JP4247208B2 - 有機高分子抵抗体架橋物、サーミスタ素子並びにサーミスタ素体及びサーミスタ素子の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明のサーミスタ素子の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図1に示すように、本実施形態に係るサーミスタ素子10は、平板状のサーミスタ素体1と、サーミスタ素体1の両面を挟み込む2枚の電極2及び3とを有する。そして、電極2及び3にはそれぞれ外部電極端子4が接続されている。
まず、本実施形態に係る有機高分子抵抗体について説明する。本実施形態に係る有機高分子抵抗体は、結晶性高分子と、導電性フィラーと、アルキルラジカルを捕捉可能なラジカル捕捉剤とを含み、ラジカル捕捉剤が、結晶性高分子の非晶部に偏って存在するものであり、好ましくは、結晶性高分子と、導電性フィラーと、アルキルラジカルを捕捉可能なラジカル捕捉剤とを混練したものである。
M(C5H5)2XY …(I)
上記式(I)中、Mは4配位中心となる金属又はその金属イオンを示し、X及びYは同一であっても異なっていてもよく、ハロゲン又はハロゲン化物イオンを示す。Mとしては、Ti、Zr、Hf、V、Nb又はTaが好ましく、Zrがより好ましい。X及びYとしては、Clが好ましい。また、一般式(I)で表現される化合物は1種類を単独で使用してもよく、2種類以上を任意に組み合せて使用してもよい。
上記式(II)中、R1、R2、R3、R4及びR5は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ炭素数1〜3のアルキル基を示し、nは2〜20の整数を示す。R1、R2、R3、R4及びR5としてはメチル基が好ましい。上記式(III)中、R6、R7及びR8は、同一であっても異なっていてもよく、それぞれ炭素数1〜3のアルキル基を示し、mは2〜20の整数を示す。R6、R7及びR8としてはメチル基が好ましい。
M(CO)4 …(IV)
はじめに、結晶性高分子に、ラジカル捕捉剤と、あらかじめ乾燥処理を施した導電性フィラーとを加え、例えばミル等の撹拌手段を用いて撹拌混合することにより、混練物を調製する。このとき、撹拌混合とともに熱処理(溶融混練)を行ってもよい。熱処理の温度は、結晶性高分子の融点以上の温度であることが好ましく、結晶性高分子の融点又は軟化点に対して5〜40℃以上高い温度であることがより好ましい。
得られた混錬物を、公知の熱圧着機もしくは加圧ローラ等を用いて所定の厚さ(例えば0.8mm)のシート形状にプレス成型し、シート状の成形体(有機高分子抵抗体)を作製する。
次に、2枚の電極板を用意する。ここで、電極板としては、通常の有機質PTCサーミスタの電極材料に用いられるものであれば、特に限定されることなく採用でき、例えばニッケルなどの金属板や金属箔を挙げることができる。その厚みは25〜200μm程度である。電極板の形状は特に限定されない(例えば柄の付いたもの等)。
電極形成工程によって得られた電極に挟まれたシート状の有機高分子抵抗体を、所定の面積(例えば9mm×3.5mm)を有する角型に打ち抜く。
次に、電子線等を有機高分子抵抗体中に照射することにより架橋を行う。これにより、電極間には、高温に繰り返し又は長期間晒された場合であっても優れたPTC特性を十分維持できるサーミスタ素体が作製される。放射線の照射量は、有機高分子抵抗体中のラジカル捕捉剤の量によっても依存するが、本実施形態においては、10kGy〜1000kGyが好ましく、50kGy〜500kGyがより好ましい。50kGyより少ないと架橋不足となり、1000kGyを超えると、結晶性高分子の劣化が問題となり、またコスト的にも不利となる。
上記放射線照射工程により作製されたサーミスタ素体1を挟んだ電極2、3の表面にそれぞれ外部電極端子4を接合することにより、サーミスタ素子10を作製することができる。この外部電極端子の接合方法としては、通常のサーミスタの製造方法において用いられるものであれば特に限定されることなく用いることができる。
