JP4207778B2 - カラーフィルタ、表示装置及び電子機器、及びこれらの製造方法、並びに表示装置の製造装置 - Google Patents

Description

【発明の属する技術分野】
【０００１】
本発明は、反射型カラー液晶表示装置などに用いられるカラーフィルタの製造方法及び製造装置に関する。また、上記カラーフィルタを備えた表示装置や電子機器の製造方法、及びカラーフィルタに関する。
【従来の技術】
【０００２】
近年、バックライトが無くても周囲の光を有効に利用して画像表示可能な反射型ディスプレイ装置の技術が開発されており、薄型、軽量及び低消費電力化に優れている。この反射型ディスプレイは、基板上に反射層と色層が順次形成されたカラーフィルタを備えている。
【０００３】
また、反射層を光透過性を有する半透過層として形成した半透過型ディスプレイ装置も開発されている。この半透過型ディスプレイ装置によれば、明るいところでは周囲の光を用いて反射型の装置として使用することができ、暗いところではバックライトを用いて透過型の表示装置として使用することができる。
【０００４】
上記の反射層を形成する方法として、従来スパッタ法又は真空蒸着法などでアルミニウム合金や銀合金を成膜することが行なわれてきた。
【０００５】
また、特開平７−１９１２１１号公報には、基板上に高反射性の導電膜と、透明な導電膜とを積層させ、導電膜と光導電膜を用いて、電子写真方式にて着色パターンを形成し、導電膜は反射層として利用することが開示されている。
【０００６】
また、特開平１０−９６８１１号公報には、基板上に少なくとも３色の着色層を、反射層を問に挟む形で形成し、レーザー照射で上層部を蒸散させ、下層の着色層を露出させることにより、反射型カラーフィルタを形成することが開示されている。
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
従来のスパッタ法や真空蒸着法により反射層を形成する方法では、基板表面処理、着色層形成に至るまで少なくとも４回のフォトリソ工程を必要とするため、莫大な工数、時間がかかり、歩留まりの低下の原因にもなっていた。
【０００８】
また、上記特開平７−１９１２１１号公報に記載の方法では、フォトリソと比較して着色層形成時の工数は少ないが、各着色層及びブラックマトリクスの形成時にフォトマスクを必要とし、真空蒸着装置やコロナ帯電器などの装置が別途必要となる。また、トナーとして電気絶縁性物質しか用いることができないため、条件が制約される。
【０００９】
また、上記特開平１０−９６８１１号公報に記載の方法では、フォトマスクを必要としないが、上部着色層が下部着色層の影響を受ける可能性がある。更にレーザー光で蒸散させるため、微細なパターン加工が難しい。また、基板処理面に約３μｍの段差ができるため、液晶層の厚さの差による輝度むらが生じ易い。
【００１０】
本発明は、フォトリソ工程などの煩雑な工程を不要とし、短時間、低エネルギー、低コストで反射型カラーフィルタ及び表示装置の製造を可能にする方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため、本発明は、基板上に反射層と色層とからなる複数の画素を備えたカラーフィルタの製造方法であって、前記画素が配置される各画素領域を仕切る仕切りを形成する工程と、前記各画素領域内に第１の液状材料を液滴吐出法により吐出して前記反射層を形成する工程と、前記各画素領域内に前記色層を形成する工程と、前記反射層と前記色層の間に散乱層を形成する工程と、を備え、前記色層は、赤、緑、または青のいずれか一つに着色されており、前記反射層における反射特性および前記散乱層における散乱特性を、前記色層の色ごとに変更することにより色バランスが調整されていることを特徴とする。
【００１２】
上記製造方法において、前記色層を形成する工程は、第２の液状材料を液滴吐出法により吐出する工程を備えていることが望ましい。
【００１３】
