JP4346482B2 - 不揮発性記憶装置及び不揮発性記憶装置の検証方法 - Google Patents
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Description
図1は、従来の不揮発性記憶装置の構成の一部を示す回路図である。不揮発性記憶装置は、電流源回路106、電流源回路107(スイッチ124を含む)、複数のメモリセル115−1及び115−2(図中2個のみ記載)、複数のビット線117(図中1本のみ記載)、複数のワード線118−1及び118−2(図中2本のみ記載)、複数のソース線119(図中1本のみ記載)を備える。ここでは、2つのメモリセル115−1及び115−2が、ソース線119を共用しているメモリセルアレイ112で説明する。しかし、更に多くのメモリセル115がソース線119を共用していても良いし、ソース線119を共用していなくても良い。
まず、複数のビット線117から選択ビット線117sを、複数のワード線118から選択ワード線118−1sを、複数のソース線から選択ソース線119sをそれそれ選択する。この選択ビット線117s及び選択ワード線118−1sにより、複数のメモリセルから選択セル115−1sが選択される。次に、選択ソース線119sに電圧VSW(ソース電圧)を、選択ワード線118−1sに電圧VWW(ゲート電圧)をそれぞれ印加し、電流源回路106により選択ソース線119s−選択セル115−1sのソース−選択セル115−1sのドレイン−選択ビット線117sの経路で予め設定された定電流を流す。このとき、選択ビット線117sの電圧VBW(ドレイン電圧)は、VWW−Vthとなる。ただし、Vthは、選択メモリセル115−1sの閾値電圧である。このとき、選択メモリセル115−1sに定電流が流れて発生するチャネルホットエレクトロンがフローティングゲートに注入されることにより、選択メモリセル115−1sにデータが書き込まれる。
まず、複数のビット線117から選択ビット線117sを、複数のワード線118から選択ワード線118−1sをそれぞれ選択する。複数のソース線119は、0Vに固定され選択されない。この選択ビット線117s及び選択ワード線118−1sにより、複数のメモリセルから選択セル115−1sが選択される。次に、選択ワード線118−1に電圧VWR(ゲート電圧)を、選択ビット線117sに電圧VBR(ドレイン電圧)をそれぞれ印加する。センスアンプ(図示されず)により、選択ビット線117s−選択セル115−1sのドレイン−選択セル115−1sのソース−対応するソース線119(0V)の経路で流れる電流の大きさをセンスする。このとき、フローティングゲートに蓄積されている電荷(格納されたデータ)により電流の大きさが変動するので、データを読み出すことができる。
本発明では、選択セル(15s)とソース線(19)を共通にする選択ビット線(17s)上の非選択セル(15)に誤書き込みを発生させる電圧が、選択ビット線(17s)に発生しないようにできる。それにより、閾値電圧の大きい選択セル(15s)に対する書き込みを無くし、同時に、非選択セル(15)に誤書き込みを起こさないようにすることができる。
本発明では、電圧制御部(14)をメモリセル(15)の書き込みテストの際の書き込み動作時に用いることで、閾値電圧の大きい選択セル(15s)に対する書き込みを無くし、当該選択セル(15s)を書き込みテストで検出することが可能となる。同時に、非選択セル(15)に誤書き込みを起こさないようにすることができる。
クランプ回路(26+27)は、簡単な構成で実現できる点で好ましい。
図2は、本発明の不揮発性記憶装置の実施の形態における構成を示す回路ブロック図である。不揮発性記憶装置1は、第1Xデコーダ2、第2Xデコーダ3、Yデコーダ4、Yセレクタ5、スイッチ13、電圧制御回路14、複数のビット線17(図中、2本のみ記載)、複数のワード線18(図中、18−1及び18−2の一組を記載)、複数のソース線19(図中、1本のみ記載)、複数のメモリセル15(図中、15−1及び15−2の一組を記載)、電流源回路6、電流源回路7、電圧源回路8、電圧源回路9、制御回路10、センスアンプ11を具備する。メモリアレイ12は、行列状に配列された複数のメモリセル15を備える。
まず、第1Xデコーダ2により、複数のワード線18(18−1及び18−2)から選択ワード線18−1sが選択される。第2Xデコーダ3により、複数のソース線19から選択ソース線19sが選択される。Yセレクタ5により、複数のビット線17から選択ビット線17sが選択される。この選択ビット線17s及び選択ワード線18sにより複数のメモリセル15(15−1又は15−2)から選択セル15−1sが選択される。
まず、第1Xデコーダ2により、複数のワード線18(18−1及び18−2)から選択ワード線18−1sが選択される。Yセレクタ5により、複数のビット線17から選択ビット線17sが選択される。複数のソース線は、全て0Vに固定され選択されない。この選択ビット線17s及び選択ワード線18−1sにより、複数のメモリセル(15−1及び15−2)から選択セル15−1sが選択される。
