JP4336600B2 - シリコン単結晶引上用種結晶およびこれを用いたシリコン単結晶の製造方法 - Google Patents
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Description
種結晶の形状: 先端の尖った形状(円柱形状)
先端部: ボロンを表面に濃度1×1021atoms/cm3拡散(SIMS;二次イオ
ン質量分析法)不純物拡散層10μm形成(SR法)
種結晶径: 直径20 mm
ネック部の最小径:5 mm
目的の径: 12インチ
結晶直胴長さ: 1.0m
無転位化率: 95%
(実施例2)
種結晶の形状: 先端の尖った形状(円柱形状)
先端部: ボロンを表面に濃度1×1021atoms/cm3拡散(SIMS;二次イオ
ン質量分析法)不純物拡散層10μm形成(SR法)
種結晶径: 直径20 mm
ネック部の最小径:10 mm
目的の径: 12インチ
結晶直胴長さ: 1.0m
無転位化率: 90%
(実施例3)
種結晶の形状: 先端が平坦な形状(円柱形状)
先端部: ボロンを表面に濃度1×1021atoms/cm3拡散(SIMS;二次イオ
ン質量分析法)不純物拡散層10μm形成(SR法)
種結晶径: 直径20 mm
ネック部の最小径:10 mm
目的の径: 12インチ
結晶直胴長さ: 1.0m
無転位化率: 80%
(比較例1)
種結晶の形状: 先端の尖った形状(円柱形状)
先端部: 不純物拡散層未形成の種結晶
種結晶径: 直径20 mm
ネック部の最小径:5 mm
目的の径: 12インチ
結晶直胴長さ: 1.0m
無転位化率: 55%
(比較例2)
種結晶の形状: 先端が平坦な形状(円柱形状)
先端部: 不純物拡散層未形成の種結晶
種結晶径: 直径20 mm
ネック部の最小径:5 mm
目的の径: 12インチ
結晶直胴長さ: 1.0m
無転位化率: 25%
上記実施例および比較例から次のようなことが確認される。先端が平坦な形状の種結晶を用いて先端部に不純物拡散層を形成しない場合(比較例2)は、ネック部の最小径が5mmでは無転位化率が25%と低く、例え先端部を尖った形状(比較例1)としても、無転位化率が55%までしか向上しない。しかし、先端が平坦な形状の種結晶を用いても、先端部に高濃度の不純物を拡散させた場合(実施例3)では、ネック部の最小径を10mmまで広げた場合でも無転位化率は80%まで向上する。さらに、先端部を尖った形状とした場合(実施例1,2)は、ネック部の最小径を10mmとしても90%以上の高い無転位化率のシリコン単結晶を得ることができる。これによって、径12インチへの大口径化、長尺化にたいしても十分に用度が保つことができるネック部を形成することができるとともに、無転位化率も向上することが分かる。
Claims (3)
- チョクラルスキー法によるシリコン単結晶引上で用いる種結晶であって、融液と接触する側の先端部表面に不純物が拡散された不純物拡散層が形成されており、前記不純物拡散層の内層が不純物非拡散層であり、前記不純物拡散層の厚さが5μm以上であり、かつ、前記不純物拡散層の不純物濃度が、1×10 20 atoms/cm 3 以上であることを特徴とするシリコン単結晶引上用種結晶。
- 前記不純物がリンまたはボロンである請求項1に記載のシリコン単結晶引上用種結晶。
- 前記請求項1または2に記載のシリコン単結晶引上用種結晶を用いてシリコン単結晶を引上げることを特徴とするシリコン単結晶の製造方法。
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