上記製造方法において、前記反射層は光透過性を有する半透過反射層としてもよい。上記製造方法において、前記第１の液状材料は光の散乱材を含むことが望ましい。
【００１４】
上記製造方法において、アクティブマトリクス基板上に、前記仕切り、反射層および色層を一体的に形成してもよい。
【００１５】
本発明の表示装置の製造方法は、上記の方法により製造されたカラーフィルタを用いることを特徴とする。
【００１６】
本発明の電子機器の製造方法は、上記の方法により製造された表示装置を用いることを特徴とする。
【００１７】
また本発明は、基板上に反射層を備えた表示装置の製造装置であって、前記反射層を形成するための液状材料を前記基板上に液滴吐出法により吐出する吐出部を備えたことを特徴とする。
【００１８】
本発明のカラーフィルタは、基板上に反射層と色層とからなる複数：の画素を備え、前記各画素が配置される各画素領域を仕切る仕切りを備え、前記反射層および前記色層は、前記仕切りによって他の画素の反射層および色層と分離されている。
【００１９】
本発明の表示装置は、上記のカラーフィルタを備えており、本発明の電子機器は、この表示装置を備えている。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照して説明する。
（１．製造装置の構成）
図１は、本発明の実施形態による製造装置の概略斜視図である。図に示すように、製造装置１００は、インクジェットヘッド群１、Ｘ方向駆動軸４、Ｙ方向ガイド軸５、制御装置６、載置台７、クリーニング機構部８、基台９を備えている。
【００２１】
インクジェットヘッド群１は、所定色のインクをノズル（吐出口）から吐出してカラーフィルタ用基板１０１に付与するインクジェットヘッド（後述）を備えている。
【００２２】
載置台７は、この製造装置によってインクを付与されるカラーフィルタ用基板１０１を載置させるもので、この基板１０１を基準位置に固定する機構を備える。
【００２３】
Ｘ方向駆動軸４には、Ｘ方向駆動モータ２が接続されている。Ｘ方向駆動モータ２は、ステッピングモータ等であり、制御装置６からＸ軸方向の駆動信号が供給されると、Ｘ方向駆動軸４を回転させる。Ｘ方向駆動軸４が回転させられると、インクジェットヘッド群１がＸ軸方向に移動する。
【００２４】
Ｙ方向ガイド軸５は、基台９に対して動かないように固定されている。載置台７は、Ｙ方向駆動モータ３を備えている。Ｙ方向駆動モータ３は、ステッピングモータ等であり、制御装置６からＹ軸方向の駆動信号が供給されると、載置台７をＹ軸方向に移動させる。
【００２５】
制御回路６は、インクジェットヘッド群１の各ヘッドにインク滴の吐出制御用の電圧を供給する。また、Ｘ方向駆動モータ２にインクジェットヘッド群１のＸ軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を、Ｙ方向駆動モータ３に載置台７のＹ軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給する。
【００２６】
クリーニング機構部８は、インクジェットヘッド群１をクリーニングする機構を備えている。クリーニング機構部８には、図示しないＹ方向の駆動モータが備えられる。このＹ方向の駆動モータの駆動により、クリーニング機構８は、Ｙ方向ガイド軸５に沿って移動する。クリーニング機構８の移動も、制御装置６によって制御される。
【００２７】
（２．カラーフィルタの構成）
図２は、本発明の実施形態による製造装置及び製造方法により製造されるカラーフィルタの部分断面図である。図２（ａ）は第１の実施形態であり、図２（ｂ）は第２の実施形態を示す。
【００２８】
カラーフィルタ２００は、基板１２上にマトリクス状に並んだ画素を備え、画素と画素の境目は、遮光性の仕切り１４によって区切られている。画素の１つ１つには、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかのインクが導入されている。
【００２９】
