JP4206687B2 - 液晶組成物および液晶表示素子 - Google Patents
液晶組成物および液晶表示素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4206687B2 JP4206687B2 JP2002106625A JP2002106625A JP4206687B2 JP 4206687 B2 JP4206687 B2 JP 4206687B2 JP 2002106625 A JP2002106625 A JP 2002106625A JP 2002106625 A JP2002106625 A JP 2002106625A JP 4206687 B2 JP4206687 B2 JP 4206687B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hbb
- liquid crystal
- composition
- vhr
- fluorine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/42—Mixtures of liquid crystal compounds covered by two or more of the preceding groups C09K19/06 - C09K19/40
- C09K19/46—Mixtures of liquid crystal compounds covered by two or more of the preceding groups C09K19/06 - C09K19/40 containing esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/42—Mixtures of liquid crystal compounds covered by two or more of the preceding groups C09K19/06 - C09K19/40
- C09K19/44—Mixtures of liquid crystal compounds covered by two or more of the preceding groups C09K19/06 - C09K19/40 containing compounds with benzene rings directly linked
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Liquid Crystal Substances (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ネマチック相および正の誘電率異方性を有する液晶組成物、並びにこの液晶組成物を含有する液晶表示素子に関する。本発明は、特に小さいセルギャップおよび短い応答時間を有する液晶表示素子、並びに大きい光学異方性を有する液晶組成物に関する。
【０００２】
本発明の液晶組成物または本発明の液晶表示素子をそれぞれ組成物または素子と表記することがある。液晶表示素子は液晶表示パネルおよび液晶表示モジュールの総称である。式（Ｉ）で表わされる化合物を化合物（Ｉ）と表記することがある。その他の式で表される化合物も同様に表記することがある。
【０００３】
【従来の技術】
液晶表示素子において、液晶の動作モードに基づいた分類は、ＰＣ（phase change）、ＴＮ（twisted nematic）、ＩＰＳ（in-plane switching）、ＳＴＮ（super twisted nematic）、ＯＣＢ（optically compensated bend）、ＥＣＢ（electrically controlled birefringence）、ＶＡ（vertical alignment）などである。素子の駆動方式に基づいた分類は、ＰＭ（passive matrix）とＡＭ（active matrix）である。ＰＭ（passive matrix）はスタティック（static）とマルチプレックス（multiplex）などに分類され、ＡＭはＴＦＴ（thin film transistor）、ＭＩＭ（metal insulator metal）などに分類される。
【０００４】
これらの素子は適切な特性を有する液晶組成物を含有する。素子の一般的な特性を向上させるため、この組成物には次の一般的な特性が必要である。
Ｎｏ．組成物の一般的な特性 素子の一般的な特性
１． 熱に安定である 寿命が長い
２． 紫外線に安定である１） 寿命が長い
３． ネマチック相の範囲が広い 使用できる温度範囲が広い
４． 粘度が低い２） 応答時間が短い
５． しきい値電圧が低い 消費電力が小さい
６． 比抵抗が大きい 電圧保持率が高い
１）製造工程で紫外線を使用できる。
２）液晶セルに組成物を注入する時間が短い。
【０００５】
ＡＭ素子に使う組成物ではＮｏ．１〜６の特性が重要である。ＰＭ素子に使う組成物ではＮｏ．１〜５の特性が重要である。これらの特性のほかに、光学異方性（Δｎ）、誘電率異方性（Δε）、弾性定数などの特性も重要である。特性における適切な値は素子のモードによって異なる。配向膜を有する液晶セルに組成物を入れたとき、配向膜の作用によって液晶分子が立ち上がる。立ち上がりの大きさがプレチルト角である。この角度は組成物の種類によっても異なる。大きなプレチルト角は液晶分子を安定に配向させる。
【０００６】
