JP4281331B2 - 不揮発性半導体記憶装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、不揮発性半導体記憶装置に関し、製造工程において、紫外線照射によりデータの消去を行うものに用いて好適である。
【0002】
【従来の技術】
従来、紫外線照射によりデータを消去する不揮発性半導体記憶装置として、EPROMがあり、さらにEPROMには、2層ゲート構造のものと、単層ゲート構造のものがある。図18(a)(b)に、EPROMのうち、単層ゲート構造の一例としてEPROM101を示す。図18(a)はEPROM101の平面図であり、図18(b)は図18(a)中のD−D’断面図である。
【0003】
EPROM101は、図18(a)に示すように、半導体基板2の表層部に高濃度のN型拡散層により構成されたコントロールゲート5と、半導体基板2上にポリシリコン等により構成されたフローティングゲート9とを有している。また、図18(b)に示すように、半導体基板2においては、P-型基板3上にP型ウェル4aが形成されている。この半導体基板2の表面上にゲート酸化膜8を介してフローティングゲート9が形成されている。そして、P型ウェル4aの表層部のうち、フローティングゲート9の両隣に位置する部位にそれぞれドレイン領域16とソース領域17とが形成されている。さらにこのフローティングゲート9を含む半導体基板2上にBPSG等による層間絶縁膜10及び図示しないがパッシベーション膜が形成されている。
【0004】
図19にEPROM101を用いた場合の連続通電時間と未書き込みトランジスタのVt変動量との関係を示す。EPROM101は、通電時間が増加するにつれ、Vtの変動量が増加する傾向がみられる。このような傾向は温度が80℃以上の高温になるほど顕著となる。また、層間絶縁膜10等の絶縁膜の種類や厚さが異なるものにおいても、同様の傾向がみられる。このことから、高温連続読み出し時(通電時)では未書き込みトランジスタのVtが大きく変動してしまい、このようなEPROMを高温環境下において連続読み出しを行う記憶装置として使用することができない。
【0005】
この原因を検討したところ、以下のことが推測される。図20は図18(a)中のE−E’断面における読み出し時(通電時)の電位分布シミュレーション結果を示す。
【0006】
半導体基板2はGND電位とされており、読み出し時では、コントロールゲート5とドレイン領域16とに電圧が印加される。そして、これらの影響により、フローティングゲート9にも電圧が印加された状態となる。このとき、図20に示すように、等電位線はフローティングゲート9を中心とした多重の円弧状となっている。したがって、フローティングゲート9からフローティングゲート9の周りに向かって電気力線が出ている状態となる。このため、フローティングゲート9の周りの層間絶縁膜10等からフローティングゲート9に電荷が集まってしまう。これが高温連続読み出し時に未書き込みトランジスタのVtが変動する原因であると推測される。
【0007】
そこで、フローティングゲート9に電荷が集まるのを防ぐ構造として、図21(a)(b)に示されるような構造のEPROM102がある。図21(a)は平面図であり、図21(b)は図21(a)中のF−F’断面図である。このEPROM102は、フローティングゲート9がAl等の金属配線層30で覆われており、その他の構成はEPROM101と同じ構成となっている(例えば、特許文献1、2参照)。
【0008】
図19にEPROM101と共にEPROM102の連続通電時間と未書き込みトランジスタのVt変動量との関係を示す。この結果より、EPROM101よりもEPROM102の方が通電時間の増加に伴うVtの変動量の増加が小さいことがわかる。
【0009】
そして、図22に図21(a)のG−G’断面における読み出し時の電位分布のシミュレーション結果を示す。図示しないが金属配線層30はコントロールゲートに電気的に接続されており、読み出し時において、金属配線層30に電圧が印加される。
【0010】
このとき、図22に示すように、等電位線は金属配線層30を中心として円弧状で、周りに広がるように何重にもなっている。このように、フローティングゲート9を中心とせず、金属配線層30を中心に等電位線が円弧状になっていることから、金属配線層30から層間絶縁膜10等の金属配線層30の周り向けて電気力線が出ている状態となる。このように、金属配線層30がフローティングゲート9から出ていた電気力線を遮断するバリア層として働くので、フローティングゲート9に電荷が集中するのを防止していると推測される。
【0011】
【特許文献1】
特許第3083547号公報
【0012】
【特許文献2】
特開平1−278781号公報
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、EPROMの製造工程において、通常、製品内の全てのEPROMに対して書き込み検査、及び、書き込まれたデータの保持検査が行われる。したがって、このようなEPROMの製造工程では製品ユーザが任意のデータを使用時に書き込めるように製品の出荷前にフローティングゲート9に紫外線を照射して、全てのEPROMのデータを消去する工程がある。しかしながら、EPROM102では、フローティングゲート9が金属配線層30で覆われていることから、金属配線層30によってフローティングゲート9への紫外線の照射量が制限されてしまう。
【0014】
図23にEPROM101及びEPROM102の紫外線の照射時間と書き込みトランジスタのVtとの関係を示す。紫外線の照射時間が増加したとき、Vtが一定となり始めた時間がデータが消去された時間である。この結果からわかるように、EPROM102はEPROM101に比べて、紫外線の照射時間が増加するため、生産性が低下するという問題がある。
【0015】
このような問題は単層ゲート構造だけでなく、フローティングゲート全体がコントロールゲートに覆われていない2層ゲート構造のEPROMにおいてもみられる。また、EPROMだけでなく、上記した構造と同様の構造を有するEEPROMにおいても同様の問題がみられる。これはEEPROMの製造工程においても、EPROMの製造工程と同様に、書き込み/消去検査、及び、書き込まれたデータの保持試験が行われるため、製品の出荷前に全てのEEPROMのデータを消去する必要があるからである。
