本実施例１で得た反射
型液晶表示装置１０と比較のため得た反射型液晶表示装
置との画面表示の明るさを比較したところ、本実施例１
で得た反射型液晶表示装置１０の観察者位置に集まる散
乱光成分は、比較の反射型液晶表示装置の観察者位置に
集まる散乱光成分より約１０％増加していた。The reflection type liquid crystal display device 10 obtained in the first embodiment.
In (2), the scattered light component is increased by forming the transparent thin film layer 4. Thus, even the light that has entered the region between the microlenses 3 is guided to the pixel region without being specularly reflected by the reflective electrode 2. For this reason, the brightness of the screen display of the reflective liquid crystal display device 10 obtained in the first embodiment and that of the reflective liquid crystal display device obtained for comparison were compared.
The scattered light component collected at the observer position of the reflective liquid crystal display device 10 obtained in the above was increased by about 10% from the scattered light component collected at the observer position of the comparative reflective liquid crystal display device.
【００５６】（実施例２）図２は、本実施例２に係わる
反射型液晶表示装置３０の断面構造を模式的に示す図面
である。図２に示すように、反射型液晶表示装置３０
は、観察者側電極基板３２と背面側電極基板３３とで液
晶３４を挟持、封止した形態としている。(Embodiment 2) FIG. 2 is a drawing schematically showing a sectional structure of a reflection type liquid crystal display device 30 according to Embodiment 2. As shown in FIG.
The liquid crystal 34 is sandwiched and sealed between the observer side electrode substrate 32 and the back side electrode substrate 33.
【００５７】背面側電極基板３３は、厚さ０．７ｍｍの
透明基板２１（日本電気硝子（株）製、商品名「ネオセ
ラムガラス」）を用いている。この透明基板２１上に、
表示画面の大きさとした金属薄膜よりなる光反射膜２
２、Ｒ（赤）色、Ｇ（緑）色、およびＢ（青）色の複数
の光透過性着色画素で構成されたカラーフィルター層２
８、カラーフィルター層２８を構成する各着色画素毎に
複数個形成した厚み３μｍのマイクロレンズ２３（凸レ
ンズ形状）、マイクロレンズ２３と同じ材料でマイクロ
レンズ２３上に厚み０．２μｍで塗布形成した透明薄膜
層２４、これらマイクロレンズ２３および透明薄膜層２
４を被覆してその表面を平坦にする平坦化膜２５、およ
びカラーフィルター層２８の各画素に対応する部位に透
明電極２７（本実施例２では平面視でストライプ状とし
た）を順次形成している。As the back-side electrode substrate 33, a transparent substrate 21 (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., trade name "Neoceram glass") having a thickness of 0.7 mm is used. On this transparent substrate 21,
Light reflection film 2 made of a metal thin film having the size of a display screen
2. Color filter layer 2 composed of a plurality of light-transmitting colored pixels of R (red), G (green), and B (blue) colors
8. A plurality of microlenses 23 (convex lens shape) having a thickness of 3 μm formed for each of the colored pixels constituting the color filter layer 28, and a transparent film formed of the same material as the microlens 23 on the microlens 23 with a thickness of 0.2 μm. The thin film layer 24, the microlenses 23 and the transparent thin film layer 2
4, a flattening film 25 for flattening the surface thereof, and a transparent electrode 27 (in the second embodiment, formed in a stripe shape in plan view) are sequentially formed on portions of the color filter layer 28 corresponding to each pixel. ing.
