JP4366904B2 - 小型化学反応装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は小型化学反応装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
化学反応の技術分野では、流体化された混合物質を流路内に設けられた触媒による化学反応(触媒反応)により、所望の流体物質を生成する化学反応装置が知られている。従来のこのような化学反応装置には、半導体集積回路などの半導体製造技術で蓄積された微細加工技術を用いて、シリコン基板上に幅がミクロンオーダーあるいはミリメートルオーダーの流路を形成したものがある。
【0003】
図6は従来のこのような小型化学反応装置の一例の透過平面図を示し、図7はそのB−B線に沿う断面図を示したものである。この小型化学反応装置は小型のシリコン基板1を備えている。シリコン基板1の一面には、半導体製造技術で蓄積された微細加工技術を用いて、蛇行した微小な流路2が形成されている。流路2の内壁面には反応触媒層3が設けられている。
【0004】
シリコン基板1の一面には蓋となるガラス板4が接合されている。ガラス板4の流路2の両端部に対応する所定の2箇所には、ガラス板4の厚さ方向に貫通する流入口5および流出口6が形成されている。シリコン基板1の他面には、流路2に対応して蛇行した薄膜ヒータ7が設けられている。薄膜ヒータ7は、この小型化学反応装置における化学反応(触媒反応)が所定の熱条件による吸熱反応を伴うとき、化学反応時に流路2内の反応触媒層3に所定の熱エネルギーを供給するためのものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記従来の小型化学反応装置では、流路2の幅がミクロンオーダーあるいはミリメートルオーダーと極めて小さい上、小型化を図るために流路2の深さおよび長さに限界があり、したがって流路2内に設けられる触媒(反応触媒層3)の量に限界があり、ひいては触媒の量に大きく依存する流路2内での反応速度をある程度以上に速くすることができないという問題があった。
そこで、この発明は、流路内に設けられる触媒の量をより多くすることができる小型化学反応装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、小型の基板と、該基板の一面に形成された微小な流路と、該流路内に設けられた第1の反応触媒層と、前記基板の一面に接合された蓋板と、該蓋板の前記基板との接合側の面において前記基板の流路の少なくとも一部と対応する箇所に設けられた第2の反応触媒層と、前記基板の前記蓋板との接合側と反対側の面に設けられたヒータとを備え、前記第2の反応触媒層は、前記蓋板の前記基板との接合側の面において前記基板の流路の少なくとも一部と対応する箇所に形成された流路内に設けられ、前記第1の反応触媒層は、前記基板に形成された流路内全体に設けられていることを特徴とするものである。
求項に記載の発明は、小型の基板と、該基板の一面に形成された微小な流路と、該流路内に設けられた第1の反応触媒層と、前記基板の一面に接合された蓋板と、該蓋板の前記基板との接合側の面において前記基板の流路の少なくとも一部と対応する箇所に設けられた第2の反応触媒層と、前記基板の前記蓋板との接合側と反対側の面に設けられたヒータとを備え、前記第2の反応触媒層は、前記蓋板の前記基板との接合側の面に設けられ、前記基板の流路内に前記第2の反応触媒層の幅が前記流路の幅よりも小さくされて配置されていることを特徴とするものである。
求項に記載の発明は、請求項1又は2に記載の発明において、前記第2の反応触媒層の反応触媒は前記第1の反応触媒層の反応触媒と同じものであることを特徴とするものである。
請求項に記載の発明は、請求項1〜のいずれかに記載の発明において、前記ヒータは、前記蓋板の前記基板との接合側の反対側の面において前記基板の流路の少なくとも一部と対応する箇所に設けられていることを特徴とするものである。
請求項に記載の発明は、請求項1〜のいずれかに記載の発明において、前記第1の反応触媒層又は前記第2の反応触媒層は、フォトリソグフィ法により形成された多孔質膜に触媒を付着させることにより形成されていることを特徴とするものである。
