JP4309939B2 - 半導体レーザ駆動装置,光ヘッド,および光ディスク装置 - Google Patents

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Description

本発明は,半導体レーザを駆動する半導体レーザ駆動装置,光ヘッド,および光ディスク装置に関する。
光ディスクにデータを高速で書き込む場合がある。この場合,通常より高速回転する光ディスクに半導体レーザからのレーザ光を照射することになる。このとき,短パルス,かつ高強度のレーザ光が出射されるように,半導体レーザが駆動される。
ここで,半導体レーザの駆動電流を発振閾値以下から発振閾値以上に変化させる技術が開示されている(特許文献1参照)。この技術では,半導体レーザの駆動に緩和振動を利用している。
特開2002−123963号公報
半導体レーザの緩和振動を用いた場合でも,レーザ光の強度を制御する必要がある。
上記に鑑み,本発明は,緩和振動でのレーザ光の強度の制御が容易な半導体レーザ駆動装置,光ヘッド,および光ディスク装置を提供することを目的とする。
本発明の一態様に係る半導体レーザ駆動装置は,半導体レーザに電流を供給する電流供給部と,前記電流供給部を制御して,前記半導体レーザの発振閾値の1/2以下の第1の電流を供給させる第1の制御部と,前記電流供給部を制御して,クロック信号のエッジから第1の時間の経過後に,前記発振閾値より大きい第2の電流を供給させる第2の制御部と,を具備することを特徴とする。
本発明によれば,緩和振動でのレーザ光の強度の制御が容易な半導体レーザ駆動装置,光ヘッド,および光ディスク装置を提供できる。
以下,図面を参照して,本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図1は,本発明の一実施形態に係る光ディスク装置10を表すブロック図である。
光ディスク装置10は,光ディスクDに情報を記録及び再生する。
光ディスクDは,例えば,DVD(Digital Versatile Disc),HD−DVD等の情報記憶媒体である。光ディスクDには,同心円状,又は螺旋状に溝が刻まれている。この溝の一周をトラックと呼ぶ。このトラックに沿って,強度変調されたレーザ光を照射してマーク(ピット等)を形成することで,ユーザデータが記録される。データの再生時には,記録時より弱いレーザ光をトラックに沿って照射する。トラック上のマークからの反射光強度の変化を検出することで,データが再生される。
光ディスクDは,ディスクモータ11によって回転駆動される。ディスクモータ11は,ディスクモータ制御回路12によって制御される。光ヘッド13は,光ディスクDに情報を記録,再生する。
情報記録時(マーク形成時)には,インターフェース回路24を介して,ホスト装置25から変調回路14にユーザデータが供給される。変調回路14は,このユーザデータをEFM変調(例えば,8−14変調)し,データ信号Sdtとして,レーザ制御回路31に出力する。
レーザ制御回路31は,変調回路14から供給されるデータ信号Sdtに基づいて,書き込み用電流(駆動電流Id)を半導体レーザ(レーザダイオード)32に供給する。このとき,PLL回路76からのクロック信号Sclk,CPU21からの制御信号Scrlが用いられる。情報読取り時には,レーザ制御回路31は前記書き込み用電流より小さい読取り用電流を半導体レーザ32に供給する。なお,レーザ制御回路31の詳細は後述する。
フロントモニタ34は半導体レーザ32が発生するレーザ光の強度つまり発光パワーを検出し,検出電流をレーザ制御回路31に供給する。
レーザ制御回路31は,フロントモニタ34からの検出電流に基づいて,半導体レーザ32を制御する。その結果,半導体レーザ32は,CPU21により設定された再生時レーザパワー,および記録時レーザパワーで発光する。
半導体レーザ32から発せられるレーザ光は,ハーフプリズム33,コリメータレンズ35,ハーフプリズム36,対物レンズ37を介して光ディスクD上に照射される。光ディスクDからの反射光は,対物レンズ37,ハーフプリズム36,集光レンズ41,およびシリンドリカルレンズ42を介して,光検出器43に導かれる。光検出器43は,例えば4分割の光検出セルからなり,これら光検出セルの検知信号がRFアンプ15に出力される。
