JP4340046B2 - Mask plate fixing method of exposure apparatus and mask plate support device - Google Patents

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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、露光装置のマスク板固定方法およびマスク板支持装置に関し、詳しくは、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）等の大型基板を近接露光装置（プロキシミティアナライザ）を使用して露光する際に、マスク板のサイズが相違していても同じマスク板支持装置を利用して露光ができるような露光装置のマスク板固定方法およびマスク板支持装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＰＤＰ、液晶パネル等の表示パネルの製造においては、透明板にパターンを描いたマスク板を原板として、感光材が塗布されたガラス基板に原板の映像を投影露光してパターンを複写する工程がある。この種の露光装置としては、特開平３−２７２１２７号、特開平４−５６５９号、特開平７−１３４４２６号等を挙げることができる。
図２は、後者の特開平７−１３４４２６号に示された露光装置におけるマスク板支持装置の要部の平面図およびマスク板支持部分を中心とする側面図であって、液晶パネルに対する露光装置である。
図２（ａ）において、マスク板１の外径と同一の寸法の４辺７a，７b，７c，７dにより、平面性が良好なフレーム７を構成し、各辺にエア吸着溝Ｇrを設けて吸着面とする。これにエア吸着されたマスク板１は良好な平行度で保持される。
【０００３】
次に、フレーム７の１辺７aの中央部と、この対向辺７cの両端付近の対称的な２箇所とに、図２（ｂ）に示す、Ｌ形金具８１と、先端にスチールボールＳを有する調整ねじ８２よりなる支持具８をそれぞれ取り付ける。各調整ねじ８２を回転して、３個の各スチールボールＳの位置がフレーム７の下面に対して同一距離となるように調整し、３個の各スチールボールＳを支持部材３の水平部３aに搭載してフレーム７を３点支持する。
次に、１辺７aの両端付近の対称的な２箇所と対向辺７cの中央部とに、（ｃ）に示す、Ｌ形金具９１と取り付け具９２およびこれらを結合する結合ピン９３よりなる結合具９をそれぞれ設ける。支持部材３の水平部３aにＬ形金具９１を、フレーム７に取り付け具９２をそれぞれ固定すると、支持部材３に対してフレーム７がフレキシブルに結合される。
以上により、小型のマスク板１は湾曲せず、またフレーム７も歪曲することなく、マスク板１は支持部材３に良好な平行度で固定され、焦点調整の精度が向上して正確な露光が可能となる。
【０００４】
ところで、プロキシミティ方式の露光に際しては、マスク板１の下側には被露光板の載置台（ガラス板チャックステージ）が配置されている。マスク板１とこの載置台に乗せられたガラス基板とのギャップがプロキシミティギャップ、すなわち、平行で微小なギャップΔｇ（例えば、５０〜１００μｍ）に調整される。この調整においては、載置台を下降させてガラス基板を載置した後、上昇させてマスク板１に接近させ、複数のギャップ測定器により、通常、３点でマスク板１とガラス基板とのギャップが測定される。測定された３点のギャップを参照して、３個のチルト機構により、載置台の３箇所をそれぞれ上昇または下降させてマスク板１とガラス基板とが均一のギャップΔｇとなるように調整される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
前記は小型の液晶パネルの例である。一方、最近では、ＰＤＰは、３０インチを越えるような大型のＴＶに使用される。その関係で、液晶パネルよりも大きな基板が使用され、かつ、そのサイズも種々のものがあって、さらに大型化が進んでいる。そのため、そのマスク板も大型化してきている。
そこで、図２に示すような液晶パネルのマスク板支持機構では、３０インチを越えるような大型のマスク板の露光はできない。その理由は、自重のたわみが発生してガラス基板とのギャップΔｇを均一に保持できないからである。
従来、この自重たわみを補正するために２つの方式が提案されている。
その１つは、マスク板の対向する２辺を支持する際にたわみとは逆方向にモーメントを掛ける２辺矯正方式であり、他の１つは、マスク板の上部を密閉空間にして内部を負圧にすることでマスク板の自重を打ち消す方式である。
前者の２辺矯正方式は、基板の大きさに限界があって、基板が大きくなればなるほど均一な矯正をすることが難しい。後者の自重を打ち消し方式は、密閉空間を形成する関係からマスク板のサイズごとにマスクホルダを設けることが必要になる。そのためマスク板支持装置をマスクサイズ対応に設けなければならず、マスク板等の搬送ロボットもそれに対応させる必要がある。
この発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決するものであって、ＰＤＰ等の大型基板を近接露光装置を使用して露光する際に、マスク板のサイズが相違していても同じマスク板支持装置を利用して露光ができる露光装置のマスク板固定方法およびマスク板支持装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するためのこの発明の露光装置のマスク板固定方法およびマスク板支持装置の特徴は、露光光を透過させる窓とこれの内側に負圧室が形成される空間とを有するマスクホルダベースと、このマスクホルダベースに設けられた吸着孔を介して着脱可能に吸着保持されるマスクアタッチメントとにマスクホルダを分割し、負圧室の空間は、最大露光エリアをカバーする範囲で露光光を透過させるものであり、マスクアタッチメントの外形は、吸着孔をカバーするものであり、その内径は、装着されるマスク板のサイズに合わせて形成された開口により形成され、開口に合うサイズのマスク板がマスクアタッチメントに装着されてマスクホルダベースとの間で負圧室が形成され、マスク板とマスクホルダベースとマスクアタッチメントとは矩形であり、マスクアタッチメントの面密度がマスク板の面密度と実質的に等しくなるようにマスクアタッチメントの厚さが選択されているものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】
上記の構成のように、この発明にあっては、マスクホルダをマスクホルダベースとこのマスクホルダベースに着脱可能に吸着保持されるマスクアタッチメントとに分割してマスクアタッチメントを介してマスク板をマスクホルダベースに装着するようにしているので、マスクアタッチメントの内径を決める開口の大きさに応じたマスク板を選択的にマスクアタッチメントを介してマスクホルダベースに装着することができる。
