JP4245370B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

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卓司 桶結
桂介 吉川
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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、表面実装型の半導体装置の技術分野に属し、詳しくは、リードレス構造をした表面実装型の半導体装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、半導体装置はその構成部材の一つに金属製のリードフレームを用いているが、多ピン化を実現するためには、リードフレームにおけるリードのピッチを微細化することが要求される。ところが、これに伴ってリード自体の幅を小さくすると、リードの強度が下がり、リードの曲がり等による短絡現象が生じてしまう。したがって、リードのピッチを確保するためにパッケージを大型化することが余儀なくされていた。このように、リードフレームを用いた半導体装置はパッケージサイズが大きくかつ厚くなる。そのため、リードフレームの影響のない、いわゆるリードレス構造をした表面実装型の半導体装置が提案されている（例えば、特許文献１、特許文献２参照。）。
【０００３】
【特許文献１】
特開平９−２５２０１４号公報
【特許文献２】
特開２００１−２１０７４３号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
特許文献１に記載された半導体装置を図７に示す。この半導体装置の製造方法は、まず、基材１０１に金属箔を貼り付け、所定部分に金属箔を残すように当該金属箔のエッチングを行った後、半導体素子１０２と同等の大きさを有する金属箔１０３ａ（ダイパッド）の上に接着剤１０４を用いて半導体素子１０２を固着し、さらに、ワイヤー１０５によって半導体素子１０２と金属箔１０３ｂとの電気的接続を行い、金型を用いて封止樹脂１０６でトランスファモールドする（図７（ａ））。最後に、成形された封止樹脂１０６を基材１０１から分離することによって半導体素子をパッケージとして完成している（図７（ｂ））。しかしながら、この製造方法によって得られる半導体装置は、半導体素子１０２に接着剤１０４及び金属箔１０３ａ（ダイパッド）が付随的に存在しているため、小さくて薄い半導体装置を要望する立場からはまだ問題が残る。
【０００５】
また、特許文献１に記載の製造方法では、金属箔のエッチング工程及び封止樹脂のモールド工程において基材と金属箔が充分密着していることが要求され、一方、モールド工程後は基材と封止樹脂、基材と金属箔は容易に分離できることが要求される。このように、基材と金属箔は、密着特性において相反する特性が要求される。すなわち、エッチングに使用する薬品に対しては耐久性が、モールド工程での高温下及び封止樹脂が金型内を流れる時に加わる圧力下においては半導体素子がずれることがないような耐久性が必要であるにもかかわらず、モールド後には基材と封止樹脂、基材と金属箔が容易に分離できることが要求される。ところが、基材として例示されている、テフロン（登録商標）材料、シリコーン材料あるいはテフロン（登録商標）コーティングした金属等ではこのような密着特性を満足することが到底できない。
【０００６】
特許文献２に記載された半導体装置を図８に示す。この半導体装置は次の方法により製造される。まず、基材となる金属板に枡目状の凹溝２０１ａを形成した金属板２０１を得る。次いで、半導体素子２０２を接着剤２０３にて金属板２０１に固着し、その後に設計上必要な場所にワイヤーボンディングしてワイヤー２０４を形成し、封止樹脂２０５でトランスファーモールドする（図８（ａ））。次いで、金属板２０１及び接着剤２０３を研磨し、さらには設計に即した寸法に封止樹脂２０５とともに金属板２０１を切断して半導体装置を得る（図８（ｂ））。しかし、この製造方法においても、得られる半導体装置は、半導体素子２０２の下に接着剤層２０３や金属板２０１が付随的に存在するため、産業界で要望されている、薄型化の半導体装置の要望に対しては難点があった。
【０００７】
