JP4272646B2 - エッチング装置 - Google Patents
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Description
3 基板電極部 4、5、6 磁場コイル
7 磁気中性線 8 高周波アンテナコイル
9 高周波電源 10 基板電極
11 絶縁体部材 12 ブロッキングコンデンサー
13 高周波電源 14 天板(対向電極、浮遊電極)
15 ガス導入口 16 排気口
17 絶縁体 18 可変コンデンサー
Claims (4)
- 真空チャンバー内の上部にプラズマ発生部、下部に基板電極部を設け、誘電体で構成されたプラズマ発生部側壁の外側に一の高周波電源に接続されたプラズマ発生用のアンテナコイルを設け、該基板電極部には別の高周波電源に接続されて高周波バイアス電力が印加される基板電極を設けてなるエッチング装置において、
該真空チャンバー内にファラディシールド又は静電場シールド様浮遊電極を設置してプラズマと接するようにし、
該アンテナコイルと該一の高周波電源との間の給電路の途中に分岐路を設けて、この分岐路に設けた可変コンデンサーを介して該浮遊電極に高周波電力の一部が分岐印加されるように構成し、
該浮遊電極に印加される高周波電圧をモニターし、この高周波電圧を一定に制御する制御機構を設け、
該制御機構が、該一の高周波電源から浮遊電極に印加される電圧を測定する高周波電圧測定回路、この高周波を直流に変換する検波回路及び設定電圧値との差を検出するDC差動増幅回路、並びに該設定電圧値になるように可変コンデンサーを動かすモーター駆動回路を有し、該浮遊電極に該電圧測定回路が接続され、該電圧測定回路に該検波/DC差動増幅回路が接続され、該検波/DC差動増幅回路に該モーター駆動回路が接続されて可変コンデンサーに組み込まれ、該可変コンデンサーにより高周波電圧を一定に制御するように構成され、
該浮遊電極の表面電位が−500Vとなるように、浮遊電極に電力が印加されるように構成したことを特徴とするエッチング装置。 - 前記アンテナコイルの外側に磁場コイルを設け、この磁場コイルによってプラズマ発生部内に形成された環状磁気中性線に沿って交番電場が印加され、該磁気中性線に放電プラズマを発生せしめるように構成されていることを特徴とする請求項1記載のエッチング装置。
- 真空チャンバー内の上部にプラズマ発生部、下部に基板電極部を設け、誘電体で構成されたプラズマ発生部側壁の外側に一の高周波電源に接続されたプラズマ発生用のアンテナコイルを設け、該基板電極部には別の高周波電源に接続されて高周波バイアス電力が印加される基板電極を設け、この基板電極に対向させて該プラズマ発生部内に対向電極を設けてなるエッチング装置において、
該対向電極は該プラズマ発生部側壁の上部フランジに絶縁体を介して密封固着され、電位的に浮遊状態として構成された浮遊電極であり、
該アンテナコイルとその高周波電源との間の給電路の途中に分岐路を設けて、この分岐路に設けた可変コンデンサーを介して該浮遊電極に高周波電力の一部が印加されるように構成し、
該浮遊電極に印加される高周波電圧をモニターし、この高周波電圧を一定に制御する制御機構を設け、
該制御機構が、該一の高周波電源から浮遊電極に印加される電圧を測定する高周波電圧測定回路、この高周波を直流に変換する検波回路及び設定電圧値との差を検出するDC差動増幅回路、並びに該設定電圧値になるように可変コンデンサーを動かすモーター駆動回路を有し、該浮遊電極に該電圧測定回路が接続され、該電圧測定回路に該検波/DC差動増幅回路が接続され、該検波/DC差動増幅回路に該モーター駆動回路が接続されて可変コンデンサーに組み込まれ、該可変コンデンサーにより高周波電圧を一定に制御するように構成され、
該対向電極に接続された一の高周波電源の周波数が13.56MHzである場合、この電極に印加される直流電圧が−500V以下になるように構成されたことを特徴とするエッチング装置。 - 前記アンテナコイルの外側に磁場コイルを設け、この磁場コイルによってプラズマ発生部内に形成された環状磁気中性線に沿って交番電場が印加され、該磁気中性線に放電プラズマを発生せしめるように構成されていることを特徴とする請求項3記載のエッチング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005242147A JP4272646B2 (ja) | 2005-08-24 | 2005-08-24 | エッチング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2001305101A Division JP3736795B2 (ja) | 2001-05-18 | 2001-10-01 | エッチング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2006049922A JP2006049922A (ja) | 2006-02-16 |
JP4272646B2 true JP4272646B2 (ja) | 2009-06-03 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2005242147A Expired - Lifetime JP4272646B2 (ja) | 2005-08-24 | 2005-08-24 | エッチング装置 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP4272646B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20090046955A (ko) * | 2006-09-08 | 2009-05-11 | 가부시키가이샤 알박 | 드라이 에칭 장치 및 방법 |
KR102273970B1 (ko) * | 2017-12-26 | 2021-07-07 | 주식회사 엘지화학 | 파라데이 상자를 이용한 플라즈마 식각 방법 |
CN115039516B (zh) * | 2020-03-31 | 2024-01-02 | Atonarp株式会社 | 等离子体生成装置 |
KR102607297B1 (ko) * | 2020-12-10 | 2023-11-28 | 에이피시스템 주식회사 | 플라즈마 처리장치 및 플라즈마 모니터링 방법 |
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Publication number | Publication date |
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JP2006049922A (ja) | 2006-02-16 |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080926 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120306 Year of fee payment: 3 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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