これにより、マスクホルダとして同じ外形のマスクアタッチメントをマスクホルダベースに装着すれば種々のサイズのマスク板を取り付けることが可能になる。しかも、マスクアタッチメントの外形サイズが一定しているので、マスクサイズに関係なく、搬送処理等が容易になる。さらに、マスクホルダベースが負圧室となっているので、マスク板の自重を負圧により打ち消すことができ、自重によるたわみを防止することができる。
その結果、ＰＤＰ等の大型基板を近接露光装置を使用して露光する際に、マスク板のサイズが相違していても同じマスク板支持装置を利用して露光することができる。
【０００８】
【実施例】
図１は、この発明を適用したマスク板支持装置の一実施例であり、（ａ）は、マスク板支持装置の断面図、（ｂ）は、そのマスクアタッチメントの斜視図である。なお、図２と同様な構成要素は同一の符号で示し、それらの説明を割愛する。
図１（ａ）において、マスク板支持装置１０は、マスクホルダベース２とこれに装着されるマスク板１が固定されたマスクアタッチメントプレート１１とを有している。
マスクホルダベース２は、図２のフレーム７に対応していて、フレーム７の場合と同様に結合具９と支持具８の３個のスチールボールＳを介して支持部材３に支持される。マスクホルダベース２には、マスク板の露光最大エリアに対応する矩形の開口４ａを有する額縁状のフレーム５を有していて、開口４ａの露光光を受ける上面にはマスク板１と同じ材質のウインドー板５ａが接着剤により固定され、装着されたマスク板１とともに開口４ａの空間を機密状態に保持している。これにより開口４ａの空間が負圧室６を形成している。
【０００９】
フレーム５の開口４ａの下面には、マスクアタッチメントプレート１１が真空吸着により固定されている。そのために、フレーム５とマスクアタッチメントプレート１１との当接面には矩形の辺に沿って矩形溝が二重に形成されていて、それが図１（ａ）に示すように、吸着孔４ｂ，４ｂとして設けられている。これらの吸着孔４ｂ，４ｂは、ポート６ａを介してエアー吸引されてマスクアタッチメントプレート１１がフレーム５の下面に負圧吸引される。
また、フレーム５の開口４ａにより形成される負圧室６を負圧にするためにポート６ａとは反対側に負圧室６に連通するポート６ｂが開けられていて、このポート６ｂを介して負圧室６のエアーが吸引された負圧に保持され、マスク板１の自重を打ち消し、それが自重でたるむのを防止している。
【００１０】
マスクアタッチメントプレート１１は、図１（ａ）および（ｂ）に示すように、マスク板１の大きさより一回り小さい矩形の開口１２ａを有する額縁状のフレーム１３からなり、このフレーム１３の下面に開口１２ａに適合する大きさのマスク板１が吸着固定され、さらに下面に設けられた９個のクランパ１４，１４，…１４によりマスク板１が開口１２ａに合わせて固定されている。ここでは、矩形の開口１２ａにより形成される空間は、開口４ａに連続して負圧室６の一部となっている。
【００１１】
クランパ１４は、図１（ｂ）に示すように、フレーム１３の各辺に対応して３個ずつ均等間隔で設けられていて、フレーム１３の下面に沿ってスライドして中心部に向かって進退する。なお、クランパ１４，１４，…１４がスライドする溝は図では現れていないが、フレーム１３の下面に直線状に刻まれていて、これに逆山型の突起が嵌合することで下面から落ちることなく、スライドする。クランパ１４がマスク板１の内側に（中心に）向かって前進したときには、先端側に段部として形成された爪部分１４ａがマスク板１の下面と当接触係合することで、マスク板１の各辺を保持する。また、クランパ１４が後退したときにはマスク板１の下面から先端側の爪部分１４ａが外れてマスク板１の吸着が解除されているときにフレーム１３の下面からマスク板１を取外すことができる。なお、爪部分１４ａの係合面は、前進方向にフレーム１３の下面との間隔が少し広がるように微少な角度の傾斜面となっている。
このクランパ１４は、手動で進退させ、このクランパ１４によりマスク板１の下面を保持する。このことでマスク板１とともにマスクアタッチメントプレート１１を搬送するときに、あるいはマスク板１をマスクアタッチメントプレート１１に吸着するときにマスク板１が落下しないで済む。
【００１２】
フレーム１３の下面には、マスク板１との当接面に矩形の辺に沿って矩形溝が形成され、それが吸着孔１２ｂとして設けられている。この吸着孔１２ｂは、ポート１２ｃを介してエアー吸引されてマスク板１がフレーム１３の下面に負圧吸引される。この吸引保持によりマスク板１は、マスクアタッチメントプレート１１と密着してマスクアタッチメントプレート１１とマスク板１との位置と厚さ方向の精度が確保される。一方、マスクアタッチメントプレート１１もマスクホルダベース２と密着してマスクアタッチメントプレート１１に同様に高精度に位置決め保持される。
ポート６ａとポート６ｂ、そしてポート１２ｂは、これらの端部開口に真空パッド（図示せず）が押し当てられ、エアーが吸引されることで、マスク板１とマスクアタッチメントプレート１１、そしてマスクアタッチメントプレート１１とマスクホルダベース２とのそれぞれの吸着が行われる。したがって、このような吸着を解除すれば、マスク板１とマスクアタッチメントプレート１１、そしてマスクアタッチメントプレート１１とマスクホルダベース２との分離は容易にでき、マスク板１の着脱も容易にできる。
１５は、被露光板の載置台（ガラス板チャックステージ）であって、マスク板１の下側に配置され、ＸＹＺステージ１６により上下移動とともに左右に移動する。載置台１５には、被露光板としてＰＤＰのガラス基板１７が載置されている。このとき、ギャップΔｇは、５０〜１００μｍにＸＹＺステージ１６により調整される。
【００１３】
ここで、マスクアタッチメントプレート１１のフレーム１３は、露光に使用するマスク板１の大きさに応じて対応する開口１２ａを持つものが用意される。もちろん、このとき、開口１２ａは、マスクアタッチメントプレート１１に装着されるマスク板１の外形より少し小さく、その大きさにほぼ対応している。
マスクホルダベース２の開口４ａの大きさは、最大露光範囲に対応しているので、これよりも小さい種々の大きさの開口１２ａを持ち、外形が同じものを多数用意する。これにより、マスクホルダベース２に対するマスクアタッチメントプレート１１取り付は、マスク板１の大きさが変わってもフレーム１３の枠が吸着孔４ｂ，４ｂをカバーする外形寸法（サイズ）があればよく、等しい外形とすることができる。
【００１４】
