JP4269664B2 - Method for producing barrier film having converting aptitude - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、食品、医薬品、精密電子部品等の包装分野に用いられる透明性を有するコンバーティング適性を有するガスバリアフィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、食品、医薬品、精密電子部品等の包装に用いられる包装材料は、内容物の変質、特に食品においては蛋白質や油脂等の酸化、変質を抑制し、さらに味、鮮度を保持するために、また無菌状態での取扱いが必要とされる医薬品においては有効成分の変質を抑制し、効能を維持するために、さらに精密電子部品においては金属部分の腐食、絶縁不良等を防止するために、包装材料を透過する酸素、水蒸気、その他内容物を変質させる気体による影響を防止する必要があり、これら気体（ガス）を遮断するガスバリア性を備えることが求められている。
【０００３】
そのため、従来から塩化ビニリデン樹脂をコートしたポリプロピレン（ＫＯＰ）やポリエチレンテレフタレート（ＫＰＥＴ）或いはエチレンビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）など一般にガスバリア性が比較的高いと言われる高分子樹脂組成物をガスバリア材として包装材料に用いた包装フィルムや、アルミニウム（Ａｌ）などの金属からなる金属箔、適当な高分子樹脂組成物（単独では、高いガスバリア性を有していない樹脂であっても）に、Ａｌなどの金属又は金属化合物を蒸着した金属蒸着フィルムを包装材料に用いた包装フィルムが一般的に使用されてきた。
【０００４】
ところが、上述の高分子樹脂組成物のみを用いてなる包装フィルムは、Ａｌなどの金属又は金属化合物を用いた箔や、蒸着層を形成した金属蒸着フィルムに比べると、ガスバリア性に劣るだけでなく、温度・湿度の影響を受けやすく、その変化によってはさらにガスバリア性が劣化することがる。一方、Ａｌなどの金属又は金属化合物を用いた箔や蒸着層を形成した金属蒸着フィルムは、温度・湿度などの影響を受けることは少なく、ガスバリア性に優れるが、包装体の内容物を透視して確認することができないとする欠点を有していた。
【０００５】
そこで、これらの欠点を克服した包装用材料として、最近では、蒸着などの形成手段により基材上にセラミック薄膜が形成された透明性を有する高分子材料からなる蒸着フィルムが市販されている。
【０００６】
セラミック薄膜の材料としては、酸化アルミニウム（ＡｌＯ_x ）、一酸化珪素（ＳｉＯ）などの珪素酸化物、酸化マグネシウム、酸化カルシウムなどが、安全性、原材料価格の点などから候補となり得る。しかしながら、珪素酸化物は、材料特有の色があるため、高透明にはなり得ず、また酸化マグネシウム、酸化カルシウムは原材料の昇華温度が高く、そのために蒸着工程における蒸発速度が低くなる。そのためバリア性を発現させるのに十分な２００Å程度の薄膜を付着させようとすると、製膜時間が長時間になり、高コストに繋がるため商業的採算が合わない。
【０００７】
上記理由から、酸化アルミニウムの反応蒸着が、原材料の安さと透明性から、最も注目される材料である。
【０００８】
しかしながら、従来のように酸化アルミニウムの膜組成を、厚さ方向に対し均一に蒸着した蒸着膜では、膜表面が塑性変形に弱いため、印刷、押し出しラミネートなどのコンバーティング（加工処理）を行うと、バリア性が急激に悪化してしまうと言う欠点があった。このため蒸着層上にポリビニルアルコールなどの保護コーティングを行うことが必要で有り、生産コストの上昇に繋がっていた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、蒸着膜のコンバーティング時のバリア劣化を防止し、安価なバリアフィルムを作製することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決すべくなされたものであり、本発明の請求項１に係る発明は、高分子材料からなる基材の少なくとも一方の面に、アルミニウムを蒸着材料とし、酸素の導入を前記基材の蒸着装置への巻き出し導入側からのみにして蒸着装置内に基材導入直後の基材表面近傍の酸化度を大きくした反応蒸着により酸化アルミニウム蒸着膜を設け、前記反応蒸着により、前記蒸着装置内に基材導入直後の基材表面近傍の酸化度を大きくし、酸素導入の少ない基材排出側に向けて前記基材を送行移動することにより徐々に蒸着膜表面に向けて酸化度を小さくして前記酸化アルミニウム蒸着膜を設け、該酸化アルミニウム蒸着膜のアルミニウムと酸素の組成比率Ａｌ／Ｏが、前記基材側から蒸着膜の膜表面の方向に増大する組成傾斜構造を有するようにしたことを特徴とするコンバーティング適性を有するバリアフィルムの製造方法である。
【００１１】
本発明の請求項２に係る発明は、上記請求項１に係るコンバーティング適性を有するバリアフィルムの製造方法において、前記傾斜構造が、前記基材側から蒸着膜の膜表面の方向に、アルミニウムと酸素の組成比率Ａｌ／Ｏ＝１／２から１／１の範囲で連続的に増大変化していることを特徴とするコンバーティング適性を有するバリアフィルムの製造方法である。
【００１２】