赤、緑、青の配置はいわゆるモザイク配列でもよく、ストライプ配列、デルタ配列など、その他の配置でも構わない。
【００３０】
図２（ａ）に示す第１の実施形態では、基板１２上の仕切り１４が形成されていない（除去された）部分に、反射層２２、散乱層２１、色層２０が積層されている。反射層２２は、銀、アルミニウムもしくは銀合金、アルミニウム合金などから構成される。反射層は光透過性を有しないものとしても良く、光透過性を有する半透過反射層としても良い。散乱層はＴｉＯ₂などの金属酸化物をコートした雲母などからなり、光を散乱させ、散乱特性を高める機能を有する。反射層及び散乱層における反射特性ないし散乱特性は、Ｒ、Ｇ、Ｂの色ごとに変えて色バランスを調整しても良い。仕切り１４及び色層２０の上面には、図示しないオーバーコート層などが形成される。
【００３１】
図２（ｂ）に示す第２の実施形態では、基板１２上の仕切り１４が形成されていない部分に、反射層２２及び色層２０が積層されている。特にこの実施形態では、反射層２２は、略球形のアルミナ又はチタニアなどからなるビーズ２３を備えている。このビーズは反射層２２の表面形状に凹凸を与え、光を散乱させ、反射層２２の散乱特性を向上させるものである。ビーズの粒径はサブミクロンから数ミクロン程度が好ましい。
【００３２】
（３．カラーフィルタの製造方法）
図３は、第１の実施形態によるカラーフィルタの製造方法を説明する製造工程断面図である。
（３−１．仕切り形成工程）
板厚０．７ｍｍ、たて４７ｃｍ、横３７ｃｍの無アルカリガラスからなる透明基板１２の表面を、熱濃硫酸に過酸化水素水を１重量％添加した洗浄液で洗浄し、純水でリンスした後、エア乾燥を行って清浄表面を得る。この表面に、スパッタ法によりクロム膜による金属層を平均０．２μｍの膜厚で形成する。
【００３３】
この基板をホットプレート上で、８０℃で５分間乾燥させた後、金属層の表面に、スピンコートによりフォトレジスト層を形成する。この基板表面に、所要のマトリクスパターン形状を描画したマスクフィルムを密着させ、紫外線で露光をおこなう。次に、これを、水酸化カリウムを８重量％の割合で含むアルカリ現像液に浸漬して、未露光の部分のフォトレジストを除去し、レジスト層をパターニングする。続いて、露出した金属層を、塩酸を主成分とするエッチング液でエッチング除去する。このようにして所定のマトリクスパターンを有する遮光層（ブラックマトリクス）１６を得ることができる（図３：Ｓ１）。
【００３４】
この基板上に、さらにネガ型の透明アクリル系の感光性樹脂組成物をやはりスピンコート法で塗布する。これを１００℃で２０分間プレベークした後、所定のマトリクスパターン形状を描画したマスクフィルムを用いて紫外線露光を行なう。未露光部分の樹脂を、やはりアルカリ性の現像液で現像し、純水でリンスした後スピン乾燥する。最終乾燥としてのアフターべークを２００℃で３０分間行い、樹脂部を十分硬化させることにより、バンク層１７が形成され、遮光層１６及びバンク層１７からなる仕切り１４が形成される（図３：Ｓ２）。
【００３５】
（３−２．反射層及び散乱層形成工程）
次に、仕切り１４で区切られて形成されたすべての画素領域に、Ａｇコロイド分散液を液滴吐出法、特にここではインクジェット方式により塗布する。インクジェットヘッドには、ピエゾ圧電効果を応用した精密ヘッドを使用し、微小な液滴を各画素領域に例えば１０滴ずつ吐出する。塗布後、ベークして乾燥させることにより、反射層２２が形成される（図３：Ｓ３）。
【００３６】
ここで、第１実施形態によるカラーフィルタ（図２（ａ））の製造方法においては、Ａｇコロイド分散液の塗布、乾燥及びベークの後、ＴｉＯ₂やＦｅ₂０₃などの金属酸化物をコーティングした白雲母を分散質とした分散液をインクジェットによりすべての画素領域に塗布する。塗布後、ベークして乾燥させることにより、散乱層２１が形成される（図３：Ｓ４）。
【００３７】
なお、第２実施形態によるカラーフィルタ（図２（ｂ））の製造方法においては、反射層を形成するためのＡｇコロイド分散液の塗布に先立ち、アルミナ又はチタニアなどのビーズを各画素領域にインクジェット法などにより導入しておく。