ここで、マスクアタッチメントプレート１１のフレーム１３の材質は、ＣＦＲＰ（カーボン・ファイバグラス・リインフォースド・プラスチック）、いわゆる炭素繊維強化プラスチックであり、これにより形成され、その表面にはポリイミドフィルム１３ａがコーティングされている。炭素繊維強化プラスチックは、強度が高く、その比重がガラス板の比重の半分程度であるので、厚さＤをマスク板１の２倍か、それ以上にすることができる。これによりマスク板１を含めたマスクアタッチメントプレート１１のたわみ強度を増加させる。また、ポリイミドフィルム１３ａのコーティングは、紫外線に対して炭素繊維強化プラスチック製フレーム１３の劣化防止機能とマスク洗浄の際の耐薬品性を向上させる機能がある。 フレーム１３の板厚Ｄ（図１（ｂ）参照）のときの面密度は、装着されるマスク板１の面積当たりの重さ（面密度）に対応している。そこで、装着されるマスク板１の大きさに応じてマスクアタッチメントプレート１１の開口１２ａが増減しても、それによるフレーム１３の枠幅の減増がマスク板１の大きさの変化による重さの増減を打ち消すことができ、マスク板１を装着したマスクアタッチメントプレート１１全体としての重さは、マスク板１のサイズが変化しても、その重量に変化がほとんどないようになっている。
すなわち、板厚Ｄのときのフレーム１３の面密度を装着されるマスク板１の面密度と合わせることで、マスクアタッチメントプレート１１全体の重量がマスク板のサイズに関わらずほぼ一定になるように選択することができる。このようにすることで、マスク板交換時やマスクアタッチメントプレート１１の搬送時に重量の変化を最小限に抑えてかつ外形を等しくして、安全で確実な搬送をすることができる。
以上により、大型のマスク板１であっても自重による湾曲はせず、またマスクアタッチメントプレート１１もマスクホルダベース２も歪曲することなく、マスク板１は、マスク板支持装置１０に良好な平行度で固定されて正確な露光が可能となる。
【００１５】
以上説明してきたが、実施例では、吸着孔４ｂ，１２ｂの吸着孔は、矩形溝として形成しているが、従来技術の図２に示すように、矩形の各辺に対応して直線状の溝を分割して設けてもよい。このような場合には、分割された各溝に連通するようにそれぞれに吸引孔を設けることになる。
また、実施例のマスク板１は、矩形の場合の例を挙げているが、マスク板は矩形に限定されるものではない。また、マスクアタッチメントプレート１１に設けられたクランプ１４の形態は、例えば、根本を回動中心としたＬ字型のレバーによりＬの先端側を爪としてこれを回動して出し入れするものなど、各種の構造のものを使用することができる。
【００１６】
【発明の効果】
以上の説明のとおり、この発明にあっては、マスクホルダをマスクホルダベースとこのマスクホルダベースに着脱可能に吸着保持されるマスクアタッチメントとに分割してマスクアタッチメントを介してマスク板をマスクホルダベースに装着するようにしているので、マスクアタッチメントの内径を決める開口の大きさに応じたマスク板を選択的にマスクアタッチメントを介してマスクホルダベースに装着することができる。
その結果、ＰＤＰ等の大型基板を近接露光装置を使用して露光する際に、マスク板のサイズが相違していても同じマスク板支持装置を利用して露光することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、この発明を適用したマスク板支持装置の一実施例であり、（ａ）は、マスク板支持装置の断面図、（ｂ）は、そのマスクアタッチメントの斜視図である。
【図２】図２は、特開平７−１３４４２６号に示された露光装置におけるマスク板支持装置の要部の平面図およびマスク板支持部分を中心とする側面図である。
【符号の説明】
１…マスク板、２…マスクホルダベース、
３…支持部材、４ａ，１２ａ…開口、
４ｂ，４ｂ，１２ｂ…吸着孔、
５…フレーム、５ａ…ウインドー板、
６…負圧室、６ａ，６ｂ，１２ｃ…ポート、
７…フレーム、７a，７b，７c，７d …フレーム、
８…支持具、８１…Ｌ形金具、８２…調整ねじ、
９…結合具、91…Ｌ形金具、92…取り付け具、93…結合ピン、
１０…マスク板支持装置、１１…マスクアタッチメントプレート、
１３…フレーム、１４…クランパ、１４ａ…爪、
１５…載置台（ガラス板チャックステージ）、
１６…ＸＹＺステージ、１７…ガラス基板、
Ｇｒ …エア吸着溝、Ｓ…スチールボール。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a mask plate fixing method and a mask plate support device of an exposure apparatus, and more particularly, when a large substrate such as a PDP (plasma display panel) is exposed using a proximity exposure apparatus (proximity analyzer). The present invention relates to a mask plate fixing method and a mask plate support device of an exposure apparatus that can perform exposure using the same mask plate support device even if the sizes of the plates are different.
[0002]
[Prior art]
In manufacturing a display panel such as a PDP or a liquid crystal panel, there is a step of copying a pattern by projecting and exposing an image of the original plate on a glass substrate coated with a photosensitive material using a mask plate having a pattern drawn on a transparent plate as an original plate. . Examples of this type of exposure apparatus include JP-A-3-272127, JP-A-4-5659, and JP-A-7-134426.
FIG. 2 is a plan view of a main part of a mask plate support device and a side view centering on the mask plate support portion in the exposure apparatus disclosed in the latter Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-134426, which is an exposure apparatus for a liquid crystal panel. is there.