【0016】
そこで、本発明は上記点に鑑みて、製造工程にて紫外線を照射する際に紫外線の照射時間を増加させることなく、高温連続読み出し時の未書き込みトランジスタのVt変動を抑制することができる不揮発性半導体記憶装置を提供することを目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、請求項1に記載の発明では、フローティングゲート(9)は、半導体基板(2)上に形成されているとともに、半導体基板の表面を上から見たときにコントロールゲート(5)と重なっている第1の領域(9a)と、ソース・ドレイン領域(16、17)の間に位置する第2の領域(9b)と、第1の領域(9a)と第2の領域(9b)とを連結する連結部(9c)とを有し、フローティングゲートは少なくとも連結部(9c)がコントロールゲートに覆われておらず、フローティングゲート(9)の上に絶縁膜(10)が形成され、この絶縁膜(10)の上にフローティングゲート(9)の電位変化を抑制するための金属配線層からなる導電層(15)が形成されており、導電層(15)は、フローティングゲート(9)を覆わずに、少なくとも連結部(9c)の隣りを含むフローティングゲート(9)の周りに配置されており、導電層(15)およびフローティングゲート(9)を上から見たときに、導電層(15)は、導電層(15)の端部とフローティングゲート(9)の端部との間隔(S)が0〜2μmであることを特徴としている。
【0018】
このように、導電層(15)はフローティングゲート(9)を覆っていないことから、紫外線照射特性を悪化させることはない。また、導電層(15)はフローティングゲート(9)の周りに形成されているので、フローティングゲート(9)と周りの他の領域との間に電位差が生じても、フローティングゲート(9)と周りの他の領域との間の電気力線をこの導電層により遮断できる。
【0019】
したがって、紫外線の照射時間を増加させることなく、高温連続読み出し時の未書き込みトランジスタのVt変動を抑制することができる。
【0020】
具体的には、請求項2のように、導電層(15)は第1の絶縁膜(10)上に形成されているのが好ましい。
【0021】
また、請求項3のように、導電層(15)が連結部(9c)の隣りのみに形成されている構成とすることができる。
【0022】
フローティングゲート(9)の電位変化を抑制するには、請求項4に示すように、導電層(15)がフローティングゲート(9)の周りを完全に囲んで形成されているのが好ましいが、フローティングゲート(9)の周りの多くの領域に導電層(15)が形成されていれば、フローティングゲート(9)の電位変化を抑制する効果がある。
【0023】
したがって、請求項3では、フローティングゲート(9)の周りの多くの領域に導電層(15)を形成していることから、フローティングゲート(9)の電位変化を抑制することができる。また、このように導電層(15)が形成されている場合では、導電層(15)がフローティングゲート(9)の周りを完全に囲むように形成されている場合に比べ、EPROMのサイズを縮小することができる。
【0025】
さらに、導電層(15)を請求項5のように電気的に孤立している状態とすることができ、また、請求項6のように電位固定されている状態とすることもできる。
【0026】
なお、請求項9に示すように、コントロールゲート(5)を半導体基板の表層に形成した不純物層にて構成することができ、また、請求項7、8に示すように、半導体基板の上に形成したポリシリコン層にて構成することもできる。
【0027】
なお、上記各手段の括弧内の符号は、後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものである。
【0028】
【発明の実施の形態】
(第1実施形態)
図1に本発明の第1実施形態における不揮発性半導体記憶装置としてのEPROM1の平面パターンを示す。また、図2に図1中のA−A’断面図を示し、図3に図1中のB−B’断面図を示す。
【0029】
図1には一点鎖線a−bの上下に1つずつメモリセルが形成されており、以下では一点鎖線a−bよりも紙面上側のメモリセルの構成について説明する。
【0030】
図2に示すように、半導体基板2はP-型基板3上にP型ウェル層4aとN型ウェル層4bとを備えている。そして、半導体基板2のうちN型ウェル層4b側には、N型ウェル層4bからP-型基板3にかけて高濃度のN型拡散層により構成されたコントロールゲート5が備えられている。
【0031】
また、P型ウェル層4a及びN型ウェル層4b上には絶縁膜としてのフィールド酸化膜6が形成されており、このフィールド酸化膜6によって素子分離がなされている。このフィールド酸化膜6は、N型ウェル層4bのうちコントロールゲート5の一部を含む領域とP型ウェル層4aの一部の領域において開口している。このフィールド酸化膜6が開口した部分のそれぞれに、コントロールゲート5側のゲート絶縁膜7とP型ウェル層4a側のゲート絶縁膜8とが形成されている。
【0032】
そして、フィールド酸化膜6上をまたいで、両ゲート絶縁膜7、8上にポリシリコンよりなるフローティングゲート9が形成されていると共に、フローティングゲート9を覆うように例えばBPSG等によりなる第1の絶縁膜としての層間絶縁膜10が形成されている。さらに層間絶縁膜10の上にはTEOS膜等によりなる第2の絶縁膜としての絶縁膜11が形成されており、最終的には半導体基板2の表面に例えばP−SiN等の保護膜12が形成されている。
【0033】
図1の平面パターンにおいて、点線で示されている領域は第1金属配線層であり、図2の層間絶縁膜10と絶縁膜11との間に位置する。また、同様に太い実線で示されている領域は第2金属配線層であり、第1金属配線層よりも上側に形成されており、図2の絶縁膜11と保護膜12との間に位置している。
【0034】
コントロールゲート5は図1に示すように、本実施形態では、例えば紙面上下方向に長い長方形状に形成されている。
【0035】
また、ワード線13は、Al等にて形成されている第1金属配線層であり、点線により示されるように、コントロールゲート5に平行で紙面上下方向に延びて形成されている。このワード線13の一部13aは、コントロールゲート5とオーバーラップするように、一点鎖線a−bに沿って、紙面右側に延びて形成されている。そして、コントロールゲート5は、コンタクト14を介してワード線13と電気的に接続されている。