請求項に記載の発明は、請求項1〜のいずれかに記載の発明において、前記ヒータは、前記の前記基板との接合側の反対側の面において前記基板の流路の少なくとも一部と対応する箇所に設けられていることを特徴とするものである。
そして、この発明によれば、基板の一面に形成された微小な流路内に設けられた第1の反応触媒層のほかに、基板の一面に接合された蓋板の基板との接合側の面において基板の流路と対応する箇所に第2の反応触媒層を設けているので、流路内に設けられる触媒の量をより多くすることができる。
【0007】
【発明の実施の形態】
図1はこの発明の一実施形態としての小型化学反応装置の透過平面図を示し、図2はそのA−A線に沿う断面図を示したものである。この小型化学反応装置は小型のシリコン基板11を備えている。シリコン基板11の寸法は、一例として、長さ25mm程度、幅17mm程度、厚さ0.6〜1mm程度である。シリコン基板11の一面には、半導体製造技術で蓄積された微細加工技術を用いて、蛇行した微小な流路12が形成されている。流路12の寸法は、一例として、幅0.2〜0.8mm程度、深さ0.2〜0.6mm程度であり、全長は30〜1000mm程度である。流路12の内壁面には反応触媒層13が設けられている。
【0008】
シリコン基板11の一面には蓋となる厚さ0.7mm程度のガラス板14が接合されている。ガラス板14のシリコン基板11との接合側の面においてシリコン基板11の流路12と対応する箇所には、半導体製造技術で蓄積された微細加工技術を用いて、蛇行した微小な流路15が形成されている。流路15の寸法は、この例では、シリコン基板11の流路12の寸法と同じとなっているが、幅および深さを適宜に異ならせるようにしてもよく、また全長を短くしてもよい。
【0009】
流路15の内壁面には反応触媒層16が設けられている。ガラス板14の流路15の両端部に対応する所定の2箇所には、ガラス板14の厚さ方向に貫通する流入口17および流出口18が形成されている。なお、流路15の全長を流路12の全長よりも短くする場合には、流入口17および流出口18はシリコン基板11の流路12の両端部に対応する所定の2箇所に形成される。
【0010】
シリコン基板11の他面にはTaSiOxやTaSiOxNなどの抵抗体薄膜からなる蛇行した薄膜ヒータ19が設けられている。薄膜ヒータ19は、この小型化学反応装置における化学反応(触媒反応)が所定の熱条件による吸熱反応を伴うとき、化学反応時に流路12、15内の反応触媒層13、16に所定の熱エネルギーを供給するためのものである。この場合、蛇行した薄膜ヒータ19は、蛇行した流路12、15と平面的に一致させているが、一致しないようにしてもよい。また、薄膜ヒータ19は流路12、15全面を覆うようなべた状としてもよい。
【0011】
シリコン基板11の他面には、一面の中央部に座ぐり加工により凹部20が形成された厚さ0.7mm程度のガラス板21の周辺部が接合されている。ガラス板21は、薄膜ヒータ19を保護するほかに、薄膜ヒータ19の熱拡散を防止し、熱効率を良くするためのものである。また、凹部20内は、断熱性能を高めるため、ほぼ真空としてもよい。
【0012】
ところで、この小型化学反応装置では、シリコン基板11の一面に形成された流路12と、この流路12に対応して、ガラス板14のシリコン基板11との接合側の面に形成された流路15とによって、1つの流路が構成されている。そして、各流路12、15の内壁面にそれぞれ反応触媒層13、16を設けているので、流路12、15内に設けられる触媒の量を流路12内のみの場合と比較してほぼ2倍とより多くすることができる。この結果、触媒の量に大きく依存する流路12、15内での反応速度をより一層速くすることができる。
【0013】
なお、流路12、15のうちのいずれか一方の流路で流体化された混合物質を流すための断面積を十分に確保することができれば、他方の流路内全体に反応触媒層を設けるようにしてもよい。
【0014】
ここで、反応触媒層1316は、触媒粒子を溶媒中に分散させてなる触媒溶液を塗布することにより、あるいはスパッタリング法などの物理的成膜法により、形成された反応触媒層をフォトリソグフィ法によりパターニングして形成されたものであってもよく、また流路12、15内にフォトリソグフィ法により形成されたアルミニウムの陽極酸化膜などからなる多孔質膜に触媒を付着させたものであってもよい。触媒の具体例については後で説明する。
