JP4335786B2 - Vacuum dryer - Google Patents

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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Description

この発明は、減圧乾燥装置に関する。   The present invention relates to a vacuum drying apparatus.

例えば、半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板あるいは半導体製造装置用マスク基板等の基板に塗布されたフォトレジスト等の薄膜を減圧乾燥する減圧乾燥装置は、特許文献１に開示されている。この特許文献１に記載の減圧乾燥装置においては、基板を搬入したチャンバ内を真空ポンプにより減圧することで、レジスト液の成分の中心である溶剤の蒸発を促進し、フォトレジストを迅速に乾燥させるようにしている。このような減圧乾燥装置を使用してフォトレジストを乾燥させた場合には、風や熱等の外的要因の影響を防止して、フォトレジストをムラなく乾燥させることが可能となる。
特開平７−２８３１０８号公報 For example, Patent Document 1 discloses a reduced pressure drying apparatus for drying a thin film such as a photoresist coated on a substrate such as a semiconductor wafer, a glass substrate for a liquid crystal display panel, or a mask substrate for a semiconductor manufacturing apparatus. In the reduced-pressure drying apparatus described in Patent Document 1, the inside of the chamber into which the substrate is loaded is decompressed by a vacuum pump, thereby promoting the evaporation of the solvent that is the center of the resist solution component and quickly drying the photoresist. I am doing so. When the photoresist is dried using such a reduced pressure drying apparatus, it is possible to prevent the influence of external factors such as wind and heat, and to dry the photoresist evenly.
JP-A-7-283108

このような減圧乾燥装置においては、基板は、主面が水平となる状態で支持ピン等の支持部材により支持される。そして、この支持部材は支持板上に配設され、支持板とともに昇降する構成となっている。一方、基板の表面上方の気体を効率的に排気するため、チャンバ内からの排気を行う排気口は、通常、チャンバーの底面に形成される。そして、チャンバーの設置面積を最小とするため、この排気口は、支持板と対向する位置に配置される。   In such a vacuum drying apparatus, the substrate is supported by a support member such as a support pin in a state where the main surface is horizontal. And this support member is arrange | positioned on a support plate, and becomes a structure which raises / lowers with a support plate. On the other hand, in order to efficiently exhaust the gas above the surface of the substrate, an exhaust port for exhausting from the chamber is usually formed on the bottom surface of the chamber. And in order to make the installation area of a chamber into the minimum, this exhaust port is arrange | positioned in the position facing a support plate.

一方、このような減圧乾燥装置においては、排気手段としての真空ポンプの容量を小さくし、あるいは、減圧に要する時間を最小とするため、支持板とチャンバーの底面との距離を極めて小さく設定している。このため、チャンバー内を減圧するときに、排気口に近接配置された支持板が障害となり、効率的に排気口から排気を行うことができないと言う問題が生じている。   On the other hand, in such a vacuum drying apparatus, the distance between the support plate and the bottom surface of the chamber is set to be extremely small in order to reduce the capacity of the vacuum pump as the exhaust means or to minimize the time required for decompression. Yes. For this reason, when depressurizing the inside of the chamber, the support plate disposed close to the exhaust port becomes an obstacle, and there is a problem that exhaust cannot be efficiently performed from the exhaust port.

この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、支持板とチャンバーの底面との距離を極めて小さく設定した場合においても、排気口からの排気を効率的に実行することが可能な減圧乾燥装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and is a pressure reducing device that can efficiently perform exhaust from the exhaust port even when the distance between the support plate and the bottom surface of the chamber is set to be extremely small. An object is to provide a drying apparatus.

請求項１に記載の発明は、基板の主面に形成された薄膜を減圧乾燥する減圧乾燥装置において、基板の周囲を覆うチャンバと、平面視において矩形状の形状を有し、基板をその主面が水平となる状態で支持する支持部材を備えた支持板と、前記チャンバ底面における前記支持板と対向する位置に、支持板における角部に対応して複数個形成された排気口と、前記排気口を介して排気を行う排気手段とを備え、前記支持板の下面には、前記各排気口と対向する位置から前記支持板の各角部に至る位置まで、空気の流通路が形成されるとともに、前記チャンバから排気を行う排気口は、前記支持板と対向する位置にのみ形成されていることを特徴とする。 According to a first aspect of the present invention, there is provided a vacuum drying apparatus for drying a thin film formed on a main surface of a substrate under reduced pressure, a chamber covering the periphery of the substrate , a rectangular shape in plan view, and the substrate A support plate including a support member that supports the surface in a horizontal state, a plurality of exhaust ports formed at a position facing the support plate on the bottom surface of the chamber , corresponding to corners of the support plate , and An exhaust means for exhausting air through the exhaust port, and an air flow passage is formed on the lower surface of the support plate from a position facing each exhaust port to a position reaching each corner of the support plate. In addition, the exhaust port for exhausting air from the chamber is formed only at a position facing the support plate .