In FIG. 2A, a frame 7 with good flatness is constituted by four sides 7a, 7b, 7c and 7d having the same dimensions as the outer diameter of the mask plate 1, and air suction grooves Gr are provided on each side. The adsorption surface. The mask plate 1 on which air is adsorbed is held with good parallelism.
[0003]
Next, an L-shaped bracket 81 shown in FIG. 2 (b) and a steel ball S at the tip are provided at the center of one side 7a of the frame 7 and two symmetrical locations near both ends of the opposite side 7c. The supporting tools 8 including the adjusting screws 82 are attached. The adjustment screws 82 are rotated so that the positions of the three steel balls S are the same distance with respect to the lower surface of the frame 7, and the three steel balls S are moved to the horizontal portion 3a of the support member 3. And supports the frame 7 at three points.
Next, in the two symmetrical places near both ends of one side 7a and the central part of the opposite side 7c, a coupling comprising an L-shaped bracket 91, a fixture 92 and a coupling pin 93 for coupling them, as shown in FIG. Each tool 9 is provided. When the L-shaped bracket 91 is fixed to the horizontal portion 3 a of the support member 3 and the fixture 92 is fixed to the frame 7, the frame 7 is flexibly coupled to the support member 3.
As described above, the small mask plate 1 is not curved and the frame 7 is not distorted, and the mask plate 1 is fixed to the support member 3 with good parallelism, and the focus adjustment accuracy is improved and accurate exposure is performed. It becomes possible.
[0004]
By the way, in the proximity type exposure, a platen (glass plate chuck stage) for a plate to be exposed is disposed below the mask plate 1. The gap between the mask plate 1 and the glass substrate placed on the mounting table is adjusted to a proximity gap, that is, a parallel and minute gap Δg (for example, 50 to 100 μm). In this adjustment, after placing the glass substrate by lowering the mounting table, the glass substrate is raised and brought close to the mask plate 1, and the gap between the mask plate 1 and the glass substrate is usually measured at three points by a plurality of gap measuring devices. Is measured. With reference to the measured gaps at the three points, the mask plate 1 and the glass substrate are adjusted to have a uniform gap Δg by raising or lowering the three places of the mounting table by three tilt mechanisms. .
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
The above is an example of a small liquid crystal panel. On the other hand, recently, PDPs are used for large TVs exceeding 30 inches. For this reason, a substrate larger than the liquid crystal panel is used, and there are various sizes, and the size is further increased. Therefore, the mask plate is also getting larger.