結晶性高分子として直鎖状低密度ポリエチレン(三井化学社製、商品名「エボリュー2520」、MFR=1.7g/10分)、導電性フィラーとしてフィラメント状ニッケルパウダ(INCO社製、Type210ニッケルパウダ、吸油量9.0g/100g、平均粒径0.5〜1.0μm、見掛け密度0.8g/cm3、比表面積1.5〜2.5m2/g)、及び、低分子有機化合物としてパラフィンワックス(Baker Petrolite社製、商品名「Poly Wax655」、融点99℃)を体積比44:28:30の割合で混合し、更にラジカル捕捉剤(旭電化製、商品名「LA63−P」)を、直鎖状低密度ポリエチレン100質量部に対して0.3質量部の割合で添加して混合物を得た。続いて、この混合物をラボプラストミル中、150℃で30分間混練した。
結晶性高分子として直鎖状低密度ポリエチレン(三井化学社製、商品名「エボリュー2520」、MFR=1.7g/10分)、導電性フィラーとしてフィラメント状ニッケルパウダ(INCO社製、Type210ニッケルパウダ、吸油量9.0g/100g、平均粒径0.5〜1.0μm、見掛け密度0.8g/cm3、比表面積1.5〜2.5m2/g)、及び、低分子有機化合物としてパラフィンワックス(Baker Petrolite社製、商品名「Poly Wax655」、融点99℃)を体積比44:28:30の割合で混合し、更にラジカル捕捉剤(住友化学社製、商品名「スミライザーGM」)を、直鎖状低密度ポリエチレン100質量部に対して0.3質量部の割合で添加して混合物を得た。続いて、この混合物をラボプラストミル中、150℃で60分間混練した。
結晶性高分子として高密度ポリエチレン(日本ポリケム社製、商品名「ノバテックHY540」、MFR=1.0g/10分)、導電性フィラーとしてフィラメント状ニッケルパウダ(INCO社製、Type210ニッケルパウダ、吸油量9.0g/100g、平均粒径0.5〜1.0μm、見掛け密度0.8g/cm3、比表面積1.5〜2.5m2/g)、及び、低分子有機化合物としてパラフィンワックス(Baker Petrolite社製、商品名「Poly Wax655」、融点99℃)を体積比44:28:30の割合で混合し、更にラジカル捕捉剤(旭電化製、商品名「LA63−P」)を、高密度ポリエチレン100質量部に対して0.3質量部の割合で添加して混合物を得た。続いて、この混合物をラボプラストミル中、150℃で30分間混練した。
結晶性高分子として高密度ポリエチレン(日本ポリケム社製、商品名「エボリュー2520」、MFR=1.0g/10分)、導電性フィラーとしてフィラメント状ニッケルパウダ(INCO社製、Type210ニッケルパウダ、吸油量9.0g/100g、平均粒径0.5〜1.0μm、見掛け密度0.8g/cm3、比表面積1.5〜2.5m2/g)、及び、低分子有機化合物としてパラフィンワックス(Baker Petrolite社製、商品名「Poly Wax655」、融点99℃)を体積比44:28:30の割合で混合し、更にラジカル捕捉剤(住友化学社製、商品名「スミライザーGM」)を、直鎖状低密度ポリエチレン100質量部に対して0.3質量部の割合で添加して混合物を得た。続いて、この混合物をラボプラストミル中、150℃で60分間混練した。
結晶性高分子として直鎖状低密度ポリエチレン(三井化学社製、商品名「エボリュー2520」、MFR=1.7g/10分)、導電性フィラーとしてフィラメント状ニッケルパウダ(INCO社製、Type210ニッケルパウダ、吸油量9.0g/100g、平均粒径0.5〜1.0μm、見掛け密度0.8g/cm3、比表面積1.5〜2.5m2/g)、及び、低分子有機化合物としてパラフィンワックス(Baker Petrolite社製、商品名「Poly Wax655」、融点99℃)を体積比44:28:30の割合で混合して混合物を得た。続いて、この混合物をラボプラストミル中、150℃で60分間混練した。