請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記空気の流通路は、前記支持板の下面において、前記各排気口と対向する位置から前記各角部に至る位置まで連続して形成された凹部である。 According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the air flow path is continuous from a position facing the exhaust ports to a position reaching the corners on the lower surface of the support plate. It is the recessed part formed in this way.

請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の発明において、前記空気の流通路は、前記支持板の厚みが、各排気口と対向する位置から支持板における角部に至る位置に向けて順次薄くなるようなテーパー形状を有する。   According to a third aspect of the present invention, in the invention of the second aspect, the air flow passage is directed so that the thickness of the support plate extends from a position facing each exhaust port to a corner portion of the support plate. It has a tapered shape that becomes thinner gradually.

請求項４に記載の発明は、基板の主面に形成された薄膜を減圧乾燥する減圧乾燥装置において、基板の周囲を覆うチャンバと、平面視において矩形状の形状を有し、基板をその主面が水平となる状態で支持する支持部材を備えた支持板と、前記チャンバ底面における前記支持板と対向する位置に、支持板における角部に対応して複数個形成された排気口と、前記排気口を介して排気を行う排気手段とを備え、前記チャンバ底面には、前記各排気口から平面視において前記支持板の各角部を越える位置まで、空気の流通路が形成されるとともに、前記チャンバから排気を行う排気口は、前記支持板と対向する位置にのみ形成されていることを特徴とする。 According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a vacuum drying apparatus for drying a thin film formed on a main surface of a substrate under reduced pressure, a chamber covering the periphery of the substrate , a rectangular shape in a plan view, and the substrate A support plate including a support member that supports the surface in a horizontal state, a plurality of exhaust ports formed at a position facing the support plate on the bottom surface of the chamber , corresponding to corners of the support plate , and and an exhaust means for performing exhaust through the exhaust port, the chamber bottom surface, until said position beyond the corners of the support plate in a plan view from the outlet, passage of air is formed Rutotomoni, An exhaust port for exhausting air from the chamber is formed only at a position facing the support plate .

請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の発明において、前記空気の流通路は、前記チャンバの底面において、前記各排気口から前記支持板の各角部に至る位置まで連続して形成された凹部である。 According to a fifth aspect of the present invention, in the fourth aspect of the present invention, the air flow path is continuously formed on the bottom surface of the chamber from the exhaust ports to the corners of the support plate. It is the recessed part formed.

請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の発明において、前記空気の流通路における平面視において前記支持板における角部を越える位置には、前記排気口側が低くなる傾斜面が形成される。   According to a sixth aspect of the present invention, in the fifth aspect of the present invention, an inclined surface that lowers the exhaust port side is formed at a position beyond a corner of the support plate in a plan view of the air flow passage. The

請求項１乃至請求項６に記載の発明によれば、排気口からの排気を効率的に実行することが可能となる。   According to the first to sixth aspects of the invention, exhaust from the exhaust port can be performed efficiently.

以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１および図２はこの発明の第１実施形態に係る減圧乾燥装置の側面概要図であり、図３はその一部を示す平面図である。なお、図３においては、支持ピン１５を省略して図示している。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 and 2 are schematic side views of a vacuum drying apparatus according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a plan view showing a part thereof. In FIG. 3, the support pins 15 are omitted.