Therefore, the mask plate support mechanism of the liquid crystal panel as shown in FIG. 2 cannot expose a large mask plate exceeding 30 inches. The reason is that deflection due to its own weight occurs and the gap Δg with the glass substrate cannot be maintained uniformly.
Conventionally, two methods have been proposed to correct this self-weight deflection.
One of them is a two-side correction method that applies a moment in the opposite direction to the deflection when supporting two opposite sides of the mask plate, and the other one is that the inside of the mask plate is made a sealed space. In this method, the negative weight of the mask plate is canceled by using negative pressure.
In the former two-side correction method, there is a limit to the size of the substrate, and it is difficult to perform uniform correction as the substrate becomes larger. In the latter method for canceling the dead weight, it is necessary to provide a mask holder for each size of the mask plate in order to form a sealed space. Therefore, it is necessary to provide a mask plate support device corresponding to the mask size, and it is also necessary for a transfer robot such as a mask plate to correspond to it.
An object of the present invention is to solve such problems of the prior art, and when a large substrate such as a PDP is exposed using a proximity exposure apparatus, even if the mask plates have different sizes. An object of the present invention is to provide a mask plate fixing method of an exposure apparatus and a mask plate support apparatus that can perform exposure using the same mask plate support apparatus.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve such an object, the mask plate fixing method and the mask plate support device of the exposure apparatus according to the present invention have a window through which exposure light is transmitted and a space in which a negative pressure chamber is formed. The mask holder is divided into a mask holder base and a mask attachment that is detachably sucked and held through a suction hole provided in the mask holder base, and the negative pressure chamber space covers a maximum exposure area. Exposure light is transmitted, and the outer shape of the mask attachment covers the suction holes, and the inner diameter is formed by an opening formed according to the size of the mask plate to be mounted. mounted mask plate of the mask attachment negative pressure chamber is formed between the mask holder base, the mask plate and the mask holder base and Masukuata' The instrument is rectangular, in which the thickness of the mask attachment is selected such that the surface density of the mask attachment is the surface density substantially equal to the mask plate.
[0007]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
As described above, according to the present invention, the mask holder is divided into the mask holder base and the mask attachment that is detachably attached to the mask holder base, and the mask plate is attached to the mask holder via the mask attachment. Since it is mounted on the base, a mask plate corresponding to the size of the opening that determines the inner diameter of the mask attachment can be selectively mounted on the mask holder base via the mask attachment.
Accordingly, if a mask attachment having the same outer shape as the mask holder is mounted on the mask holder base, mask plates of various sizes can be attached. In addition, since the outer size of the mask attachment is constant, the conveyance process and the like are facilitated regardless of the mask size. Furthermore, since the mask holder base is a negative pressure chamber, the weight of the mask plate can be canceled by the negative pressure, and the deflection due to the weight can be prevented.
As a result, when a large substrate such as a PDP is exposed using a proximity exposure apparatus, the same mask plate support apparatus can be used for exposure even if the mask plates have different sizes.
[0008]
【Example】
1A and 1B show an embodiment of a mask plate support device to which the present invention is applied. FIG. 1A is a sectional view of the mask plate support device, and FIG. 1B is a perspective view of the mask attachment. Components similar to those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
In FIG. 1A, a mask plate support device 10 has a mask holder base 2 and a mask attachment plate 11 to which the mask plate 1 attached to the mask holder base 2 is fixed.
The mask holder base 2 corresponds to the frame 7 in FIG. 2 and is supported by the support member 3 via the three steel balls S of the coupling tool 9 and the support tool 8 as in the case of the frame 7. The mask holder base 2 has a frame-like frame 5 having a rectangular opening 4a corresponding to the maximum exposure area of the mask plate. The upper surface that receives the exposure light from the opening 4a is made of the same material as the mask plate 1. The window plate 5a is fixed by an adhesive, and the space of the opening 4a is kept in a confidential state together with the mounted mask plate 1. Thereby, the space of the opening 4 a forms the negative pressure chamber 6.
[0009]
A mask attachment plate 11 is fixed to the lower surface of the opening 4a of the frame 5 by vacuum suction. For this purpose, the contact surface between the frame 5 and the mask attachment plate 11 is formed with double rectangular grooves along the rectangular sides. As shown in FIG. 1 (a), the suction holes 4b, 4b is provided. These suction holes 4 b and 4 b are sucked by air through the port 6 a, and the mask attachment plate 11 is sucked to the lower surface of the frame 5 by negative pressure.
Further, in order to make the negative pressure chamber 6 formed by the opening 4a of the frame 5 into a negative pressure, a port 6b communicating with the negative pressure chamber 6 is opened on the opposite side to the port 6a, and through this port 6b. The negative pressure chamber 6 is held at the negative pressure by which the air is sucked to cancel the weight of the mask plate 1 and prevent it from sagging due to its own weight.
[0010]
As shown in FIGS. 1A and 1B, the mask attachment plate 11 includes a frame-like frame 13 having a rectangular opening 12 a that is slightly smaller than the size of the mask plate 1, and an opening is formed on the lower surface of the frame 13. The mask plate 1 having a size suitable for 12a is sucked and fixed, and the mask plate 1 is fixed to the opening 12a by nine clampers 14, 14,... Here, the space formed by the rectangular opening 12a is part of the negative pressure chamber 6 continuously to the opening 4a.