最近では素子に使われる基板を作る技術が発達したので、セルギャップ（cell gap）は小さくなる傾向にある。ＴＮモード、ＯＣＢモードなどのＡＭ素子において、セルギャップは特に小さい。セルギャップは二枚の基板における間隔であり、液晶組成物の層の厚さと同じである。ＴＮモードの素子において、セルギャップを小さくすると応答時間が短くなり、そしてリバースドメインが生じにくい。ＯＣＢモードにおいて、セルギャップを小さくするとスプレー配向からベンド配向に転移する時間（転移時間）が短くなり、そして印加電圧の変化によって液晶分子が配向を変えるのに要する時間（応答時間）が短くなる。
【０００７】
これらのモードでは光学異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）の積（Δｎ×ｄ）は一定である。したがって、セルギャップを小さくするためには、大きな光学異方性を有する組成物が必要になる。大きな光学異方性を有する組成物は、特開２００１−３０５３公報、特開２００１−３０５１公報、特開２００１−１２３１７０公報、および特開平４−２５７５３５号公報に開示されている。しかし、素子の特性を改良するために、大きな光学異方性と適切な特性とを有する新らしい組成物が常に要求されている。
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、組成物に必要な一般的な特性、ネマチック相、特に大きい光学異方性、および正の誘電率異方性を有する組成物、並びにこの組成物を含有し、素子に必要な一般的な特性および短い応答時間を有する液晶表示素子を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、これらの課題を解決するために検討した結果、次のことを見いだした。本発明の組成物は、組成物に必要な一般的な特性、ネマチック相、特に大きい光学異方性、および正の誘電率異方性を有する。この組成物を含有する液晶表示素子は、素子に必要な一般的な特性および短い応答時間を有する。この組成物は小さなセルギャップを有する素子に適しており、小さなセルギャップを有するＡＭ素子に特に適していることも見いだした。本発明の目的を達成するための態様は、項１から項５のとおりである。組成物の成分である化合物の置換基に関し、好ましい態様も述べる。
【０００９】
１． 式（Ｉ）で表される化合物群から選択された少なくとも１つの化合物からなる第一成分、および式（II−１）〜（II−８）で表される化合物群から選択された少なくとも１つの化合物からなる第二成分を含有する液晶組成物。
式（Ｉ）において、Ｒ1およびＲ２は独立して炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｘ１〜Ｘ１２は独立して水素またはフッ素であり、Ｘ１〜Ｘ１２の少なくとも２つはフッ素であり、そして１つの１，４−フェニレンが２つのフッ素を有する場合、フッ素の位置は２位と５位または２位と６位であり；そしてｎは０、１または２である。
【００１０】
好ましいＲ1またはＲ２は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、ビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、および５−ヘキセニルである。アルキル、アルコキシおよびアルケニルの中で、好ましいＲ1またはＲ２はアルキルである。さらに好ましいアルキルはエチル、プロピルおよびペンチルである。
【００１１】
１つの１，４−フェニレンが２つのフッ素を有する場合、フッ素の位置における組み合わせは、２位と３位、２位と５位および２位と６位の３つである。これらのうち、２位と５位がフッ素である１，４−フェニレンが好ましい。２位と６位がフッ素である１，４−フェニレンも好ましい。２位と３位がフッ素である１，４−フェニレンを有する化合物は、第一成分として好ましくない。Ｘ１〜Ｘ１２においてフッ素の好ましい総数は２つから５つである。さらに好ましい総数は２つおよび３つである。
【００１２】
ｎは０、１または２である。ｎが０のとき化合物（Ｉ）は２環を有する。ｎが１のとき化合物（Ｉ）は３環を有する。ｎが２のとき化合物（Ｉ）は下記のように４環を有する。この化合物は２つのＸ５を有する。これらは独立して水素またはフッ素である。すなわち、これらは同一であってもよいし、異なってもよい。Ｘ６、Ｘ７およびＸ８についても同様に説明される。
【００１３】
【００１４】
式（II−１）〜（II−８）において、Ｒは炭素数１〜１０のアルキルであり；Ａは１，４−フェニレンまたは１，４−シクロへキシレンであり；Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は独立して水素またはフッ素であり；Ｙ１はフッ素または−ＯＣＦ３であり、そしてＹ２はフッ素または塩素であり；そしてＺは単結合または−Ｃ２Ｈ４−であり、そしてｎは０または１である。
【００１５】
好ましいＲは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチルである。さらに好ましいＲはエチル、プロピルおよびペンチルである。式（II−１）〜式（II−８）において、Ｒの記号を複数の化合物に用いた。これらのＲの意味は同一であってもよいし、異なってもよい。Ａ、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｙ１、およびｎの記号も同様な意味を有する。
２． 液晶組成物の全重量に基づいて、第一成分が５〜５０重量％であり、第二成分が３０〜９５重量％である項１に記載の液晶組成物。
【００１６】
３． 式（III−１）および（III−２）で表される化合物群から選択された少なくとも１つの化合物からなる第三成分をさらに含有する項１または項２に記載の液晶組成物。