【0015】
次に、この発明に係る小型化学反応装置を燃料改質型の燃料電池を用いた燃料電池システムに適用した場合について説明する。図3は燃料電池システム31の一例の要部のブロック図を示したものである。この燃料電池システム31は、燃料部32、燃料気化部33、改質部34、一酸化炭素除去部35、発電部36、充電部37などを備えている。
【0016】
燃料部32は、発電用燃料(例えばメタノール水溶液)が封入された燃料パックなどからなり、発電用燃料を燃料気化部33に供給する。
【0017】
燃料気化部33は、図1および図2に示すような構造となっている。ただし、この場合、流路12、15内には反応触媒層13、16は設けられていない。そして、燃料気化部33は、燃料部32からの発電用燃料が流入口17を介して流路12、15内に供給されると、流路12、15内において、薄膜ヒータ19の加熱(120℃程度)により、発電用燃料を気化させ、この気化された発電用燃料ガス(例えば発電用燃料がメタノール水溶液の場合、CH3OH+H2O)を流出口18から流出させる。
【0018】
燃料気化部33で気化された発電用燃料ガス(CHOH+HO)は改質部34に供給される。この場合、改質部34も、図1および図2に示すような構造となっている。ただし、この場合、反応触媒層13、16は、例えば、Cu、ZnO、Alなどからなる改質触媒を含むものからなっている。そして、改質部34は、燃料気化部33からの発電用燃料ガス(CHOH+HO)が流入口17を介して流路12、15内に供給されると、流路12、15内において、薄膜ヒータ19の加熱(280℃程度)により、次の式(1)に示すような吸熱反応を引き起こし、水素と副生成物の二酸化炭素とを生成する。
CHOH+HO→3H+CO……(1)
【0019】
この場合、流路12、15内の改質触媒(反応触媒層13、16)の量は比較的多いので、薄膜ヒータ28の発熱により加熱された比較的多い量の改質触媒に流路12、15内を流れる混合ガス(CH3OH+H2O)が接触し、速やかに上記式(1)に示すような吸熱反応を引き起こすため、反応速度を比較的速くすることができる。
【0020】
また、上記式(1)の左辺における水(H2O)は、反応の初期では、燃料部32の燃料に含まれているものでよいが、後述する発電部36の発電に伴い生成される水を回収して改質部34に供給するようにしてもよい。また、発電部36の発電中の上記式(1)の左辺のおける水(H2O)の供給源は、発電部36のみでもよく、発電部36および燃料部32でも、また燃料部32のみでもよい。なお、このとき微量ではあるが、一酸化炭素が改質部34内で生成されることがある。
【0021】
そして、上記式(1)の右辺の生成物(水素、二酸化炭素)および微量の一酸化炭素は改質部34の流出口18から流出される。改質部34の流出口18から流出された生成物のうち、気化状態の水素および一酸化炭素は一酸化炭素除去部35に供給され、二酸化炭素は分離されて大気中に放出される。
【0022】
次に、一酸化炭素除去部35も、図1および図2に示すような構造となっている。ただし、この場合、反応触媒層13、16は、例えば、Pt、Al23などからなる選択酸化触媒を含むものからなっている。そして、一酸化炭素除去部35は、改質部34からの気化状態の水素および一酸化炭素が流入口17を介して流路12、15内に供給されると、薄膜ヒータ19の加熱(180℃程度)により、流路12、15内に供給された水素、一酸化炭素、水のうち、一酸化炭素と水とが反応し、次の式(2)に示すように、水素と副生成物の二酸化炭素とが生成される。
CO+H2O→H2+CO2……(2)
【0023】
この場合、流路12、15内の選択酸化触媒(反応触媒層13、16)の量は比較的多いので、薄膜ヒータ19の発熱により加熱された比較的多い量の選択酸化触媒に流路12、15内を流れる一酸化炭素および水が接触し、速やかに上記式(2)に示すような吸熱反応を引き起こすため、反応速度を比較的速くすることができる。
【0024】
