JP4228285B2 - 半導体発光装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば波長多重通信システムに於いて、信号光の励起光源として用いるのに好適な高出力半導体レーザを含む半導体発光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
一般に、半導体レーザを高出力化する為には、出射端面(前端面)の光反射率を低く、且つ、後端面の光反射率は高くすることが必要とされている。
【0003】
そのようにした場合、前端面側では後端面側に比較して光強度が大きくなるので、共振器軸方向でキャリア密度の分布を生ずる。これは、空間的ホール・バーニング効果と呼ばれる現象で、その効果に依って、空間的ホール・バーニング効果がない場合と比較して、半導体レーザの光出射効率が低下する旨の問題があった。
【0004】
前記の問題を解消する為、電極を共振器軸方向で2つに分割し、キャリアを多く消費する前端面側の領域に相対的に電流を多く注入する方法が提案されている(例えば、特許文献1を参照。)。
【0005】
また、活性層に対する光閉じ込め係数を前端面側で後端面側よりも小さくすることが、空間的ホール・バーニング効果の抑制に有効であると考えられ、それに対処する為、レーザ共振器方向で光閉じ込め層の厚さを前端面で薄くする旨の方法が提案されている(例えは、特許文献2を参照。)。
【0006】
然しながら、前記特許文献1に開示された発明、即ち、電極を2つに分割して共振器方向に電流分布を生成させる方法、及び、レーザ共振器方向で光閉じ込め層の厚さを前端面で薄くしてレーザ共振器方向で活性層に対する光閉じ込め係数に分布を生成させる方法は、それぞれ単独に適用した場合、空間的ホール・バーニング効果の抑制力は小さい。
【0007】
従って、空間的ホール・バーニング効果の抑制効果を大きくするには、前記二つの方法を適用すると良いのであるが、それぞれの方法を一つ一つ実施して実現するのでは、多くの工程を必要とし、製造歩留りも低下する。
【0008】
【特許文献1】
特開平6−85382号公報
【特許文献2】
特開平10−98231号公報
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
本発明では、半導体発光装置に於いて、共振器方向に電流分布を生成させること、及び、共振器方向で活性層に対する光閉じ込め係数に分布を生成させることを同時に実現できるようにする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明に依る半導体発光装置に於いては、非対称な端面光反射率をもつファブリ・ペロー型半導体レーザを含む半導体発光装置に於いて、隣接するクラッド層(p型InPクラッド層8)と同じ伝導性をもつ半導体層からなる領域1(p型InP領域5A)及び領域1と同じ伝導性をもち且つ領域1と比較して低濃度にドーピングされると共に領域1と比較して屈折率が高い半導体層からなる領域2(p型InGaAsP領域5B)が共振器方向に交互に配置されて光閉じ込め層(InGaAsP光閉じ込め層4)上に形成された中間クラッド層(中間クラッド層5)を備え、中間クラッド層に於ける領域2が占有する体積比は光低反射膜(光低反射膜12)側近傍に於いて光高反射膜(光高反射膜13)側近傍に比較して小さいことが基本になっている。
【0011】
前記手段を採ることに依り、比較的実施容易なプロセスで、前端面、即ち、光低反射膜側に相対的に多くの電流を流すことが可能で、且つ、光低反射膜側に活性層に対する光閉じ込め率が相対的に小さくなる構造を同時に実現することができる。
【0012】
また、前記2種類の構造を同時に実現していることから、従来の技術に依存した場合に比較し、半導体発光装置に於ける空間的ホール・バーニング効果の抑制効果が大きく、そして、半導体発光装置に於ける光出射効率は向上する。
【0013】
【発明の実施の形態】
実施の形態1
図1は実施の形態1の半導体発光装置を表す要部切断側面図であり、また、図2は図1に見られる半導体発光装置を表す要部切断正面図である。
【0014】
図1並びに図2に於いて、1はn型InPバッファ層(図示せず)が積層されたn型InP基板、2はノンドープInGaAsP光閉じ込め層、3はInGaAsP活性層、4はInGaAsP光閉じ込め層、5はp型InP領域5A(領域1)とp型InGaAsP領域5B(領域2)からなる中間クラッド層、6はp型InPブロッキング層、7はn型InPブロッキング層、8はp型InPクラッド層、9はp型InGaAsコンタクト層、10はp側電極、11はn側電極、12は光低反射膜、13は光高反射膜をそれぞれ示している。