【0036】
フローティングゲート9は、図1に示すように、一点鎖線a−bと平行な方向に延びた状態で形成されている。本実施形態では、このフローティングゲート9の紙面左側のコントロールゲート5と交差している領域は紙面右側に比べ面積が大きく、紙面右側の領域は紙面左右方向に対して細長い形状となっている。なお、フローティングゲート9はどの電極とも電気的に接続されておらず、電気的に孤立した状態となっている。
【0037】
また、図1中の点線で示され、点線によりハッチングが行われている領域は、バリア層15である。このバリア層15はフローティングゲート9を覆わず、フローティングゲート9がバリア層15から露出するように、フローティングゲート9の紙面右側の領域を除いたフローティングゲート9の周りを囲むように形成されている。バリア層15はAl等により形成され、本実施形態ではどの電極にも電気的に接続されておらず、電気的に孤立している。
【0038】
このバリア層15は第1金属配線層であり、図3に示すように、層間絶縁膜10上に形成されている。そして、バリア層15の端部とフローティングゲート9の端部との間隔Sは、本実施形態では、例えば、0.5μmとなっている。
【0039】
また、図3はトランジスタが形成されている領域の断面図であり、半導体基板2の表層部のうち、フローティングゲート9の両サイドに位置する部分にそれぞれドレイン領域16とソース領域17とが形成されている。ドレイン領域16及びソース領域17はN型拡散層にて構成されている。このN型拡散層は、図1に示すように、フローティングゲート9の紙面右側の端部近辺で交差して、紙面上下方向に延びるように形成されている。なお、この図では、N型拡散層は紙面上下方向に連続して示されているが、フローティングゲート9を形成した後にフローティングゲート9をマスクとしてイオン注入により形成されることから、図3に示すように、フローティングゲート9の下側には形成されていない。
【0040】
図1ではフローティングゲート9よりも上側のN型拡散層がドレイン領域16であり、このドレイン領域16はコンタクト18を介して層間絶縁膜10上に形成されている第1金属配線層である1stAl配線19と接続されている。さらにこの1stAl配線19はコンタクト20を介してa−bの一点鎖線と平行で、紙面左右方向に延びて形成されている第2金属配線層であるデータ線21と電気的に接続されている。
【0041】
一方、フローティングゲート9よりも紙面下側のN型拡散層はソース領域17であり、点線で示され、紙面上下方向に延びるように形成されているソース線22から、a−b間の一点鎖線に沿って左側に延びて形成されている部分22aとコンタクト23を介して電気的に接続されている。
【0042】
このようにして1つのメモリセルが構成されており、図1では、このメモリセルが一点鎖線a−bに対して、上下対照的に2つ形成されている。そして、本実施形態が適用されているEPROM1はこのようなメモリセルが複数形成されている。
【0043】
このように構成されたEPROM1において、書き込みを行う際には、トランジスタ領域のドレイン16に電圧を印加してホットキャリアを発生させると共に、コントロールゲート4に電圧を印加し、フローティングゲート9へのキャリア注入を行って、トランジスタのしきい値電圧Vtを変動させる(初期値より高くする)。そして、読み出しの際には、未書き込みセル(初期セル)のVtと書き込みセルのVtとの間の電圧を加え、トランジスタの「オン」「オフ」によって「0」「1」を識別する。
【0044】
図4に図1中のC−C‘断面における読み出し時(通電時)の電位分布シミュレーション結果を示す。本実施形態においては、フローティングゲート9の近傍にバリア層15が配置されていることから、読み出し時において、図4のシミュレーション結果のように、層間絶縁膜10等のフローティングゲート9周りの絶縁膜とフローティングゲート9との間に電位差があっても、バリア層15から電気力線がフローティングゲート9の周りの領域に向かって出ている状態となる。
【0045】
言い換えると、フローティングゲート9とその周りの絶縁膜との間の電気力線がバリア層15によって遮断された状態となる。このことから、フローティングゲート9に電荷が集まることを防止し、読み出し時のフローティングゲート9の電位変化を抑制することができる。したがって、高温連続での読み出し時においても、未書き込みトランジスタのVtの変動を減少させることができる。
【0046】
図5にフローティングゲート9の端部とバリア層15の端部との間隔S(図3参照)と、1時間通電後のVt変動量との関係を示す。なお、この結果は80℃以上のある温度での結果であり、温度や層間絶縁膜等の条件は図19と同じである。図5の第1金属配線層と示されている結果から、両端部の間隔が2.0μmより広がると、Vtの変動量が大きく増加していることがわかる。このような傾向は80℃以上の高温では、どの温度においても同様の傾向を示すことがわかっている。このことから、フローティングゲート9の端部とバリア層15の端部との間隔Sは図3では0.5μmであったが、両端部の間隔が0〜2.0μmとなるようにフローティングゲート9の周りにバリア層15を配置することができる。
【0047】
なお、図19には本実施形態でのEPROM1のVt変動量と時間との関係を従来のEPROM101、102と共に示している。ここでは、フローティングゲート9の端部とバリア層15の端部との間隔Sが0μmのときのEPROM1の結果と2.0μmのときのEPROM1の結果の一部とが示されている。通電時間が1時間のときのVtの変動量をみると、0μm、2.0μmどちらのときもEPROM101よりも小さく、EPROM102の変動量に近いことがわかる。
【0048】
また、これまでに説明してきたバリア層15は第1金属配線層で構成されていたが、この代わりに第2金属配線層でバリア層15を構成した場合の1時間通電後のVt変動量を第1金属配線層のときの結果と共に図5に示す。なお、間隔Sが0.5μmの場合のみ、プロットしている。この場合では、第1金属配線層を間隔Sが0.5μmとなるように配置した場合と比較すると、Vt変動量が大きいことがわかる。
【0049】