この減圧乾燥装置は、蓋部１１と、パッキング１２と、基部１３とから成るチャンバ１０と、このチャンバ１０における基部１３に立設された支持ピン１５と、複数の昇降ピン２１が立設された平面視において矩形状の支持板２２とを備える。基板Ｗは、チャンバ１０内において、その主面を上方に向けた水平姿勢で支持ピン１５または昇降ピン２１により支持される。なお、昇降ピン２１はこの発明に係る支持部材を構成する。   In this vacuum drying apparatus, a chamber 10 including a lid portion 11, a packing 12, and a base portion 13, a support pin 15 erected on the base portion 13 in the chamber 10, and a plurality of elevating pins 21 are erected. And a rectangular support plate 22 in plan view. The substrate W is supported in the chamber 10 by the support pins 15 or the lift pins 21 in a horizontal posture with its main surface facing upward. In addition, the raising / lowering pin 21 comprises the support member based on this invention.

チャンバ１０における基部１３には、排気口３１が形成されている。この排気口３１は、チャンバ１０の底面を構成する基部１３における支持板２２と対向する位置に形成されている。すなわち、図３に示すように、排気口３１は、矩形状の支持板２２における角部に対応して、平面視において支持板２２と重複する位置に４個形成されている。この排気口３１は、管路３２により、真空ポンプ３４と接続されている。そして、排気口３１と真空ポンプ３４の間には、開閉弁３３が配設されている。なお、真空ポンプ３４に変えて排気ファン等を使用してもよい。   An exhaust port 31 is formed in the base portion 13 of the chamber 10. The exhaust port 31 is formed at a position facing the support plate 22 in the base 13 constituting the bottom surface of the chamber 10. That is, as shown in FIG. 3, four exhaust ports 31 are formed at positions overlapping the support plate 22 in plan view, corresponding to the corners of the rectangular support plate 22. The exhaust port 31 is connected to a vacuum pump 34 by a pipe line 32. An opening / closing valve 33 is disposed between the exhaust port 31 and the vacuum pump 34. An exhaust fan or the like may be used instead of the vacuum pump 34.

また、支持板２２は、支持棒２４を介して昇降機構２５と連結されている。昇降ピン２１は支持板２２とともに、昇降機構２５の作用により、図示しない搬送アームとの間で基板Ｗを受け渡す基板Ｗの受け渡し位置と、乾燥を実行するための乾燥位置との間を昇降可能となっている。   The support plate 22 is connected to the lifting mechanism 25 via a support bar 24. The lift pins 21 can be moved up and down between the support position of the support plate 22 and a transfer position of the substrate W for transferring the substrate W to and from a transfer arm (not shown) and a dry position for performing drying by the action of the lift mechanism 25. It has become.

支持板２２の下面には、排気口３１と対向する位置から支持板２２の端縁に至る位置まで、空気の流通路５０が形成されている。この空気の流通路５０は、各排気口３１と対向する位置から支持板２２における角部に至る位置までの間に形成された、矩形状の座グリ部から構成される。   On the lower surface of the support plate 22, an air flow passage 50 is formed from a position facing the exhaust port 31 to a position reaching the edge of the support plate 22. The air flow passage 50 is composed of a rectangular spot facing portion formed between a position facing each exhaust port 31 and a position reaching the corner portion of the support plate 22.

次に、この減圧乾燥装置により基板の主面に形成された薄膜を乾燥する乾燥動作について説明する。図４および図５は、この発明に係る減圧乾燥装置による乾燥動作を示すフローチャートである。   Next, a drying operation for drying the thin film formed on the main surface of the substrate by the reduced pressure drying apparatus will be described. 4 and 5 are flowcharts showing the drying operation by the vacuum drying apparatus according to the present invention.

基板Ｗの主面に形成された薄膜を乾燥する場合には、最初に、図１に示すようにチャンバ１０における蓋部１１を図示しない昇降機構により上昇させて、チャンバ１０を開放する（ステップＳ１１）。次に、基板Ｗを支持した図示しない搬送アームがチャンバ１０内に進入する（ステップＳ１２）。   When drying the thin film formed on the main surface of the substrate W, first, as shown in FIG. 1, the lid portion 11 in the chamber 10 is raised by a lifting mechanism (not shown) to open the chamber 10 (step S11). ). Next, a transfer arm (not shown) that supports the substrate W enters the chamber 10 (step S12).

次に、昇降機構２５の駆動により、昇降ピン２１が支持板２２とともに図１に示す基板Ｗの受け渡し位置まで上昇する（ステップＳ１３）。これにより、搬送アームに支持されていた基板Ｗが、昇降ピン２１により支持される。そして、搬送アームがチャンバ１０内より退出する（ステップＳ１４）。   Next, by the driving of the elevating mechanism 25, the elevating pins 21 are raised together with the support plate 22 to the delivery position of the substrate W shown in FIG. 1 (step S13). As a result, the substrate W supported by the transport arm is supported by the lift pins 21. Then, the transfer arm leaves the chamber 10 (step S14).