このように、従来の製造方法では、薄型化した半導体装置を得るのは困難であった。そのため、薄型化した半導体装置を得るには、半導体素子（チップ）そのものを薄く研磨する必要があり、その製造工程において半導体素子の割れや欠けが発生しやすく、コストアップにつながっていた。また、接着剤等を使うゆえに余分な工程及び余分な材料が必要であり、これもまたコストアップの原因になっていた。
【０００８】
本発明は、このような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、低コストで薄型化が可能なリードレス構造であり、しかも強度的にも優れた表面実装型の半導体装置の製造方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明に係る半導体装置の製造方法は、基材層及び接着剤層を有する接着シートにおける接着剤層上に部分的に複数の導電部を形成する基板作成工程、電極が形成されている少なくとも１つの半導体素子を電極が形成されていない側が基板側となるように前記基板上に固着し、複数の導電部の上側と半導体素子の上側にある電極とをワイヤーにより電気的に接続する半導体素子搭載工程、半導体素子とワイヤーと導電部とを封止樹脂で封止して接着シート上に半導体装置を形成する樹脂封止工程、半導体装置から接着シートを分離するシート分離工程、ダイサーカット又はパンチングにより個片化する切断工程からなる半導体装置の製造方法であって、
導電部の素材として銅又は銅合金からなる金属箔が用いられ、前記基板作成工程が、金属箔の両面又は機能面のみに銅の拡散バリア層としてのニッケルめっきと貴金属めっき層を重ねて導電部の形状に部分めっきする工程、拡散バリア層と貴金属めっき層が重ねて形成された金属箔を接着シートの接着剤層側に貼り付ける工程、拡散バリア層と貴金属めっき層をレジストとして金属箔をエッチングし導電部を独立させる工程、プレス加工により接着シートの外形を加工する工程からなり、
貴金属めっき層と拡散バリア層をレジストとして金属箔をエッチングし導電部を独立させる工程で、金属箔の側面をもエッチングすることにより、金属箔の両面又は機能面のみに貴金属とニッケルによる張出部分を設けた形状とすることを特徴としている。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
【００１２】
図１は本発明で製造した半導体装置の一例を示す概略構成図であり、半導体素子１０は、複数の導電部２０と電気的に接続するために、上側にある電極１１が導電部２０の上側とそれぞれワイヤー３０で接続されており、半導体素子１０とワイヤー３０と導電部２０とが外部環境から保護するために封止樹脂４０で封止されている。そして、半導体素子１０の電極１１が形成されていない下側と導電部２０のワイヤー３０に接続していない下側とが封止樹脂４０と同一面上に位置した状態で封止樹脂４０の裏面に露出しており、さらに導電部２０が上下に張出部分２０ａを有した形状をしている。このように、図示の半導体装置は、半導体素子１０の下面と導電部２０の下面とが封止樹脂４０の表面に露出する構造で、ダイパッドや半導体素子固着用の接着剤層を有しないリードレス構造になっており、しかも導電部２０の張出部分２０ａが封止樹脂４０の中でアンカー効果を発揮するので、導電部２０と封止樹脂４０との接合強度が高くなっている。
【００１３】
図２は本発明で製造した半導体装置の別の例を示す概略構成図であり、この図２に示す半導体装置は、導電部２０が上側の機能面にのみ張出部分２０ａを有した形状をしている点を除けば図１のものと同様なリードレス構造をしており、この半導体装置においても、導電部２０の張出部分２０ａが封止樹脂４０の中でアンカー効果を発揮する。
【００１４】
従来の半導体装置では、ダイパッドの厚みが略１００〜２００μｍ、半導体素子固着用の接着剤層の厚みは略１０〜５０μｍである。そのため、半導体素子の厚さ及び半導体素子上を覆う封止樹脂の厚みが同じ場合には、上記の半導体装置によれば、ダイパッド及び接着剤層が不要であるので、厚み１１０〜２５０μｍの薄型化が可能となる。
【００１５】
図３は図１に示した半導体装置の製造方法を示す工程図であり、同図により以下に製造の手順を説明する。
【００１６】