【００３８】
これにより、Ａｇコロイド分散液をインクジェット吐出し、ベークした際にビーズの影響により凹凸を有することにより散乱作用を備えた反射層２２が形成される。また、あらかじめビーズをＡｇコロイド分散液に含有させ、インクジェット吐出しても構わない。また、Ａｇコロイド分散液をインクジェット吐出した後に上記ビーズを画素領域内に入れることとしても良い。この第２実施形態では、散乱層２１の形成（Ｓ４）は行なわない。
【００３９】
（３−３．インク導入工程）
次に、反射層２２又は散乱層２１上に、上記第１（赤）、第２（緑）、第３（青）の各インクを液滴吐出法、特にここではインクジェット方式により導入する。赤、緑、青の３色のインクは、あらかじめ条件設定されたプログラムに従って同時に塗布して所定の配色パターンを形成する。
【００４０】
インクとしては、例えばポリウレタン樹脂オリゴマーに無機顔料を分散させた後、低沸点溶剤としてシクロヘキサノンおよび酢酸ブチルを、高沸点溶剤としてブチルカルビトールアセテートを加え、さらに非イオン系界面活性剤０．０１重量％を分散剤として添加し、粘度６〜８センチポアズとしたものを用いる。
【００４１】
次に、塗布したインクを乾燥させる。まず、自然雰囲気中で３時間放置してインク層のセッティングを行った後、８０℃のホットプレート上で４０分間加熱し、最後にオーブン中で２００℃で３０分間加熱してインクの硬化処理を行って、色層２０が得られる（図３：Ｓ５）。
【００４２】
（４．表示装置の構成）
図４は、本発明の製造方法により製造されるカラーフィルタを用いて製造される表示装置であるカラー液晶表示装置の断面図である。このカラー液晶表示装置３００は、上記各実施形態の方法により製造されたカラーフィルタ２００を用いて製造するので、フォトリソ工程などの複雑な工程が不要で、短時間、低エネルギー、低コストで製造することができる。
【００４３】
このカラー液晶表示装置３００は、カラーフィルタ２００と対向基板３３８とを組み合わせ、両者の問に液晶組成物３３７を封入することにより構成されている。表示装置の周囲には液晶封入シール材３４が形成されている。カラーフィルタの色層２０上には、オーバーコート層３２８が形成され、オーバーコート層３２８上には、カラーフィルタの各色層に対応して画素電極３２２が形成されている。また、対向基板３３８のカラーフィルタに対向する面には共通電極３３２が形成され、形態に応じて、ＴＦＴなどのスイッチング素子が形成されている。
【００４４】
カラーフィルタ２００と対向基板３３８の対向するそれぞれの面には、配向膜３２６、３３６が形成されている。これらの配向膜３２６、３３６はラビング処理されており、液晶分子を一定方向に配列させることができる。また、対向基板３３８の外側の面には、偏光板３３９が接着されている。反射層２２が半透過性を有する半透過層として形成される場合には、カラーフィルタの基板１２側にも偏光板（図示しない）を接着させる。
【００４５】
こうして形成された反射型液晶表示装置３００は、対向基板３３８側から入射した光の透過量を液晶３３７に印加される電圧により制御し、所望の画像を表示する。反射層２２が光透過性を有する半透過型液晶表示装置においては、明るい場所では対向基板３３８側から入射した光を利用し、暗い場所ではカラーフィルタ２００側に設けられたバックライトによる光を利用し、液晶３３７により光の透過量を制御して所望の画像を表示する。
【００４６】
なお、本発明の表示装置は、上記のカラー液晶表示装置に限定されず、光の透過量を制御する他の素子、例えばフォトクロミック素子やエレクトロクロミック素子などを用いた表示装置でもよい。
【００４７】
（５．アクティブマトリクス基板上のカラーフィルタ）