また、上記式(2)の左辺における水(H2O)は反応の初期では、燃料部32の燃料に含まれているものでよいが、発電部36の発電に伴い生成される水を回収して一酸化炭素除去部35に供給することが可能である。また、一酸化炭素除去部35における反応式(2)の左辺のおける水の供給源は、発電部36のみでもよく、発電部36および燃料部32でも、また燃料部32のみでもよい。
【0025】
そして、最終的に一酸化炭素除去部35の流出口18に到達する流体はそのほとんどが水素、二酸化炭素となる。なお、一酸化炭素除去部35の流出口18に到達する流体に極微量の一酸化炭素が含まれている場合、残存する一酸化炭素を大気中から逆止弁を介して取り込まれた酸素に接触させることで、次の式(3)に示すように、二酸化炭素が生成され、これにより一酸化炭素が確実に除去される。
CO+(1/2)O2→CO2……(3)
【0026】
上記一連の反応後の生成物は水素および二酸化炭素(場合によって微量の水を含む)で構成されるが、これらの生成物のうち、二酸化炭素は水素から分離されて大気中に放出される。したがって、一酸化炭素除去部35から発電部36には水素のみが供給される。なお、一酸化炭素除去部35は、燃料気化部33と改質部34との間に設けてもよい。
【0027】
次に、発電部36は、図4に示すように、周知の固体高分子型の燃料電池からなっている。すなわち、発電部36は、Pt、Cなどの触媒が担持された炭素電極からなるカソード41と、Pt、Ru、Cなどの触媒が担持された炭素電極からなるアノード42と、カソード41とアノード42との間に介在されたフィルム状のイオン導電膜43と、を有して構成され、カソード41とアノード42との間に設けられた2次電池やコンデンサなどからなる充電部37に電力を供給するものである。
【0028】
この場合、カソード41の外側には空間部44が設けられている。この空間部44内には一酸化炭素除去部35からの水素が供給され、カソード41に水素が供給される。また、アノード42の外側には空間部45が設けられている。この空間部45内には大気中から逆止弁を介して取り込まれた酸素が供給され、アノード42酸素が供給される。
【0029】
そして、カソード41側では、次の式(4)に示すように、水素から電子(e-)が分離した水素イオン(プロトン;H+)が発生し、イオン導電膜43を介してアノード42側に通過するとともに、カソード41により電子(e-)が取り出されて充電部37に供給される。
3H2→6H++6e-……(4)
【0030】
一方、アノード42側では、次の式(5)に示すように、充電部37を経由して供給された電子(e-)とイオン導電膜43を通過した水素イオン(H+)と酸素とが反応して副生成物の水が生成される。
6H++(3/2)O2+6e-→3H2O……(5)
【0031】
以上のような一連の電気化学反応(式(4)および式(5))は概ね室温〜80℃程度の比較的低温の環境下で進行し、電力以外の副生成物は、基本的に水のみとなる。発電部36で生成された電力は充電部37に供給され、これにより充電部37が充電される。
【0032】
発電部36で生成された副生成物としての水は回収される。この場合、上述の如く、発電部36で生成された水の少なくとも一部を改質部34や一酸化炭素除去部35に供給するようにすると、燃料部32内に当初封入される水の量を減らすことができ、また回収される水の量を減らすことができる。
【0033】
ところで、現在、研究開発が行われている燃料改質方式の燃料電池に適用されている燃料としては、少なくとも、水素元素を含む液体燃料または液化燃料または気体燃料であって、発電部36により、比較的高いエネルギー変換効率で電気エネルギーを生成することができる燃料であればよく、上記のメタノールの他、例えば、エタノール、ブタノールなどのアルコール系の液体燃料や、ジメチルエーテル、イソブタン、天然ガス(CNG)などの液化ガスなどの常温常圧で気化される炭化水素からなる液体燃料、あるいは、水素ガスなどの気体燃料などの流体物質を良好に適用することができる。
【0034】
なお、上記実施形態では、図2に示すように、ガラス板14のシリコン基板11との接合側の面においてシリコン基板11の流路12と対応する箇所に形成された流路15の内壁面に反応触媒層16を設けた場合について説明したが、これに限定されるものではない。