まず、図３（ａ）に示すように、基材層５１及び接着剤層５２を有する接着シート５０を準備し、その接着シート５０における接着剤層５２上に部分的に複数の導電部２０を形成して基板を作製する。図示のように、導電部２０は上下にそれぞれ張出部分２０ａを有しているが、この導電部２０を形成する基板作成工程については後述する。
【００１７】
導電部２０を形成した時点での接着シート５０、すなわち基板の平面図を模式的に示したのが図４である。半導体素子１０の電極数に対応した導電部２０が接着シート５０上に複数個形成されているが、複数個の導電部２０は全て電気的に独立している。
【００１８】
次に、図３（ｂ）に示すように、電極１１が形成されている半導体素子１０を電極が形成されていない側が基板側となるように基板上の所定位置に接着剤層５２を介して固着し、複数の導電部２０と半導体素子１０の電極１１とをワイヤー３０により電気的に接続する。なお、チップサイズが小さくて接着シートによる固着力が不十分な場合は、銀ペースト、ダイアタッチフィルム等の市販のダイアタッチ材にて半導体素子を接着シート上にしっかりと固着するようにしても構わない。この場合でもダイパッドは不要であるため、従来の半導体装置と比較して厚み１００〜２００μｍの薄型化が可能である。
【００１９】
次いで、図３（ｃ）に示すように、半導体素子１０とワイヤー３０と導電部２０とを封止樹脂４０で封止して接着シート５０上に半導体装置を形成する。封止樹脂４０による封止は、通常のトランスファーモールド法により金型を用いて行う。なお、モールド後には、必要に応じて封止樹脂４０の後硬化加熱を行うようにする。後硬化加熱は、後述する接着シート５０の分離前であっても後であっても構わない。続いて、図３（ｄ）に示すように、半導体装置から接着シート５０を分離して図１に示した半導体装置を得る。
【００２０】
上記の基板作成工程、すなわち接着シート５０における接着剤層５２上に部分的に導電部２０を形成する手順を図５に示す。この工程を説明すると次のようである。
【００２１】
導電部の素材として銅又は銅合金からなる金属箔を準備する。この金属箔としては強度の観点から厚さが０．０１〜０．１ｍｍのものを使用する。そしてまず、金属箔の両面にライフィルムレジストを貼り、図５（ａ）に示すように、フォトリソグラフィー法により導電部の形状とは逆のパターンで金属箔６０の両面のドライフィルムレジスト６１をそれぞれパターニングする。
【００２２】
次いで、図５（ｂ）に示すように、ドライフィルムレジスト６１をマスクとして、銅の拡散バリア層６２としてのニッケルめっきと貴金属めっき層６３を導電部の形状に部分めっきした後、図５（ｃ）に示すように、ドライフィルムレジスト６１を除去する。ここで、貴金属めっき層６３に用いる貴金属としては少なくともＡｕ、Ａｇ、Ｐｔのいずれかとする。
【００２３】
続いて、図５（ｄ）に示すように、拡散バリア層６２と貴金属めっき層６３が形成された金属箔６０を接着シート５０の接着剤層５２側に貼り付け、この貼り付けた状態で、図５（ｅ）に示すように、貴金属めっき層６３をレジストとして金属箔６０をエッチングし導電部２０を独立させ、さらにプレス加工により接着シート５０の外形加工を行う。そして、貴金属めっき層６３をレジストとして金属箔６０をエッチングし導電部２０を独立させる工程で、金属箔６０の側面をもエッチングすることにより、金属箔６０の上下に貴金属とニッケルからなる張出部分２０ａを設けた形状とする。
【００２４】
このように、図５の工程図は、上下両面に張出部分を有するタイプの導電部を形成する場合を示しているが、図２に示した半導体装置のように、金属箔の機能面にのみに張出部分２０ａを有する導電部２０を形成する場合は、金属箔の機能面にのみ拡散バリア層と貴金属メッキ層を施し、メッキしていない側の面で金属箔を接着シートに貼り付け、この貼り付け状態で金属箔のエッチングを行うようにする。これにより、機能面のみに張出部分を有する導電部を独立させることができる。
【００２５】
なお、本発明の半導体装置の製造方法は、半導体装置を複数個まとめて製造するのが実用的である。図６にその例を示す。図６（ａ）は、接着シート５０の平面図を模式的に示した説明図であり、接着シート５０の上面には１つの半導体素子を固着する領域とその周囲に形成された導電部を１つのブロック７０として表し、そのブロック７０が枡目状に多数形成されている。一方、図６（ｂ）は１つのブロック７０の拡大図であり、半導体素子固着領域７１の周囲に導電部２０が必要な数だけ形成されている。