図５は、カラーフィルタの変形例を示す要部断面図である。このカラーフィルタ５００は、基板５１２上にマトリクス状に形成されたＴＦＴ（薄膜トランジスタ）５３０などのアクティブ素子を備えている。また、このようにアクティブ素子がマトリクス状に形成された基板をアクティブマトリクス基板という。このＴＦＴ５３０の上には絶縁膜５４０が形成され、絶縁膜５４０上に、仕切り５１４、反射層５２２及び色層５２０が一体的に形成されている。このようにＴＦＴ上に色層などを形成して一体のカラーフィルタとしたものを、ＣＦｏｎＴＦＴ（ＴＦＴ上のカラーフィルタ）と称する。なお、アクティブ素子はＴＦＴに限らずＴＦＤ（薄膜ダイオード）等でも良い。
【００４８】
ＴＦＴ５３０は、ゲート絶縁膜５３２に信号電圧を印加するゲート電極５３１と、ゲート絶縁膜５３２上に形成されたシリコン膜５３３と、上記信号電圧によりシリコン膜５３３に形成されるチャネルを通じ、電流を流すソース電極５３４及びドレイン電極５３５とを備えている。このＴＦＴ５３０はいわゆる逆スタガ型の構造を有しているが、他の構造でも構わない。
【００４９】
絶縁膜５４０上には、画素を区切るための仕切り５１４が直接形成されている。各画素内には、絶縁膜５４０上に反射層５２２が直接形成されており、反射層５２２上に色層５２０、画素電極５５０が順次積層されている。画素電極５５０はＩＴＯなどの透明材料で形成する。ＴＦＴ５３０のドレイン電極５３５と画素電極５５０との導通をとるため、絶縁膜５４０および色層５２０を貫通するスルーホールが形成され、このスルーホール内に導電性物質５５１が充填される。
【００５０】
次に、このカラーフィルタ５００の製造方法の例を簡単に説明する。まず、ガラス等の基板５１２の上面に、ゲート電極５３１及びこれに接続される図示しない信号線を金属などの導電性材料でパターン形成する。これらゲート電極５３１等の導電性材料が形成された基板５１２の上面全体に、窒化シリコンなどのゲート絶縁膜５３２を形成する。そして、ゲート絶縁膜５３２上に、アモルファスシリコン層を形成してこれを所定形状にパターニングすることにより、シリコン膜５３３を形成する。最後に、シリコン膜５３３及びゲート絶縁膜５３２上の所定位置にソース電極５３４及びドレイン電極５３５を形成することにより、ＴＦＴ５３０を形成することができる。
【００５１】
次に、ＴＦＴ５３０全体を覆うように絶縁膜５４０を例えばポリイミド樹脂などにより形成する。絶縁膜５４０の上面は、後に形成する反射層５２２の品質を向上するため、できるだけ平坦であることが望ましい。
【００５２】
絶縁膜５４０上に、画素を区切る仕切り５１４を所定形状に形成する。仕切り５１４の材料には例えばフッ素系樹脂が用いられる。更に、絶縁膜５４０に、ドレイン電極５３５と通じるスルーホールを例えばフォトリソグラフィにより形成する。
【００５３】
次に、反射層５２２となる材料を含有した液体、例えば銀コロイド液を、仕切り５１４によって区切られた各画素領域に、液滴吐出法、特にここではインクジェット法により吐出する。各画素領域に導入された液体は、乾燥、べークを経て反射層５２２となる。この反射層５２２には、光を散乱させる特性を持たせても
良い。反射層５２２上に図示しない散乱層を設けても良い。
【００５４】
次に、色層５２０となる材料を含有した液体、特にここではインクを、各画素領域内に、液滴吐出法、特にここではインクジェット法により吐出する。更に乾燥及びべークを行なうことにより色層を形成する。
【００５５】
更に、絶縁膜５４０にスルーホールを設けたときと同じフォトマスクを用いて色層５２０のエッチングを行ない、絶縁膜５４０に設けたスルーホールと同じ位置に色層５２０のスルーホールを形成する。そして、これらスルーホール内に導電性物質５５１を充填する。色層５２０及び導電性物質５５１が形成された画素内に透明材料からなる画素電極５５０を形成することにより、本実施形態のカラーフィルタが完成する。
【００５６】
なお、色層５２０、反射層５２２及び絶縁膜５４０のエッチングがすべて一工程で可能である場合には、これら各層を形成してから、ドレイン電極に通じるスルーホールを一気に形成してもよい。
【００５７】