まず、第1Xデコーダ2により、複数のワード線18(18−1及び18−2)から選択ワード線18−1sが選択される。複数のソース線19及び複数のビット線17は、全て0Vに固定され選択されない。これにより、この選択ワード線18s上の全てのメモリセル15が選択セル15sとして選択される。
Yセレクタ5により、複数のビット線17から選択ビット線17sが選択される。スイッチ13により上記選択ビット線17sが選択され、電圧制御回路14が選択ビット線17sへ接続される。このとき、電圧制御回路14のトランジスタ26に、所定の電圧Vdpが印加される。
第1Xデコーダ2により、複数のワード線18(18−1及び18−2、ここでは18−1、以下同じ)から選択ワード線18(18−1又は18−2、ここでは18−1、以下同じ)sが選択される。第2Xデコーダ3により、複数のソース線19から選択ソース線19sが選択される。選択ビット線17sは、ステップS01で既に選択されている。この選択ビット線17s及び選択ワード線18−1sにより、複数のメモリセル15(15−1及び15−2、以下同じ)から選択セル15(15−1又は15−2、ここでは15−1、以下同じ)sが選択される。そして、電圧電源回路9により、選択ソース線19sに電圧VSW(ソース電圧、例示:7.5V)が印加される。電圧電源回路8により、選択ワード線18−1sに電圧VWW(ゲート電圧、例示:1.5V)が印加される。電流源回路6により、選択ソース線19s−選択セル15−1sのソース−選択セル15−1sのドレイン−選択ビット線17sの経路で予め設定された定電流が流れるように選択ビット線17sの電圧VBW(ドレイン電圧=VWW−Vth)が変化する。ここで、Vthは、選択セル15−1sの閾値電圧である。
制御回路10は、同一の選択ビット線17s上の全てのメモリセル15において、データの書き込み動作を行ったか否かを判定する。行っていない場合(ステップS03:No)、ステップS01へ戻り、同一の選択ビット線17s上の全てのメモリセル15で書き込み動作を実行する。
第1Xデコーダ2により、複数のワード線18から選択ワード線18−1sが選択される。複数のソース線19は、全て0Vに固定され選択されない。選択ビット線17sは、ステップS01で既に選択されている。この選択ビット線17s及び選択ワード線18−1sにより、複数のメモリセルから選択セル15−1sが選択される。この選択セル15−1sに対して、上述の読み出し動作を行い、データを読み出す。
制御回路10は、読み出されたデータに基づいて、選択セル15−1sにデータが書き込まれたか否かを判定する。すなわち、ステップS02の選択セル15−1sへのデータの書き込み動作により、その選択セル15−1sにデータが書き込まれたか否か(書き込み不良が発生していないか否か)を判定する。
選択セル15sにデータが書き込まれていた場合(ステップS04:Yes)、その選択セル15−1sがスクリーニングテストに合格したとして、制御回路10は合格を示す信号を出力(図示しない記憶部へ格納)する。
選択セル15sにデータが書き込まれていない場合(ステップS05:No)、その選択セル15−1sがスクリーニングテストに合格しなかったとして、制御回路10は不合格を示す信号を出力(図示しない記憶部へ格納)する。
制御回路10は、ステップS01で選択された選択ビット線17s上の全てのメモリセル15について、ステップS04〜S07の検証が終了したか否かを判定する。終了していない場合(ステップS08:No)には、ステップS04へ戻り、残りのメモリセル15について検証を継続する。
制御回路10は、検証対象のメモリセルアレイ12に関する全てのビット線17について、ステップS01〜S08の検証が終了したか否かを判定する。終了していない場合(ステップS09:No)には、ステップS01へ戻り、残りのビット線17上のメモリセル15について検証を継続する。
2 第1Xデコーダ
3 第2Xデコーダ
4 Yデコーダ
5 Yセレクタ
6 電流源回路
7 電圧源回路
8 電圧源回路
9 電圧源回路
10 制御回路
11 センスアンプ
12 メモリアレイ
13 スイッチ
14 電圧制御回路
15、15−1、15−2 メモリセル
17 ビット線
18、18−1、18−2 ワード線
19 ソース線
106 電流源回路
107 電圧源回路
115、115−1、115−2 メモリセル
117 ビット線
118、118−1、118−2 ワード線
119 ソース線
124 スイッチ
Claims (9)
- 第1方向に延伸する複数のビット線と、
前記第1方向と実質的に垂直な第2方向に延伸する複数のワード線と、
前記複数のビット線と前記複数のワード線とが交差する位置のそれぞれに対応して設けられ、実質的に一定である定電流で書き込まれる不揮発性半導体記憶素子である複数のメモリセルと、