次に、昇降機構２５の駆動により、昇降ピン２１が支持板２２とともに図２に示す乾燥位置まで下降する（ステップＳ１５）。これにより、昇降ピン２１にその下面を支持されていた基板Ｗが支持ピン１５に移載される。そして、図２に示すように、チャンバ１０における蓋部１１を図示しない昇降機構により下降させて、チャンバ１０を閉止する（ステップＳ１６）。   Next, by the driving of the lifting mechanism 25, the lifting pins 21 are lowered to the drying position shown in FIG. 2 together with the support plate 22 (step S15). As a result, the substrate W whose lower surface is supported by the lift pins 21 is transferred to the support pins 15. Then, as shown in FIG. 2, the lid portion 11 in the chamber 10 is lowered by an elevator mechanism (not shown) to close the chamber 10 (step S16).

この状態において、開閉弁３３を開放し、真空ポンプ３４の作用により排気を行う（ステップＳ１７）。このとき、この減圧乾燥装置においては、排気口３１がチャンバ１０の底部に形成されており、基板Ｗの主面とチャンバ１０の蓋部１１下面との距離は小さく設定されている。このため、この排気口３１から排気を行った場合には、基板Ｗの主面において、その中央から端縁に向かう空気流が発生する。   In this state, the on-off valve 33 is opened and exhaust is performed by the action of the vacuum pump 34 (step S17). At this time, in this vacuum drying apparatus, the exhaust port 31 is formed at the bottom of the chamber 10, and the distance between the main surface of the substrate W and the lower surface of the lid 11 of the chamber 10 is set small. For this reason, when exhaust is performed from the exhaust port 31, an air flow from the center toward the edge is generated on the main surface of the substrate W.

このとき、支持板２２の下面には、排気口３１と対向する位置から支持板２２の端縁に至る位置まで、空気の流通路５０が形成されている。このため、支持板２２とチャンバー１０の底面を構成する基部１３の表面との距離を極めて小さく設定した場合においても、排気口３１からの排気を効率的に実行することが可能となる。そして、この空気の流通路５０は、各排気口３１と対向する位置から支持板２２における角部に至る位置までの間に形成された矩形状の座グリ部から構成されることから、支持板２２全体を薄く構成する場合に比べ、支持板２２の強度を高めることが可能となる。   At this time, an air flow path 50 is formed on the lower surface of the support plate 22 from a position facing the exhaust port 31 to a position reaching the edge of the support plate 22. For this reason, even when the distance between the support plate 22 and the surface of the base 13 constituting the bottom surface of the chamber 10 is set to be extremely small, the exhaust from the exhaust port 31 can be performed efficiently. The air flow passage 50 is composed of a rectangular counterbore formed between a position facing each exhaust port 31 and a position reaching the corner of the support plate 22. The strength of the support plate 22 can be increased as compared with the case where the whole 22 is made thin.

次に、図示しないセンサによりチャンバー１０内の真空度が予め設定した値に到達したことを検知すれば（ステップＳ１８）、開閉弁３３を閉止する（ステップＳ１９）。そして、チャンバー１０内に窒素ガスをパージする（ステップＳ２０）。   Next, if it is detected by a sensor (not shown) that the degree of vacuum in the chamber 10 has reached a preset value (step S18), the on-off valve 33 is closed (step S19). Then, nitrogen gas is purged into the chamber 10 (step S20).

チャンバー１０内が大気圧となれば、チャンバ１０における蓋部１１を図示しない昇降機構により上昇させて、チャンバ１０を開放する（ステップＳ２１）。次に、昇降機構２５の駆動により、昇降ピン２１が支持板２２とともに図１に示す基板Ｗの受け渡し位置まで上昇する（ステップＳ２２）。   When the inside of the chamber 10 reaches atmospheric pressure, the lid portion 11 in the chamber 10 is raised by an elevator mechanism (not shown) to open the chamber 10 (step S21). Next, as the elevating mechanism 25 is driven, the elevating pins 21 are raised together with the support plate 22 to the delivery position of the substrate W shown in FIG. 1 (step S22).