【００５８】次いで、観察者側電極基板３２には、厚さ
０．７ｍｍの透明基板２９（日本電気硝子（株）製、商
品名「ネオセラムガラス」）を用いている。透明基板２
９上には、透明電極２６（上記透明電極２７と平面視で
直交するようストライプ状とした）を形成している。透
明電極２６の形成にあたっては、透明基板２９上にＩＴ
Ｏ薄膜を一様にスパッタ成膜した後、ポジ型レジストを
用いた周知のフォトリソグラフィ処理法を用いた。すな
わち、まず、透明基板２９表面をグロー放電を施して洗
浄した後、透明基板２９の表面にＩＴＯ薄膜を膜厚１５
００Åにてスパッタリング成膜した。次いで、ポジ型レ
ジストをＩＴＯ薄膜上に塗布した後、所定のパターン露
光を行い、次いで、透明基板２９に現像等を行った。こ
れにより、所定のストライプ状となったレジストを残存
させた。次いで、硫酸、硝酸、および酢酸の混酸からな
るエッチング液にて透明基板２９にエッチングを行い、
レジストより露出したＩＴＯ薄膜部位を除去した。エッ
チング終了後、レジストの剥膜等を行った。以上の処理
により透明基板２９上に所定のストライプ形状とした透
明電極２６を形成した。Next, a 0.7 mm-thick transparent substrate 29 (manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., trade name "Neoceram Glass") is used as the observer-side electrode substrate 32. Transparent substrate 2
A transparent electrode 26 (striped so as to be orthogonal to the transparent electrode 27 in plan view) is formed on the transparent electrode 9. When forming the transparent electrode 26, an IT
After uniformly forming an O thin film by sputtering, a known photolithography method using a positive resist was used. That is, first, the surface of the transparent substrate 29 is cleaned by performing glow discharge, and then an ITO thin film having a thickness of 15
A film was formed by sputtering at 00 °. Next, after applying a positive resist on the ITO thin film, a predetermined pattern exposure was performed, and then development and the like were performed on the transparent substrate 29. Thus, the resist having a predetermined stripe shape was left. Next, the transparent substrate 29 is etched with an etching solution containing a mixed acid of sulfuric acid, nitric acid, and acetic acid,
The portion of the ITO thin film exposed from the resist was removed. After the etching was completed, the resist was stripped off. Through the above processing, a transparent electrode 26 having a predetermined stripe shape was formed on the transparent substrate 29.
【００５９】次いで、背面側電極基板３３は以下の工程
にて製造した。まず、透明基板２１表面をグロー放電を
施して洗浄した後、透明酸化物薄膜（膜厚１０ｎｍ）、
銀系薄膜（膜厚１５０ｎｍ）を順次、スパッタリング成
膜し金属積層膜を形成した。なお、本実施例２において
も透明酸化物薄膜はＣｅＯ2 とＮｂ2 Ｏ5 との混合酸化
物を用い、その組成は金属原子換算の原子パーセント
（酸素原子はノーカウントとする）にてＮｂを１５ａｔ
％（原子パーセント）とした。また、銀系薄膜は、銀に
金（Ａｕ）および銅（Ｃｕ）を混合した銀合金を用い、
その組成は金を１．０ａｔ％（原子パーセント）、銅を
０．５ａｔ％（原子パーセント）とした。Next, the back electrode substrate 33 was manufactured by the following steps. First, after the surface of the transparent substrate 21 is washed by performing glow discharge, a transparent oxide thin film (thickness: 10 nm) is formed.
Silver-based thin films (thickness: 150 nm) were sequentially formed by sputtering to form a metal laminated film. In Example 2, a mixed oxide of CeO 2 and Nb 2 O 5 was used as the transparent oxide thin film, and its composition was Nb in atomic percent in terms of metal atoms (oxygen atoms were not counted). 15at
% (Atomic percent). The silver-based thin film uses a silver alloy in which silver is mixed with gold (Au) and copper (Cu).
The composition was gold at 1.0 at% (atomic percent) and copper at 0.5 at% (atomic percent).
【００６０】次いで、上記金属積層膜上にポジ型レジス
ト被膜を塗布形成した後、ポジ型レジスト被膜の表示画
面に相当する領域へのパターン露光を行い、次いで現像
等を行った。次いで、硫酸、硝酸、および酢酸の混酸か
らなるエッチング液にて透明基板２１にエッチングを行
い、レジストより露出した金属積層膜部位を除去した。
エッチング終了後、レジストの剥膜等を行った。以上の
処理により透明基板２１上に表示画面の大きさとした透
明酸化物薄膜と銀系薄膜との積層膜からなる金属反射膜
２２を形成した。Next, after a positive resist film was applied on the metal laminated film, pattern exposure was performed on a region corresponding to the display screen of the positive resist film, followed by development and the like. Next, the transparent substrate 21 was etched with an etching solution containing a mixed acid of sulfuric acid, nitric acid, and acetic acid to remove the metal laminated film portion exposed from the resist.