このことから、断面構造において、バリア層15が絶縁膜11の上方向にフローティングゲート9から離れたところに配置されていても効果がないと言える。したがって、本実施形態では、バリア層15を層間絶縁膜10と絶縁膜11との間に配置している。
【0050】
また、フローティングゲート9は、バリア層15に覆われてなく、フローティングゲート9はバリア層15から完全に露出していることから、紫外線消去特性を悪化させることがない。
【0051】
したがって、本実施形態を適用したEPROM1は、生産性が低下しないことから安価であり、また、高温環境下でも動作保証等の高い信頼性を有することから、例えば自動車用センサ製品で個々のセンサ出力の調整後のデータの記憶装置として使用することができる。
【0052】
なお、本実施形態では、フローティングゲート9とソース電極との間にバリア層15を配置していないのは、ここにバリア層15を配置すると、ソース線22と接触しないようにバリア層15とソース線22との間に十分な間隔が必要となり、EPROMのサイズが大きくなってしまうので、これを避けるためである。このバリア層15が形成されていない領域は、フローティングゲート9の複数の辺のうち最も短い辺の隣りである。この場合では、これらの複数の辺のうち、残りの辺の隣りにバリア層15が配置されており、バリア層15はフローティングゲート9の周りをほぼ取り囲んでいる状態となっていることから、フローティングゲート9の周囲からフローティングゲート9に電荷が集まるのを防ぐことができる。
【0053】
また、EPROMのサイズが大きくなってしまうのを避けるためのバリア層15のレイアウトパターンとしては、例えば、図6に示すように、フローティングゲート9のうちコントロールゲート5とオーバーラップしている領域9aと、トランジスタ領域に形成されている領域9bとを連結している連結部9cの隣りにバリア層15を配置することもできる。通常、フローティングゲート9の周囲の領域のうち、連結部9cの隣りの領域が最も大きいことから、フローティングゲート9の周りの領域での、このバリア層15が占める割合は大きい。このように、バリア層15を配置することで、フローティングゲート9の周囲からフローティングゲート9に電荷が集まるのを防ぐことができる。
【0054】
一方、図7に示すようにフローティングゲート9とソース線22との間にもバリア層15を配置し、フローティングゲート9を完全に囲むようにバリア層15を形成しても良い。このようにフローティングゲート9の周囲の全てにバリア層15を配置するとEPROMのサイズをそれだけ大きくしてしまうが、高温連続読み出し時の未書き込みトランジスタのVt変動を抑制するには、フローティングゲート9の周りのできる限り多くの領域にバリア層15が形成されるのが好ましい。したがって、この場合では、フローティングゲート9の周囲からフローティングゲート9に電荷が集まるのを防止する効果が最も高いので、高温連続読み出し時の未書き込みトランジスタのVt変動量を、バリア層15が上記した各形状の場合よりも小さくすることができる。
【0055】
(第2実施形態)
図8に第2実施形態を適用したEPROM2の平面パターンを示す。第1実施形態では、フローティングゲート9の周りに形成されていたバリア層15は、どの電極にも電気的に接続されず、電気的に孤立した状態であったが、バリア層15をワード線13に電気的に接続された状態とすることができる。すなわち、ワード線13からフローティングゲート9に沿って右方向に延びるように形成することで、フローティングゲート9の近傍にバリア層15を形成しても良い。
【0056】
また、図示しないが、バリア層15がソース線22(GND電位)に接続された構成とすることもできる。
【0057】
これらの場合でも、フローティングゲート9の端部とワード線13の端部との間隔は2μm以下とし、フローティングゲート9はバリア層15に覆われないようにする。
【0058】
これらによっても、フローティングゲート9の電位がフローティングゲート9の周りの絶縁膜の電位による影響を受けにくくできるので、第1実施形態と同様の効果が得られる。
【0059】
また、上記した各実施形態を組み合わせても良く、バリア層15は2つの領域を有し、その一方の領域は電気的に孤立した状態で、他方の領域はワード線13に電気的に接続された状態とすることもできる。
【0060】
(第3実施形態)
上記した各実施形態では、コントロールゲート5が不純物拡散層により構成されている場合を例として説明したが、コントロールゲート5をポリシリコンにより構成することもできる。図9、10に本実施形態における第1の例を示し、図11に第2の例を示す。図9は平面図であり、図10、11は図9中のA−A’断面図である。図9ではコントロールゲート5の領域を設計上、図1よりも大きくしているが、その他は図1と同様の構造であるため、図9についての説明を省略する。
【0061】
本実施形態では、図10に示すように、コントロールゲート5がフィールド酸化膜6の上にてポリシリコンにより形成されている。そして、コントロールゲート5とフローティングゲート9とがオーバーラップしている領域では、絶縁膜6aを介して、フローティングゲート9aの下側にコントロールゲート5が配置された構造となっている。なお、その他は図2と同様の構造となっている。
【0062】
このように、コントロールゲート5がポリシリコンにより構成され、フローティングゲート9がコントロールゲート5に覆われていない構造のEPROMも、第1実施形態と同様の効果を有する。
【0063】
また、図11に示すように、コントロールゲート5とフローティングゲート9とがオーバーラップしている領域では、絶縁膜6aを介して、フローティングゲート9aの上側にコントロールゲート5が配置された構造とすることもできる。
【0064】
このように、コントロールゲート5がポリシリコンにより構成され、フローティングゲート9の一領域9aがコントロールゲート5に覆われているが、フローティングゲート9の全体がコントロールゲート5に覆われていない構造のEPROMも上記した各実施形態と同様の効果を有する。
【0065】
なお、第1実施形態中の図2に示すように、コントロールゲート5を高濃度のN型拡散層により構成する場合では、P型ウェル層4aとコントロールゲート5とのPN接合が形成されると、このPN接合は低い電圧にてブレークダウンが発生するため、耐圧が低くなってしまう。したがって、耐圧を向上させるために、P型ウェル層4aとコントロールゲート5との間にコントロールゲート5よりも低濃度のN型ウェル層4bを配置していた。