この状態において、図示しない搬送アームがチャンバ１０内に進入する（ステップＳ２３）。そして、昇降機構２５の駆動により、昇降ピン２１が支持板２２とともに下降する（ステップＳ２４）。これにより、昇降ピン２１に支持されていた基板Ｗが搬送アームにより支持される。そして、基板Ｗを支持した搬送アームがチャンバ１０内より退出する（ステップＳ２５）。   In this state, a transfer arm (not shown) enters the chamber 10 (step S23). And the raising / lowering pin 21 descend | falls with the support plate 22 by the drive of the raising / lowering mechanism 25 (step S24). Thereby, the board | substrate W currently supported by the raising / lowering pin 21 is supported by the conveyance arm. Then, the transfer arm that supports the substrate W leaves from the chamber 10 (step S25).

なお、上述した第１実施形態においては、空気の流通路５０として、各排気口３１と対向する位置から支持板２２における角部に至る位置までの間に形成された、矩形状の座グリ部を採用している。この空気の流通路５０として、図６に示すように、支持板２２の厚みが、各排気口３１と対向する位置から支持板２２における角部に至る位置に向けて順次薄くなるようなテーパー面５１を有するものを採用してもよい。この場合には、排気をよりいっそうスムースに実行することが可能となる。   In the first embodiment described above, a rectangular spot facing portion formed between the position facing each exhaust port 31 and the position reaching the corner portion of the support plate 22 as the air flow passage 50 is described. Is adopted. As the air flow passage 50, as shown in FIG. 6, the tapered surface is such that the thickness of the support plate 22 is gradually decreased from the position facing each exhaust port 31 toward the corner portion of the support plate 22. You may employ | adopt what has 51. In this case, exhaust can be performed more smoothly.

次に、この発明の他の実施形態について説明する。図７および図８はこの発明の第２実施形態に係る減圧乾燥装置の側面概要図であり、図９はその一部を示す平面図である。なお、図９においては、支持ピン１５を省略して図示している。   Next, another embodiment of the present invention will be described. 7 and 8 are schematic side views of a vacuum drying apparatus according to the second embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a plan view showing a part thereof. In FIG. 9, the support pin 15 is omitted.

上述した第１実施形態に係る減圧乾燥装置においては、支持板２２の下面に、排気口３１と対向する位置から支持板２２の端縁に至る位置まで、空気の流通路５０が形成されている。これに対し、この第２実施形態に係る減圧乾燥装置においては、チャンバ１０の底面を構成する基部１３の上面には、排気口３１から平面視において支持板２２の端縁を越える位置まで、空気の流通路６０が形成されている。   In the vacuum drying apparatus according to the first embodiment described above, the air flow passage 50 is formed on the lower surface of the support plate 22 from a position facing the exhaust port 31 to a position reaching the edge of the support plate 22. . On the other hand, in the vacuum drying apparatus according to the second embodiment, the upper surface of the base portion 13 that constitutes the bottom surface of the chamber 10 has air from the exhaust port 31 to a position beyond the edge of the support plate 22 in plan view. The flow path 60 is formed.

このチャンバ１０の底面を構成する基部１３の上面に形成された空気の流通路６０は、各排気口から平面視において支持板２２における角部を越える位置までの間に形成された、矩形状の座グリ部から構成される。   An air flow passage 60 formed on the upper surface of the base portion 13 constituting the bottom surface of the chamber 10 is a rectangular shape formed between each exhaust port and a position exceeding the corner portion of the support plate 22 in plan view. Consists of a spot facing.

このため、この第２実施形態の場合においても、上述した第１実施形態の場合と同様、支持板２２とチャンバー１０の底面を構成する基部１３の表面との距離を極めて小さく設定した場合においても、排気口３１からの排気を効率的に実行することが可能となる。そして、この空気の流通路６０は、各排気口から平面視において支持板２２における角部を越える位置までの間に形成された矩形状の座グリ部から構成されることから、基部１３全体を薄く構成する場合に比べ、チャンバー１０全体の強度を高めることが可能となる。   For this reason, also in the case of the second embodiment, as in the case of the first embodiment described above, even when the distance between the support plate 22 and the surface of the base portion 13 constituting the bottom surface of the chamber 10 is set to be extremely small. The exhaust from the exhaust port 31 can be executed efficiently. The air flow passage 60 is composed of a rectangular spot facing portion formed between each exhaust port and a position exceeding the corner portion of the support plate 22 in plan view. Compared with the case where it is thin, the strength of the entire chamber 10 can be increased.