After the etching was completed, the resist was stripped off. Through the above processing, a metal reflection film 22 composed of a laminated film of a transparent oxide thin film and a silver-based thin film having a size of a display screen was formed on the transparent substrate 21.
【００６１】次いで、金属反射膜２２の形成が終了した
後、アクリル系透明感光性樹脂と赤色顔料との混合物か
らなる赤色感光性樹脂を透明基板２１上に塗布して感光
性樹脂被膜を形成した。次いで、所定のパターン露光、
現像、バーニング等を行い各赤色の画素に対応する部位
に感光性樹脂被膜を残存させ、所定の間隔で複数配置さ
れた赤色カラーフィルター層２８Ｒを形成した。次い
で、アクリル系透明感光性樹脂と緑色顔料との混合物か
らなる緑色感光性樹脂および、アクリル系透明感光性樹
脂と青色顔料との混合物からなる青色感光性樹脂を各々
用い、同様の方法にて、緑色カラーフィルター層２８Ｇ
および青色カラーフィルター層２８Ｂを各々形成した。Next, after the formation of the metal reflective film 22 was completed, a red photosensitive resin composed of a mixture of an acrylic transparent photosensitive resin and a red pigment was applied on the transparent substrate 21 to form a photosensitive resin film. . Next, a predetermined pattern exposure,
By performing development, burning, and the like, the photosensitive resin film was left at a portion corresponding to each red pixel, and a plurality of red color filter layers 28R arranged at predetermined intervals were formed. Next, using a green photosensitive resin consisting of a mixture of an acrylic transparent photosensitive resin and a green pigment, and a blue photosensitive resin consisting of a mixture of an acrylic transparent photosensitive resin and a blue pigment, respectively, in the same manner, Green color filter layer 28G
And a blue color filter layer 28B.
【００６２】次いで、屈折率１．５８の紫外線硬化型の
感光性アクリル樹脂を透明基板２１上に塗布、形成した
後、所定のパターン露光、現像等を行い、カラーフィル
ター層２８の各画素部毎に複数箇所、前記感光性アクリ
ル樹脂を残存させた。次いで、透明基板２１に加熱を行
い、その熱により残存させた樹脂を溶融させ、その際の
表面張力により各樹脂をマイクロレンズ形状（寸法１２
μｍ×１２μｍ、厚さ２μｍ、パターン間距離３μｍと
した凸レンズ状）とし、マイクロレンズ２３を形成し
た。Next, after applying and forming a UV curable photosensitive acrylic resin having a refractive index of 1.58 on the transparent substrate 21, predetermined pattern exposure, development and the like are performed, and each pixel portion of the color filter layer 28 is formed. At a plurality of locations, the photosensitive acrylic resin was left. Next, the transparent substrate 21 is heated to melt the residual resin by the heat, and each resin is formed into a microlens shape (dimension 12) by the surface tension at that time.
μm × 12 μm, thickness 2 μm, distance between patterns 3 μm (convex lens shape), and the micro lens 23 was formed.
【００６３】次いで、マイクロレンズ２３の形成に使用
したのと同一の紫外線硬化型感光性アクリル樹脂をマイ
クロレンズ２３上に厚さ０．２μｍにて塗布、形成し、
透明薄膜層２４を形成した。Next, the same ultraviolet curable photosensitive acrylic resin as used for forming the microlens 23 is applied and formed on the microlens 23 with a thickness of 0.2 μm.
A transparent thin film layer 24 was formed.
【００６４】次いで、透明薄膜層２４上に屈折率１．４
０のフッ素化合物変性アクリル樹脂を塗布、形成し、平
坦化膜２５とした。このとき本実施例２では、カラーフ
ィルター層２８とマイクロレンズ２３と透明薄膜層２４
と平坦化膜２５との合計の厚みを約５μｍとなるように
した。Next, a refractive index of 1.4 is provided on the transparent thin film layer 24.
A fluorine compound modified acrylic resin was applied and formed to form a flattening film 25. At this time, in the second embodiment, the color filter layer 28, the microlens 23, and the transparent thin film layer 24
And the flattening film 25 were made to have a total thickness of about 5 μm.