【００２６】
図６（ａ）において、例えば、接着シート５０の幅（Ｗ）が５００ｍｍ幅であり、所定の工程を経て接着シート５０の上に複数個のブロック７０が形成され、連続的にロールに巻かれた基材が作製される。このようにして得られた幅５００ｍｍの接着シート５０を、次の半導体素子搭載工程、樹脂封止工程に必要なブロック数になるように適宜切断して使用する。このように複数個の半導体素子を一括して樹脂封止する場合には、樹脂封止後に接着シートを分離してから、ダイサーカット又はパンチングで所定の寸法に切断して個片化することで半導体装置を得ることになる。
【００２７】
本発明の半導体装置の製造方法に用いる接着シートは、樹脂封止工程が完了するまで半導体素子１０や導電部２０を確実に固着し、かつ半導体装置から分離する際には容易に剥離できるものが好ましい。このような接着シート５０は、前述のように基材層５１と接着剤層５２を有する。基材層５１の厚みは、特に制限されないが、通常、１２〜２００μｍ程度、好ましくは５０〜１５０μｍである。また、接着剤層５２の厚みは、特に制限されないが、通常、１〜５０μｍ程度、好ましくは５〜２０μｍである。
【００２８】
また、接着シート５０としては、その基材層５１の２００℃における弾性率が１．０ＧＰａ以上であり、かつ接着剤層５２の２００℃における弾性率が０．１ＭＰａ以上であるものを用いるのが好ましい。
【００２９】
ワイヤーボンディング等が施される半導体素子搭載工程においては、温度は略１５０〜２００℃程度の高温条件におかれる。そのため、接着シート５０の基材層５１及び接着剤層５２にはこれに耐えうる耐熱性が求められる。かかる観点から、基材層５１としては、２００℃における弾性率が１．０ＧＰａ以上、好ましくは１０Ｇｐａ以上のものが好適に用いられる。基材層５１の弾性率は、通常、１．０ＧＰａ〜１０００ＧＰａ程度であるのが好ましい。また、接着剤層５２としては、弾性率が０．１ＭＰａ以上、好ましくは０．５ＭＰａ以上、さらに好ましくは１ＭＰａ以上のものが好適に用いられる。接着剤層５２の弾性率は、通常、０．１〜１００ＭＰａ程度であるのが好ましい。かかる弾性率の接着剤層５２は、半導体素子搭載工程等において軟化・流動を起こしにくく、より安定した結線が可能である。なお、弾性率の測定は詳しくは実施例に記載の方法による。
【００３０】
接着シート５０の基材層５１は有機物でも無機物でもよいが、搬送時の取扱い性、モールド時のソリ等を考慮すると金属箔を用いるのが好ましい。このような金属箔としては、ＳＵＳ箔、Ｎｉ箔、Ａｌ箔、銅箔、銅合金箔等が挙げられるが、安価に入手可能なこと及び種類の豊富さからして銅、銅合金より選択するのが好ましい。また、このような基材層５１となる金属箔は、接着剤層５２との投錨性を確保するため、片面を粗化処理を施したものが好ましい。粗化処理の手法としては、従来公知のサンドブラスト等の物理的な粗化手法、或いはエッチング等の化学的な粗化手法のいずれでも可能である。
【００３１】
接着シート５０の接着剤層５２を形成する接着剤としては、エポキシ樹脂、エポキシ硬化剤、弾性体を必須成分として含有する熱硬化性接着剤を用いるのが好ましい。熱硬化性接着剤の場合、通常、基材の貼り合わせは、未硬化のいわゆるＢステージ状態、すなわち１５０℃以下の比較的低温にて貼り合わせを行うことができ、かつ貼り合わせ後に硬化させることにより弾性率を向上し耐熱性を向上させることができる。
【００３２】
ここで、エポキシ樹脂としては、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ビスフェールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェールＡ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、スピロ環含有エポキシ樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂等が挙げられ、これらを単独もしくは２種以上混合して用いることができる。エポキシ硬化剤としては、各種イミダゾール系化合物及びその誘導体、アミン系化合物、ジシアンジアミド、ヒドラジン化合物、フェノール樹脂等が挙げられ、これらを単独もしくは２種以上混合して用いることができる。また、弾性体としては、アクリル樹脂、アクリロニトリルブタジエン共重合体、フェノキシ樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられ、これらを単独もしくは２種以上混合して用いることができる。