【0066】
これに対して、本実施形態のように、コントロールゲート5をポリシリコンにより構成する場合では、上記したようにN型ウェル層4bを配置する必要がない。したがって、本実施形態によれば、コントロールゲート5を高濃度のN型拡散層により構成する場合と比較して、P型ウェル層4aとコントロールゲート5との間隔を狭めることができる。すなわち、コントロールゲート5をポリシリコンにより構成することで、コントロールゲート5を不純物拡散層により構成する場合よりもセル領域を縮小することができる。
【0067】
なお、図1に示すように導電層15が配置されたEPROMについて説明したが、第1実施形態中の図6、7に示すEPROM、第2実施形態中の図8に示すEPROM、各実施形態が組み合わされた構造のEPROMにおいても、本実施形態と同様に、コントロールゲートをポリシリコンにより構成することができる。
【0068】
(第4実施形態)
また、上記した各実施形態では、EPROMについて説明したが、フローティングゲート全体がコントロールゲートで覆われていない構造を有するEEPROMにおいても、本発明を適用することができる。
【0069】
図12〜17に本実施形態におけるEEPROMの平面図を示す。なお、図12中の領域40は半導体基板の表層に形成されているN型拡散層を示している。また、点線にて示している領域15、22、36は、第1実施形態と同様に、第1金属配線を示しており、図2中の層間絶縁膜10と絶縁膜11との間に位置している。
【0070】
図12に示すように、本実施形態のEEPROMは、メモリトランジスタ領域30と選択トランジスタ領域31とを有している。メモリトランジスタ領域30では、コントロールゲート5、フローティングゲート9、およびトンネル膜32が形成されている。また、半導体基板のうち、フローティングゲート9の両側にドレイン領域16、ソース領域17が形成されている。
【0071】
一方、選択トランジスタ領域31ではゲート電極33が形成されており、半導体基板のうち、ゲート電極33の両側にドレイン領域34およびソース領域35が形成されている。
【0072】
なお、本実施形態のEEPROMの断面構造は、図示しないが、第1実施形態中の図2とほとんど同じである。コントロールゲート5は、図2に示すように、半導体基板2の表層に形成された高濃度のN型拡散層により構成されている。そして、コントロールゲート5は図示しないが、ワード線に電気的に接続されている。
【0073】
また、トンネル膜32は図2中のゲート酸化膜8の代わりに、半導体基板2の上に形成されている。そして、トンネル膜32およびフィールド酸化膜6の上にフローティングゲート9、ゲート電極33が配置されている。
【0074】
さらにフローティングゲート9、ゲート電極33の上には、図2と同様に、層間絶縁膜10が形成されている。層間絶縁膜10の上にはバリア層15、ソース線22、およびビット線36が配置されている。ソース線22はコンタクト37を介してソース領域17と電気的に接続されており、ビット線36はコンタクト38を介して選択トランジスタ領域31のドレイン領域34に電気的に接続されている。
【0075】
バリア層15は層間絶縁膜10の上にて、フローティングゲート9を覆うことなく、フローティングゲート9の周りに配置されている。そして、半導体基板の表面を上から見たときのバリア層15の端部とフローティングゲート9の端部との間隔は、第1実施形態と同様に、0〜2.0μmとなっている。なお、バリア層15はフローティングゲート9の周辺のうち、ソース線22が形成されていない領域に配置されている。
【0076】
また、バリア層15、ソース線22、およびビット線36の上には、図2に示すように、絶縁膜11、保護膜12が形成されている。
【0077】
本実施形態では、このようにフローティングゲート9がコントロールゲート5に覆われていない単層ゲート構造のEEPROMにおいて、フローティングゲート9の周囲全てに、バリア層15とソース線22が配置されている。したがって、本実施形態においても、第1実施形態と同様の効果を有する。
【0078】
なお、コントロールゲート5は不純物拡散層だけでなく、ポリシリコンにより構成することもできる。このときにおいても、第3実施形態と同様に、コントロールゲート5とフローティングゲート9とがオーバーラップしている領域にて、フローティングゲート9aの下側にコントロールゲート5を配置したり、フローティングゲート9aの上側にコントロールゲート5を配置する。すなわち、EEPROMをフローティングゲート9の全てがコントロールゲート5に覆われていない構造とする。
【0079】
また、上記したように、図12では、バリア層15はフローティングゲート9の周辺のうち、ソース線22が形成されていない領域の全てに配置されていたが、第1実施形態中の図6に示す構造と同様に、フローティングゲート9のうち、コントロールゲート5とオーバーラップしている領域9aとトランジスタ領域9bとを連結している連結部9cの隣りにのみバリア層15を配置することもできる。
【0080】
これは、第1実施形態にても説明したように、フローティングゲート9の周囲の領域全体に対する連結部9cの隣りの領域が占める割合が大きいからである。特に、ポリシリコンにより構成されたコントロールゲート5がフローティングゲート9aの上に配置されている場合では、フローティングゲート9の周囲における連結部9cの隣りの領域が、フローティングゲート9の周囲の領域を占める割合は大きい。
【0081】
したがって、このようにバリア層15を少なくとも、フローティングゲート9の連結部9cの隣りに配置することで、第1実施形態と同様の効果を有する。
【0082】
また、バリア層15は以下に説明する固定電位やパターンとすることもできる。以下のようにしても、第1実施形態と同様の効果を有する。
【0083】
例えば、図13に示すように、コンタクト39を介してバリア層15とコントロールゲート5とを接続し、バリア層15をコントロールゲート5の電位に固定することができる。
【0084】