Ｒ’は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルコキシメチルであり、Ｒは炭素数１〜１０のアルキルであり；Ａは１，４−フェニレンまたは１，４−シクロへキシレンであり；そしてＸ1およびＸ２は独立して水素またはフッ素である。
【００１７】
好ましいＲ’は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、ブトキシメチル、およびペンチルオキシメチルである。アルキルおよびアルコキシメチルの中で、好ましいＲ’はアルキルである。さらに好ましいアルキルはエチル、プロピルおよびペンチルである。
【００１８】
Ｒ１は炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｘ１〜Ｘ１２は独立して水素またはフッ素であり、Ｘ１〜Ｘ１２の少なくとも２つはフッ素であり、そして１つの１，４−フェニレンが２つのフッ素を有する場合、フッ素の位置は２位と５位または２位と６位であり；そしてｎは０、１または２である。
【００１９】
好ましいＲ１は、項１に記載したそれと同一である。１つの１，４−フェニレンが２つのフッ素を有する場合、フッ素の位置における組み合わせは、２位と３位、２位と５位および２位と６位の３つである。これらのうち、２位と５位がフッ素である１，４−フェニレンが好ましい。２位と６位がフッ素である１，４−フェニレンも好ましい。２位と３位がフッ素である１，４−フェニレンを有する化合物は、第三成分として好ましくない。Ｘ１〜Ｘ１２においてフッ素の好ましい総数は２つから５つである。さらに好ましい総数は２つおよび３つである。
【００２０】
ｎは０、１または２である。ｎが０のとき化合物（III−２）は２環を有する。ｎが１のとき化合物（III−２）は３環を有する。ｎが２のとき化合物（III−２）は４環を有する。この化合物は２つのＸ５を有する。これらは独立して水素またはフッ素である。すなわち、これらは同一であってもよいし、異なってもよい。Ｘ６、Ｘ７およびＸ８についても同様に説明される。
【００２１】
４． 液晶組成物の全重量に基づいて、第三成分が４０重量％以下である項３に記載の液晶組成物。
５． 項１〜４のいずれかに１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
【００２２】
【発明の実施の形態】
本発明は、組成物に必要な一般的な特性を有し、そして特に大きな光学異方性を有する組成物、および素子に必要な特性を有し、そして短い応答時間を有する素子である。本発明の組成物における成分である化合物の主要な特性、化合物を組成物に添加したとき組成物に生じた主要な効果、および化合物の好ましい割合を説明する。ネマチック相の上限温度およびネマチック相の下限温度をそれぞれ上限温度および下限温度と略記する。
【００２３】
第一成分は化合物（Ｉ）である。化合物（Ｉ）は、熱と紫外線に対して安定である、上限温度が比較的高い、粘度が低い、光学異方性が非常に大きい、誘電率異方性がほぼゼロである、そして比抵抗が大きいという特性を有する。この化合物は組成物において上限温度を調節する、粘度を下げる、光学異方性を特に大きくする、そして電圧保持率を上げる効果がある。この化合物を添加した組成物は配向膜によって大きなプレチルト角を生じる。
【００２４】
第二成分は、化合物（II−１）〜（II−８）である。これらの化合物は、熱と紫外線に対して安定である、光学異方性が比較的大きい、そして比抵抗が大きいという特性を有する。これらの化合物は組成物において光学異方性を調節する、そして電圧保持率を上げる効果がある。
【００２５】
化合物（II−１）は粘度が小さい、そして誘電率異方性が非常に大きいという特性を有する。この化合物は組成物において粘度を下げる、そしてしきい値電圧を特に下げる効果がさらにある。化合物（II−２）は上限温度が高い、そして誘電率異方性が大きいという特性を有する。この化合物は組成物において上限温度を上げる、そしてしきい値電圧を下げる効果がさらにある。化合物（II−３）は上限温度が高い、そして誘電率異方性が比較的大きいという特性を有する。この化合物は組成物において上限温度を上げる、そして誘電率異方性を調節する効果がさらにある。
【００２６】
化合物（II−４）は上限温度が非常に高い、光学異方性が大きい、そして誘電率異方性が非常に大きいという特性を有する。この化合物は組成物において上限温度を特にあげる、光学異方性を大きくする、そしてしきい値電圧を特に下げる効果がさらにある。化合物（II−５）は上限温度が高い、そして誘電率異方性が比較的大きいという特性を有する。この化合物は組成物において上限温度を上げる、そしてしきい値電圧を調整する効果がさらにある。化合物（II−６）〜（II−８）は誘電率異方性が比較的高いという特性を有する。この化合物は組成物おいてしきい値電圧を調節する効果がさらにある。
【００２７】
第三成分は、化合物（III−１）または（III−２）である。これらの化合物は、熱と紫外線に安定である、光学異方性が非常に大きい、誘電率異方性がほぼゼロである、そして比抵抗が大きいという特性を有する。これらの化合物は組成物において光学異方性を特に大きくする、そして電圧保持率を上げる効果がある。この化合物を添加した組成物は配向膜によって大きなプレチルト角を生じる。化合物（III−１）は上限温度が非常に高いという特性を有する。この化合物は組成物において上限温度を特に上げる効果がさらにある。化合物（III−２）は上限温度が比較的高いという特徴を有する。この化合物は組成物において上限温度を調節する効果がさらにある。
【００２８】