また、本実施形態では反射層５２２が導電性材料である銀で構成されている。従って、ドレイン電極５３５と反射層５２２との導通および反射層５２２と画素電極５５０の導通をとるためには、絶縁膜５４０及び色層５２０に形成されるスルーホールが同じ位置でなくても良い。
【００５８】
（６．ＥＬ表示装置）
図６には、本発明の表示装置のうちエレクトロルミネセンス表示装置の要部断面図を示す。この図６には３つの画素が図示されている。表示装置３０１は、基体３０２上にＴＦＴなどの回路等が形成された回路素子部３１４と、機能層４１０が形成された発光素子部３１１とが順次積層されて構成されている。
【００５９】
この表示装置はいわゆるトップエミッション型に構成されている。すなわち、機能層４１０から陰極３１２側に発した光が、陰極３１２を透過して陰極３１２の上側に出射される。また、機能層４１０から基体３０２側に発した光が、画素電極４１１により反射されて、陰極３１２を透過して陰極３１２の上側に出射される。
【００６０】
（６−１．回路素子部）
回路素子部３１４には、基体３０２上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜３０２ｃが形成される。この下地保護膜３０２ｃ上に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜４４１が形成されている。なお、半導体膜４４１には、ソース領域４４１ａ及びドレイン領域４４１ｂが高濃度Ｐイオン打ち込みにより形成されている。なお、Ｐが導入されなかった部分がチャネル領域４４１ｃとなっている。
【００６１】
更に回路素子部３１４には、下地保護膜３０２ｃ及び半導体膜４４１を覆う透明なゲート絶縁膜４４２が形成され、ゲート絶縁膜４４２上にはゲート電極４４３（走査線）が形成される。ゲート電極４４３及びゲート絶縁膜４４２上には透明な第１層間絶縁膜４４４ａと第２層間絶縁膜４４４ｂが形成されている。ゲート電極４４３は半導体膜４４１のチャネル領域４４１ｃに対応する位置に設けられている。
また、第１、第２層間絶縁膜４４４ａ、４４４ｂを貫通して、半導体膜４４１のソース、ドレイン領域４４１ａ、４４１ｂにそれぞれ接続されるコンタクトホール４４５、４４６が形成されている。
【００６２】
そして、第２層間絶縁膜４４４ｂ上には、高反射材料からなる画素電極４１１が所定の形状にパターニングされて形成され、一方のコンタクトホール４４５がこの画素電極４１１に接続されている。
また、もう一方のコンタクトホール４４６が電源線４０３に接続されている。
このようにして、回路素子部３１４には、各画素電極４１１に接続された同様の薄膜トランジスタ４２３が形成されている。
【００６３】
（６−２．発光素子部）
発光素子部３１１は、複数の画素電極４１１上の各々に積層された機能層４１０と、各画素電極４１１及び機能層４１０を隣接する画素電極４１１及び機能層４１０から区画する仕切り４１２と、機能層４１０上に形成された陰極３１２とを主体として構成されている。これら画素電極（第１電極）４１１、機能層４１０及び陰極３１２（対向電極）によっで発光素子が構成されている。
【００６４】
ここで、画素電極４１１は、平面視略矩形に形成されている。この画素電極４１１の長さは、５０〜２００ｎｍの範囲が好ましく、特に１５０ｎｍ程度がよい。
【００６５】
画素電極４１１は、ここでは陽極として用いるため、例えばＣｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｗ、Ａｕ等のように仕事関数が大きく、反射率の高い金属材料が用いられる。各画素電極４１１は仕切り４１２によって区切られた各画素領域内に、上記反射率の高い金属材料を含有する液体を液滴吐出法、特にここではインクジェット法により吐出し、乾燥及びべークして得ることができる。
【００６６】
仕切り４１２は、基体３０２側に位置する無機物バンク層４１２ａ（第１バンク層）と基体３０２から離れて位置する有機物バンク層４１２ｂ（第２バンク層）とが積層されて構成されている。
【００６７】