また、図14に示すように、バリア層15のパターンを、図12中のバリア層15とソース線22とを一体化させたパターンとして、バリア層15をソース線22の電位に固定することもできる。すなわち、バリア層としても機能させるため、フローティングゲート9を覆うことなく、フローティングゲート9の周りに、ソース線を配置することもできる。なお、この場合では、EEPROMはフローティングゲート9の周囲の全てにバリア層15が配置されている構造となっている。
【0085】
また、図15に示すように、バリア層15のパターンを、図12中のバリア層15とビット線36とを一体化させたパターンとして、バリア層15をビット線36の電位に固定することもできる。すなわち、バリア層として機能させるため、フローティングゲート9を覆うことなく、フローティングゲート9の周りに、ビット線36を配置することもできる。
【0086】
また、図16、17に示すように、バリア層15のパターンを、図12中のバリア層15の一部をソース線22と一体化させ、残りの部分をビット線36と一体化させたパターンとすることもできる。
【0087】
図14〜17に示すように、バリア層15をソース線22やビット線36の電位に固定する場合では、図12に示すように、ソース線22もしくはビット線36とバリア層15との間に間隔を設けることが不要となる。したがって、バリア層15をソース線22やビット線36の電位に固定することで、図12に示すようにバリア層15が電気的に孤立した状態の場合と比較して、セルサイズを縮小させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態を適用した不揮発性半導体記憶装置としてのEPROMの平面図である。
【図2】図1中のA−A’線方向断面図である。
【図3】図1中のB−B’線方向断面図である。
【図4】図1中のC−C’線方向断面における電位分布シミュレーション結果を示す図である。
【図5】図3のフローティングゲートの端部とバリア層の端部との間隔と通電後のVt変動量の関係を示す図である。
【図6】図1の変形例1を示す平面図である。
【図7】図1の変形例2を示す平面図である。
【図8】本発明の第2実施形態を適用した不揮発性半導体記憶装置としてのEPROMの平面図である。
【図9】第3実施形態の第1の例としてのEPROMの平面図である。
【図10】図9中のA−A’線方向断面図である。
【図11】第3実施形態の第2の例としてのEPROMを示しており、図9中のA−A’線方向断面図である。
【図12】第4実施形態の第1の例としてのEEPROMの平面図である。
【図13】第4実施形態の第2の例としてのEEPROMの平面図である。
【図14】第4実施形態の第3の例としてのEEPROMの平面図である。
【図15】第4実施形態の第4の例としてのEEPROMの平面図である。
【図16】第4実施形態の第5の例としてのEEPROMの平面図である。
【図17】第4実施形態の第6の例としてのEEPROMの平面図である。
【図18】(a)は従来構造の不揮発性半導体記憶装置としてのEPROM101の平面図であり(b)は(a)中のD−D’断面図である。
【図19】高温連続読み込み時間と未書き込みトランジスタのVt変動量との関係を示す図である。
【図20】図18(a)中のE−E’断面における電位分布シミュレーション結果を示す図である。
【図21】(a)は従来構造の不揮発性半導体記憶装置としてのEPROM102の平面図であり、(b)は(a)中のF−F’断面図(b)である。
【図22】図21(a)中のG−G’断面における電位分布シミュレーション結果を示す図である。
【図23】紫外線照射時間と未書き込みトランジスタのVt変動量との関係を示す図である。
【符号の説明】
2…半導体基板、3…P-型基板、4a…P型ウェル、4b…N型ウェル、
5…コントロールゲート、6…フィールド酸化膜、6a…絶縁膜、
7、8…ゲート酸化膜、9…フローティングゲート、10…層間絶縁膜、
11…絶縁膜、12…保護膜、13…ワード線、15…バリア層、
16…ドレイン領域、17…ソース領域、22…ソース線、
30…メモリトランジスタ領域、31…選択トランジスタ領域、
32…トンネル領域、33…選択ゲート、
34…選択トランジスタのドレイン領域、
35…選択トランジスタのソース領域、36…ビット線、
37、38、39…コンタクト。
Claims (9)
- コントロールゲート(5)およびフローティングゲート(9)を有し、前記フローティングゲート(9)に紫外線を照射してデータを消去する構成の不揮発性半導体記憶装置において、
前記半導体基板(2)にソース・ドレイン領域(16、17)が形成されており、
前記フローティングゲート(9)は、前記半導体基板(2)上に形成されているとともに、前記半導体基板の表面を上から見たときに前記コントロールゲート(5)と重なっている第1の領域(9a)と、前記ソース・ドレイン領域(16、17)の間に位置する第2の領域(9b)と、前記第1の領域(9a)と前記第2の領域(9b)とを連結する連結部(9c)とを有し、
前記フローティングゲートは少なくとも前記連結部(9c)が前記コントロールゲートに覆われておらず、
前記フローティングゲート(9)の上に絶縁膜(10)が形成され、この絶縁膜(10)の上に前記フローティングゲート(9)の電位変化を抑制するための金属配線層からなる導電層(15)が形成されており、
前記導電層(15)は、前記フローティングゲート(9)を覆わずに、少なくとも前記連結部(9c)の隣りを含む前記フローティングゲート(9)の周りに配置されており、
前記導電層(15)および前記フローティングゲート(9)を上から見たときに、前記導電層(15)は、前記導電層(15)の端部と前記フローティングゲート(9)の端部との間隔(S)が0〜2μmであることを特徴とする不揮発性半導体記憶装置。 - 前記フローティングゲート(9)上に形成されている第1の絶縁膜(10)と、前記第1の絶縁膜(10)上に形成されている第2の絶縁膜(11)とを有し、
前記導電層(15)は前記第1の絶縁膜(10)と前記第2の絶縁膜(11)との間に形成されていることを特徴とする請求項1に記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 前記導電層(15)は前記連結部(9c)の隣りのみに形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の不揮発性半導体記憶装置。