組成物の成分である化合物の好ましい割合は次のとおりである。割合は組成物の全重量に基づいた重量百分率（重量％）である。第一成分である化合物（Ｉ）の好ましい割合は、光学異方性を大きくするために５％以上であり、そしてしきい値電圧を下げるために５０％以下である。さらに好ましい割合は１０％〜４０％である。第二成分である化合物（II−１）〜（II−８）の好ましい割合は、しきい値電圧を下げるために３０％以上であり、ネマチック相の下限温度をさげるために９５％以下である。さらに好ましい割合は４０％〜９５％である。第三成分である化合物（III−１）および（III−２）の好ましい割合は、ネマチック相の下限温度を下げるために４０％以下である。さらに好ましい割合は１％〜４０％である。特に好ましい割合は１％〜３０％である。
【００２９】
組成物の成分である化合物について、好ましい態様をさらに説明する。好ましい化合物（Ｉ）は下記の化合物（Ｉ−１−１）から化合物（Ｉ−１−２７）である。好ましい化合物（II）は化合物（II−１−１）から化合物（II−８−４）である。好ましい化合物（III−１）は化合物（III−１−１）から化合物（III−１−４）である。好ましい化合物（III−２）は化合物（III−２−１）から化合物（III−２−２７）である。これらの好ましい化合物において、Ｒ1およびＲ２は独立して炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、Ｒ’は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルコキシメチルであり、Ｒは炭素数１〜１０のアルキルである。これらの化合物において、１，４−シクロヘキシレンの立体配置はシスよりもトランスが好ましい。
【００３０】
【００３１】
【００３２】
【００３３】
【００３４】
【００３５】
【００３６】
【００３７】
【００３８】
【００３９】
【００４０】
組成物の成分である化合物は、既知の方法によって合成できる。化合物（Ｉ）に関しては、例えば、化合物（I−１）は、特開平４−２５７５３５号公報に記載された方法によって合成できる。化合物（II−１）および（II−４）に関しては、例えば、化合物（II−１−５）および（II−４−１）は、特開平１０−２５１１８６号公報に記載された方法によって合成できる。化合物（II−２）、（II−３）および（II−５）に関しては、例えば、化合物（II−２−１）、（II−３−３）および（II−５−１）は、特開平２−２３３６２６号公報に記載された方法によって合成できる。
【００４１】
化合物（II−６）〜（II−８）に関しては、例えば、化合物（II−６−1）は、２０００年日本液晶学会討論会講演予稿集、１Ｃ１１に記載された方法によって合成できる。化合物（II−７）および（II−８−1）は、２０００年日本液晶学会討論会講演予稿集、１Ｃ１０に記載された方法によって合成できる。化合物（III-１）に関しては、例えば、化合物（III−１−１）は、特開平２−２３７９４９号公報に記載された方法によって合成できる。そのほかの化合物は、新実験化学講座（丸善株式会社）、オーガニック シンセシシーズ（Organic Syntheses, John Wiley & Sons, Inc.）、オーガニック リアクションズ（Organic Reactions, John Wiley & Sons, Inc. ）などに記載された方法によって容易に合成することができる。
【００４２】
本発明の組成物は第一成分および第二成分を含有する。この組成物は第三成分をさらに含有してもよい。この組成物は、第一成分、第二成分および第三成分とは異なる、その他の化合物をさらに含有してもよい。例えば、特性を調整する目的でその他の液晶性化合物を添加することができる。添加物を加えて特性を改善してもよい。例えば、液晶のらせん構造を誘起してねじれ角を与える目的でキラルドーパントが添加される。ＧＨ（Guest host）モードの素子に使うために二色性色素を添加してもよい。組成物は公知の方法によって調製される。例えば、成分である化合物を混合し、加熱によって互いに溶解させる。
【００４３】
本発明の組成物は、ＰＣ、ＴＮ、ＩＰＳ、ＳＴＮ、ＯＣＢ、ＥＣＢ、ＶＡなどのモードを有する素子に使用できる。この組成物は小さなセルギャップを有する素子に適している。この組成物は小さなセルギャップを有するＡＭ素子に特に適している。この組成物をマイクロカプセル化して作製したＮＣＡＰ（nematic curvilinear aligned phase）素子や、組成物中に三次元の網目状高分子を形成させたＰＤ（polymer dispersed）素子にも使用できる。ＰＤ素子の例はＰＮ（polymer network）素子である。これらの素子は、素子に必要な一般的な特性および短い応答時間を有する。
【００４４】
【実施例】
以下に、実施例により本発明を詳細に説明する。本発明はこれらの実施例によって限定されない。比較例および実施例に示した成分の割合は重量％である。比較例および実施例における化合物は、下記の表１の定義に基づいて記号により表した。 化合物の記号の後にある（１）、（２）、（３）、または（−）は、それぞれ第一成分、第二成分、第三成分、またはその他の化合物であることを示す。最後に、組成物の特性値を示した。
【００４５】
比較例１〜４の結果と実施例１〜１７の結果とを比較することによって、次のように結論する。実施例の組成物は、組成物に必要な一般的な特性、ネマチック相、特に大きい光学異方性、および正の誘電率異方性を有した。この組成物を含有した液晶表示素子は、素子に必要な一般的な特性および短い応答時間を有した。この組成物は小さなセルギャップを有する素子に適しており、小さなセルギャップを有するＡＭ素子に特に適していた。