[0011]
As shown in FIG. 1B, three clampers 14 are provided at equal intervals corresponding to each side of the frame 13, and slide along the lower surface of the frame 13 to advance and retract toward the center. To do. In addition, although the groove | channel which the clampers 14, 14, ... 14 slide does not appear in the figure, it is carved linearly on the lower surface of the frame 13, and falls from the lower surface by fitting an inverted mountain-shaped projection to this. Slide without. When the clamper 14 advances toward the inside (to the center) of the mask plate 1, the claw portion 14 a formed as a stepped portion on the front end side comes into contact contact with the lower surface of the mask plate 1, so that the mask plate 1 Hold each side. When the clamper 14 is retracted, the mask plate 1 can be removed from the lower surface of the frame 13 when the claw portion 14a on the front end side is removed from the lower surface of the mask plate 1 and the suction of the mask plate 1 is released. The engaging surface of the claw portion 14a is an inclined surface with a slight angle so that the distance from the lower surface of the frame 13 is slightly widened in the forward direction.
The clamper 14 is manually advanced and retracted, and the lower surface of the mask plate 1 is held by the clamper 14. This prevents the mask plate 1 from dropping when the mask attachment plate 11 is transported together with the mask plate 1 or when the mask plate 1 is adsorbed to the mask attachment plate 11.
[0012]
On the lower surface of the frame 13, a rectangular groove is formed along the rectangular side on the contact surface with the mask plate 1, and this is provided as the suction hole 12 b. The suction hole 12b is sucked by air through the port 12c, and the mask plate 1 is sucked to the lower surface of the frame 13 by negative pressure. By this suction and holding, the mask plate 1 is brought into close contact with the mask attachment plate 11 to ensure the position of the mask attachment plate 11 and the mask plate 1 and the accuracy in the thickness direction. On the other hand, the mask attachment plate 11 is also in close contact with the mask holder base 2 and is similarly positioned and held on the mask attachment plate 11 with high accuracy.
The port 6a, the port 6b, and the port 12b are configured such that a vacuum pad (not shown) is pressed against these end openings and air is sucked, whereby the mask plate 1, the mask attachment plate 11, and the mask attachment plate 11 and the mask holder base 2 are attracted respectively. Therefore, if such suction is released, the mask plate 1 and the mask attachment plate 11 and the mask attachment plate 11 and the mask holder base 2 can be easily separated, and the mask plate 1 can be easily attached and detached.
Reference numeral 15 denotes a mounting table (glass plate chuck stage) for the exposed plate, which is arranged below the mask plate 1 and moves to the left and right along with the vertical movement by the XYZ stage 16. A PDP glass substrate 17 is placed on the mounting table 15 as an exposed plate. At this time, the gap Δg is adjusted by the XYZ stage 16 to 50 to 100 μm.
[0013]
Here, the frame 13 of the mask attachment plate 11 is prepared with an opening 12a corresponding to the size of the mask plate 1 used for exposure. Of course, at this time, the opening 12a is slightly smaller than the outer shape of the mask plate 1 attached to the mask attachment plate 11, and substantially corresponds to the size.
Since the size of the opening 4a of the mask holder base 2 corresponds to the maximum exposure range, a large number of openings 12a having various sizes smaller than this and the same outer shape are prepared. Thereby, the mask attachment plate 11 can be attached to the mask holder base 2 even if the size of the mask plate 1 changes as long as the frame 13 has an outer dimension (size) that covers the suction holes 4b and 4b. It can be an outer shape.
[0014]
Here, the material of the frame 13 of the mask attachment plate 11 is CFRP (Carbon Fiber Glass Reinforced Plastic), so-called carbon fiber reinforced plastic, which is formed by coating a polyimide film 13a on the surface thereof. ing. Carbon fiber reinforced plastic, high strength, than the specific gravity of Ru about half der specific gravity of the glass plate, the thickness D 2 times of the mask plate 1, can be more. As a result, the deflection strength of the mask attachment plate 11 including the mask plate 1 is increased. Further, the coating of the polyimide film 13a has a function of preventing deterioration of the carbon fiber reinforced plastic frame 13 against ultraviolet rays and a function of improving chemical resistance during mask cleaning. The surface density at the plate thickness D (see FIG. 1B) of the frame 13 corresponds to the weight (area density) per area of the mask plate 1 to be mounted. Therefore, even if the opening 12a of the mask attachment plate 11 is increased or decreased according to the size of the mask plate 1 to be mounted, the increase in the frame width of the frame 13 due to the change in the size of the mask plate 1 The weight of the mask attachment plate 11 on which the mask plate 1 is mounted can be canceled out even if the size of the mask plate 1 changes, so that the weight hardly changes.
That is, by selecting the surface density of the frame 13 at the plate thickness D and the surface density of the mask plate 1 to be mounted, the weight of the entire mask attachment plate 11 is selected to be substantially constant regardless of the size of the mask plate. can do. By doing so, it is possible to perform safe and reliable transport while minimizing the change in weight and equalizing the outer shape when replacing the mask plate or transporting the mask attachment plate 11.