【００６５】次いで、平坦化膜２５上に一様にＩＴＯ
（酸化錫および酸化インジウムからなる混合酸化物）薄
膜をスパッタリング成膜した後、ポジ型レジストを用い
た周知のフォトリソグラフィ処理を行い、ストライプ状
の透明電極２７を形成した。Next, ITO is uniformly formed on the flattening film 25.
(Mixed oxide composed of tin oxide and indium oxide) After forming a thin film by sputtering, a well-known photolithography process using a positive resist was performed to form a striped transparent electrode 27.
【００６６】上述した工程で製造した観察者側電極基板
３２および背面側電極基板３３を所定の距離で対向させ
た上で、両基板間に液晶３４を挟持、封止し、図２に示
す反射型液晶表示装置３０を得た。After the observer-side electrode substrate 32 and the rear-side electrode substrate 33 manufactured in the above-described steps are opposed to each other at a predetermined distance, a liquid crystal 34 is sandwiched and sealed between the two substrates, and the reflection shown in FIG. Liquid crystal display device 30 was obtained.
【００６７】以上、本発明の実施形態の一例につき説明
したが、本発明の実施の形態は上述した説明および図面
に限定されるものではなく、使用する材料、マイクロレ
ンズの大きさ、厚さ、屈折率等は、本発明の趣旨に基づ
き種々の変形を行っても構わないことは言うまでもな
い。また、電極基板にＴＦＴ（薄膜トランジスト）等の
アクティブ素子を配設し、透明電極の駆動はアクティブ
素子により行なうことであっても構わない。また、観察
者側電極基板および背面側電極基板のいずれか一方にブ
ラックマトリクスを形成することであっても構わない。As described above, an example of the embodiment of the present invention has been described. However, the embodiment of the present invention is not limited to the above description and drawings, and the material to be used, the size and thickness of the microlens, It goes without saying that the refractive index and the like may be variously modified based on the gist of the present invention. Further, an active element such as a TFT (thin film transistor) may be provided on the electrode substrate, and the transparent electrode may be driven by the active element. Further, a black matrix may be formed on one of the observer side electrode substrate and the back side electrode substrate.
【００６８】[0068]
【発明の効果】上述したように、本発明に係わる反射型
液晶表示装置においては、光散乱膜を、１画素領域当た
りに平面的に複数個配設された微細なマイクロレンズ
と、マイクロレンズ間を含めたマイクロレンズ表面に形
成した透明薄膜層と、平坦化膜とで構成している。ま
た、透明薄膜層の屈折率は、マイクロレンズの屈折率と
平坦化膜の屈折率との間になるよう、または、マイクロ
レンズの屈折率と同等とし、さらには、平坦化膜の屈折
率はマイクロレンズの屈折率より低屈折率としている。As described above, in the reflection type liquid crystal display device according to the present invention, the light scattering film is provided with a plurality of fine microlenses arranged in a plane per pixel region, and a light scattering film between the microlenses. And a transparent thin film layer formed on the surface of the microlens including the above, and a flattening film. Further, the refractive index of the transparent thin film layer is set between the refractive index of the microlens and the refractive index of the flattening film, or is equal to the refractive index of the microlens. The refractive index is set lower than the refractive index of the micro lens.
【００６９】かかる構成の反射型液晶表示装置において
は、観察者側電極基板に入射した光（外光）は、上記構
成とした光散乱膜により均一に散乱され、次いで、光反
射膜で反射され、観察者側電極基板より射出される。す
なわち、観察者側電極基板に入射した光（外光）は、観
察者の位置に集光することになり、観察者側電極基板へ
の入射光の入射角度の如何によらず、明るい表示画面を
広視野角にて得ることが可能となる。In the reflection type liquid crystal display device having such a configuration, light (external light) incident on the observer side electrode substrate is uniformly scattered by the light scattering film having the above configuration, and then reflected by the light reflection film. Is emitted from the observer-side electrode substrate. That is, the light (external light) incident on the observer-side electrode substrate is condensed at the position of the observer, and the display screen is bright regardless of the incident angle of the incident light on the observer-side electrode substrate. Can be obtained with a wide viewing angle.