【００４６】
【００４７】
特性値の測定は次の方法にしたがった。
ネマチック−等方性液体の相転移温度（ＴＮＩ；℃）：偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、１℃／分の速度で加熱した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度を測定した。
【００４８】
ネマチック相の下限温度（ＴＣ；℃）：ネマチック相を有する試料を０℃、−１０℃、−２０℃、−３０℃、または−４０℃のフリーザー中に１０日間保管したあと、液晶相を観察した。例えば、試料が−２０℃ではネマチック相のままであり、−３０℃では結晶またはスメクチック相に変化したとき、ネマチック相の下限温度を＜−２０℃と記載した。
【００４９】
光学異方性（屈折率異方性；Δｎ；２５℃で測定）：光学異方性は、波長が５８９ｎｍの光によりアッベ屈折計を用いて測定した。
【００５０】
粘度（η；２０℃で測定；ｍＰａ・ｓ）：粘度の測定にはＥ型粘度計を用いた。
【００５１】
しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）：二枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が（０．５／Δｎ）μｍであり、ツイスト角が８０゜であるノーマリーホワイトモード（normally white mode）の液晶表示素子に試料を入れた。この素子に周波数が３２Ｈｚである矩形波を印加した。印加電圧を上昇させ、素子を通過する光の透過率が９０％になったときの電圧の値を測定した。
【００５２】
電圧保持率（ＶＨＲ；％）：日本電子機械工業会規格ＥＩＡＪ ＥＤ−２５２１Ａに記載された液晶組成物および配向膜を有する素子の電圧保持率を測定する方法にしたがった。印加した電圧の波形を陰極線オシロスコープで観測し、単位周期において電圧曲線と横軸との間の面積を求めた。この値を初期値と比較して電圧保持率を算出した。測定に用いた素子はポリイミド配向膜を有し、そしてセルギャップは６μｍである。２５℃で測定した値をＶＨＲ（２５℃）、１００℃で測定した値をＶＨＲ（１００℃）と記載した。
【００５３】
紫外線に対する安定性：紫外線を照射する前の電圧保持率（ＶＨＲ；２５℃で測定）およびネマチック相の上限温度（ＴＮＩ）と、照射したあとの電圧保持率 [ＶＨＲ（ＵＶ）；２５℃で測定] およびネマチック相の上限温度 [ＴＮＩ（ＵＶ）] とを比較して安定性を判断した。測定に用いた液晶セルはポリイミド配向膜を有し、そしてセルギャップは６μｍである。このセルに液晶を注入し、光を２０分照射した。光源は超高圧水銀ランプＵＳＨ−５００Ｄ（ウシオ電機製）であり、セルと光源の間隔は２０ｃｍである。
【００５４】
応答時間（τ；２５℃で測定；ｍｓ）：セルギャップが（０．５／Δｎ）μｍ、ねじれ角が８０°の液晶セルに試料を注いだ。このセルに周波数が６０Ｈｚである矩形波（５Ｖ）を印加し、液晶が立ち上がるときの応答時間（τon）と立ち下がるときの応答時間（τoff）を測定した。応答時間はτonとτoffの和である。
【００５５】
比較例１
特開２００１−３０５３公報に開示された組成物の中で、光学異方性が最も大きい実施例３の組成物を選んだ。この組成物の成分および特性は下記のとおりである。この組成物において、光学異方性は小さく、応答時間は長い。
２−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １２．０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １３．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ）−Ｆ ５．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０．０％
２−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ ５．０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ ５．０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ ３．０％
２−ＢＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３．０％
３−ＢＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ４．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ８．０％
４−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０．０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ７．０％
ＴＮＩ＝７８．７℃；ＴＣ＜−２０℃；Δｎ＝０．１３９；η＝６５．３ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．００Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９８．７％；ＶＨＲ（１００℃）＝９５．２％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．３％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝７８．０℃；τ＝６０．８ｍｓ.