なお、上述した第２実施形態においては、空気の流通路６０として、各排気口から平面視において支持板２２における角部を越える位置までの間に形成された、矩形状の座グリ部を採用している。この空気の流通６０として、図１０に示すように、平面視において支持板２２における角部を越える位置に、排気口側３１が低くなる傾斜面６１を有するものを採用してもよい。この場合には、排気をよりいっそうスムースに実行することが可能となる。   In the second embodiment described above, a rectangular spot facing portion formed between each exhaust port and a position beyond the corner portion of the support plate 22 in plan view is employed as the air flow passage 60. is doing. As shown in FIG. 10, the air circulation 60 may have an inclined surface 61 where the exhaust port side 31 is lowered at a position beyond the corner of the support plate 22 in a plan view. In this case, exhaust can be performed more smoothly.

また、上述した実施形態においては、基板Ｗを支持ピン１５上に載置した状態で減圧乾燥処理を実行しているが、支持ピン１５を省略し、基板Ｗを昇降ピン２１から支持ピン１５に受け渡すことなく、基板Ｗを昇降ピン２１により支持したままの状態で減圧乾燥処理を実行するようにしてもよい。   In the above-described embodiment, the vacuum drying process is performed with the substrate W placed on the support pins 15. However, the support pins 15 are omitted, and the substrate W is moved from the lift pins 21 to the support pins 15. You may make it perform a reduced pressure drying process in the state which supported the board | substrate W with the raising / lowering pin 21, without delivering.

この発明の第１実施形態に係る減圧乾燥装置の側面概要図である。It is a side surface schematic diagram of the vacuum dryer concerning a 1st embodiment of this invention. この発明の第１実施形態に係る減圧乾燥装置の側面概要図である。It is a side surface schematic diagram of the vacuum dryer concerning a 1st embodiment of this invention. この発明の第１実施形態に係る減圧乾燥装置の一部を示す平面図である。It is a top view which shows a part of reduced pressure drying apparatus concerning 1st Embodiment of this invention. 乾燥動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows drying operation. 乾燥動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows drying operation. 第１実施形態に係る減圧乾燥装置の変形例を示す側面概要図である。It is a side surface schematic diagram which shows the modification of the reduced pressure drying apparatus which concerns on 1st Embodiment. この発明の第２実施形態に係る減圧乾燥装置の側面概要図である。It is a side surface schematic diagram of the vacuum dryer concerning 2nd Embodiment of this invention. この発明の第２実施形態に係る減圧乾燥装置の側面概要図である。It is a side surface schematic diagram of the vacuum dryer concerning 2nd Embodiment of this invention. この発明の第２実施形態に係る減圧乾燥装置の一部を示す平面図である。It is a top view which shows a part of decompression drying apparatus concerning 2nd Embodiment of this invention. 第２実施形態に係る減圧乾燥装置の変形例を示す側面概要図である。It is a side surface schematic diagram which shows the modification of the reduced pressure drying apparatus which concerns on 2nd Embodiment.

１０ チャンバ
１１ 蓋部
１２ パッキング
１３ 基部
１４ 上面
１５ 支持ピン
１５ 凹部
２１ 昇降ピン
２２ 支持板
３１ 排気口
３２ 管路
３３ 開閉弁
３４ 真空ポンプ
３５ 開口部
５０ 空気の流通路
５１ テーパー面
６０ 空気の流通路
６１ 傾斜面
Ｗ 基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Chamber 11 Cover part 12 Packing 13 Base 14 Upper surface 15 Support pin 15 Recess 21 Lifting pin 22 Support plate 31 Exhaust port 32 Pipe line 33 On-off valve 34 Vacuum pump 35 Opening part 50 Air flow path 51 Tapered surface 60 Air flow path 61 inclined surface W substrate

Claims (6)

