JP4338612B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
図3を参照する。なお、この図3は、第1の変形例を示す平面図である。
図4を参照する。なお、この図4は、第2の変形例を示す平面図である。
1 … 処理槽
3 … バブラ
5 … 両端バブラ
7 … 中央バブラ
11 … バブラ本体
25 … リフター
27 … 背板
29 … 支持部材
31 … チューブバブラ
33 … 第1辺(第1気体供給部)
35 … 第2辺(第2気体供給部)
Claims (3)
- 基板に処理を行う基板処理装置において、
処理液を貯留する処理槽と、
前記処理槽内において一方向に整列された複数の基板を保持する保持部と、
基板の整列方向に沿って設けられ、前記処理槽内の処理液に気体を発生し、複数の基板に気体を供給する複数のバブラと、
前記基板の整列方向の両端部にあたる前記バブラと前記処理槽との二箇所の間のうちいずれか一方に設けられ、前記処理槽内の処理液に気体を供給する気体供給部と、を備え、
前記気体供給部は、前記バブラよりも気体の流量が大きいことを特徴とする基板処理装置。 - 基板に処理を行う基板処理装置において、
処理液を貯留する処理槽と、
前記処理槽内において一方向に整列された複数の基板を保持する保持部と、
基板の整列方向に沿って設けられ、前記処理槽内の処理液に気体を発生し、複数の基板に気体を供給する複数のバブラと、
前記基板の整列方向の両端部にあたる前記バブラと前記処理槽との二箇所の間のうちの一方に設けられ、前記処理槽内の処理液に気体を供給する第1気体供給部と、
前記二箇所の間のうちの他方に設けられ、前記処理槽内の処理液に気体を供給する第2気体供給部と、を備え、
前記第1の気体供給部及び前記第2の気体供給部は、前記バブラよりも気体の流量が大きいことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1または2に記載の基板処理装置において、
前記保持部は、前記処理槽内の位置と前記処理槽の上方位置との間で昇降可能であって、前記処理槽の内壁に沿った背板と、前記背板の下部から水平方向に延出され、複数の基板を起立姿勢で支持する支持部材と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置。
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