無機物バンク層４１２ａは、例えば、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂等の無機材料からなることが好ましい。この無機物バンク層４１２ａの膜厚は、５０〜２００ｎｍの範囲が好ましく、特に１５０ｎｍ程度が良い。
【００６８】
更に、有機物バンク層４１２ｂは、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性のある材料から形成されている。この有機物バンク層４１２ｂの厚さは、０．１〜３．５μｍの範囲が好ましく、特に２μｍ程度がよい。
【００６９】
（６−３．機能層）
機能層４１０は、画素電極４１１上に積層された正孔注入／輸送層４１０ａと、正孔注入／輸送層４１０ａ上に隣接して形成された発光層４１０ｂとから構成されている。
【００７０】
正孔注入／輸送層４１０ａは、正孔を発光層４１０ｂに注入する機能を有するとともに、正孔を正孔注入／輸送層４１０ａ内部において輸送する機能を有する。このような正孔注入／輸送層４１０ａを画素電極４１１と発光層４１０ｂの間に設けることにより、発光層４１０ｂの発光効率、寿命等の素子特性が向上する。また、発光層４１０ｂでは、正孔注入／輸送層４１０ａから注入された正孔と、陰極３１２から注入される電子が発光層で再結合し、発光が得られる。また、正孔注入／輸送層４１０ａは、画素電極４１１上の平坦部４１０ａ₁のほか、仕切り４１２に沿って形成される周縁部４１０ａ₂を有していてもよい。
【００７１】
発光層４１０ｂは、赤色に発光する赤色発光層４１０ｂ₁、緑色に発光する緑色発光層４１０ｂ₂、及び青色に発光する青色発光層４１０ｂ₃の３種類を有し、これらが例えばストライプ配列されている。
【００７２】
（６−４．陰極）
陰極３１２は、発光素子部３１１の全面に形成されており、画素電極４１１と対になって機能層４１０に電流を流す役割を果たす。この陰極３１２は、例えば、ＩＴＯなどの透明な導電体で構成されている。このとき、発光層に近い側には仕事関数が低い材料を設けることが好ましい。
【００７３】
陰極３１２の上には保護膜が形成される。保護膜の上面が平坦に形成されることが発光特性の均一性のために好ましい。
【００７４】
（７．電子機器の構成）
次に、上記表示装置を備えた電子機器の具体例について説明する。これら電子機器は、上記実施形態の表示装置を表示部として用いて製造するので、フォトリソ工程などの複雑な工程が不要で、短時間、低エネルギー、低コストで製造することができる。
【００７５】
図７（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。符号６００は携帯電話本体を示し、符号６０１は前記の表示装置を用いた表示部を示している。
図７（ｂ）は、ワープロ、ノート型パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。
【００７６】
図に示すように、上記の表示装置を用いた表示部７０２が情報処理装置７００に設けられている。また、情報処理装置７００は、キーボードなどの入力部７０１を備えている。
この情報処理装置７００は、表示情報処理回路、クロック発生回路などの様々な回路や、それらの回路に電力を供給する電源回路などからなる表示信号生成部を含む情報処理装置本体７０３を備えている。表示装置には、例えば入力部７０１から入力された情報等に基き表示信号生成部によって生成された表示信号が供給されることによって表示画像が形成される。
【００７７】
図７（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。符号８００は時計本体を示し、符号８０１は前記の表示装置を用いた表示部を示している。
【００７８】
これらの電子機器を製造するには、駆動ＩＣ（駆動回路）を備えた表示装置を構成し、この表示装置を、携帯電話、携帯型情報処理装置、腕時計型電子機器に組み込めばよい。
【００７９】