RFアンプ15は光検知セルからの信号を処理し,フォーカスエラー信号FE,トラッキングエラー信号TE,及びRF信号を生成する。フォーカスエラー信号FEは,ジャストフォーカスからのズレ(誤差)を示す。トラッキングエラー信号TEは,レーザ光のビームスポット中心とトラック中心のズレ(誤差)を示す。RF信号は,光検知セルからの信号の全てを加算した信号であり,光ディスクDのトラック上に形成されたマークからの反射光が反映される。RF信号が,データ再生回路17に供給され,データが再生される。
フォーカスエラー信号FE,トラッキングエラー信号TEが,サーボ制御回路16に供給され,フォーカス駆動信号およびトラック駆動信号が生成される。フォーカス駆動信号およびトラック駆動信号は,駆動コイル44に供給され,対物レンズ37がフォーカシング方向(レンズの光軸方向)およびトラッキング方向(レンズの光軸と直交する方向)に移動される。この結果,フォーカスサーボ(レーザ光が光ディスクDの記録膜上に常時ジャストフォーカスとなる),トラッキングサーボ(レーザ光が光ディスクD上に形成されたトラック上を常にトレースする)がなされる。
CPU21はインターフェース回路24を介してホスト装置25から提供される動作コマンドに従って,光ディスク装置10を総合的に制御する。CPU21は,RAM22を作業エリアとして使用し,ROM23に記録された制御プログラムに従って,動作する。
(レーザ制御回路31の詳細)
以下,レーザ制御回路31の詳細を述べる。
レーザ駆動回路55は,半導体レーザ32の緩和振動を利用して,半導体レーザ32から高光量かつ短パルス幅のレーザ光を出射させる。この結果,光ディスクDへの高速な記録が可能となる。
光ディスクDに高倍速で記録する場合,光ディスクD上に短パルス幅のレーザ光を照射する必要がある。例えば,HD−DVD(HD−DVD−R,HD−DVD−RW等)に8倍速(52.9m/sec)でデータを記録する場合,1ns程度以下のパルス幅のレーザ光の照射が必要となる。このパルス幅は,最短のマーク(2T)の長さ(例えば,0.18μm)および光ディスクの回転速度によって定まる。
レーザ光が短パルス幅の場合,照射されるエネルギーの積算値が小さくなり,マークが記録できない可能性がある。そのために,パルス幅の短縮(光ディスクの回転数の増大)に応じて,レーザ光の強度(レーザパワーP0)を増大させる必要がある。即ち,半導体レーザ32から高強度かつ短パルス幅のレーザ光を発生させる必要がある。
半導体レーザ32の緩和振動を利用することで,半導体レーザ32から高強度かつ短パルス幅のレーザ出力が得られる。半導体レーザ32の駆動電流Idを発振閾値Ithより小さい値から発振閾値Ith以上に急激に変化させた(立ち上げた)ときに,半導体レーザ32でレーザ光の緩和振動が発生する。駆動電流Idの立ち上げ時間を緩和振動の周期より小さくすることで,半導体レーザ32に緩和振動が発生する。この結果,半導体レーザ32から高強度かつ短パルス幅のレーザ光が出射される。
A.レーザ制御回路31の内部構成
以下,レーザ制御回路31の内部構成を説明する。
図2は,レーザ制御回路31の内部構成を表すブロック図である。図3は,レーザ制御回路31内での信号の関係を表すタイミングチャートである。なお,図2では,フロントモニタ34による半導体レーザ32の制御を可能とする機構を省略している。
レーザ制御回路31は,CPU51,RAM52,ROM53,信号加算器54,レーザ駆動回路55を有し,半導体レーザ駆動装置として機能する。
CPU51は,レーザ制御回路31を統合的に制御する。CPU51は,データ信号Sdt,制御信号Scrlに基づいて,レーザパワーP0,記録遅延時間Td0,記録時間Tw0を算出する。この算出にROM53内に記憶されるライトストラテジが用いられる。また,CPU51は,レーザパワーP0,記録遅延時間Td0に基づいて,バイアス電流Ib,パルス電流Ip,パルス電流幅Wp,およびパルス遅延時間Tpを導出する。この導出に,ROM53内のテーブルTTが用いられる。
CPU51は,電流供給部を制御して,半導体レーザ32に電流を供給させる制御部として機能する。また,CPU51は,第2の電流(パルス電流Ip)を決定する決定部として機能する。