【0035】
例えば、図5に示すこの発明の他の実施形態のように、ガラス板14のシリコン基板11との接合側の面に流路を形成せずに、同面においてシリコン基板11の流路12と対応する箇所に蛇行した反応触媒層16を設けるようにしてもよい。この場合、反応触媒層16は、その幅が流路12の幅よりもある程度小さく、流路12内に配置されている。
【0036】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、基板の一面に形成された微小な流路内に設けられた第1の反応触媒層のほかに、基板の一面に接合された蓋板の基板との接合側の面において基板の流路と対応する箇所に第2の反応触媒層を設けているので、流路内に設けられる触媒の量をより多くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施形態としての小型化学反応装置の透過平面図。
【図2】図1のA−A線に沿う断面図。
【図3】この発明に係る小型化学反応装置を備えた燃料電池システムの一例の要部のブロック図。
【図4】図3に示す燃料電池システムの発電部および充電部の概略構成図。
【図5】この発明の他の実施形態としての小型化学反応装置の一部の断面図。
【図6】従来の小型化学反応装置の一例の透過平面図。
【図7】図6のB−B線に沿う断面図。
【符号の説明】
11 シリコン基板
12 流路
13 反応触媒層
14 ガラス板
15 流路
16 反応触媒層
17 流入口
18 流出口
19 薄膜ヒータ
21 ガラス板

Claims (6)

  1. 小型の基板と、該基板の一面に形成された微小な流路と、該流路内に設けられた第1の反応触媒層と、前記基板の一面に接合された蓋板と、該蓋板の前記基板との接合側の面において前記基板の流路の少なくとも一部と対応する箇所に設けられた第2の反応触媒層と、前記基板の前記蓋板との接合側と反対側の面に設けられたヒータとを備え、前記第2の反応触媒層は、前記蓋板の前記基板との接合側の面において前記基板の流路の少なくとも一部と対応する箇所に形成された流路内に設けられ、前記第1の反応触媒層は、前記基板に形成された流路内全体に設けられていることを特徴とする小型反応装置。
  2. 小型の基板と、該基板の一面に形成された微小な流路と、該流路内に設けられた第1の反応触媒層と、前記基板の一面に接合された蓋板と、該蓋板の前記基板との接合側の面において前記基板の流路の少なくとも一部と対応する箇所に設けられた第2の反応触媒層と、前記基板の前記蓋板との接合側と反対側の面に設けられたヒータとを備え、前記第2の反応触媒層は、前記蓋板の前記基板との接合側の面に設けられ、前記基板の流路内に前記第2の反応触媒層の幅が前記流路の幅よりも小さく配置されていることを特徴とする小型反応装置。
  3. 請求項1又は2に記載の発明において、前記第2の反応触媒層の反応触媒は前記第1の反応触媒層の反応触媒と同じものであることを特徴とする小型化学反応装置。
  4. 請求項1〜のいずれかに記載の発明において、前記第1の反応触媒層又は前記第2の反応触媒層は、塗布法またはスパッタリング法のいずれかにより形成されていることを特徴とする小型化学反応装置。
  5. 請求項1〜のいずれかに記載の発明において、前記第1の反応触媒層又は前記第2の反応触媒層は、フォトリソグフィ法により形成された多孔質膜に触媒を付着させることにより形成されていることを特徴とする小型化学反応装置。
  6. 請求項1〜のいずれかに記載の発明において、前記ヒータは、前記の前記基板との接合側の反対側の面において前記基板の流路の少なくとも一部と対応する箇所に設けられていることを特徴とする小型反応装置。
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JP4984405B2 (ja) * 2005-03-07 2012-07-25 カシオ計算機株式会社 一酸化炭素除去器
JP2007244944A (ja) * 2006-03-14 2007-09-27 Kobe Steel Ltd マイクロリアクタ及びマイクロリアクタを用いた水素の製造方法
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