JP4361887B2 - 露光時のフォーカス条件の設定方法,露光時のフォーカス条件の設定装置,プログラム及びプログラムを読み取り可能な記録媒体 - Google Patents
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Description
110 膜厚測定装置
190 露光条件設定装置
E 露光装置
W1〜W5 ウェハ領域
H1,H2 相関関数
M 算出モデル
W ウェハ
Claims (14)
- 基板上にレジストパターンを形成するフォトリソグラフィー工程における露光時のフォーカス条件の設定方法であって,
既存の条件設定のフォトリソグラフィー工程において,光源の0次光のみを透過させる第1のパターンを有するマスクを用いて基板上の膜を露光し,その後現像して,基板上の膜の第1の部分を減少させる工程と,
既存の条件設定のフォトリソグラフィー工程において,光源の0次光とそれより高次の光を透過させる第2のパターンを有するマスクを用いて基板上の膜を露光し,その後現像して,基板上の膜の第2の部分を減少させる工程と,
前記第1の部分と第2の部分の膜厚を測定する工程と,
予め求められている膜厚と線幅との相関により,前記測定された第1の部分の膜厚と第2の部分の膜厚を,レジストパターンの線幅に換算する工程と,
前記換算された第1の部分の線幅から第2の部分の線幅を除算する工程と,
前記除算された線幅差に基づいて,新たなフォーカス条件を設定する工程と,を有することを特徴とする,露光時のフォーカス条件の設定方法。 - 前記膜厚測定結果から第1の部分の膜厚減少量と第2の部分の膜厚減少量を算出する工程をさらに有し,
前記膜厚と線幅との相関に代えて,予め求められている膜厚減少量と線幅との相関により,前記算出された第1の部分の膜厚減少量と第2の膜厚減少量を,前記レジストパターンの線幅に換算することを特徴とする,請求項1に記載の露光時のフォーカス条件の設定方法。 - 基板上にレジストパターンを形成するフォトリソグラフィー工程における露光時のフォーカス条件の設定方法であって,
既存の条件設定のフォトリソグラフィー工程において,光源の0次光のみを透過させる第1のパターンを有するマスクを用いて基板上の膜を露光し,その後現像して,基板上の膜の第1の部分を減少させる工程と,
既存の条件設定のフォトリソグラフィー工程において,光源の0次光とそれより高次の光を透過させる第2のパターンを有するマスクを用いて基板上の膜を露光し,その後現像して,基板上の膜の第2の部分を減少させる工程と,
前記第1の部分と第2の部分の膜厚を測定する工程と,
前記膜厚測定結果から,第1の部分の膜厚から第2の部分の膜厚を除算し膜厚差を算出する工程と,
予め求められている前記膜厚差と線幅との相関により,前記算出された膜厚差をレジストパターンの線幅に換算する工程と,
前記換算された線幅に基づいて,新たなフォーカス条件を設定する工程と,を有することを特徴とする,露光時のフォーカス条件の設定方法。 - 前記膜厚測定結果から,第1の部分の膜厚減少量と第2の部分の膜厚減少量を算出し,
前記第1の部分の膜厚減少量と第2の部分の膜厚減少量から,前記第1の部分と第2の部分との前記膜厚差を算出することを特徴とする,請求項3に記載の露光時のフォーカス条件の設定方法。 - 前記第1のパターンには,光源の0次光を透過させる領域と,前記光源の光を透過させない領域が形成され,
前記第2のパターンには,光源の0次光とそれより高次の光を透過させる領域と,前記光源の光を透過させない領域が形成され,
前記第1の部分の膜厚減少量は,前記第1のパターンの二つの領域に対応する第1の部分の膜の相互間の膜厚差を算出することにより求められ,
前記第2の部分の膜厚減少量は,前記第2のパターンの二つの領域に対応する第2の部分の膜の相互間の膜厚差を算出することにより求められることを特徴とする,請求項2又は4のいずれかに記載の露光時のフォーカス条件の設定方法。 - 前記第1のパターンには,0次光を透過させ,かつ透過率の異なる複数の領域が形成され,
前記第2のパターンには,光源の0次光とそれより高次の光を透過させ,かつ透過率が異なる複数の領域が形成されていることを特徴とする,請求項5に記載の露光時のフォーカス条件の設定方法。 - 基板上にレジストパターンを形成するフォトリソグラフィー工程における露光時のフォーカス条件の設定装置であって,