本発明の請求項３に係る発明は、上記請求項１又は２に係るコンバーティング適性を有するバリアフィルムの製造方法において、前記酸化アルミニウム蒸着膜の厚さが、５０〜３０００Åの範囲内であることを特徴とするコンバーティング適性を有するバリアフィルムの製造方法である。
【００１３】
【作用】
本発明は、透明性を有する高分子材料からなる基材の少なくとも一方の面に、酸化アルミニウムを蒸着して蒸着膜を形成し、その蒸着膜の膜厚方向に対し、蒸着膜の膜組成に傾斜構造を持たせ、膜表面の塑性変形耐性を向上させたことを特徴とするものである。
【００１４】
前記酸化アルミニウム蒸着膜の膜の傾斜構造は、基材側から蒸着膜の膜表面に向かって、アルミニウム：酸素の膜組成比を、Ａｌ：Ｏ＝１：２から１：１の範囲で連続的に変化させ、総膜厚を５０〜３０００Åの範囲内に設定したものである。
【００１５】
本発明によれば、基材近傍の蒸着膜の組成は、酸素成分の多い酸化アルミニウム膜になる。この蒸着膜は、基材表面の官能基との親和性が高いため、基材と酸化アルミニウム膜の密着性が向上する。
【００１６】
さらに、その蒸着膜の表面（基材面に対して遠い面）は、アルミニウム成分の多い酸化アルミニウム膜になる。金属成分の多い膜表面を形成することで、膜表面の塑性変形耐性が向上し、印刷や押し出しラミネートと言ったコンバーティング（加工処理）時のバリア劣化が防止されるものである。
【００１７】
【発明の実施の形態】
本発明のコンバーティング適性を有するバリアフィルムの実施の形態を図面を用いて詳細に説明する。図１は、本発明の透明なガスバリアフィルムを説明する側断面図である。
【００１８】
１は本発明のバリアフィルムであり、フィルム基材２の表面に、無機化合物である酸化アルミニウム蒸着膜３が形成されている。この蒸着膜３は基材２の両面に形成してもよく、また多層に形成してもよい。
【００１９】
基材２は透明性を有する高分子材料であり、とくに無色透明であればよく、通常、包装材料として用いられるものが好ましい。例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、二軸延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ）、二軸延伸ナイロン（ＯＮｙ）など機械的強度、寸法安定性を有するものであり、これらをフィルム状に加工して用いられる。さらに平滑性が優れ、かつ添加剤の量が少ないフィルムが好ましい。また、この基材２の表面に、薄膜の密着性を良くするために、前処理としてコロナ処理、低温プラズマ処理、イオンボンバード処理を施しておいてもよく、さらに薬品処理、溶剤処理などを施してもよい。
【００２０】
基材２の厚さは、特に制限を受けるものではないが、包装材料としての適性、他の層を積層する場合もあること、蒸着膜３を形成する場合の加工性を考慮すると、５〜１００μｍの範囲が好ましいと言える。
【００２１】
また量産性を考慮すれば、連続的に蒸着手段により薄膜を形成できるように長尺状フィルムとすることが望ましい。
【００２２】
酸化アルミニウム蒸着膜３の蒸着方法としては、アルミニウムを蒸発材料として、酸素、炭酸ガスと不活性ガスなどとの混合ガスの存在下で薄膜形成を行う、いわゆる反応性蒸着の他に、反応性スパッタリング、反応性イオンプレーティングにより連続的に酸化物の薄膜層を形成する方法がある。
【００２３】
上記の方式は、膜形成装置が簡単で容易に実施できるものであり、生産性の点から望ましい方法である。本発明における薄膜３を基材２上に形成する方法としては種々あり、ここに記載した形成方法に限定されるものではない。
【００２４】
本発明における薄膜３の厚さは、５０〜３０００Åの範囲内であることが望ましく、その値は適宜選択される。これは、膜厚が５０Å以下であると、基材２の全面が膜にならないことがあり、ガスバリア材としての機能を十分に果たすことができない場合があり、また膜厚を３０００Å以上にした場合は、薄膜にフレキシビリティを保持させることができず、成膜後の折り曲げ、引っ張りなどの外的要因により、薄膜に亀裂を生じるおそれがあるためである。
【００２５】
蒸着膜に傾斜を持たせる方法としては、酸化アルミニウムの反応蒸着の際に酸素の導入の方法を変化させることにより成すことができる。蒸着装置への酸素の導入を、蒸着装置の長尺状基材２の巻き出し導入側からのみ導入することで、蒸着装置内に導入直後の基材２表面近傍の酸化度は大きくなり、そして基材２が蒸着装置内にて蒸着され、その基材２が、蒸着装置の酸素導入の少ない基材排出側に向けて送行移動することにより、徐々に蒸着膜３の表面に向けて酸化度が小さくなっていく傾斜構造を作成することができる。
【００２６】
【実施例】
本発明のガスバリアフィルムを、以下に具体的な実施例を挙げて説明する。
＜実施例１＞
フィルム基材２（厚１２μｍ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム）の片面に、電子線加熱方式を用いた反応蒸着により、蒸着膜の厚さ方向に徐々にアルミニウムと酸素の組成比率Ａｌ／Ｏが大きくなる傾斜組成をもつ酸化アルミニウム蒸着膜３を、膜厚約２００Åに形成して、透明な本発明のガスバリアフィルム１（酸化アルミニウム蒸着フィルム）を得た。
【００２７】
＜比較例１＞
基材２（厚１２μｍ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム）の片面に、上記実施例１と同様に反応蒸着により、蒸着膜の厚さ方向に、アルミニウムと酸素の組成比率Ａｌ／Ｏが均一な組成をもつ酸化アルミニウム蒸着膜３を、膜厚約２００Åに形成して、透明な比較例１のガスバリアフィルム（酸化アルミニウム蒸着フィルム）を得た。