【００７０】すなわち、マイクロレンズ上に透明薄膜層
を薄く形成したことで、マイクロレンズの形状を半球形
に近づける効果を有することになり、かつ、個々のマイ
クロレンズ間に透明薄膜にて略マイクロレンズ形状のパ
ターンが形成されたことになる。このため、マイクロレ
ンズの充填率を向上させたのと同様の効果となる。光散
乱膜にマイクロレンズを使用した従来の反射型液晶表示
装置では、マイクロレンズ間に入射した光はそのままマ
イクロレンズ間を通過し光反射膜で正反射成分となって
いた。すなわち、マイクロレンズ間に入射した光は、画
面表示に寄与していなかった。That is, since the transparent thin film layer is formed thinly on the microlens, it has the effect of making the shape of the microlens close to a hemisphere, and the transparent thin film is formed between the individual microlenses with the substantially thin microlens. This means that a shape pattern has been formed. Therefore, the same effect as when the filling rate of the microlens is improved is obtained. In a conventional reflective liquid crystal display device using a microlens for a light scattering film, light incident between the microlenses passes through the microlenses as it is and becomes a regular reflection component on the light reflection film. That is, light incident between the microlenses did not contribute to screen display.
【００７１】しかるに、本発明の反射型液晶表示装置で
は、マイクロレンズ間に入射した光であっても散乱し、
中央部領域（画素領域）に導かれる。すなわち、従来は
画面表示に利用されなかった光も本発明では画面表示に
利用したものであり、これにより表示画面の明るさを例
えば約１０％程度向上させることが可能となる。また、
表示画面からの正反射成分光の減少により表示品位も向
上する。However, in the reflection type liquid crystal display device of the present invention, even the light incident between the microlenses is scattered,
It is led to the central area (pixel area). That is, in the present invention, light that has not been used for screen display in the past is also used for screen display, and thus the brightness of the display screen can be improved by, for example, about 10%. Also,
The display quality is also improved by reducing the specular reflection component light from the display screen.
【００７２】また、本発明の反射型液晶表示装置では、
マイクロレンズの形状、マイクロレンズと透明薄膜およ
び平坦化膜との屈折率差を適宜変更することで、容易に
散乱光の分布を制御することが可能であり、任意の視野
角を得ることが可能となる。さらに、本発明の反射型液
晶表示装置の製造にあたっては、従来より用いられてい
たマイクロレンズの形成技術を応用できるため、簡便か
つ確実に光散乱膜を得ることができる。In the reflection type liquid crystal display device of the present invention,
By appropriately changing the shape of the microlens and the refractive index difference between the microlens and the transparent thin film and the flattening film, the distribution of the scattered light can be easily controlled, and an arbitrary viewing angle can be obtained. Becomes Furthermore, in manufacturing the reflection type liquid crystal display device of the present invention, a microlens forming technique conventionally used can be applied, so that a light scattering film can be obtained simply and reliably.
【００７３】また、平坦化膜は透明薄膜層を介して形成
されるため、平坦化膜表面の平坦性が向上することにな
り、平坦性の高い面に透明電極や配向膜を形成できる。
これにより、画面表示の表示ムラや応答ムラを防止でき
る。すなわち、本発明の反射型液晶表示装置は、透明電
極の形成面に高い平坦性を要求される液晶表示装置（例
えばＳＴＮ液晶、ＯＣＢ、ＨＡＮ、ＥＣＢやＢＴＮ液
晶、強誘電性液晶、反強誘電性液晶等）に適していると
いえる。Further, since the flattening film is formed via the transparent thin film layer, the flatness of the surface of the flattening film is improved, and a transparent electrode and an alignment film can be formed on the surface with high flatness.
Thereby, display unevenness and response unevenness of the screen display can be prevented. That is, the reflection type liquid crystal display device of the present invention requires a liquid crystal display device (eg, STN liquid crystal, OCB, HAN, ECB, BTN liquid crystal, ferroelectric liquid crystal, antiferroelectric) which requires a high flatness on the surface on which the transparent electrode is formed. Liquid crystal).
【００７４】以上述べたように、本発明の反射型液晶表
示装置は、携帯用としての液晶表示装置の利点を維持し
つつ、外光の位置に係わりなく（すなわち、入射光の入
射角度によらず）、視野角の広い明るい画面表示を、高
い表示品位にて提供することが可能となる。As described above, the reflection type liquid crystal display device of the present invention can maintain the advantages of the liquid crystal display device for portable use, regardless of the position of external light (that is, depending on the incident angle of incident light). Rather), it is possible to provide a bright screen display with a wide viewing angle with high display quality.