結晶性高分子として直鎖状低密度ポリエチレン(三井化学社製、商品名「エボリュー2520」、MFR=1.7g/10分)、導電性フィラーとしてフィラメント状ニッケルパウダ(INCO社製、Type210ニッケルパウダ、吸油量9.0g/100g、平均粒径0.5〜1.0μm、見掛け密度0.8g/cm3、比表面積1.5〜2.5m2/g)、及び、低分子有機化合物としてパラフィンワックス(Baker Petrolite社製、商品名「Poly Wax655」、融点99℃)を体積比44:28:30の割合で混合し、更に一次酸化防止剤としてジブチルヒドロキシトルエン(BHT)を、直鎖状低密度ポリエチレン100質量部に対して0.3質量部の割合で添加して混合物を得た。続いて、この混合物をラボプラストミル中、150℃で60分間混練した。
結晶性高分子として高密度ポリエチレン(日本ポリケム社製、商品名「ノバテックHY540」、MFR=1.0g/10分)、導電性フィラーとしてフィラメント状ニッケルパウダ(INCO社製、Type210ニッケルパウダ、吸油量9.0g/100g、平均粒径0.5〜1.0μm、見掛け密度0.8g/cm3、比表面積1.5〜2.5m2/g)、及び、低分子有機化合物としてパラフィンワックス(Baker Petrolite社製、商品名「Poly Wax655」、融点99℃)を体積比44:28:30の割合で混合して混合物を得た。続いて、この混合物をラボプラストミル中、150℃で60分間混練した。
結晶性高分子として高密度ポリエチレン(日本ポリケム社製、商品名「ノバテックHY540」、MFR=1.0g/10分)、導電性フィラーとしてフィラメント状ニッケルパウダ(INCO社製、Type210ニッケルパウダ、吸油量9.0g/100g、平均粒径0.5〜1.0μm、見掛け密度0.8g/cm3、比表面積1.5〜2.5m2/g)、及び、低分子有機化合物としてパラフィンワックス(Baker Petrolite社製、商品名「Poly Wax655」、融点99℃)を体積比44:28:30の割合で混合し、更に一次酸化防止剤としてジブチルヒドロキシトルエン(BHT)を、直鎖状低密度ポリエチレン100質量部に対して0.3質量部の割合で添加して混合物を得た。続いて、この混合物をラボプラストミル中、150℃で30分間混練した。
Claims (6)
- 結晶性高分子と、導電性フィラーと、分子量が1000以上でありアルキルラジカルを捕捉可能なラジカル捕捉剤と、を含み、前記ラジカル捕捉剤が、前記結晶性高分子の非晶部に偏って存在する、有機高分子抵抗体、を放射線の照射により架橋してなる、有機高分子抵抗体架橋物。
- 互いに対向する一対の電極と、前記一対の電極の間に配置されたサーミスタ素体と、を備えるサーミスタ素子であって、
前記サーミスタ素体が、請求項1〜3のうちのいずれか1項に記載の有機高分子抵抗体架橋物から構成されている、サーミスタ素子。 - 結晶性高分子と、導電性フィラーと、分子量が1000以上でありアルキルラジカルを捕捉可能なラジカル捕捉剤とを少なくとも含む混合物を調製する混合物調製工程と、
前記混合物を成形し成形体を得る成形工程と、
前記成形体に対して前記結晶性高分子を架橋させ得る放射線を照射する放射線照射工程と、
を備える、サーミスタ素体の製造方法。 - 互いに対向する一対の電極と、前記一対の電極の間に配置されたサーミスタ素体と、を備えるサーミスタ素子の製造方法であって、
結晶性高分子と、導電性フィラーと、分子量が1000以上でありアルキルラジカルを捕捉可能なラジカル捕捉剤とを少なくとも含む混合物を調製する混合物調製工程と、
前記混合物を成形し成形体を得る成形工程と、
前記成形体を挟んで対向するように、一対の電極を形成させる電極形成工程と、
前記電極形成工程を経た成形体に対して前記結晶性高分子を架橋させ得る放射線を照射する放射線照射工程と、
を備える、サーミスタ素子の製造方法。
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