基板の主面に形成された薄膜を減圧乾燥する減圧乾燥装置において、
基板の周囲を覆うチャンバと、
平面視において矩形状の形状を有し、基板をその主面が水平となる状態で支持する支持部材を備えた支持板と、
前記チャンバ底面における前記支持板と対向する位置に、支持板における角部に対応して複数個形成された排気口と、
前記排気口を介して排気を行う排気手段とを備え、
前記支持板の下面には、前記各排気口と対向する位置から前記支持板の各角部に至る位置まで、空気の流通路が形成されるとともに、
前記チャンバから排気を行う排気口は、前記支持板と対向する位置にのみ形成されていることを特徴とする減圧乾燥装置。 In a vacuum drying apparatus for vacuum drying a thin film formed on a main surface of a substrate,
A chamber covering the periphery of the substrate;
A support plate having a rectangular shape in a plan view and provided with a support member that supports the substrate in a state where its main surface is horizontal;
A plurality of exhaust ports formed in correspondence with the corners of the support plate at positions facing the support plate on the bottom surface of the chamber;
An exhaust means for exhausting air through the exhaust port,
Wherein the lower surface of the support plate from the position facing the respective exhaust port to the position leading to the corners of the support plate, passage of air is formed Rutotomoni,
The vacuum drying apparatus according to claim 1, wherein an exhaust port for exhausting air from the chamber is formed only at a position facing the support plate . 請求項１に記載の減圧乾燥装置において、
前記空気の流通路は、前記支持板の下面において、前記各排気口と対向する位置から前記各角部に至る位置まで連続して形成された凹部である減圧乾燥装置。 The vacuum drying apparatus according to claim 1,
The reduced-pressure drying apparatus, wherein the air flow passage is a recess formed continuously from a position facing each exhaust port to a position reaching each corner on the lower surface of the support plate. 請求項２に記載の減圧乾燥装置において、
前記空気の流通路は、前記支持板の厚みが、各排気口と対向する位置から支持板における角部に至る位置に向けて順次薄くなるようなテーパー形状を有する減圧乾燥装置。 The reduced-pressure drying apparatus according to claim 2,
The reduced-pressure drying apparatus in which the air flow passage has a tapered shape in which the thickness of the support plate gradually decreases from a position facing each exhaust port to a position reaching a corner portion of the support plate. 基板の主面に形成された薄膜を減圧乾燥する減圧乾燥装置において、
基板の周囲を覆うチャンバと、
平面視において矩形状の形状を有し、基板をその主面が水平となる状態で支持する支持部材を備えた支持板と、
前記チャンバ底面における前記支持板と対向する位置に、支持板における角部に対応して複数個形成された排気口と、
前記排気口を介して排気を行う排気手段とを備え、
前記チャンバ底面には、前記各排気口から平面視において前記支持板の各角部を越える位置まで、空気の流通路が形成されるとともに、
前記チャンバから排気を行う排気口は、前記支持板と対向する位置にのみ形成されていることを特徴とする減圧乾燥装置。 In a vacuum drying apparatus for vacuum drying a thin film formed on a main surface of a substrate,
A chamber covering the periphery of the substrate;
A support plate having a rectangular shape in a plan view and provided with a support member that supports the substrate in a state where its main surface is horizontal;
A plurality of exhaust ports formed in correspondence with the corners of the support plate at positions facing the support plate on the bottom surface of the chamber;
An exhaust means for exhausting air through the exhaust port,
Wherein the chamber bottom, wherein to a position beyond the corners of the support plate in a plan view from the outlet, passage of air is formed Rutotomoni,
The vacuum drying apparatus according to claim 1, wherein an exhaust port for exhausting air from the chamber is formed only at a position facing the support plate . 請求項４に記載の減圧乾燥装置において、
前記空気の流通路は、前記チャンバの底面において、前記各排気口から前記支持板の各角部に至る位置まで連続して形成された凹部である減圧乾燥装置。 The reduced-pressure drying apparatus according to claim 4,
The reduced-pressure drying apparatus, wherein the air flow passage is a recess formed continuously from the exhaust ports to the corners of the support plate on the bottom surface of the chamber. 請求項５に記載の減圧乾燥装置において、
前記空気の流通路における平面視において前記支持板における角部を越える位置には、前記排気口側が低くなる傾斜面が形成される減圧乾燥装置。 The reduced-pressure drying apparatus according to claim 5,
A reduced-pressure drying apparatus in which an inclined surface having a lower exhaust port side is formed at a position beyond a corner portion of the support plate in a plan view of the air flow passage.
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