【0015】
図示の半導体発光装置を製造する場合、
(1)
MOCVD(metalorganic chemical vapour deposition)法を適用することに依り、n型InP基板1上にドーピング濃度が5×1017〔cm-3〕、厚さが200〔nm〕であるn型InPバッファ層を形成する。
【0016】
(2)
同じく、MOCVD法を適用することに依り、厚さが50〔nm〕のノンドープInGaAsP光閉じ込め層2を形成する。
【0017】
(3)
同じく、MOCVD法を適用することに依り、厚さが20〔nm〕のInGaAsP活性層3を形成する。尚、活性層3は多重量子井戸構造にしても良い。
【0018】
(4)
同じく、MOCVD法を適用することに依り、厚さが50〔nm〕のノンドープInGaAsP光閉じ込め層4を形成する。
【0019】
(5)
同じく、MOCVD法を適用することに依り、組成波長が0.95〔μm〕でドーピング濃度が3×1017〔cm-3〕のp型InGaAsP層を厚さ200〔nm〕に形成する。
【0020】
(6)
CVD(chemical vapor deposition)法を適用することに依り、p型InGaAsP層上に厚さが150〔nm〕のSiO2 膜を形成する。
【0021】
(7)
工程(6)で形成したSiO2 膜上にEB(electron beam)露光法を適用してレジスト・パターンを形成し、エッチング・ガスをCF4 とするドライ・エッチング法を適用することに依り、前記レジスト・パターンをマスクとしてSiO2 膜のエッチングを行なって共振器方向と交差する方向に延びる溝を形成し、そのなかにp型InGaAsP層を表出させる。
【0022】
この溝は、周期が4.0〔μm〕であり、共振器方向の幅は、光低反射膜12側の端面で4〔μm〕、光高反射膜13側に向かうにつれて50〔nm〕ずつ狭くなるように、且つ、周期4.0〔μm〕を維持したまま形成され、光高反射膜13側の端面で0〔μm〕である。尚、このような溝を形成することは現今のリソグラフィ技術をもってすれば極めて容易である。
【0023】
(8)
エタン系ガスをエッチング・ガスとするドライ・エッチング法を適用することに依り、前記溝を形成したSiO2 膜をマスクとしてp型InGaAsP層のエッチングを行なって、共振器方向と交差する方向に延びる深さが200〔nm〕である溝を形成する。
【0024】
(9)
エッチング・マスクとして用いたSiO2 膜を選択成長用マスクとして残し、MOCVD法を適用することに依り、ドーピング濃度が8×1017〔cm-3〕であるp型InPを成長して前記溝を埋め込むようにする。
【0025】
この工程を経ることで、前記溝を埋めたp型InP領域5A及びp型InGaAsP領域5Bからなる中間クラッド層5が実現される。
【0026】
(10)
エッチング・マスク及び選択成長マスクとして用いたSiO2 膜を除去してから、CVD法を適用することに依り、改めて厚さ150〔nm〕程度のSiO2 膜を形成してから、リソグラフィ技術を適用することに依り、前記SiO2 膜を所要ストライプの幅にパターニングする。
【0027】
(11)
エタン系ガスをエッチング・ガスとするドライ・エッチング法を適用することに依り、ストライプのSiO2 膜をマスクとして中間クラッド層5の表面からn型InP基板1上のn型InPバッファ層内に達するエッチングを行なってメサを形成する。
【0028】
(12)
MOCVD法を適用することに依り、前記メサを埋めるp型InPブロッキング層6及びn型InPブロッキング層7を形成する。
【0029】
(11)
マスクとして用いたSiO2 膜を除去してから、MOCVD法を適用することに依り、ドーピング濃度を8×1017〔cm-3〕、層厚を1.5〔μm〕としたp型InPクラッド層8及びドーピング濃度を8×1018〔cm-3〕、層厚を300〔nm〕としたp型InGaAsコンタクト層9を形成する。
【0030】
(12)
この後、通常の技法を適用することに依り、p側電極10、n側電極11、光低反射膜12、光高反射膜13などを形成して完成する。尚、実施の形態1に於いては、中間クラッド層5と同じ構造の中間クラッド層を光閉じ込め層2の下側にも形成することができ、また、それ等何れの中間クラッド層も複数層にしても良く、また、p型InP領域5A及びp型InGaAsP領域5Bは他の半導体層、例えば、材料を異にするか、或いは、組成を異にする半導体層との積層構造にしても良く、また、領域2は領域1とは逆伝導性にしたり、ノンドープにしたり、Feドーピングなどに依って高抵抗化することは任意である。
【0031】
実施の形態2