【００２８】
＜比較テスト＞
上記実施例１と比較例１により得られた各々ガスバリアフィルム（サンプル）の表面に、グラビアコーティングにより印刷し、更に該ガスバリアフィルムを、押し出しラミネートによりコンバーティング（ラミネート加工）して、ガスバリアフィルム／厚１５μｍサンドポリエチレン／厚２５μｍ直鎖型低密度ポリエチレンのバリアフィルム積層体を作製した。
【００２９】
＜評価結果＞
実施例１及び比較例１の各々ガスバリアフィルム（サンプル）の光線透過率、及びコンバーティングした各々バリアフィルム積層体の酸素透過率及び水蒸気透過率を測定し、フィルムの透明性及びガスバリア性を評価し、その結果を下記表１に示す。なお、表１の特性値の単位は、透明性（光透過率％）、酸素透過率（ｃｍ³ ／ｍ² ／ｄａｙ）、水蒸気透過率（ｇ／ｍ² ／ｄａｙ）である。
【００３０】
以下に光線透過率及びガスバリア性を評価するための各測定方法について説明する。
・光線透過率・・・分光光度計（（株）島津製作所製、ＵＶ−３１００）を用いて、波長４００ｎｍの光の透過率を測定。
・酸素透過率・・・酸素透過率測定機（モダンコントロール社製、ＭＯＣＯＮ ＯＸＴＲＡＮ １０／５０Ａ）を用いて３０℃−７０％ＲＨ雰囲気下で測定。
・水蒸気透過率（初期）・・・水蒸気透過率測定機（モダンコントロール社製、ＭＯＣＯＮ ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ Ｗ６）を用いて４０℃−９０％ＲＨ雰囲気下で測定した。
【００３１】
【表１】

【００３２】
比較例１は、印刷、押し出しラミネートによるコンバーティング後のバリア性が劣化していることが分かる。これに対し、実施例１では、印刷、押し出しラミネート後のバリア性の劣化は殆ど見られない。
【００３３】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、透明でガスバリア性に優れ、しかもコンバーティング性に優れたセラミック蒸着フィルムである酸化アルミニウム蒸着フィルムを作成することが可能であり、食品、医薬品、精密電子部品等の包装分野に用いられる、透明性を有し、良好なコンバーティング適性を備えたガスバリアフィルムを提供できるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のバリアフィルムの部分断面図。
【符号の説明】
１…バリアフィルム
２…プラスチック材料からなる基材
３…酸化アルミニウム蒸着膜[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a gas barrier film having transparency and suitable for converting used in the field of packaging foods, pharmaceuticals, precision electronic parts and the like.
[0002]
[Prior art]
In recent years, packaging materials used for packaging foods, pharmaceuticals, precision electronic components, etc. have been improved in order to suppress the alteration of contents, especially the oxidation and alteration of proteins and oils and fats in food, and to maintain the taste and freshness. For pharmaceutical products that require handling under aseptic conditions, in order to suppress the alteration of active ingredients and maintain their efficacy, and to prevent corrosion of metal parts and poor insulation in precision electronic parts, packaging It is necessary to prevent the influence of oxygen, water vapor, and other gases that alter the contents of the material, and it is required to have gas barrier properties that block these gases.
[0003]