【００５６】
比較例２
特開平２００１−３０５１公報に開示された組成物の中で、光学異方性が最も大きい実施例５の組成物を選んだ。この組成物の成分および特性は下記のとおりである。この組成物において光学異方性は小さく、応答時間は長い。
３−Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ ７．０％
５−Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３ ５．０％
５−Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ ５．０％
３−Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ ３．０％
３−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３ ５．０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ ５．０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ ３．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ３．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ３．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ６．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １５．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １５．０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ６．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ ７．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ ７．０％
ＴＮＩ＝９９．４℃；ＴＣ＜−２０℃；η＝５０．１ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１６２;Ｖｔｈ＝１．３４Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９８．７％；ＶＨＲ（１００℃）＝９５．０％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．２％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝９９．０℃；τ＝２９．０ｍｓ．
【００５７】
比較例３
特開２００１−１２３１７０公報に開示された組成物の中で、光学異方性が最も大きい実施例６の組成物を選んだ。この組成物の成分および特性は下記のとおりである。この組成物において光学異方性は小さく、応答時間は長い。
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−３ ５．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ７．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ７．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ １５．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １３．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １３．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １１．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １１．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ ９．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ ８．０％
ＴＮＩ＝１３３．４℃；ＴＣ＜−２０℃；η＝４３．９ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１７０；Ｖｔｈ＝１．５９Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．１％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．３％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．４％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１３３．０℃；τ＝３８．４ｍｓ．
【００５８】
比較例４
特開平４−２５７５３５号公報に開示された組成物（実施例２）を調製した。この組成物の成分および特性は下記のとおりである。この組成物は、光学異方性が小さく、ＶＨＲ（１００℃）やＶＨＲ（ＵＶ）が低い。
ＺＬＩ−１５６５ ９０％
５−ＢＢ（２Ｆ，５Ｆ）Ｂ−５ １０％
ＴＮＩ＝８５．３℃；ＴＣ＜−３０℃；Δｎ＝０．１３５；η＝２０．５ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝２．３４Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝８８．５％；ＶＨＲ（１００℃）＝６２．３％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝８３．３％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝８５．０℃；τ＝３３．２ｍｓ．
【００５９】
実施例１
２−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−２ （１） ７％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） １０％
２−ＢＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−５ （１） ２％
３−ＢＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−５ （１） ３％
２−ＢＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（Ｆ）−５ （１） ２％
３−ＢＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（Ｆ）−５ （１） ３％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−５ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−５ （１） ３％
２−ＢＢ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−５ （１） ２％
３−ＢＢ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−５ （１） ３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３ （２） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ−ＯＣＦ３ （２） ３％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １５％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １３％
ＴＮＩ＝９２．９℃；ＴＣ＜−３０℃；Δｎ＝０．１９４；η＝７７．８ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．３６Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．２％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９８．７％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝９２．２℃；τ＝２６．５ｍｓ．
【００６０】
実施例２
２−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−２ （１） ７％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） １０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １３％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ２％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １５％
３−ＢＢＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＬ （２） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ５％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ５％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ４％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ４％
ＴＮＩ＝１０３．９℃；ＴＣ＜−３０℃；Δｎ＝０．１７７；η＝５１．０ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．４７Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．０％；ＶＨＲ（１００℃）＝９５．８％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９８．５％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０３．１℃；τ＝２１．８ｍｓ．
【００６１】
実施例３
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） ６％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−３ （１） ２％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（Ｆ）−３ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ−Ｆ （２） ２％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＨＢ（Ｆ）ＥＢ−ＯＣＦ３ （２） ３％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ５％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３ （２） ３％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ５％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＨＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
ＴＮＩ＝１０５．６℃；ＴＣ＜−３０℃；Δｎ＝０．１７５；η＝５２．７ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．３９Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９８．９％；ＶＨＲ（１００℃）＝９５．３％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９６．３％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０４．９℃；τ＝２４．３ｍｓ．
【００６２】
実施例４
２−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−２ （１） ２％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） ７％
２−ＢＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−５ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １３％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １５％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ８％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ６％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ７％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＨＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
ＴＮＩ＝９６．４℃；ＴＣ＜−３０℃；Δｎ＝０．１７５；η＝５３．８ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．３３Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．２％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．２％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝９６．０℃；τ＝２３．８ｍｓ．
【００６３】
実施例５
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） １０％
３−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ−３ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−３ （１） ２％
２−Ｂ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−４ （１） ２％