【００７５】[0075]
【図１】本発明の反射型液晶表示装置の一実施例の要部
を示す断面説明図。FIG. 1 is an explanatory sectional view showing a main part of one embodiment of a reflection type liquid crystal display device of the present invention.
【図２】本発明の反射型液晶表示装置の他の実施例の要
部を示す断面説明図。FIG. 2 is an explanatory sectional view showing a main part of another embodiment of the reflection type liquid crystal display device of the present invention.
【図３】図１に示した本発明の反射型液晶表示装置の要
部を示す一部拡大説明図。FIG. 3 is a partially enlarged explanatory view showing a main part of the reflective liquid crystal display device of the present invention shown in FIG. 1;
【図４】図２に示した本発明の反射型液晶表示装置の要
部を示す一部拡大説明図。FIG. 4 is a partially enlarged explanatory view showing a main part of the reflection type liquid crystal display device of the present invention shown in FIG. 2;
【図５】従来の反射型液晶表示装置の一例の要部を示す
断面説明図。FIG. 5 is an explanatory sectional view showing a main part of an example of a conventional reflection type liquid crystal display device.
【図６】従来の反射型液晶表示装置の他の例の要部を示
す断面説明図。FIG. 6 is an explanatory sectional view showing a main part of another example of a conventional reflection type liquid crystal display device.
１、１１、２１、２９ 透明基板 ２ 反射電極 ３、２３ マイクロレンズ ４、２４ 透明薄膜層 ７、２５ 平坦化膜 ６、２６、２７ 透明電極 ５ オーバーコート層 ８、２８ カラーフィルター層 ９、３１ シール材 １０、３０ 液晶表示装置 １２、３２ 観察者側電極基板 １３、３３ 背面側電極基板 １４、３４ 液晶 ２２ 光反射膜 ４０、５０ 液晶表示装置 ４１、５１ 基板 ４４、６４ 液晶 ４２、６２ 観察者側電極基板 ４３、６３ 背面側電極基板 ４５、５５、５６ 透明電極 ４７、５７ カラーフィルター層 ４８、５８ 金属反射膜 ４９ 絶縁膜 ５９ 接着剤 ５４ 偏光フィルム 1, 11, 21, 29 Transparent substrate 2 Reflective electrode 3, 23 Microlens 4, 24 Transparent thin film layer 7, 25 Flattening film 6, 26, 27 Transparent electrode 5 Overcoat layer 8, 28 Color filter layer 9, 31 Seal Materials 10, 30 Liquid crystal display device 12, 32 Observer side electrode substrate 13, 33 Back side electrode substrate 14, 34 Liquid crystal 22 Light reflection film 40, 50 Liquid crystal display device 41, 51 Substrate 44, 64 Liquid crystal 42, 62 Observer side Electrode substrate 43, 63 Back electrode substrate 45, 55, 56 Transparent electrode 47, 57 Color filter layer 48, 58 Metal reflection film 49 Insulation film 59 Adhesive 54 Polarizing film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H042 AA03 AA18 AA26 2H091 FA14Y FA29Y FA31Y FB02 FB06 FB08 FD06 GA11 GA13 GA16 KA01 LA17 LA19 5C094 AA02 AA10 AA12 AA22 AA48 BA43 CA19 CA24 DA13 EA04 EA05 EB02 ED01 ED03 ED11 ED13 ED14 FA01 FA02 FB01 FB02 5G435 AA01 AA03 BB12 BB16 CC09 CC12 FF03 FF06 FF07 FF15 GG02 GG12 HH04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F-term (reference) 2H042 AA03 AA18 AA26 2H091 FA14Y FA29Y FA31Y FB02 FB06 FB08 FD06 GA11 GA13 GA16 KA01 LA17 LA19 5C094 AA02 AA10 AA12 AA22 AA48 BA43 CA19 CA24 DA13 EA04 ED05 FA13 ED04 FB01 FB02 5G435 AA01 AA03 BB12 BB16 CC09 CC12 FF03 FF06 FF07 FF15 GG02 GG12 HH04
Claims (10)
者側基板と、前記両基板のいずれか一方に配設された光
散乱膜と、前記両基板間に挟持される液晶物質とを少な
くとも備えた反射型液晶表示装置であって、前記光散乱
膜が、一画素領域当たりマイクロレンズが平面的に２個
以上配設された光散乱素子としてのマイクロレンズアレ
イと、マイクロレンズ間を含めマイクロレンズアレイ上
に形成された透明樹脂よりなる透明薄膜層と、前記透明
薄膜層上に形成された平坦化膜との積層体であり、か
つ、マイクロレンズの屈折率と平坦化層の屈折率とが異
なり、前記透明薄膜層の屈折率はマイクロレンズの屈折
率と同等もしくは、マイクロレンズの屈折率と平坦化層
の屈折率との間としたことを特徴とする反射型液晶表示