レーザパワーP0は,半導体レーザ32でのマークの書き込みに必要なレーザ光の強度である。記録遅延時間Td0は,クロック信号Sclkの立ち上がり(エッジ)からレーザ照射開始までの時間であり,マークの記録位置を調整するためのパラメータである。記録時間Tw0は,半導体レーザ32が発光している時間であり,マークの長さを規定するパラメータである。パルス遅延時間Tpは,クロック信号Sclkのエッジ(立ち上がり)からパルス電流Ipの立ち上がりまでの時間である。
RAM52は,CPU51の作業用の記憶装置である。
ROM53は,バイアス電流Ib等を導出するためのテーブルTTを記憶する。このテーブルTTには,レーザパワーP0,記録遅延時間Td0の組み合わせに対応するバイアス電流Ib,パルス電流Ip,パルス電流幅Wp,およびパルス遅延時間Tpが表される。また,ROM53は,データ信号Sdt等からレーザパワーP0等を導出するためのライトストラテジを記憶する。
信号加算器54は,CPU51から出力されるバイアス信号Sb,パルス信号Spを加算し,駆動信号Sdとしてレーザ駆動回路55に出力する。
レーザ駆動回路55は,駆動信号Sdを電圧−電流変換して,駆動電流Idとして半導体レーザ32に出力する。駆動電流Idに基づいて,半導体レーザ32が発光する。レーザ駆動回路55は,半導体レーザ32に電流を供給する電流供給部として機能する。
B.レーザ制御回路31での信号のタイミング
以下,図3に基づき,レーザ制御回路31での信号のタイミングを説明する。
(1)バイアス電流Ibは,光ディスクDへの書き込み時に,クロック信号Sclkとは関わりなく,半導体レーザ32に印加される。但し,その値は適宜に変更される。
(2)パルス電流Ipは,クロック信号Sclkのエッジ(時刻t0)からパルス遅延時間Tpの経過後(時刻t1)に,半導体レーザ32に印加される。このとき,パルス遅延時間Tp,パルス電流Ip,パルス電流幅Wpは,適宜に変更される。
(3)駆動電流Idは,バイアス電流Ib,パルス電流Ipの和である。バイアス電流Ibのみの場合,半導体レーザ32の駆動電流Id(バイアス駆動電流Idb)はバイアス電流Ibと等しい(Idb=Ib)。パルス電流Ipが印加される場合,半導体レーザ32の駆動電流Id(パルス駆動電流Idp)はバイアス電流Ib,パルス電流Ipの和と等しい(Idp=Ib+Ip)。
(4)半導体レーザ32からの発光は,駆動電流Idの立ち上がり(時刻t1)から発光遅延時間Tr0の経過後(時刻t2)に開始される。緩和振動の場合,発光遅延時間Tr0が存在する。この結果,クロック信号Sclkのエッジ(時刻t0)から記録遅延時間Td0(=Tp+Tr0)の経過後に,半導体レーザ32からの発光が開始され,パルス電流幅Wp(=t3−t1)に対応して,記録時間W0(=t4−t2)の間,発光が継続する。この発光中に,レーザ光の強度が時間的に変化し,最大値(最大光強度)Pmaxに達する。この最大光強度Pmaxは,レーザパワーP0と対応している。但し,これらの値は必ずしも同一でなくても良い。
C.レーザ制御回路31の動作手順
以下,レーザ制御回路31の動作手順を説明する。
図4は,レーザ制御回路31の動作手順の一例を表すフロー図である。
(1)データ信号Sdt,制御信号Scrlの入力(ステップS11)
既述のように,光ディスクDにマークを記録する場合,データ信号Sdt,制御信号Scrlがレーザ制御回路31に入力される。
(2)レーザパワーP0,記録遅延時間Td0,記録時間Tw0の算出(ステップS12)
CPU51が,データ信号Sdt,および制御信号Scrlから,レーザパワーP0,記録遅延時間Td0,および記録時間Tw0を算出する。この算出は,ROM53内のライトストラテジに基づく。
(3)バイアス電流Ib,パルス電流Ip,パルス電流幅Wp,およびパルス遅延時間Tpの算出(ステップS13)
CPU51が,レーザパワーP0,記録遅延時間Td0,記録時間Tw0に基づき,バイアス電流Ib,パルス電流Ip,パルス電流幅Wp,パルス遅延時間Tpを導出する。これらの導出に,ROM53内のテーブルTTが用いられる。この導出は,以下1)〜3)のように区分しても良い。
1)パルス遅延時間Tp,バイアス電流Ibの算出