Therefore, as a gas barrier material, a polymer resin composition that is generally said to have a relatively high gas barrier property such as polypropylene (KOP), polyethylene terephthalate (KPET), or ethylene vinyl alcohol copolymer (EVOH) coated with vinylidene chloride resin is conventionally used. Packaging film used for packaging materials, metal foil made of metal such as aluminum (Al), suitable polymer resin composition (even if it is a resin that does not have high gas barrier properties alone), Al, etc. A packaging film using a metal-deposited film on which a metal or a metal compound is deposited as a packaging material has been generally used.
[0004]
However, the packaging film using only the above-described polymer resin composition is not only inferior in gas barrier properties, but also in comparison with a foil using a metal such as Al or a metal compound, or a metal vapor-deposited film having a vapor-deposited layer. It is easily affected by temperature and humidity, and depending on the change, the gas barrier property may be further deteriorated. On the other hand, a metal-deposited film formed with a foil or vapor-deposited layer using a metal such as Al or a metal compound is less affected by temperature and humidity and has excellent gas barrier properties. However, the contents of the package are seen through. It had a drawback that it could not be confirmed.
[0005]
Therefore, recently, a vapor deposition film made of a transparent polymer material in which a ceramic thin film is formed on a base material by means of vapor deposition or the like is commercially available as a packaging material that overcomes these drawbacks.
[0006]
As materials for the ceramic thin film, silicon oxides such as aluminum oxide (AlO _x ) and silicon monoxide (SiO), magnesium oxide, calcium oxide and the like can be candidates from the viewpoint of safety and raw material price. However, since silicon oxide has a color peculiar to the material, it cannot be highly transparent, and magnesium oxide and calcium oxide have a high sublimation temperature of the raw material, and therefore the evaporation rate in the vapor deposition process is low. Therefore, if an attempt is made to attach a thin film having a thickness of about 200 mm sufficient for exhibiting barrier properties, the film formation time becomes long, leading to high costs, which is not commercially viable.
[0007]
For the above reasons, reactive vapor deposition of aluminum oxide is the material that has received the most attention due to its low cost and transparency.