装置。1. A backside substrate on which a light reflecting film is formed, an observer side substrate, a light scattering film disposed on one of the two substrates, and a liquid crystal material sandwiched between the two substrates. A light-scattering film comprising: a micro-lens array as a light-scattering element in which two or more micro-lenses are arranged in a plane per pixel area; And a laminate of a transparent thin film layer made of a transparent resin formed on the microlens array and a flattening film formed on the transparent thin film layer, and the refractive index of the microlens and the flattening layer. A reflection type liquid crystal display device, wherein the refractive index of the transparent thin film layer is different from that of the microlens, or between the refractive index of the microlens and the refractive index of the flattening layer. .
薄膜層を形成したことを特徴とする請求項１に記載の反
射型液晶表示装置。2. The reflection type liquid crystal display device according to claim 1, wherein a transparent thin film layer is formed of the same material as the micro lens array.
平坦化層となる材料の屈折率よりも高くしたことを特徴
とする請求項１または２に記載の反射型液晶表示装置。3. The refractive index of the material of the microlens array is
3. The reflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein the refractive index of the material to be a flattening layer is higher than that of the material.
を特徴とする請求項１、２または３に記載の反射型液晶
表示装置。4. The reflection type liquid crystal display device according to claim 1, wherein the flattening layer is formed of a fluorine resin.
したことを特徴とする請求項１、２または３に記載の反
射型液晶表示装置。5. The reflective liquid crystal display device according to claim 1, wherein the flattening layer is formed of an organic silicate resin.
か一方にカラーフィルタを配設したことを特徴とする請
求項１、２、３、４または５に記載の反射型液晶表示装
置。6. The reflection type liquid crystal display device according to claim 1, wherein a color filter is provided on one of the back side substrate and the observer side substrate.
を特徴とする請求項１、２、３、４、５または６に記載
の反射型液晶表示装置。7. The reflection type liquid crystal display device according to claim 1, wherein the light reflection film is a light reflection metal thin film.
を構成要素の一部に含むことを特徴とする請求項１、
２、３、４、５、６または７に記載の反射型液晶表示装
置。8. The light reflecting film according to claim 1, wherein a thin film made of silver or a silver alloy is included in a part of the constituent elements.
8. The reflection type liquid crystal display device according to 2, 3, 4, 5, 6, or 7.
の多層膜で形成したことを特徴とする請求項１、２、
３、４、５、６、７または８に記載の反射型液晶表示装
置。9. The method according to claim 1, wherein the light reflecting film is formed of a metal oxide multilayer film having a light reflecting function.
9. The reflective liquid crystal display device according to 3, 4, 5, 6, 7, or 8.
ズとした一面で、または、複数個の画素毎に一面ずつ形
成した複数面で形成したことを特徴とする請求項１、
２、３、４、５、６、７、８または９に記載の反射型液
晶表示装置。10. The display device according to claim 1, wherein the light-reflecting film is formed on one surface having a size substantially equal to the display screen size of the display device, or on a plurality of surfaces formed for each of a plurality of pixels.
The reflective liquid crystal display device according to 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, or 9.
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|---|---|---|---|
| JP11046299A JP2000241809A (en) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | Reflection type liquid crystal display device |
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| JP11046299A JP2000241809A (en) | 1999-02-24 | 1999-02-24 | Reflection type liquid crystal display device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000241809A (en) |
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