２−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ−５ （１） １．５％
３−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ−５ （１） １．５％
２−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−５ （１） ２％
３−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−５ （１） ２％
２−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−５ （１） １．５％
３−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−５ （１） １．５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １５％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １５％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ４％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ３％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＨＮｐｒ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＨＮｐ（Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＨＮｐＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＨＮｐ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
ＴＮＩ＝９７．０℃；ＴＣ＜−２０℃；Δｎ＝０．１７８；η＝７２．２ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．４１Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．２％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．１％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝９６．５℃；τ＝２５．５ｍｓ．
【００６４】
実施例６
２−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−２ （１） ７％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） ８％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １０％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ （２） ２５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （３） １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （３） １０％
ＴＮＩ＝１０７．５℃；ＴＣ＜−２０℃；Δｎ＝０．１７９；η＝５４．０ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．５９Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．２％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．１％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０７．０℃；τ＝２０．４ｍｓ．
【００６５】
実施例７
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） １０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２０％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ （２） ２０％
５−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ （２） １０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） １０％
３−ＨＮｐｒＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （３） １０％
７−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ） （３） ２％
５−ＢＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ （３） ２％
５−ＢＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（２Ｆ） （３） ２％
５−ＢＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（Ｆ） （３） ２％
ＴＮＩ＝９５．８℃；ＴＣ＜−３０℃；Δｎ＝０．１７６；η＝６５．８ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．１５Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９８．６％；ＶＨＲ（１００℃）＝９５．８％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９６．７％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝９５．３℃；τ＝２５．７ｍｓ．
【００６６】
実施例８
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） １０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ （２） ２１％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （３） １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （３） １０％
５−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ （３） ５％
ＴＮＩ＝１０７．１℃；ＴＣ＜−３０℃；Δｎ＝０．１７８；η＝５４．３ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．６０Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．２％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．１％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０６．６℃；τ＝２０．５ｍｓ．
【００６７】
実施例９
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） １０％
２−ＢＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−５ （１） ２％
２−ＢＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（Ｆ）−５ （１） ２％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−５ （１） ２％
２−ＢＢ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−５ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３ （２） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ−ＯＣＦ３ （２） ３％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １５％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １３％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （３） ６％
５−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（２Ｆ） （３） ２％
５−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（Ｆ） （３） ２％
５−ＢＢ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ （３） ２％
５−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ （３） ２％
５−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（２Ｆ） （３） ２％
５−ＢＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ） （３） ３％
ＴＮＩ＝１０１．９℃；ＴＣ＜−２０℃；Δｎ＝０．１９１；η＝８２．７ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．３９Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．２％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．１％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０１．４℃；τ＝２５．８ｍｓ．
【００６８】
実施例１０
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） １０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １３％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ２％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ６％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １２％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＬ （２） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ５％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ５％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ４％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （３） ５％
５−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ） （３） ２％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ） （３） ２％
７−Ｂ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ） （３） ２％
７−Ｂ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ） （３） ２％
ＴＮＩ＝１０１．９℃；ＴＣ＜−２０℃；Δｎ＝０．１７５；η＝５８．８ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．３７Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．０％；ＶＨＲ（１００℃）＝９５．８％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９８．５％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０１．５℃；τ＝２４．６ｍｓ．
【００６９】
実施例１１
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） ６％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−３ （１） ２％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（Ｆ）−３ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ−Ｆ （２） ２％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＨＢ（Ｆ）ＥＢ−ＯＣＦ３ （２） ３％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ６％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １２％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ３％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ３％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３ （２） ３％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ５％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＨＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （３） ６％
５−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ （３） ６％
７−Ｂ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ） （３） ２％
７−Ｂ（Ｆ,Ｆ）Ｂ （３） ２％
５−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（２Ｆ） （３） ２％