前記複数のメモリセルのうち前記ビット線を共通にする前記複数のメモリセルの組ごとに一本ずつ設けられた複数のソース線と、
前記メモリセル及び対応する前記ビット線に前記定電流を供給可能な電流源と、
前記ビット線を所定の電圧以上に保持する電圧制御部と
を具備し、
前記複数のビット線から選択される選択ビット線と、前記複数のワード線から選択される選択ワード線とにより前記複数のメモリセルから選択される選択セルへの書き込み動作時、前記電圧制御部は、前記選択ビット線が前記所定の電圧を下回った場合に、前記定電流を自身に流すことで、前記選択ビット線を前記所定の電圧以上に保持し、
前記所定の電圧は、前記選択ビット線の電圧が当該所定の電圧以上の場合、前記選択ビット線上の前記選択セルと前記ソース線を共通にする非選択セルに対して誤書き込みが発生しない電圧である
不揮発性記憶装置。 - 請求項1に記載の不揮発性記憶装置において、
前記電圧制御部は、前記メモリセルの書き込みテストの際の書き込み動作時に前記選択ビット線を前記所定の電圧以上に保持する
不揮発性記憶装置。 - 請求項1又は2に記載の不揮発性記憶装置において、
前記電圧制御部は、クランプ回路を含む
不揮発性記憶装置。 - 不揮発性記憶装置の検証方法であって、
前記不揮発性記憶装置は、
第1方向に延伸する複数のビット線と、
前記第1方向と実質的に垂直な第2方向に延伸する複数のワード線と、
前記複数のビット線と前記複数のワード線とが交差する位置のそれぞれに対応して設けられ、実質的に一定である定電流でデータを書き込まれる不揮発性半導体記憶素子である複数のメモリセルと、
前記複数のメモリセルのうち前記ビット線を共通にする前記複数のメモリセルの組ごとに一本ずつ設けられた複数のソース線と、
前記メモリセル及び対応する前記ビット線に前記定電流を流す電流源と、
前記ビット線を所定の電圧以上に保持する電圧制御部と
を備え、
(a)前記複数のワード線から選択ワード線を選択するステップと、
(b)前記複数のビット線から選択ビット線を選択するステップと、
(c)前記電圧制御部は、前記選択ビット線が前記所定の電圧を下回った場合に、前記定電流を自身に流すことで、前記選択ビット線を前記所定の電圧以上に保持しながら、前記選択ワード線と前記選択ビット線とで選択される選択セルと前記選択ビット線とに前記定電流を流してデータの書き込み動作を行うステップと、
(d)前記選択セルに書き込みが行われているか否かを判定するステップと
を具備し、
前記所定の電圧は、前記選択ビット線の電圧が前記所定の電圧以上の場合、前記選択ビット線上の前記選択セルと前記ソース線を共通にする非選択セルに対して誤書き込みが発生しない電圧である
不揮発性記憶装置の検証方法。 - 請求項4に記載の不揮発性記憶装置の検証方法において、
前記(d)ステップは、
(d1)前記選択セルに書き込みが行われていない場合、前記選択セルを不合格と判定する
不揮発性記憶装置の検証方法。 - 請求項4又は5に記載の不揮発性記憶装置の検証方法において、
前記電圧制御部は、クランプ回路を含む
不揮発性記憶装置の検証方法。 - 不揮発性記憶装置の検証方法を実行するためのプログラムであって、
前記不揮発性記憶装置は、
第1方向に延伸する複数のビット線と、
前記第1方向と実質的に垂直な第2方向に延伸する複数のワード線と、
前記複数のビット線と前記複数のワード線とが交差する位置のそれぞれに対応して設けられ、実質的に一定である定電流でデータを書き込まれる不揮発性半導体記憶素子である複数のメモリセルと、
前記複数のメモリセルのうち前記ビット線を共通にする前記複数のメモリセルの組ごとに一本ずつ設けられた複数のソース線と、
前記メモリセル及び対応する前記ビット線に前記定電流を流す電流源と、
前記ビット線を所定の電圧以上に保持する電圧制御部と
を備え、
(a)前記複数のワード線から選択ワード線を選択するステップと、
(b)前記複数のビット線から選択ビット線を選択するステップと、
(c)前記電圧制御部は、前記選択ビット線が前記所定の電圧を下回った場合に、前記定電流を自身に流すことで、前記選択ビット線を前記所定の電圧以上に保持しながら、前記選択ワード線と前記選択ビット線とで選択される選択セルと前記選択ビット線とに前記定電流を流してデータの書き込み動作を行うステップと、
(d)前記選択セルに書き込みが行われているか否かを判定するステップと
を具備し、
前記所定の電圧は、前記選択ビット線の電圧が前記所定の電圧以上の場合、前記選択ビット線上の前記選択セルと前記ソース線を共通にする非選択セルに対して誤書き込みが発生しない電圧である不揮発性記憶装置の検証方法を
コンピュータに実行させるためのプログラム。 - 請求項7に記載のプログラムにおいて、
前記(d)ステップは、
(d1)前記選択セルに書き込みが行われていない場合、前記選択セルを不合格と判定する
プログラム。 - 請求項7又は8に記載のプログラムにおいて、
前記電圧制御部は、クランプ回路を含む
プログラム。
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