JP4312177B2 - 液晶表示素子及びその製造方法 - Google Patents
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Description
図7は、従来の液晶表示装置のアレイ基板の一部を示した平面図であって、実際の液晶表示素子においては、N個のゲートラインとM個のデータラインとが交差してM×N個の画素が存在するが、説明を簡単にするために、図面には一つのみの画素を示した。
図8A乃至図8Fは、図7に示す液晶表示素子のI−I'線に係る製造工程を順次示す断面図であって、図示されている薄膜トランジスタは、チャンネル層として多結晶シリコンを利用した多結晶シリコン薄膜トランジスタを示している。
前記第1基板上にソース領域とドレイン領域及びチャンネル領域を有したアクティブ層を形成する段階と、
前記アクティブ層上に第1絶縁膜を形成する段階と、
前記第1絶縁膜上に第1導電膜と第2導電膜を形成する段階と、
前記第1導電膜と第2導電膜をパターニングして前記第1絶縁膜上にゲート電極とゲートラインと画素電極及び前記画素電極上部に残る前記第2導電膜を形成した画素電極パターンを形成する段階と、
ゲート電極とゲートライン及び画素電極を有する前記第1基板上に第2絶縁膜を形成する段階と、
前記第1絶縁膜と第2絶縁膜の一部領域を除去してソース/ドレイン領域の一部を露出させるコンタクトホールを形成し、画素領域の上部の前記第2絶縁膜を除去して前記画素電極パターンの表面を露出させる段階と、
前記第2絶縁膜上に前記画素電極パターンと電気的に接続される第3導電膜を形成する段階と、
前記第3導電膜をパターニングして前記コンタクトホールを通じてソース/ドレイン領域と電気的に接続されるソース/ドレイン電極を形成する段階と、
前記画素電極の縁の前記上部以外の前記画素電極パターンを除去することにより前記画素電極の前記表面を露出させるて導電膜パターンを形成する段階と、前記第1基板と第2基板間に液晶層を形成する段階とを含むことを特徴とする。
図1は、本発明の第1の実施の形態に係る液晶表示装置のアレイ基板の一部を示す平面図で、特に、薄膜トランジスタを包含する一つの画素を示している。
実際の液晶表示素子においては、N個のゲートラインとM個のデータラインとが交差してM×N個の画素が存在するが、説明を簡単にするために、図面には一つのみの画素を示した。
ここで、本実施の形態においては、チャンネル層として多結晶シリコン薄膜を利用した多結晶シリコン薄膜トランジスタの例を挙げて説明しているが、本発明がこれに限定されず、薄膜トランジスタのチャンネル層として非晶質シリコン薄膜を利用することもできる。
図2A乃至図2Dは、図1に示される液晶表示素子のIII−III'線に係る製造工程を順次示す断面図である。
図2Aに示すように、ガラスのような透明な絶縁物質から成る基板110上にフォトリソグラフィ工程(第1マスク工程)を利用してシリコン層から成るアクティブパターン124を形成する。
ここで、前記イオンの注入工程後に注入されたドーパントを活性化する工程を行うこともできる。
また、前記第2絶縁膜115Bは、高開口率のためのベンゾシクロブテン(Benzocyclobutene;BCB)又はアクリル系樹脂(resin)のような透明有機絶縁物質に形成することができる。
ここで、本実施の形態の液晶表示素子の製造工程は、画素電極領域の第2絶縁膜と該第2導電膜を蝕刻する時に発生する第2導電膜パターンのアンダーカットによるドレイン電極の断線不良を防止するために、工程の順序を変えて行うことを除いては第1の実施の形態の液晶表示素子の製造工程と同様の構成からなっている。
先ず、図6Aに示すように、第2絶縁膜215Bが形成されている基板210の前面にフォトレジストのような感光性物質から成る第1感光膜270を形成する。
116:ゲートライン
117:データライン
150B :画素電極
121:ゲート電極
122:ソース電極
122、123:ソース/ドレイン電極
Claims (19)
- 第1基板と第2基板を提供する段階と、
前記第1基板上にソース領域とドレイン領域及びチャンネル領域を有したアクティブ層を形成する段階と、
前記アクティブ層上に第1絶縁膜を形成する段階と、
前記第1絶縁膜上に第1導電膜と第2導電膜を形成する段階と、
前記第1導電膜と第2導電膜をパターニングして前記第1絶縁膜上にゲート電極とゲートラインと画素電極及び前記画素電極上部に残る前記第2導電膜を形成した画素電極パターンを形成する段階と、
ゲート電極とゲートライン及び画素電極を有する前記第1基板上に第2絶縁膜を形成する段階と、