図3は実施の形態2の半導体発光装置を表す要部切断側面図であり、図1及び図2に於いて用いた記号と同記号は同部分を表すか或いは同じ意味を持つものとする。
【0032】
実施の形態2が実施の形態1と相違するところは、実施の形態1に於いて、中間クラッド層5として説明した部分に相当する中間クラッド層15にある。
【0033】
即ち、実施の形態1では、中間クラッド層5が高ドーピング濃度のp型InP領域5Aと低ドーピング濃度且つ高屈折率のp型InGaAsP領域5Bとで構成されている旨を説明したが、実施の形態2では、中間クラッド層5に相当する中間クラッド層15が、組成波長0.95〔μm〕、ドーピング濃度3×1017〔cm-3〕のp型InGaAsPで構成され、しかも、光低反射膜12側から光高反射膜13側にかけて、膜厚を50〔nm〕から200〔nm〕まで緩徐に厚くした構造にしてある。
【0034】
図4は実施の形態2に於ける中間クラッド層を形成する場合を説明する為のマスク及び半導体発光装置を表す要部説明図であり、図1乃至図3に於いて用いた記号と同記号は同部分を表すか或いは同じ意味を持つものとする。
【0035】
実施の形態1と同様にして、基板1上にバッファ層、光閉じ込め層2、活性層3、光閉じ込め層4まで積層成膜したウェーハを作製し、そのウエーハ表面に共振器方向の長さが1000〔μm〕である半導体発光装置形成予定部分を仮定する。
【0036】
光高反射膜形成予定部分に於ける光高反射膜形成予定エッジを中央とし、光高反射膜形成予定エッジを越えて外方に、また、その反対側となる光低反射膜形成予定エッジ側にそれぞれ延在する長さ700〔μm〕そして幅400〔μm〕のSiO2 膜20を10〔μm〕の間隔をおいて並設し、そのSiO2 膜20をマスクとして光閉じ込め層4上に低ドーピング濃度、例えば、3×1017〔cm-3〕にしたp型InGaAsP中間クラッド層15を成膜する。
【0037】
前記工程を経ることに依って、p型InGaAsP中間クラッド層15は、光低反射膜形成予定エッジで厚さ50〔nm〕、そして、光高反射膜形成予定エッジで厚さ200〔nm〕となるように緩徐に層厚が変化して成膜される。
【0038】
この後、選択成長マスクとして用いたSiO2 膜を除去してから、実施の形態1に於ける工程(8)以下の工程と同じ工程を経て半導体発光装置を完成する。
【0039】
前記工程(8)以下に相当する工程の要点を再掲すると、ストライプSiO2 膜の形成、中間クラッド層15の表面からn型InP基板1上のn型InPバッファ層内に達するエッチングに依るメサの形成、該メサを埋めるp型InPブロッキング層6並びにn型InPブロッキング層7の形成、マスクとして用いたストライプSiO2 膜を除去した後、p型InPクラッド層8並びにp型InGaAsコンタクト層9の形成、p側電極10、n側電極11の形成、劈開を行った後、光低反射膜12、光高反射膜13などの形成を経て完成する。
【0040】
実施の形態2に於いては、中間クラッド層15と同じ構造の中間クラッド層を光閉じ込め層2の下側にも形成することができ、また、それ等何れの中間クラッド層も他の半導体層、例えば、材料を異にするか、或いは、組成を異にする半導体層との積層構造にすることは任意である。
【0041】
本発明に於いては、前記説明した実施の形態を含め、多くの形態で実施することができ、以下、それを付記として例示する。
【0042】
(付記1)
非対称な端面光反射率をもつファブリ・ペロー型半導体レーザを含む半導体発光装置に於いて、
隣接するクラッド層と同じ伝導性をもつ半導体層からなる領域1及び領域1と同じ伝導性をもち且つ領域1と比較して低濃度にドーピングされると共に領域1と比較して屈折率が高い半導体層からなる領域2が共振器方向に交互に配置されて光閉じ込め層上に形成された中間クラッド層を備え、
中間クラッド層に於ける領域2が占有する体積比は光低反射膜側近傍に於いては光高反射膜側近傍に比較して小さいこと
を特徴とする半導体発光装置。
【0043】
(付記2)
領域1及び領域2からなる中間クラッド層が活性層上側の光閉じ込め層上及び活性層下側の光閉じ込め層下のそれぞれに配設されてなること
を特徴とする(付記1)記載の半導体発光装置。
【0044】
(付記3)
中間クラッド層の領域1及び領域2が共に複数の半導体層の積層構造からなること
を特徴とする(付記1)或いは(付記2)記載の半導体発光装置。
【0045】
(付記4)
複数層の中間クラッド層が設けられてなること
を特徴とする(付記1)乃至(付記3)の何れか1記載の半導体発光装置。
【0046】
(付記5)
中間クラッド層に於ける領域2が領域1とは逆伝導性であるか、ノンドープであるか、Feドーピングなどに依る高抵抗化してあるかの何れかであること
を特徴とする(付記1)乃至(付記4)の何れか1記載の半導体発光装置。
【0047】
(付記6)
非対称な端面光反射率をもつファブリ・ペロー型半導体レーザを含む半導体発光装置に於いて、
隣接するクラッド層と同じ伝導性をもち、前記クラッド層と比較して低濃度にドーピングされ、前記クラッド層と比較して高屈折率である半導体層を以て構成され且つ光閉じ込め層上に於いて光低反射膜側に比較し光高反射膜側近傍で厚く形成されてなる中間クラッド層と、
中間クラッド層上に隣接して積層形成されてなる前記クラッド層と
を備えてなることを特徴とする半導体発光装置。
【0048】
(付記7)
中間クラッド層が活性層上側の光閉じ込め層上及び活性層下側の光閉じ込め層下のそれぞれに配設されてなること
を特徴とする(付記6)記載の半導体発光装置。
【0049】
(付記8)
中間クラッド層が複数の半導体層の積層構造からなること
を特徴とする(付記6)或いは(付記7)記載の半導体発光装置。
【0050】
【発明の効果】
本発明に依る半導体発光装置に於いては、非対称な端面光反射率をもつファブリ・ペロー型半導体レーザを含む半導体発光装置に於いて、隣接するクラッド層と同じ伝導性をもつ半導体層からなる領域1及び領域1と同じ伝導性をもち且つ領域1と比較して低濃度にドーピングされると共に領域1と比較して屈折率が高い半導体層からなる領域2が共振器方向に交互に配置されて光閉じ込め層上に形成された中間クラッド層を備え、中間クラッド層に於ける領域2が占有する体積比は光低反射膜側近傍に於いては光高反射膜側近傍に比較して小さいことが基本になっている。
【0051】
前記構成を採ることに依り、比較的実施容易なプロセスで、前端面、即ち、光低反射膜側に相対的に多くの電流を流すことが可能で、且つ、光低反射膜側に活性層に対する光閉じ込め率が相対的に小さくなる構造を同時に実現することができる。
【0052】
また、前記2種類の構造を同時に実現していることから、従来の技術に依存した場合に比較し、半導体発光装置に於ける空間的ホール・バーニング効果の抑制効果が大きく、そして、半導体発光装置に於ける光出射効率は向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態1の半導体発光装置を表す要部切断側面図である。
【図2】図1に見られる半導体発光装置を表す要部切断正面図である。
【図3】実施の形態2の半導体発光装置を表す要部切断側面図である。
【図4】実施の形態2に於ける中間クラッド層を形成する場合を説明する為のマスク及び半導体発光装置を表す要部説明図である。
【符号の説明】
1 n型InP基板
2 ノンドープInGaAsP光閉じ込め層
3 InGaAsP活性層
4 InGaAsP光閉じ込め層
5 中間クラッド層
5A p型InP領域(領域1)
5B p型InGaAsP領域(領域2)
6 p型InPブロッキング層
7 n型InPブロッキング層
8 p型InPクラッド層
9 p型InGaAsコンタクト層
10 p側電極
11 n側電極
12 光低反射膜
13 光高反射膜
Claims (4)
- 非対称な端面光反射率をもつファブリ・ペロー型半導体レーザを含む半導体発光装置に於いて、
隣接するクラッド層と同じ伝導性をもつ半導体層からなる領域1及び領域1と同じ伝導性をもち且つ領域1と比較して低濃度にドーピングされると共に領域1と比較して屈折率が高い半導体層からなる領域2が共振器方向に交互に配置されて光閉じ込め層上に形成された中間クラッド層を備え、
中間クラッド層に於ける領域2が占有する体積比は光低反射膜側近傍に於いては光高反射膜側近傍に比較して小さいこと
を特徴とする半導体発光装置。 - 領域1及び領域2からなる中間クラッド層が活性層上側の光閉じ込め層上及び活性層下側の光閉じ込め層下のそれぞれに配設されてなること
を特徴とする請求項1記載の半導体発光装置。 - 非対称な端面光反射率をもつファブリ・ペロー型半導体レーザを含む半導体発光装置に於いて、
隣接するクラッド層と同じ伝導性をもち、前記クラッド層と比較して低濃度にドーピングされ、前記クラッド層と比較して高屈折率である半導体層を以て構成され且つ光閉じ込め層上に於いて光低反射膜側に比較し光高反射膜側近傍で厚く形成されてなる中間クラッド層と、
中間クラッド層上に隣接して積層形成されてなる前記クラッド層と
を備えてなることを特徴とする半導体発光装置。 - 中間クラッド層が活性層上側の光閉じ込め層上及び活性層下側の光閉じ込め層下のそれぞれに配設されてなること
を特徴とする請求項3記載の半導体発光装置。
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