【００３３】
また、接着剤層５２の金属箔に対する接着力は、０．１〜１５Ｎ／２０ｍｍであることが好ましい。さらには０．３〜１５Ｎ／２０ｍｍであるのが好ましい。ここで、接着力は導電部の大きさによって前記範囲内で適宜選択することができる。すなわち、導電部のサイズが大きい場合は接着力は比較的小さく、導電部のサイズが小さい場合は接着力は大きく設定することが好ましい。この接着力を有する接着シートは、適度の接着力を有し、基板作成工程〜半導体素子搭載工程においては接着剤層に固着した導電部のズレが起こりにくい。またシート分離工程においては、半導体装置からの接着シートの分離性が良好であり、半導体装置へのダメージを少なくすることができる。なお、接着力の測定は詳しくは実施例に記載に方法による。
【００３４】
また、接着シート５０には、必要に応じて静電防止機能を付与することができる。接着シート５０に静電防止機能を付与するには、基材層５１、接着剤層５２に帯電防止剤、導電性フィラーを混合する方法がある。また、基材層５１と接着剤層５２との界面や、基材層５１の裏面に帯電防止剤を塗布する方法がある。この静電防止機能を付与することにより、接着シートを半導体装置から分離する際に発生する静電気を抑制することができる。
【００３５】
帯電防止剤としては、静電防止機能を有するものであれば特に制限はない。具体例としては、例えば、アクリル系両性、アクリル系カチオン、無水マレイン酸−スチレン系アニオン等の界面活性剤等が使用できる。帯電防止層用の材料としては、具体的には、ボンディップＰＡ、ボンディップＰＸ、ボンディップＰ（コニシ社製）等が挙げられる。また、導電性フィラーとしては、慣用のものを使用でき、例えば、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ａｌ、Ｓｂ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ａｕ等の金属、これらの合金又は酸化物、カーボンブラックなどのカーボンなどが例示できる。これらは単独で又は２種以上を組み合わせて使用できる。導電性フィラーは、粉体状、繊維状の何れであってもよい。その他、接着シート中には老化防止剤、顔料、可塑剤、充填剤、粘着付与剤等の従来公知の各種添加物を添加することができる。
【００３６】
【実施例】
以下に、本発明の半導体装置の製造方法を、実施例を挙げてより具体的に説明する。
【００３７】
−実施例１−
〔接着シートの作製〕
ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社製「エビコート１００２」）１００重量部、アクリロニトリルブタジエン共重合体（日本ゼオン社製「ニッポール１０７２Ｊ」）３５重量部、フェノール樹脂（荒川化学社製「Ｐ−１８０」）４重量部、イミダゾール（四国ファイン社製「Ｃ１１Ｚ」）２重量部を、メチルエチルケトン３５０重量部に溶解し、接着剤溶液を得た。これを厚さ１００μｍの片面粗化銅合金箔（ジャパンエナジー社製「ＢＨＹ−１３Ｂ−７０２５」）に塗布した後、１５０℃で３分間乾燥させることにより、厚さ１５μｍの接着剤層を形成した接着シートを得た。この接着シートにおける接着剤層の硬化前の１００℃での弾性率は２．５×１０-3Ｐａであり、硬化後の２００℃での弾性率は４．３ＭＰａであり、銅箔に対する接着力は１２Ｎ／２０ｍｍであった。なお、基材層として用いた銅箔の２００℃での弾性率は１３０ＧＰａであった。
【００３８】
〔基板の作製〕
まず、厚さ４０μｍの銅箔（「Ｏｌｉｎ７０２５」）の両面にドライフィルムレジスト（東京応化製「オーディルＡＲ３３０」）をラミネートした。そして、そのドライフィルムレジストをフォトリソグラフィー法により導電部とは逆のパターンでパターニングした。次いで、パターニングされたドライフィルムレジストをマスクとして、銅箔の両面にニッケルめっきとＡｕめっきを順次施した後、ドライフィルムレジストを除去した。続いて、ニッケルめっき層とＡｕめっき層の積層物が部分的に配された銅箔を接着シートに接着剤層を介して貼り付けた。そして、この貼り付け状態で、Ａｕめっき層をレジストとして銅箔をエッチングし導電部を独立させた。このエッチング加工に際して、銅箔の側面をもエッチングすることにより、銅箔の上下にＡｕとニッケルからなる張出部分を設けた。最後に、プレス加工により接着シートの外形を加工した。