- 前記導電層(15)は、前記フローティングゲート(9)の周りを完全に囲んで形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の不揮発性半導体記憶装置。
- 前記導電層(15)は、電気的に孤立していることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1つに記載の不揮発性半導体記憶装置。
- 前記導電層(15)は、電位固定されていることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1つに記載の不揮発性半導体記憶装置。
- 前記コントロールゲート(5)は、前記半導体基板(2)の上に形成されたポリシリコンにより構成され、絶縁膜(6a)を介して前記フローティングゲート(9)の前記第1の領域(9a)の上に配置されており、
前記半導体基板の表面を上から見たとき、前記フローティングゲート(9)の前記第1の領域(9a)を除く領域が前記コントロールゲート(5)に覆われていないことを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1つに記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 前記コントロールゲート(5)は、前記半導体基板(2)の上に形成されたポリシリコンにより構成され、絶縁膜(6a)を介して前記フローティングゲート(9)の前記第1の領域(9a)の下に配置されており、
前記半導体基板の表面を上から見たとき、前記フローティングゲート(9)の全部が前記コントロールゲート(5)に覆われていないことを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1つに記載の不揮発性半導体記憶装置。 - 前記コントロールゲート(5)は、前記半導体基板(2)に形成された不純物層により構成されており、
前記半導体基板の表面を上から見たとき、前記フローティングゲート(9)の全部が前記コントロールゲート(5)に覆われていないことを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1つに記載の不揮発性半導体記憶装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002333774A JP4281331B2 (ja) | 2002-01-21 | 2002-11-18 | 不揮発性半導体記憶装置 |
US10/330,167 US6818942B2 (en) | 2002-01-21 | 2002-12-30 | Non-volatile semiconductor storage device having conductive layer surrounding floating gate |
DE10302133.7A DE10302133B4 (de) | 2002-01-21 | 2003-01-21 | Nichtflüchtige Halbleiterspeichervorrichtung mit einer ein Floating-Gate umgebenden leitenden Schicht |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002-11560 | 2002-01-21 | ||
JP2002011560 | 2002-01-21 | ||
JP2002333774A JP4281331B2 (ja) | 2002-01-21 | 2002-11-18 | 不揮発性半導体記憶装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003282749A JP2003282749A (ja) | 2003-10-03 |
JP4281331B2 true JP4281331B2 (ja) | 2009-06-17 |
Family
ID=26625579
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002333774A Expired - Fee Related JP4281331B2 (ja) | 2002-01-21 | 2002-11-18 | 不揮発性半導体記憶装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6818942B2 (ja) |
JP (1) | JP4281331B2 (ja) |
DE (1) | DE10302133B4 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100623185B1 (ko) * | 2004-11-19 | 2006-09-19 | 삼성전자주식회사 | 반도체 장치 및 이의 제조 방법 |
US7414889B2 (en) * | 2006-05-23 | 2008-08-19 | Macronix International Co., Ltd. | Structure and method of sub-gate and architectures employing bandgap engineered SONOS devices |
CN102017129B (zh) * | 2008-05-09 | 2013-10-23 | 株式会社半导体能源研究所 | 非易失性半导体存储装置 |
US8188535B2 (en) | 2008-05-16 | 2012-05-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Nonvolatile semiconductor memory device and manufacturing method thereof |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4649520A (en) | 1984-11-07 | 1987-03-10 | Waferscale Integration Inc. | Single layer polycrystalline floating gate |