記録遅延時間Td0からパルス遅延時間Tp,バイアス電流Ibを算出する。緩和振動の場合,パルス電流Ipの立ち上がりから半導体レーザ32の発光開始までに時間(発光遅延時間Tr0)を要する。この結果,記録遅延時間Td0は,これらパルス遅延時間Tp,発光遅延時間Tr0双方を考慮する必要がある(Td0=Tp+Tr0)。この発光遅延時間Tr0がバイアス電流Ibに依存することから,記録遅延時間Td0は,パルス遅延時間Tp,バイアス電流Ibの双方に依存する。
パルス遅延時間Tpは,電気的な制御が比較的容易である。これに対して,発光遅延時間Tr0は,バイアス電流Ibの変化量に制限があることから(後述のように,発振閾値Ithの1/2以下),必ずしも大きく変動できる訳ではない。逆に言えば,記録遅延時間Td0を微少に調節するために,発光遅延時間Tr0を利用することができる。即ち,パルス遅延時間Tp,発光遅延時間Tr0それぞれは,記録遅延時間Td0の粗調,微調として位置付けることができる。例えば,パルス遅延時間Tpをステップ的に変化させ,発光遅延時間Tr0によって,記録遅延時間Td0を微妙に調節する。なお,これらの一方を固定することも可能である。例えば,パルス遅延時間Tpをライトストラテジによって変化させ,記録遅延時間Td0のジッターを低下させることができる。
バイアス電流Ibが大きくなると,発光遅延時間Tr0は小さくなる。即ち,バイアス電流Ib1,Ib2と,これらそれぞれに対応する発光遅延時間Tr01,Tr02の間には,次のような関係がある。
Ib1<Ib2ならばTr01>Tr02
ここで,バイアス電流Ibを半導体レーザ32の発振閾値(閾値電流)Ithの1/2以下とすることが好ましい。バイアス電流Ibが発振閾値Ithの半分より大きい場合,緩和振動が小さくなり出力されるレーザパワーP0が小さくなる。この場合,光ディスクDへのマークの記録に必要なレーザパワーが得られず,マークが形成されない可能性がある。マークが記録されたとしても,その形状が小さくなり,マークの品位が悪くなる。
図5は,パルス駆動電流Idpを70mAにしてバイアス電流Ibおよびパルス電流Ipを変化させた時の最大光強度Pmaxを示す図である。バイアス電流Ibが発振閾値Ith(40mA)の半分程度(20mA)までは最大光強度Pmaxがほぼ一定であるが,それ以上では,最大光強度Pmaxが低減している。このように,光ディスクDに記録するためには,バイアス電流Ibを発振閾値Ithの半分以下とすることが望ましい。
2)パルス電流Ipの算出
レーザパワーP0(=Pmax)からパルス駆動電流Idpを算出する。バイアス電流Ibが発振閾値Ithの半分程度までのとき,レーザパワーP0はパルス駆動電流Idpのみに依存する。即ち,式(1)に示すように,パルス駆動電流IdpはレーザパワーP0によって規定できる。
Idp=Ik …… 式(1)
Ik:半導体レーザ32のレーザパワーP0に対応して定まる電流値
駆動電流Idの観点からすれば,次の式(2)に基づいて,パルス電流Ipを算出できる。
Ik=Ip+Id …… 式(2)
言い換えれば,レーザパワーP0が同一の場合,パルス電流Ipとバイアス電流Ibの和は略一定となる。このようにパルス電流Ipをバイアス電流Ibに応じて変えることで,半導体レーザ32から出射されるレーザ光の強度の変化が小さくなる。この結果,バイアス電流Ibを変化させた場合であっても,均一なマークを記録することができる。
パルス電流Ipを一定にすると,バイアス電流Ibが変化した場合にレーザ光のパワーが変化する。その結果,記録された光ディスクDのマークの大きさがバイアス電流Ibによって変化し,マークの品位が低下する。このように,バイアス電流Ibに応じてパルス電流Ipを変化させることで,均一なマークを記録できる。
3)パルス電流幅Wpの算出
パルス電流幅Wpは,半導体レーザ32で発生する緩和振動が単一となるように設定される。パルス電流幅Wpが長過ぎると,半導体レーザ32から複数の緩和振動が発生する。
図6は,複数の緩和振動が発生した状態を表すグラフである。光強度P(t)の時間変化のグラフに,複数のピークが現れている。この場合,レーザ光のパルス幅が長くなる。この結果,ディスクDに記録されるマークが長くなり,記録品位が悪くなる。このため,1つ目の緩和振動が終わるまでに,駆動電流Idを発振閾値Ith以下にする必要がある。