【００３９】
そして、図６の例（Ｗは５００ｍｍ）で示したようなパターンで接着シート５０上に導電部２０を形成した。１つのブロック７０における四角形の各辺に１６個の導電部２０を形成し、合計で６４個の導電部２０を形成した。
【００４０】
〔半導体素子の搭載〕
試験用のアルミ蒸着シリコンチップ（６ｍｍ×６ｍｍ）を、前記接着シートの接着剤層面（図６（ｂ）の７１に相当）へ固着した。具体的には、１７５℃、０．３ＭＰａ、１秒間の条件で貼り付けた後、１５０℃で１時間、乾燥させて固着した。次いで、直径２５μｍの金ワイヤーを用いて、シリコンチップの電極と導電部との間をボンディングした。ワイヤーボンド数は１個のチップ当たり６４点である。
【００４１】
前記１単位（４個×４個）の１０単位について、すなわち、アルミ蒸着チップ１６０個に対しワイヤーボンディングを行った。ワイヤーボンディングの成功率は１００％であった。続いて、トランスファー成形により封止樹脂（日東電工製「ＨＣ−１００」）をモールドした。樹脂モールド後、室温で接着シートを剥離した。さらに、１７５℃で５時間、乾燥機中で後硬化を行った。その後、ダイサーにて１ブロック単位に切断し半導体装置を得た。
【００４２】
この半導体装置に対して軟Ｘ線装置（マイクロフォーカスＸ線テレビ透視装置：島津製作所製「ＳＭＸ−１００」）で内部観察を行ったところ、ワイヤー変形やチップズレ等がなく、しかも導電部の張出部分が封止樹脂の中に埋め込まれた状態になっており、導電部と封止樹脂との接合強度が高い半導体装置が得られていたことを確認した。
【００４３】
なお、ワイヤーボンディング条件、トランスファーモールド条件、弾性率測定方法、接着力測定方法、ワイヤーボンド成功率については次のとおりである。
【００４４】
〔ワイヤーボンディング条件〕
装置：株式会社新川製「ＵＴＣ−３００ＢＩ ＳＵＰＥＲ」
超音波周波数：１１５ＫＨｚ
超音波出力時間：１５ミリ秒
超音波出力：１２０ｍＷ
ボンド荷重：１０１８Ｎ
サーチ荷重：１０３７Ｎ
【００４５】
〔トランスファーモールド条件〕
装置：ＴＯＷＡ成形機
成形温度：１７５℃
時間：９０秒
クランプ圧力：２００ＫＮ
トランスファースピード：３ｍｍ／秒
トランスファー圧：５ＫＮ
【００４６】
〔弾性率測定方法〕
基材層、接着剤層のいずれも
評価機器：レオメトリックス社製の粘弾性スペクトルメータ「ＡＲＥＳ」
昇温速度：５℃／ｍｉｎ
周波数：１ＨＺ
測定モード：引張モード
【００４７】
〔接着力測定方法〕
幅２０ｍｍ、長さ５０ｍｍの接着シートを、１２０℃×０．５ＭＰａ×０．５ｍ／ｍｉｎの条件で、３５μｍ銅箔（ジャパンエナジー製「Ｃ７０２５」）にラミネートした後、１５０℃の熱風オーブンにて１時間放置後、温度２３℃、湿度６５％ＲＨの雰囲気条件で、引張り速度３００ｍｍ／ｍｉｎ、１８０°方向に３５μｍ銅箔を引張り、その中心値を接着強度とした。
【００４８】
〔ワイヤーボンド成功率〕
ワイヤーボンドのプル強度を、株式会社レスカ製のボンディングテスタ「ＰＴＲ−３０」を用い、測定モード：プルテスト、測定スピード：０．５ｍｍ／ｓｅｃで測定した。プル強度が０．０４Ｎ以上の場合を成功、０．０４Ｎより小さい場合を失敗とした。ワイヤーボンド成功率は、これらの測定結果から成功の割合を算出した値である。
【００４９】
−実施例２−
実施例１において、金属箔として１８μｍの銅−ニッケル合金箔（ジャパンエナジー製「Ｃ７０２５」）を用いたこと以外は実施例１と同様にして半導体装置を製造した。ワイヤーボンドの成功率は１００％であった。半導体装置の内部観察を行ったところ、ワイヤー変形やチップズレ等がなく、導電部と封止樹脂との接合強度の高い半導体装置が得られていたことを確認した。
【００５０】
以上、本発明の実施の形態について詳細に説明してきたが、本発明による半導体装置及びその製造方法は、上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更が可能であることは当然のことである。
【００５１】
【発明の効果】