[0008]
However, in the case of a vapor deposited film in which the film composition of aluminum oxide is uniformly deposited in the thickness direction as in the past, the film surface is vulnerable to plastic deformation, so when performing conversion (processing) such as printing and extrusion lamination. There was a drawback that the barrier properties deteriorated rapidly. For this reason, it is necessary to perform a protective coating such as polyvinyl alcohol on the vapor deposition layer, leading to an increase in production cost.
[0009]
[Problems to be solved by the invention]
The object of the present invention is to prevent barrier deterioration during the conversion of a deposited film and to produce an inexpensive barrier film.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and the invention according to claim 1 of the present invention introduces oxygen into at least one surface of a base material made of a polymer material and introduces oxygen. only the Risan aluminum it deposited film by the reactive evaporation in which the oxidation degree is increased in the vicinity of the substrate surface immediately after the substrate introduced into the deposition apparatus provided the unwinding side for introducing into the deposition apparatus of the base material, the reaction By vapor deposition, the degree of oxidation in the vicinity of the substrate surface immediately after introduction of the substrate into the vapor deposition apparatus is increased, and the substrate is moved toward the substrate discharge side with less oxygen introduction to gradually move the vapor deposition film surface. The aluminum oxide vapor deposition film is provided with a reduced degree of oxidation toward the composition, and the composition ratio Al / O of aluminum and oxygen in the aluminum oxide vapor deposition film increases from the substrate side toward the film surface of the vapor deposition film. have a structure A method for producing a barrier film having a converting suitability, characterized in that the so that.
[0011]
The invention according to claim 2 of the present invention is the barrier film manufacturing method according to claim 1, wherein the inclined structure is formed of aluminum and aluminum in the direction from the substrate side to the film surface of the deposited film. This is a method for producing a barrier film having a convertibility, characterized by continuously increasing and changing in the oxygen composition ratio Al / O = 1/2 to 1/1.
[0012]
Invention of Claim 3 of this invention is the manufacturing method of the barrier film which has the convertibility which concerns on the said Claim 1 or 2, The thickness of the said aluminum oxide vapor deposition film exists in the range of 50-3000 mm. Is a method for producing a barrier film having aptitude for conversion.
[0013]
[Action]
In the present invention, a vapor deposition film is formed by vapor-depositing aluminum oxide on at least one surface of a base material made of a polymer material having transparency, and the film composition of the vapor deposition film is set in the film thickness direction of the vapor deposition film. It is characterized by having an inclined structure and improving the plastic deformation resistance of the film surface.
[0014]
The inclined structure of the aluminum oxide vapor deposition film is such that the composition ratio of aluminum: oxygen is continuously in the range of Al: O = 1: 2 to 1: 1 from the substrate side toward the film surface of the vapor deposition film. The total film thickness is set in the range of 50 to 3000 mm.
[0015]
According to the present invention, the composition of the vapor deposition film in the vicinity of the base material is an aluminum oxide film having a large oxygen component. Since this deposited film has a high affinity with the functional group on the surface of the substrate, the adhesion between the substrate and the aluminum oxide film is improved.
[0016]
Furthermore, the surface of the deposited film (the surface far from the substrate surface) becomes an aluminum oxide film having a large aluminum component. By forming a film surface with a large amount of metal components, the plastic deformation resistance of the film surface is improved, and barrier deterioration during printing (processing) such as printing or extrusion lamination is prevented.
[0017]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
An embodiment of a barrier film having a converting ability of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a side sectional view for explaining a transparent gas barrier film of the present invention.
[0018]
Reference numeral 1 denotes a barrier film of the present invention, and an aluminum oxide vapor deposition film 3 which is an inorganic compound is formed on the surface of a film substrate 2. The vapor deposition film 3 may be formed on both surfaces of the substrate 2 or may be formed in multiple layers.
[0019]
The base material 2 is a polymer material having transparency, and it is sufficient that the base material 2 is particularly colorless and transparent, and those usually used as packaging materials are preferred. For example, polyethylene terephthalate (PET), biaxially stretched polypropylene (OPP), biaxially stretched nylon (ONy), etc. have mechanical strength and dimensional stability, and these are processed into a film and used. Further, a film having excellent smoothness and a small amount of additive is preferable. Further, in order to improve the adhesion of the thin film on the surface of the substrate 2, corona treatment, low temperature plasma treatment, ion bombardment treatment may be performed as pretreatment, and further chemical treatment, solvent treatment, etc. are performed. May be.