As described above, even if the mask plate 1 is large, the mask plate 1 does not bend due to its own weight, and neither the mask attachment plate 11 nor the mask holder base 2 is distorted. It is fixed by and accurate exposure becomes possible.
[0015]
As described above, in the embodiment, the suction holes of the suction holes 4b and 12b are formed as rectangular grooves. However, as shown in FIG. 2 of the prior art, a linear shape corresponding to each side of the rectangle. The groove may be divided and provided. In such a case, a suction hole is provided for each of the divided grooves.
Moreover, although the example in the case of the mask plate 1 of an Example is a rectangle, a mask plate is not limited to a rectangle. Also, the clamp 14 provided on the mask attachment plate 11 can be of various types, for example, such as an L-shaped lever with the root as the center of rotation, turning the tip of the L as a claw and turning it in and out. Can be used.
[0016]
【The invention's effect】
As described above, in the present invention, the mask holder is divided into the mask holder base and the mask attachment that is detachably attached to the mask holder base, and the mask plate is attached to the mask holder base via the mask attachment. Thus, the mask plate corresponding to the size of the opening that determines the inner diameter of the mask attachment can be selectively attached to the mask holder base via the mask attachment.
As a result, when a large substrate such as a PDP is exposed using a proximity exposure apparatus, the same mask plate support apparatus can be used for exposure even if the mask plates have different sizes.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an embodiment of a mask plate support device to which the present invention is applied, wherein (a) is a sectional view of the mask plate support device, and (b) is a perspective view of the mask attachment. .
FIG. 2 is a plan view of a main part of a mask plate support device in an exposure apparatus disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-134426 and a side view centering on the mask plate support portion.
[Explanation of symbols]
1 ... mask plate, 2 ... mask holder base,
3 ... support member, 4a, 12a ... opening,
4b, 4b, 12b ... adsorption holes,
5 ... Frame, 5a ... Window board,
6 ... negative pressure chamber, 6a, 6b, 12c ... port,
7 ... frame, 7a, 7b, 7c, 7d ... frame,
8 ... support, 81 ... L-shaped bracket, 82 ... adjustment screw,
9 ... coupling tool, 91 ... L-shaped bracket, 92 ... mounting tool, 93 ... coupling pin,
10 ... Mask plate support device, 11 ... Mask attachment plate,
13 ... Frame, 14 ... Clamper, 14a ... Nail,
15 ... Mounting table (glass plate chuck stage),
16 ... XYZ stage, 17 ... Glass substrate,
G r ... air adsorption groove, S ... steel ball.

Claims (4)

マスク板を負圧吸着することにより前記マスク板の自重を打ち消して前記マスク板をマスクホルダに保持する露光装置のマスク板固定方法において、
露光光を透過させる窓とこれの内側に負圧室が形成される空間とを有するマスクホルダベースと、このマスクホルダベースに設けられた吸着孔を介して着脱可能に吸着保持されるマスクアタッチメントとに前記マスクホルダを分割し、前記負圧室の空間は、最大露光エリアをカバーする範囲で露光光を透過させるものであり、前記マスクアタッチメントの外形は、前記吸着孔をカバーするものであり、その内径は、装着される前記マスク板のサイズに合わせて形成された開口により形成され、前記開口に合うサイズのマスク板が前記マスクアタッチメントに装着されて前記マスクホルダベースとの間で前記負圧室が形成され、前記マスク板と前記マスクホルダベースと前記マスクアタッチメントとは矩形であり、前記マスクアタッチメントは、その面密度が前記マスク板の面密度と実質的に等しくなるような厚さに選択されている露光装置のマスク板固定方法。In a mask plate fixing method of an exposure apparatus that counteracts the weight of the mask plate by negative pressure adsorption of the mask plate and holds the mask plate in a mask holder,
A mask holder base having a window through which exposure light is transmitted and a space in which a negative pressure chamber is formed, and a mask attachment that is detachably sucked and held through a suction hole provided in the mask holder base; The mask holder is divided, and the space of the negative pressure chamber transmits exposure light in a range covering the maximum exposure area, and the outer shape of the mask attachment covers the suction hole, The inner diameter is formed by an opening formed in accordance with the size of the mask plate to be mounted, and a mask plate having a size matching the opening is mounted on the mask attachment and the negative pressure between the mask holder base and the mask plate. chamber is formed, said mask plate and said mask holder base and the mask attachment is rectangular, the mask attachment Mask plate fixing method for an exposure apparatus to which the surface density is selected surface density substantially equal such the thickness of the mask plate. 前記マスクアタッチメントは、炭素繊維強化プラスチック製である請求項１記載の露光装置のマスク板固定方法。 2. The mask plate fixing method for an exposure apparatus according to claim 1 , wherein the mask attachment is made of carbon fiber reinforced plastic . マスク板を負圧吸着することにより前記マスク板の自重を打ち消して前記マスク板をマスクホルダに保持する露光装置のマスク板支持装置において、