光源の0次光のみを透過させる第1のパターンと,光源の0次光とそれより高次の光を透過させる第2のパターンを有する露光用のマスクと,
既存の条件設定のフォトリソグラフィー工程において,前記マスクにより光源の0次光のみを透過させて基板上の膜を露光し,その後現像して基板上の膜の第1の部分を減少させたときの膜厚と,既存の条件設定のフォトリソグラフィー工程において,前記マスクを用いて光源の0次光とそれより高次の光を透過させて基板上の膜を露光し,その後現像して基板上の膜の第2の部分を減少させたときの膜厚を測定する膜厚測定部と,
予め求められている膜厚と線幅との相関により,前記測定された第1の部分の膜厚と第2の部分の膜厚をレジストパターンの線幅に換算し,当該換算された第1の部分の線幅から第2の部分の線幅を除算し,さらに前記除算された線幅差に基づいて新たなフォーカス条件を設定する設定部と,を有することを特徴とする,露光時のフォーカス条件の設定装置。 - 前記設定部は,前記膜厚測定結果から第1の部分の膜厚減少量と第2の部分の膜厚減少量を算出し,予め求められている膜厚減少量と線幅との相関により,前記算出された第1の部分の膜厚減少量と第2の膜厚減少量を,前記レジストパターンの線幅に換算することを特徴とする,請求項7に記載の露光時のフォーカス条件の設定装置。
- 基板上にレジストパターンを形成するフォトリソグラフィー工程における露光時のフォーカス条件の設定装置であって,
光源の0次光のみを透過させる第1のパターンと,光源の0次光とそれより高次の光を透過させる第2のパターンを有する露光用のマスクと,
既存の条件設定のフォトリソグラフィー工程において,前記マスクにより光源の0次光のみを透過させて基板上の膜を露光し,その後現像して基板上の膜の第1の部分を減少させたときの膜厚と,既存の条件設定のフォトリソグラフィー工程において,前記マスクを用いて光源の0次光とそれより高次の光を透過させて基板上の膜を露光し,その後現像して基板上の膜の第2の部分を減少させたときの膜厚を測定する膜厚測定部と,
前記膜厚測定結果から,第1の部分の膜厚から第2の部分の膜厚を除算し膜厚差を算出し,予め求められている膜厚差と線幅との相関により,前記算出された膜厚差をレジストパターンの線幅に換算し,さらに前記換算された線幅に基づいて新たなフォーカス条件を設定する設定部と,を有することを特徴とする,露光時のフォーカス条件の設定装置。 - 前記設定部は,前記膜厚測定結果から,第1の部分の膜厚減少量と第2の部分の膜厚減少量を算出し,さらに当該第1の部分の膜厚減少量と第2の部分の膜厚減少量から,前記第1の部分と第2の部分との前記膜厚差を算出することを特徴とする,請求項9に記載の露光時のフォーカス条件の設定装置。
- 前記第1のパターンには,光源の0次光を透過させる領域と,前記光源の光を透過させない領域が形成され,
前記第2のパターンには,光源の0次光とそれより高次の光を透過させる領域と,前記光源の光を透過させない領域が形成され,
前記設定部は,前記第1のパターンの二つの領域に対応する第1の部分の膜の相互間の膜厚差を算出することにより,前記第1の部分の膜厚減少量を求め,さらに,前記第2のパターンの二つの領域に対応する第2の部分の膜の相互間の膜厚差を算出することにより,前記第2の部分の膜厚減少量を求めることを特徴とする,請求項8又は10のいずれかに記載の露光時のフォーカス条件の設定装置。 - 前記第1のパターンには,0次光を透過させ,かつ透過率の異なる複数の領域が形成され,
前記第2のパターンには,光源の0次光とそれより高次の光を透過させ,かつ透過率が異なる複数の領域が形成されていることを特徴とする,請求項11に記載の露光時のフォーカス条件の設定装置。 - 請求項7〜12のいずれかに記載のフォーカス条件の設定装置における設定部の機能をコンピュータに実現させるためのプログラム。
- 請求項7〜12のいずれかに記載のフォーカス条件の設定装置における設定部の機能をコンピュータに実現させるためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
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