本発明の半導体装置の製造方法によれば、リードフレームを用いないリードレス構造であって、しかも半導体素子の下には何も存在しないという徹底した薄型化を図った半導体装置を製造することができ、また、半導体素子の位置ズレがなく、低コストであり、さらには外部との接続部位である導電部と封止樹脂との接合強度が高い強度的にも優れた半導体装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明で製造した半導体装置の一例を示す概略構成図である。
【図２】 本発明で製造した半導体装置の別の例を示す概略構成図である。
【図３】 図１に示した半導体装置の製造方法を示す工程図である。
【図４】 図３の工程にて導電部を形成した時点での接着シート（基板）の平面図を模式的に示した説明例である。
【図５】 基板作成の手順を示す工程図である。
【図６】 本発明における基板作成工程で接着シートに導電部形成した状態の上面図である。
【図７】 リードレス構造をした従来の半導体装置の一例を示す説明図である。
【図８】 リードレス構造をした従来の半導体装置の別の例を示す説明図である。
【符号の説明】
１０ 半導体素子
１１ 電極
２０ 導電部
２０ａ 張出部分
３０ ワイヤー
４０ 封止樹脂
５０ 接着シート
５１ 基材層
５２ 接着剤層
６０ 金属箔
６１ ドライフィルムレジスト
６２ バリア層
６３ 貴金属めっき層
７０ ブロック
７１ 半導体素子固着領域

Claims (7)

  1. 基材層及び接着剤層を有する接着シートにおける接着剤層上に部分的に複数の導電部を形成する基板作成工程、電極が形成されている少なくとも１つの半導体素子を電極が形成されていない側が基板側となるように前記基板上に固着し、複数の導電部の上側と半導体素子の上側にある電極とをワイヤーにより電気的に接続する半導体素子搭載工程、半導体素子とワイヤーと導電部とを封止樹脂で封止して接着シート上に半導体装置を形成する樹脂封止工程、半導体装置から接着シートを分離するシート分離工程、ダイサーカット又はパンチングにより個片化する切断工程からなる半導体装置の製造方法であって、
    導電部の素材として銅又は銅合金からなる金属箔が用いられ、前記基板作成工程が、金属箔の両面又は機能面のみに銅の拡散バリア層としてのニッケルめっきと貴金属めっき層を重ねて導電部の形状に部分めっきする工程、拡散バリア層と貴金属めっき層が重ねて形成された金属箔を接着シートの接着剤層側に貼り付ける工程、拡散バリア層と貴金属めっき層をレジストとして金属箔をエッチングし導電部を独立させる工程、プレス加工により接着シートの外形を加工する工程からなり、
    貴金属めっき層と拡散バリア層をレジストとして金属箔をエッチングし導電部を独立させる工程で、金属箔の側面をもエッチングすることにより、金属箔の両面又は機能面のみに貴金属とニッケルによる張出部分を設けた形状とすることを特徴とする半導体装置の製造方法。
  2. 銅又は銅合金からなる金属箔の厚さが０．０１〜０．１ｍｍであることを特徴とする請求項１に記載の半導体装置の製造方法。
  3. 貴金属めっき層に用いる貴金属が少なくともＡｕ、Ａｇ、Ｐｄのいずれかであることを特徴とする請求項１又は２に記載の半導体装置の製造方法。
  4. 接着シートにおける基材層の２００℃における弾性率が１．０ＧＰａ以上であり、かつ接着剤層の２００℃における弾性率が０．１ＭＰａ以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
  5. 接着シートにおける接着剤層が熱硬化型接着剤であり、１００〜１５０℃における硬化前の弾性率が０．１ＭＰａ以下で、２００℃における硬化後の弾性率が０．１ＭＰａ以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
  6. 熱硬化型接着剤が、エポキシ樹脂、エポキシ硬化剤、弾性体を必須成分として含有することを特徴とする請求項５に記載の半導体装置の製造方法。
  7. 接着シートにおける接着剤層の金属箔に対する接着力が、０．１〜１５Ｎ／２０ｍｍであることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
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