露光光を透過させる窓とこれの内側に負圧室が形成される空間とを有するマスクホルダベースと、
このマスクホルダベースに設けられた吸着孔を介して着脱可能に吸着保持されるマスクアタッチメントと、
このマスクアタッチメントに装着されたマスク板とを備え、
前記負圧室の空間は、最大露光エリアをカバーする範囲で露光光を透過させるものであり、前記マスクアタッチメントの外形は、前記吸着孔をカバーするものであり、その内径は、装着される前記マスク板のサイズに合わせて形成された開口により形成され、前記開口に合うサイズのマスク板が前記マスクアタッチメントに装着されて前記マスクホルダベースとの間で前記負圧室が形成され、前記マスク板と前記マスクホルダベースと前記マスクアタッチメントとは矩形であり、前記マスクアタッチメントは、その面密度が前記マスク板の面密度と実質的に等しくなるような厚さに選択されている露光装置のマスク板支持装置。In a mask plate support device of an exposure apparatus that counteracts the weight of the mask plate by adsorbing the mask plate under negative pressure and holds the mask plate on a mask holder,
A mask holder base having a window through which exposure light passes and a space in which a negative pressure chamber is formed;
A mask attachment that is detachably sucked and held through a suction hole provided in the mask holder base;
A mask plate mounted on the mask attachment,
The space of the negative pressure chamber is to transmit the exposure light in a range covering the maximum exposure area, the outer shape of the mask attachment is to cover the suction hole, and the inner diameter thereof is mounted. The mask is formed by an opening formed in accordance with the size of the mask plate, a mask plate having a size matching the opening is mounted on the mask attachment, and the negative pressure chamber is formed between the mask holder base and the mask. The mask of the exposure apparatus, wherein the plate, the mask holder base, and the mask attachment are rectangular, and the mask attachment is selected to have a thickness such that the surface density thereof is substantially equal to the surface density of the mask plate. Plate support device. 前記マスクアタッチメントは、炭素繊維強化プラスチック製である請求項３記載の露光装置のマスク板支持装置。 4. A mask plate support device for an exposure apparatus according to claim 3 , wherein the mask attachment is made of carbon fiber reinforced plastic .
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101866112A (en) * 2009-02-05 2010-10-20 Asml控股股份有限公司 Reticle support that reduces reticle slippage
CN102566302A (en) * 2010-12-02 2012-07-11 Asml控股股份有限公司 Patterning device support

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5006513B2 (en) * 2004-11-05 2012-08-22 キヤノン株式会社 Exposure apparatus and device manufacturing method
KR100671658B1 (en) 2005-01-05 2007-01-19 삼성에스디아이 주식회사 Mask frame and method for fixing a mask on the mask frame
JP4629449B2 (en) * 2005-01-20 2011-02-09 富士フイルム株式会社 Clamping apparatus, image forming apparatus, and clamping method
JP4679172B2 (en) * 2005-02-23 2011-04-27 株式会社日立ハイテクノロジーズ Display panel substrate exposure apparatus, display panel substrate exposure method, and display panel substrate manufacturing method
US7372549B2 (en) * 2005-06-24 2008-05-13 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP5089238B2 (en) * 2007-05-14 2012-12-05 Ｎｓｋテクノロジー株式会社 Substrate adapter for exposure apparatus and exposure apparatus
JP5105167B2 (en) * 2007-12-26 2012-12-19 Ｎｓｋテクノロジー株式会社 Proximity exposure apparatus and mask adapter for proximity exposure apparatus
JP5339745B2 (en) * 2008-03-05 2013-11-13 株式会社日立ハイテクノロジーズ Exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method of display panel substrate
JP5190034B2 (en) * 2009-07-03 2013-04-24 株式会社日立ハイテクノロジーズ Exposure equipment
JP5295283B2 (en) * 2011-02-07 2013-09-18 キヤノン株式会社 Exposure apparatus and device manufacturing method
JP6142214B2 (en) * 2011-08-10 2017-06-07 株式会社ブイ・テクノロジー Proximity exposure apparatus and proximity exposure method
JP6053150B2 (en) * 2013-03-15 2016-12-27 リンテック株式会社 Light irradiation apparatus and irradiation method
WO2017158925A1 (en) * 2016-03-18 2017-09-21 コニカミノルタ株式会社 Mask holding mechanism and patterning device provided with same
CN111005611B (en) * 2019-12-31 2024-06-25 安徽凯旋智能停车设备有限公司 Intelligent mechanical parking space steel beam positioning fixture
KR102394825B1 (en) * 2020-04-23 2022-05-06 주식회사 프로텍 Flip Chip Bonding Apparatus Using VCSEL Device
CN113192809A (en) * 2021-04-30 2021-07-30 林梅琴 Plasma panel display

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101866112A (en) * 2009-02-05 2010-10-20 Asml控股股份有限公司 Reticle support that reduces reticle slippage
CN101866112B (en) * 2009-02-05 2013-04-10 Asml控股股份有限公司 Reticle support that reduces reticle slippage
CN102566302A (en) * 2010-12-02 2012-07-11 Asml控股股份有限公司 Patterning device support
US9298105B2 (en) 2010-12-02 2016-03-29 Asml Holding N.V. Patterning device support

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