前記第1絶縁膜と第2絶縁膜の一部領域を除去してソース/ドレイン領域の一部を露出させるコンタクトホールを形成し、画素領域の上部の前記第2絶縁膜を除去して前記画素電極パターンの表面を露出させる段階と、
前記第2絶縁膜上に前記画素電極パターンと電気的に接続される第3導電膜を形成する段階と、
前記第3導電膜をパターニングして前記コンタクトホールを通じてソース/ドレイン領域と電気的に接続されるソース/ドレイン電極を形成する段階と、
前記画素電極の縁の前記上部以外の前記画素電極パターンを除去することにより前記画素電極の前記表面を露出させて導電膜パターンを形成する段階と、
前記第1基板と第2基板間に液晶層を形成する段階と
を含むことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。 - 前記アクティブ層は、シリコン層により形成される
ことを特徴とする請求項1記載の液晶表示素子の製造方法。 - 前記シリコン層は、結晶化されたシリコン薄膜により形成される
ことを特徴とする請求項2記載の液晶表示素子の製造方法。 - 前記第1導電膜と第2導電膜をパターニングして該第1導電膜と第2導電膜の二重層から成るゲート電極とゲートラインを形成する
ことを特徴とする請求項1記載の液晶表示素子の製造方法。 - 前記第1導電膜と第2導電膜をパターニングして前記第1導電膜から成る画素電極を形成する
ことを特徴とする請求項1記載の液晶表示素子の製造方法。 - 前記第1導電膜又は第2導電膜は、インジウム−スズ−オキサイド又はインジウム−亜鉛−オキサイドの中の一つで形成されることを特徴とする請求項1記載の液晶表示素子の製造方法。
- 前記第2導電膜は、アルミニウム、アルミニウム合金、タングステン、銅、クロム、モリブデンの中の一つで形成される
ことを特徴とする請求項1記載の液晶表示素子の製造方法。 - 前記コンタクトホールを形成するためのマスクは、画素電極領域をオープンさせるための画素電極パターンを包含する
ことを特徴とする請求項1記載の液晶表示素子の製造方法。 - 前記マスクを使用して画素電極の上部の第2絶縁膜を除去することで、前記画素電極の上部の第2導電膜を露出させる
ことを特徴とする請求項8記載の液晶表示素子の製造方法。 - ゲート電極を形成した後、前記ゲート電極をマスクとして前記アクティブパターンの所定領域に不純物イオンを注入してソース領域とドレイン領域を形成する段階をさらに包含する
ことを特徴とする請求項1記載の液晶表示素子の製造方法。 - 前記コンタクトホールを形成する段階と画素電極の上部の第2絶縁膜を除去する段階は、実質的に同時に進行される
ことを特徴とする請求項1記載の液晶表示素子の製造方法。 - 前記ソース電極とドレイン電極を形成する段階と画素電極の表面を露出させる段階は、実質的に同時に進行される
ことを特徴とする請求項1記載の液晶表示素子の製造方法。 - 第1基板と第2基板と、
前記第1基板上に形成されたアクティブ層と、
前記アクティブ層上に形成された第1絶縁膜と、
前記第1絶縁膜上に形成されて、第1導電膜と第2導電膜から成るゲート電極とゲートライン及び第1導電膜から成る画素電極と、
前記ゲート電極とゲートライン及び画素電極が形成された前記第1基板上に形成されて、コンタクトホールを持つ第2絶縁膜と、
前記絶縁膜上に形成されて、前記コンタクトホールを通じてソース領域と接続されるソース電極及びドレイン領域と接続されるドレイン電極と、
前記第1基板と第2基板間に形成された液晶層と
を包含し、
前記画素電極の上部縁に前記第2導電膜から成る導電膜パターンが残る
ことを特徴とする液晶表示素子。 - 前記ドレイン電極の一部は、画素領域の方に延長されて、前記画素電極の上部の前記導電膜パターンと接続される
ことを特徴とする請求項13記載の液晶表示素子。 - 前記画素電極は、透明な導電性物質から構成される
ことを特徴とする請求項13記載の液晶表示素子。 - 前記透明な導電性物質は、インジウム−スズ−オキサイド又はインジウム−亜鉛−オキサイドを包含する
ことを特徴とする請求項15記載の液晶表示素子。 - 前記ゲート電極とゲートラインは、前記画素電極と同様の透明な導電性物質上に不透明な導電性物質が形成されている二重層から構成される
ことを特徴とする請求項15記載の液晶表示素子。 - 前記二重層は不透明な導電性物質と透明な導電性物質から構成される
ことを特徴とする請求項17記載の液晶表示素子。 - 前記不透明な導電性物質は透明な導電性物質上に形成されている
ことを特徴とする請求項18記載の液晶表示素子。
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