[0020]
The thickness of the base material 2 is not particularly limited, but in consideration of suitability as a packaging material, that other layers may be laminated, and workability when forming the deposited film 3, It can be said that the range of 100 μm is preferable.
[0021]
In consideration of mass productivity, it is desirable to use a long film so that a thin film can be continuously formed by vapor deposition means.
[0022]
The vapor deposition method of the aluminum oxide vapor deposition film 3 includes reactive sputtering in addition to so-called reactive vapor deposition, in which aluminum is used as an evaporation material and a thin film is formed in the presence of a mixed gas of oxygen, carbon dioxide and inert gas. There is a method of continuously forming an oxide thin film layer by reactive ion plating.
[0023]
The above-described method is simple and easy to implement, and is desirable from the viewpoint of productivity. There are various methods for forming the thin film 3 on the substrate 2 in the present invention, and the method is not limited to the forming methods described herein.
[0024]
The thickness of the thin film 3 in the present invention is preferably in the range of 50 to 3000 mm, and the value is appropriately selected. This is because when the film thickness is 50 mm or less, the entire surface of the substrate 2 may not be a film, and the function as a gas barrier material may not be sufficiently achieved, and when the film thickness is 3000 mm or more. This is because flexibility cannot be maintained in the thin film, and the thin film may be cracked due to external factors such as bending and pulling after film formation.
[0025]
As a method for imparting a gradient to the deposited film, it is possible to change the method of introducing oxygen during the reactive deposition of aluminum oxide. By introducing oxygen into the vapor deposition apparatus only from the unwinding introduction side of the long substrate 2 of the vapor deposition apparatus, the degree of oxidation in the vicinity of the surface of the substrate 2 immediately after introduction into the vapor deposition apparatus increases, and The base material 2 is vapor-deposited in the vapor deposition apparatus, and the base material 2 is moved toward the base material discharge side where the oxygen introduction of the vapor deposition apparatus is small, so that the degree of oxidation gradually toward the surface of the vapor deposition film 3. It is possible to create an inclined structure that becomes smaller.
[0026]
【Example】
The gas barrier film of the present invention will be described below with reference to specific examples.
<Example 1>
On one side of the film substrate 2 (thickness 12 μm, polyethylene terephthalate (PET) film), the composition ratio Al / O of aluminum and oxygen gradually increases in the thickness direction of the deposited film by reactive vapor deposition using an electron beam heating method. An aluminum oxide vapor deposition film 3 having a gradient composition was formed to a film thickness of about 200 mm to obtain a transparent gas barrier film 1 (aluminum oxide vapor deposition film) of the present invention.
[0027]
<Comparative Example 1>
A composition in which the composition ratio Al / O of aluminum and oxygen is uniform in the thickness direction of the deposited film by reactive vapor deposition on one side of the substrate 2 (thickness 12 μm, polyethylene terephthalate (PET) film) as in Example 1 above. An aluminum oxide vapor deposition film 3 having a thickness of about 200 mm was formed to obtain a transparent gas barrier film (aluminum oxide vapor deposition film) of Comparative Example 1.
[0028]
<Comparison test>
The surface of each gas barrier film (sample) obtained in Example 1 and Comparative Example 1 was printed by gravure coating, and the gas barrier film was further converted (laminated) by extrusion lamination to obtain a gas barrier film / thickness. A barrier film laminate of 15 μm sand polyethylene / thickness 25 μm linear low density polyethylene was prepared.
[0029]
<Evaluation results>
The light transmittance of each gas barrier film (sample) in Example 1 and Comparative Example 1 and the oxygen transmission rate and water vapor transmission rate of each converted barrier film laminate were measured to evaluate the transparency and gas barrier properties of the film. The results are shown in Table 1 below. In addition, the unit of the characteristic value of Table 1 is transparency (light transmittance%), oxygen transmission rate (cm ³ / m ² / day), and water vapor transmission rate (g / m ² / day).