本実施形態に係る表示装置が組み込まれる電子機器としては、パーソナルコンピュータに限らず、携帯型電話機、電子手帳、ページャ、ＰＯＳ端末、ＩＣカード、ミニディスクプレーヤ、液晶プロジェクタ、およびエンジニアリング・ワークステーション（ＥＷＳ）、ワードプロセッサ、テレビ、ビューファインダ型またはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、電子卓上計算機、カーナビゲーション装置、タッチパネルを備えた装置、時計、ゲーム機器など様々な電子機器が挙げられる。
【発明の効果】
【００８０】
本発明によれば、フォトリソ工程などの煩雑な工程を不要とし、短時間、低エネルギー、低コストでカラーフィルタの製造を可能にする方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】 本発明の実施形態による製造装置の概略斜視図である。
【図２】 本発明の実施形態による製造装置及び製造方法により製造されるカラーフィルタの部分断面図である。
【図３】 第１の実施形態によるカラーフィルタの製造方法を説明する製造工程断面図である。
【図４】 本発明の製造方法により製造されるカラーフィルタを用いて製造されるカラー液晶表示装置の断面図である。
【図５】 カラーフィルタの変形例を示す要部断面図である。
【図６】 本発明の表示装置のうちエレクトロルミネセンス表示装置の要部断面図である。
【図７】 本発明に係る電子機器の例を示す斜視図である。なお、図中、符号１００は製造装置、２００及び５００はカラーフィルタ、３００はカラー液晶表示装置（表示装置）である。

Claims (10)

1. 基板上に反射層と色層とからなる複数の画素を備えたカラーフィルタの製造方法であって、
   前記画素が配置される各画素領域を仕切る仕切りを形成する工程と、
   前記各画素領域内に第１の液状材料を液滴吐出法により吐出して前記反射層を形成する工程と、
   前記各画素領域内に前記色層を形成する工程と、
   前記反射層と前記色層の間に散乱層を形成する工程と、を備え、
   前記色層は、赤、緑、または青のいずれか一つに着色されており、
   前記反射層における反射特性および前記散乱層における散乱特性を、前記色層の色ごとに変更することにより色バランスが調整されている、
   カラーフィルタの製造方法。
2. 請求項１において、
   前記色層を形成する工程は、第２の液状材料を液滴吐出法により吐出する工程を備えた、カラーフィルタの製造方法。
3. 請求項１において、
   前記反射層は光透過性を有する半透過反射層とするカラーフィルタの製造方法。
4. 請求項１において、
   前記第１の液状材料は光の散乱材を含むカラーフィルタの製造方法。
5. 請求項１において、
   アクティブマトリクス基板上に、前記仕切り、反射層および色層を一体的に形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
6. 請求項１に記載の方法により製造されたカラーフィルタを用いることを特徴とする表示装置の製造方法。
7. 請求項６に記載の方法により製造された表示装置を用いることを特徴とする電子機器の製造方法。
8. 基板上に反射層と色層とからなる複数の画素を備えたカラーフィルタであって、
   前記反射層と前記色層の間に散乱層を備え、
   前記各画素が配置される各画素領域を仕切る仕切りを備え、
   前記反射層、前記散乱層、および前記色層は前記仕切りによって他の画素の反射層、散乱層、および色層と分離されており、
   前記色層は、赤、緑、または青のいずれか一つに着色されており、
   前記反射層における反射特性および前記散乱層における散乱特性は、前記色層の色ごとに変更されていることによって色バランスが調整されている、
   カラーフィルタ。
9. 請求項８に記載のカラーフィルタを備えたことを特徴とする表示装置。
10. 請求項９に記載の表示装置を備えたことを特徴とする電子機器。

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