即ち,次の式(3)を満足するように,パルス電流幅Wpが決定される。
Wp<Tr0+T1 …… 式(3)
T1:緩和振動の周期
(4)バイアス電流Ibの制御(ステップS14)
ステップS13での算出結果に基づいて,CPU51から出力されるベース信号Sb(バイアス電流Ib)が制御される。例えば,図3のクロック信号Sclkのエッジ(立ち上がり)に対応して(時刻t0),バイアス電流Ibを制御する。
(5)パルス電流Ipの印加(ステップS15)
ステップS13での算出結果に基づいて,CPU51から出力されるパルス信号Sp(パルス電流Ip)が制御される。例えば,図3のクロック信号Sclkのエッジ(立ち上がり)からパルス遅延時間Tp経過後に,パルス電流Ipを立ち上げる。
以上のようにして,バイアス電流Ib,パルス電流Ipが制御されることで,駆動電流Idの波形が形成され,半導体レーザ32が緩和振動状態で駆動される。
図7,図8はそれぞれ,半導体レーザ32に供給される駆動電流Idの波形,および半導体レーザ32から出力される光の強度Pの時間変化の一例を表すグラフである。
この例では,発振閾値Ithが40mA,レーザ波長λが405nmの半導体レーザを用いた。この半導体レーザに,バイアス電流Ibが20mAで,立ち上がり時間が100ps以下のパルス電流Ipからなる駆動電流Idを注入する(図7参照)。このとき,発光遅延時間Tr0は300psであり,図8に示されるような短いパルス幅(200ps)で,大出力のレーザ光を得られた。
(その他の実施形態)
本発明の実施形態は上記の実施形態に限られず拡張,変更可能であり,拡張,変更した実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
本発明の一実施形態に係る光ディスク装置を表すブロック図である。 レーザ制御回路の内部構成を表すブロック図である。 レーザ制御回路内での信号の関係を表すタイミングチャートである。 レーザ制御回路の動作手順の一例を表すフロー図である。 緩和振動の最大パワーを示す図である。 複数の緩和振動が発生した状態を表すグラフである。 半導体レーザに供給される駆動電流の波形の一例を表すグラフである。 半導体レーザから出力される光の強度の時間変化の一例を表すグラフである。
符号の説明
10…光ディスク装置,11…ディスクモータ,12…ディスクモータ制御回路,13…光ヘッド,14…変調回路,15…アンプ,16…サーボ制御回路,17…データ再生回路,21…CPU,22…RAM,23…ROM,24…インターフェース回路,25…ホスト装置,31…レーザ制御回路,32…半導体レーザ,33…ハーフプリズム,34…フロントモニタ,35…コリメータレンズ,36…ハーフプリズム,37…対物レンズ,41…集光レンズ,42…シリンドリカルレンズ,43…光検出器,44…駆動コイル,51…CPU,52…RAM,53…ROM,54…信号加算器,55…レーザ駆動回路

Claims (3)

  1. 半導体レーザに電流を供給する電流供給部と,
    前記電流供給部を制御して,バイアス電流を供給させる第1の制御部と,
    前記電流供給部を制御して,クロック信号のエッジからパルス遅延時間の経過後に,前記半導体レーザの発振閾値より大きいパルス電流を供給させる第2の制御部と,
    前記半導体レーザのレーザパワーを表す信号,および前記クロック信号のエッジから前記半導体レーザの発光開始までの記録遅延時間を表す信号が入力される入力部と,
    前記記録遅延時間と前記パルス遅延時間の差に基づき,前記半導体レーザの発振閾値の1/2以下の前記バイアス電流を決定する第1の決定部と,
    前記レーザパワーに基づいて,前記パルス電流と前記バイアス電流の和を決定し,この和から前記決定されたバイアス電流を減算することで,前記パルス電流を決定する第2の決定部と
    を具備することを特徴とする半導体レーザ駆動装置。
  2. 請求項1記載の半導体レーザ駆動装置を具備することを特徴とする光ヘッド。
  3. 請求項1記載の半導体レーザ駆動装置を具備することを特徴とする光ディスク装置。
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