JP4299618B2 - ガスクラスターイオンビーム装置 - Google Patents
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Description
2 イオン化室
3 真空容器
4 スキマー
5 隔壁
6 ノズル
7 イオン化部
8 引き出し電極
9 アノード
10 フィラメント
11a フィラメント電源
11b イオン化電源
12 加速電源
13 被加工物
14 支持部材
15 真空容器側板
15a フランジ部
19 絶縁パイプ
Claims (3)
- 導入されるガスをノズルから高速噴出させて中性のガスクラスターを生成するノズル室と、隔壁によって前記ノズル室と分離され、前記ガスクラスターが前記隔壁に設けたスキマーによってビーム形状に整えられて供給されるイオン化室とを設けた真空容器を備え、前記イオン化室に、前記ビーム形状に整えられたガスクラスターをイオン化するイオン化部と、該イオン化部でイオン化された前記ビーム形状に整えられたガスクラスターを加速させて被加工物の表面に照射させる加速電極系とを有するガスクラスターイオンビーム装置であって、
前記ノズル室と、前記イオン化室とは、それぞれ個別に排気系に接続され、
前記隔壁が前記真空容器内に摺動可能に設置されると共に、前記隔壁と対向して前記ノズルを設けた真空容器側板が前記真空容器に取外し自在に固着されており、
前記イオン化部と前記加速電極系を前記隔壁に支持すると共に、該隔壁を前記真空容器側板に支持部材で支持し、更に、前記イオン化部への電力供給配線が、前記真空容器側板及び前記隔壁との電気的絶縁を保った状態で前記イオン化部に接続されている、
ことを特徴とするガスクラスターイオンビーム装置。 - 前記隔壁は、前記真空容器の内周面と隙間を有して設置される、
ことを特徴とする請求項1に記載のガスクラスターイオンビーム装置。 - 前記隙間は、コンダクタンス値が10l/sec以下である、
ことを特徴とする請求項2に記載のガスクラスターイオンビーム装置。
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