[0030]
Below, each measuring method for evaluating a light transmittance and gas-barrier property is demonstrated.
Light transmittance: The transmittance of light having a wavelength of 400 nm was measured using a spectrophotometer (manufactured by Shimadzu Corporation, UV-3100).
Oxygen permeability: Measured in an atmosphere of 30 ° C.-70% RH using an oxygen permeability measuring machine (Modern Control, MOCON OXTRAN 10 / 50A).
Water vapor transmission rate (initial): Measured in a 40 ° C.-90% RH atmosphere using a water vapor transmission rate measuring device (MOCON PERMATRAN W6, manufactured by Modern Control).
[0031]
[Table 1]

[0032]
It can be seen that Comparative Example 1 has deteriorated barrier properties after printing and extrusion lamination. On the other hand, in Example 1, the barrier property deterioration after printing and extrusion lamination is hardly seen.
[0033]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to produce an aluminum oxide vapor-deposited film that is transparent, excellent in gas barrier properties, and excellent in converting properties. It is possible to provide a gas barrier film that is used in the packaging field for parts and the like and has transparency and good converting ability.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a partial cross-sectional view of a barrier film of the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Barrier film 2 ... Base material 3 which consists of plastic materials ... Aluminum oxide vapor deposition film

Claims (3)

高分子材料からなる基材の少なくとも一方の面に、アルミニウムを蒸着材料とし、酸素の導入を前記基材の蒸着装置への巻き出し導入側からのみにして蒸着装置内に基材導入直後の基材表面近傍の酸化度を大きくした反応蒸着により酸化アルミニウム蒸着膜を設け、前記反応蒸着により、前記蒸着装置内に基材導入直後の基材表面近傍の酸化度を大きくし、酸素導入の少ない基材排出側に向けて前記基材を送行移動することにより徐々に蒸着膜表面に向けて酸化度を小さくして前記酸化アルミニウム蒸着膜を設け、該酸化アルミニウム蒸着膜のアルミニウムと酸素の組成比率Ａｌ／Ｏが、前記基材側から蒸着膜の膜表面の方向に増大する組成傾斜構造を有するようにしたことを特徴とするコンバーティング適性を有するバリアフィルムの製造方法。The base immediately after the introduction of the base material into the vapor deposition apparatus is formed on at least one surface of the base material made of a polymer material by using aluminum as the vapor deposition material and introducing oxygen only from the unwinding introduction side of the base material into the vapor deposition apparatus. provided by Risan aluminum deposited film into the reaction vapor deposition to increase the degree of oxidation of the wood near the surface, by the reactive evaporation, to increase the degree of oxidation in the vicinity of the substrate surface immediately after the substrate introduced into the deposition apparatus, oxygen introduced The aluminum oxide vapor deposition film is provided by gradually reducing the degree of oxidation toward the vapor deposition film surface by moving the base material toward the base material discharge side with a small amount of oxygen, and the aluminum oxide vapor deposition film contains aluminum and oxygen. composition ratio Al / O is the production of a barrier film with a converting suitability, characterized in that so as to have a composition gradient structure that increases in the direction of the film surface of the deposited film from the substrate side Law. 前記傾斜構造が、前記基材側から蒸着膜の膜表面の方向に、アルミニウムと酸素の組成比率Ａｌ／Ｏ＝１／２から１／１の範囲で連続的に増大変化していることを特徴とする請求項１記載のコンバーティング適性を有するバリアフィルムの製造方法。The inclined structure continuously increases and changes in the range of aluminum / oxygen composition ratio Al / O = 1/2 to 1/1 from the substrate side to the film surface of the deposited film. The manufacturing method of the barrier film which has the convertability of Claim 1 characterized by these. 前記酸化アルミニウム蒸着膜の厚さが、５０〜３０００Åの範囲内であることを特徴とする請求項１又は２記載のコンバーティング適性を有するバリアフィルムの製造方法。The method for producing a barrier film having a converting property according to claim 1 or 2, wherein the aluminum oxide vapor-deposited film has a thickness in the range of 50 to 3000 mm.

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