JP2633571B2 (ja) * | 1987-07-30 | 1997-07-23 | 株式会社東芝 | 紫外線消去型不揮発性半導体装置 |
JPH01278781A (ja) | 1988-05-02 | 1989-11-09 | Nec Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
JPH022684A (ja) | 1988-06-15 | 1990-01-08 | Nec Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
FR2635408B1 (fr) * | 1988-08-11 | 1992-04-10 | Sgs Thomson Microelectronics | Memoire de type eprom a haute densite d'integration |
US4970565A (en) | 1988-09-01 | 1990-11-13 | Atmel Corporation | Sealed charge storage structure |
JPH02272775A (ja) | 1989-04-14 | 1990-11-07 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
JPH02312282A (ja) | 1989-05-26 | 1990-12-27 | Nec Ic Microcomput Syst Ltd | 読出し専用メモリ |
EP0408054A3 (en) * | 1989-07-14 | 1991-10-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Ultraviolet erasable non-volatile semiconductor memory apparatus |
IT1230363B (it) | 1989-08-01 | 1991-10-18 | Sgs Thomson Microelectronics | Cella di memoria eeprom, con protezione migliorata da errori dovuti a rottura della cella. |
JP3083547B2 (ja) | 1990-07-12 | 2000-09-04 | 株式会社日立製作所 | 半導体集積回路装置 |
US5640345A (en) * | 1993-10-01 | 1997-06-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Semiconductor memory device and fabrication process |
JP3344598B2 (ja) | 1993-11-25 | 2002-11-11 | 株式会社デンソー | 半導体不揮発メモリ装置 |
JP3183326B2 (ja) * | 1996-07-17 | 2001-07-09 | 日本電気株式会社 | 読出専用半導体記憶装置 |
FR2772967B1 (fr) | 1997-12-18 | 2004-01-02 | Sgs Thomson Microelectronics | Cellule de memoire eeprom protegee |
US6355527B1 (en) * | 1999-05-19 | 2002-03-12 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Method to increase coupling ratio of source to floating gate in split-gate flash |
US20020000605A1 (en) * | 2000-06-28 | 2002-01-03 | Chun-Mai Liu | Method of fabricating high-coupling ratio split gate flash memory cell array |
-
2002
- 2002-11-18 JP JP2002333774A patent/JP4281331B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2002-12-30 US US10/330,167 patent/US6818942B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-01-21 DE DE10302133.7A patent/DE10302133B4/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20030136987A1 (en) | 2003-07-24 |
JP2003282749A (ja) | 2003-10-03 |
US6818942B2 (en) | 2004-11-16 |
DE10302133B4 (de) | 2017-07-06 |
DE10302133A1 (de) | 2003-07-31 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041215 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070511 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071218 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120327 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120327 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130327 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140327 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |