JP4212049B2 - 光学素子の製造方法 - Google Patents
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Description
この技術は、微粒子懸濁液を原料として、受け部を加工した基板に遠心力などのある種の力を利用して3次元に最密充填する技術である。このようにしてできた最密充填構造は、屈折率が周期的に変化する構造であるために、フォトニック結晶としての使用が可能である。
この技術は、透明な微小ポリマーを配列した領域を光導波路として用いる技術を提供するものである。導波路領域を微粒子が配列してなる構造を利用するために、曲線状や曲面上といった3次元構造を実現できるものである。
この技術は、上記特許文献2に記載された発明と類似の発明であるが、上記特許文献2に記載された発明との相違点は、配列する微小球が透明なポリマーではなく、直径が100μm以下のガラス球体と規定した点である。
請求項1記載の発明は、基板上に、SAM(Self Assembled Monolayer)材料としての単分子層からなる有機膜を形成し、前記有機膜が表面に形成された前記基板に対して、光照射を所望のパターンで行うことにより、前記有機膜の表面の疎水性基を前記所望のパターンで解離して親水性のOH基が表面に出た構造とし、この状態で、分散液に分散させた親水性を示す第一の物質からなる第一の微粒子を基板上に展開し、微粒子の自己組織化現象を利用して、OH基が表面に出た前記所望のパターン領域にのみ親水性を示す前記第一の微粒子を付着させる工程と、基板の、前記第一の微粒子が配列した領域以外の領域を少なくとも含む領域に、光照射を行うことにより、前記有機膜が表面に形成された前記基板の、前記第一の微粒子が配列した領域以外の領域の表面の疎水性基を解離して親水性のOH基が表面に出た構造とし、この状態で、分散液に分散させた親水性を示す、前記第一の物質とは異なる第二の物質からなり前記第一の微粒子とほぼ同じ径を有する第二の微粒子を基板上に展開し、微粒子の自己組織化現象を利用して、OH基が表面に出た、前記第一の微粒子が配列した領域以外の領域に、親水性を示す前記第二の微粒子を付着させる工程と、前記第一の微粒子および前記第二の微粒子によって形成された空隙に、前記第一の物質および第二の物質のいずれとも異なる第三の物質からなる材料を充填する工程と、さらに、前記第一の微粒子または前記第二の微粒子のいずれか一方を選択的に除去する工程とを含むことを特徴としている。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の光学素子の製造方法において、さらに、前記第一の微粒子または前記第二の微粒子の選択的な除去によって形成された空隙に、前記第一の物質および前記第二の物質のいずれとも異なる第三の物質からなる材料を充填する工程とを含むことを特徴としている。
請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の光学素子の製造方法において、さらに、前記第一の微粒子または第二の微粒子のうち選択的な除去の対象とはならなかった他方の微粒子を除去する工程をさらに付加したことを特徴としている。
請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の光学素子の製造方法において、さらに、前記他方の微粒子を除去する工程により形成された空隙の内壁に、前記第一の物質、前記第二の物質または前記第三の物質とは異なる第四の物質からなる材料を付着させて中空構造の殻部とする工程と、前記第三の物質からなる材料を除去する工程とを含むことを特徴としている。
請求項5に記載の発明は、請求項1から4のいずれかに記載の光学素子の製造方法において、前記微粒子を所望のパターン形状に配列する工程は、微粒子が分散した分散液を基板に供給する工程を含むことを特徴としている。
請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の光学素子の製造方法において、前記微粒子を分散させた分散液の液性を、基板および微粒子に応じて最適化することを特徴としている。
請求項1に記載の発明は、微粒子の自己組織化現象を利用して、基板上に第一の物質からなる第一の微粒子を所望のパターン形状に配列する工程と、前記第一の微粒子が配列した領域以外の領域に、前記第一の物質とは異なる第二の物質からなり前記第一の微粒子とほぼ同じ径を有する第二の微粒子を配列する工程とを含むことを特徴としているために、微粒子の最密充填が容易に得られ、フォトニック結晶の特性を利用した高品質な特性を有する光学素子が得られる。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の光学素子の製造方法において、さらに、前記第一の微粒子または前記第二の微粒子の選択的な除去によって形成された空隙に、前記第一の物質および前記第二の物質のいずれとも異なる第三の物質からなる材料を充填する工程とを含むことを特徴としているために、導波路部を構成する材質を、用いる波長に適した光学特性を有する材料へと容易に置換できるために容易に高機能な光学素子を得ることができる。
請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の光学素子の製造方法において、さらに、前記第一の微粒子または第二の微粒子のうち選択的な除去の対象とはならなかった他方の微粒子を除去する工程をさらに付加したことを特徴としているために、導波路部以外の領域をインバースオパール構造とすることができ、より伝達損失の小さい、高効率な光学素子を得ることができる。
請求項4に記載の発明は、請求項3に記載の光学素子の製造方法において、さらに、前記他方の微粒子を除去する工程により形成された空隙の内壁に、前記第一の物質、前記第二の物質または前記第三の物質とは異なる第四の物質からなる材料を付着させて中空構造の殻部とする工程と、前記第三の物質からなる材料を除去する工程とを含むことを特徴としているために、導波路部以外の領域を中空構造とすることができ、伝達損失が無く、効率を極限まで高めた光学素子を得ることができる。
請求項5に記載の発明は、請求項1から4のいずれかに記載の光学素子の製造方法において、前記微粒子を所望のパターン形状に配列する工程は、微粒子が分散した分散液を基板に供給する工程を含むことを特徴としているために、簡単なプロセスで、高精度に配列したパターンが容易に得られる。
請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の光学素子の製造方法において、前記微粒子を分散させた分散液の液性を、基板および微粒子に応じて最適化することを特徴としているので、欠陥が無く高規則性を有するパターン配列が確実に且つ、容易に得ることができる。
まず、請求項1により得られる光学素子の基本的な構成について、図1−A、図1−B、図1−Cを用いて、その製造工程に沿って説明する。
図3−Aは、上記光学素子の製造方法と同じものである。すなわち、基板(301)上に、第一の物質からなる微粒子(302)を所望のパターンに配列させる工程と、それ以外の領域に該微粒子(302)とほぼ同じ径の第二の物質からなる微粒子(303)を配列させる工程を示している。
図4−Aは、請求項1で述べた製造方法によって得られた光学素子と同じものである。
請求項3は請求項2で述べた製造方法によって得られた光学素子に対して、さらに第二の物質からなる微粒子を除去する工程を付加し、それにより、導波路以外の領域をインバースオパール構造とするものである。
図6−Aは、請求項3で述べた製造方法によって得られた光学素子を示している。請求項4においては、請求項3で述べた製造方法に加えてさらに球状の空隙(605)に対して、第四の物質からなる材料を充填する工程を有しており、その様子を示した図が図6−Bである。
本発明においては、第一の物質からなる微粒子と第二の物質からなる微粒子を用いることとしている。ここで、例えば第一の物質からなる微粒子として、シリカ微粒子を用いて導波路部以外の領域に配列し、また、第二の物質からなる微粒子としてポリスチレン微粒子を用いて導波路部の領域に配列したとする。
第三の物質からなる材料は極微細な空隙にも完全に充填する必要があることから、流動性のある液状材料が適しているといえるが、それ以外にも、例えば、最近材料分野で注目を集めているナノマテリアルと呼ばれる材料、例えば、直径が数nm程度の金属、あるいは、金属酸化物などを液状分散媒に分散させた状態の材料を用いることもできる。
(a)SAM膜の形成
以下の条件でSAM膜を形成した。
基板:6インチp型Siウエハ(100)
SAM材料:フェニルトリクロロシラン(PTCS)
上記の工程でPTCS−SAM膜を作成した基板に対し、図9に示したフォトマスクと紫外光を照射できる露光装置を用いて、パターニング露光を行なった。図9に示したフォトマスクを用いることにより、照射部分(901)に対応した領域が「Y分岐」を持つ導波路部分、未照射部分(902)に対応した領域が導波路部以外の領域となる。ここで用いた紫外光の波長は高圧水銀ランプを光源とする184.9nmである。また、露光時間は4時間とした。
本実施例では、第一の物質からなる微粒子をシリカとして行なった。平均粒径が750nmのシリカ微粒子が分散したコロイダルシリカ(10wt%、分散媒:純水)をシリカの原料とし、300mlを分取して容器に入れた。この分散液の中に、上記(b)の工程を経た基板を50分間浸漬した。その後、分散液から静かに基板を取り出し、自然乾燥させた。
本実施例では、第二の物質からなる微粒子をポリスチレンとして行なった。ここで用いたポリスチレン微粒子は、標準粒子として一般的に市販されているものであり、平均粒径が750nmのポリスチレン微粒子が純水中に10wt%の濃度で分散しているものを原料の分散液とした。
上記(d)の工程を経たサンプルを5%フッ酸に30分浸漬し、第一の物質からなる微粒子であるシリカをエッチング、除去した。その後、純水でリンス工程を3回行い、窒素ガスブローにて乾燥させた。
得られたサンプル形状を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察したところ、当初シリカ微粒子が存在したと思われる領域、すなわち導波路部となるように設計された領域にはなにも存在しておらず、その形状は、パターニング露光で用いたマスクのパターンを忠実に反映していた。
(a)SAM膜の形成
実施例1と同様に以下の条件でSAM膜を形成した。
基板:6インチp型Siウエハ(100)
SAM材料:フェニルトリクロロシラン(PTCS)
上記の工程でPTCS−SAM膜を作成した基板に対し、図9に示したフォトマスクと紫外光を照射できる露光装置を用いて、パターニング露光を行なった。図9に示したフォトマスクを用いることにより、照射部分(901)に対応した領域が「Y分岐」を持つ導波路部分、未照射部分(902)に対応した領域が導波路部以外の領域となる。ここで用いた紫外光の波長は高圧水銀ランプを光源とする184.9nmである。また、露光時間は4時間とした。
本実施例では実施例1と同様に、第一の物質からなる微粒子をシリカとして行なった。平均粒径が750nmのシリカ微粒子が分散したコロイダルシリカ(10wt%、分散媒:純水)をシリカの原料とし、300mlを分取して容器に入れた。この分散液の中に、上記(b)の工程を経た基板を50分間浸漬した。その後、分散液から静かに基板を取り出し、自然乾燥させた。
本実施例では実施例1と同様に、第二の物質からなる微粒子をポリスチレンとして行なった。ここで用いたポリスチレン微粒子は、実施例1と同様に平均粒径が750nmのポリスチレン微粒子が純水中に10wt%の濃度で分散しているものを原料の分散液とした。
本実施例においては、第三の物質からなる材料として、アクリル系の紫外線硬化型樹脂を用いた。用いた紫外線硬化型樹脂の粘度は20mPaと非常に低粘度であり、事前の実験で、各微粒子間の空隙に問題なく充填されることを確認している。
得られたサンプル形状を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察したところ、導波路部となるように設計された領域にはシリカ微粒子がパターニング露光で用いたマスクのパターンを忠実に反映した形状で配列していた。
(a)SAM膜の形成
これまでの実施例と同様に、6インチp型Siウエハ(100)に対しフェニルトリクロロシラン(PTCS)によるSAM膜を形成した。
上記の工程でPTCS−SAM膜を作成した基板に対し、図9に示したフォトマスクと紫外光を照射できる露光装置を用いて、パターニング露光を行なった。
本実施例ではこれまでの実施例と同様に、第一の物質からなる微粒子をシリカとして行なった。平均粒径が750nmのシリカ微粒子が分散したコロイダルシリカ(10wt%、分散媒:純水)をシリカの原料とし、300mlを分取して容器に入れた。この分散液の中に、上記(b)の工程を経た基板を50分間浸漬した。その後、分散液から静かに基板を取り出し、自然乾燥させた。
本実施例では実施例1および2と同様に、第二の物質からなる微粒子をポリスチレンとして行なった。ここで用いたポリスチレン微粒子は、実施例1および2と同様に、平均粒径が750nmのポリスチレン微粒子が純水中に10wt%の濃度で分散しているものを原料の分散液とした。
本実施例においては、実施例2とは異なり、第三の物質からなる材料の充填の前に、第一の物質からなる微粒子の除去する工程を行なった。
本実施例においては、実施例2と同様に、第三の物質からなる材料として、アクリル系の紫外線硬化型樹脂を用いた。
得られたサンプル形状を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察したところ、当初シリカ微粒子が存在したと思われる領域、すなわち導波路部となるように設計された領域には紫外線硬化型樹脂と思われる材料が充填されており、それ以外にポリスチレン微粒子間の空隙にも樹脂が充填されていることが確認できた。
(a)SAM膜の形成
これまでの実施例とは異なるSAM材料を用いて、以下の条件でSAM膜を形成した。
基板:6インチp型Siウエハ(100)
SAM材料:オクタデシルトリクロロシラン(OTS)
上記の工程でOTS−SAM膜を作成した基板に対し、図9に示したフォトマスクと紫外光を照射できる露光装置を用いて、パターニング露光を行なった。
本実施例ではこれまでの実施例と同様に、第一の物質からなる微粒子をシリカとして行なった。平均粒径が750nmのシリカ微粒子が分散したコロイダルシリカ(10wt%、分散媒:純水)をシリカの原料とし、300mlを分取して容器に入れた。この分散液の中に、上記(b)の工程を経た基板を50分間浸漬した。その後、分散液から静かに基板を取り出し、自然乾燥させた。
本実施例ではこれまでの実施例と同様に、第二の物質からなる微粒子をポリスチレンとして行なった。ここで用いたポリスチレン微粒子は、これまでの実施例と同様に、平均粒径が750nmのポリスチレン微粒子が純水中に10wt%の濃度で分散しているものを原料の分散液とした。
上記(d)の工程を経たサンプルを5%フッ酸に30分浸漬し、第一の物質からなる微粒子であるシリカをエッチング、除去した。その後、純水でリンス工程を3回行い、窒素ガスブローにて乾燥させた。
本実施例においては、第三の物質からなる材料として、チタンのアルコキシド溶液を用いた。濃度はTiO2換算で5wt%である。また、粘度は40mPaのものである。上記(e)の工程を経たサンプルを、先に述べたチタンのアルコキシド溶液に浸漬することによってチタンのアルコキシド溶液を空隙に充填し、その後乾燥させた。
上記(f)の工程を経たサンプルをマッフル炉に入れて加熱しチタンのアルコキシドの焼結と、ポリスチレンの除去を同時に行なった。
得られたサンプル形状を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察したところ、当初シリカ微粒子が存在したと思われる領域、すなわち導波路部となるように設計された領域には酸化チタンが充填されており、当初ポリスチレン微粒子が存在したと思われる領域には球形の空間(air sphere)が連結して規則的に配列している様子が確認できた。
(a)SAM膜の形成
実施例4と同様に、以下の条件でSAM膜を形成した。
基板:6インチp型Siウエハ(100)
SAM材料:オクタデシルトリクロロシラン(OTS)
上記の工程でOTS−SAM膜を作成した基板に対し、図9に示したフォトマスクと紫外光を照射できる露光装置を用いて、パターニング露光を行なった。
本実施例ではこれまでの実施例とは逆に、第一の物質からなる微粒子としてポリスチレン微粒子を用いた。ここで用いたポリスチレン微粒子は、これまでの実施例と同様に、平均粒径が750nmのポリスチレン微粒子が純水中に10wt%の濃度で分散しているものを原料の分散液とした。
本実施例ではこれまでの実施例とは逆に、第二の物質からなる微粒子をシリカとして行なった。平均粒径が750nmのシリカ微粒子が分散したコロイダルシリカ(10wt%、分散媒:純水)をシリカの原料として用いた。
上記(d)の工程を経たサンプルをTHF(テトラヒドロフラン)中に20分間浸漬して、第一の物質からなる微粒子であるポリスチレン微粒子を溶解、除去した。その後、自然乾燥を行い、サンプル中に残存するTHFをすべて揮発させた。
本実施例においては、第三の物質からなる材料としてスチレンモノマーと重合開始剤とを用いた。これらの材料を第二の物質からなる微粒子間の空隙および、当初第一の物質からなる微粒子が存在した領域に充填し、波長184.9nmの紫外光を発する高圧水銀ランプを光源として紫外光照射を20時間行い、スチレンの重合、硬化を行なった。
上記(f)の工程を経たサンプルを5%フッ酸に30分浸漬し、第二の物質からなる微粒子であるシリカをエッチング、除去した。その後、純水でリンス工程を3回行い、窒素ガスブローにて乾燥させた。
本実施例では、第四の物質からなる材料として、チタンのアルコキシド溶液を用いた。濃度はTiO2換算で5wt%である。また、粘度は40mPaのものである。上記(g)の工程を経たサンプルをチタンのアルコキシド溶液に浸漬することによってチタンのアルコキシド溶液を空隙に充填し、その後乾燥させた。
上記(h)の工程を経たサンプルをマッフル炉に入れて加熱しアルコキシドの焼結と、第三の物質からなる材料であるポリスチレンの除去を同時に行なった。
得られたサンプル形状を走査型電子顕微鏡(SEM)で断面の観察したところ、当初ポリスチレン微粒子が存在したと思われる領域、すなわち導波路部となるように設計された領域には何も存在しておらず、当初シリカ微粒子が存在したと思われる領域には酸化チタンによって構成された中空の粒子が連結して配列している様子が確認できた。これらのことにより、設計どおりの導波路構造が形成されていることを確認した。
102,302,402:第一の物質からなる微粒子(第一の微粒子)
103,203,303,403:第二の物質からなる微粒子(第二の微粒子)
204,404,504,604:第三の物質からなる材料
505,605:球状の空隙
606:第四の物質からなる材料
701,801:基板
702,802:SAM(Self Assembled Monolayers)膜
703,803:フォトマスク
704,804:微粒子
901:光照射部
902:光非照射部
Claims (6)
- 基板上に、SAM(Self Assembled Monolayer)材料としての単分子層からなる有機膜を形成し、前記有機膜が表面に形成された前記基板に対して、光照射を所望のパターンで行うことにより、前記有機膜の表面の疎水性基を前記所望のパターンで解離して親水性のOH基が表面に出た構造とし、この状態で、分散液に分散させた親水性を示す第一の物質からなる第一の微粒子を基板上に展開し、微粒子の自己組織化現象を利用して、OH基が表面に出た前記所望のパターン領域にのみ親水性を示す前記第一の微粒子を付着させる工程と、
基板の、前記第一の微粒子が配列した領域以外の領域を少なくとも含む領域に、光照射を行うことにより、前記有機膜が表面に形成された前記基板の、前記第一の微粒子が配列した領域以外の領域の表面の疎水性基を解離して親水性のOH基が表面に出た構造とし、この状態で、分散液に分散させた親水性を示す、前記第一の物質とは異なる第二の物質からなり前記第一の微粒子とほぼ同じ径を有する第二の微粒子を基板上に展開し、微粒子の自己組織化現象を利用して、OH基が表面に出た、前記第一の微粒子が配列した領域以外の領域に、親水性を示す前記第二の微粒子を付着させる工程と、
前記第一の微粒子および前記第二の微粒子によって形成された空隙に、前記第一の物質および第二の物質のいずれとも異なる第三の物質からなる材料を充填する工程と、
さらに、前記第一の微粒子または前記第二の微粒子のいずれか一方を選択的に除去する工程とを含むことを特徴とする光学素子の製造方法。 - 請求項1に記載の光学素子の製造方法において、さらに、
前記第一の微粒子または前記第二の微粒子の選択的な除去によって形成された空隙に、前記第一の物質および前記第二の物質のいずれとも異なる第三の物質からなる材料を充填する工程とを含むことを特徴とする光学素子の製造方法。 - 請求項2に記載の光学素子の製造方法において、さらに、
前記第一の微粒子または第二の微粒子のうち選択的な除去の対象とはならなかった他方の微粒子を除去する工程をさらに付加したことを特徴とする光学素子の製造方法。 - 請求項3に記載の光学素子の製造方法において、さらに、
前記他方の微粒子を除去する工程により形成された空隙の内壁に、前記第一の物質、前記第二の物質または前記第三の物質とは異なる第四の物質からなる材料を付着させて中空構造の殻部とする工程と、前記第三の物質からなる材料を除去する工程とを含むことを特徴とする光学素子の製造方法。 - 請求項1から4のいずれかに記載の光学素子の製造方法において、
前記微粒子を所望のパターン形状に配列する工程は、微粒子が分散した分散液を基板に供給する工程を含むことを特徴とする光学素子の製造方法。 - 請求項5に記載の光学素子の製造方法において、
前記微粒子を分散させた分散液において、前記微粒子が凝集しない状態で存在するように前記分散液のpHを制御することを特徴とする光学素子の製造方法。
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