５−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ） （３） ２％
ＴＮＩ＝１０７．４℃；ＴＣ＜−２０℃；Δｎ＝０．１８４；η＝６９．９ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．４５Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９８．９％；ＶＨＲ（１００℃）＝９５．３％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９６．３％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０６．９℃；τ＝２５．８ｍｓ．
【００７０】
実施例１２
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） ８％
３−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−３ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−３ （１） ２％
２−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）−４ （１） ２％
２−Ｂ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ）−４ （１） ２％
２−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ）−４ （１） ２％
２−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）ＢＢ−５ （１） ２％
２−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（２Ｆ）Ｂ−５ （１） ２％
２−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）Ｂ−５ （１） ２％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ）Ｂ−５ （１） ２％
２−ＢＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−５ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ−Ｆ （２） ５％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３ （２） ５％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ８％
３−ＨＮｐｒ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
５−ＨＢＢＨ−３ （３） ３％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （３） ８％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （３） ４％
５−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−２ （３） ３％
５−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）ＢＢ （３） ２％
５−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（２Ｆ）Ｂ （３） ２％
５−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）Ｂ （３） ２％
ＴＮＩ＝１０４．８℃；ＴＣ＜−２０℃；Δｎ＝０．１９０；η＝７８．６ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．４３Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９８．６％；ＶＨＲ（１００℃）＝９５．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．３％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０４．４℃；τ＝２５．７ｍｓ．
【００７１】
実施例１３
２−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−２ （１） ２％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） ７％
２−ＢＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−５ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １３％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ−Ｆ （２） ２％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １５％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ５％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ６％
３−ＨＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＨＮｐＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５ （３） ５％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ （３） ２％
ＴＮＩ＝１０７．９℃；ＴＣ＜−２０℃；Δｎ＝０．１８４；η＝６７．５ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．３８Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．２％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．２％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０７．５℃；τ＝２５．２ｍｓ．
【００７２】
実施例１４
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） １０％
３−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ−３ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−３ （１） ２％
２−Ｂ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−４ （１） ２％
２−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ−５ （１） ２％
２−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−５ （１） ２％
２−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−５ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １５％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １５％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ６％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ４％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ３％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＮｐＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ）Ｂ （３） ２％
５−ＢＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ） （３） ２％
ＴＮＩ＝９８．９℃；ＴＣ＜−３０℃；Δｎ＝０．１８１；η＝６６．２ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．３７Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．２％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．１％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝９８．３℃；τ＝２４．５ｍｓ．
【００７３】
実施例１５
２−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−２ （１） ５％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） ８％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １５％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １０％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ （２） １１％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ５％
３−Ｎｐｒ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＮｐｒＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （３） １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （３） １０％
７−Ｂ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（２Ｆ） （３） ２％
ＴＮＩ＝１０７．７℃；ＴＣ＜−２０℃；Δｎ＝０．１８５；η＝５６．２ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．５７Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．２％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．１％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０７．３℃；τ＝２０．５ｍｓ．
【００７４】
実施例１６
２−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−２ （１） ７％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） ８％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−Ｎｐｒ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＨＮｐｒ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−Ｎｐ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （３） １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （３） ４％
５−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ （３） ３％
５−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（２Ｆ） （３） ４％
７−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ） （３） ３％
５−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）ＢＢ （３） ２％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ）Ｂ （３） ３％
ＴＮＩ＝１０１．７℃；ＴＣ＜−２０℃；Δｎ＝０．１８６；η＝７０．６ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．６６Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．２％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．１％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０１．３℃；τ＝２５．３ｍｓ．
実施例１７
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） １０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ （２） ２１％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （３） １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （３） １０％
５−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ （３） ５％
３−ＨＢＢ−Ｆ （−） ２％
ＴＮＩ＝１０７．９℃；ＴＣ＜−３０℃；Δｎ＝０．１７９；η＝５３．８ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．６２Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．３％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．２％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．２％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０７．５℃；τ＝２０．３ｍｓ．
【００７５】
【発明の効果】
本発明の組成物は、組成物に必要な一般的な特性、ネマチック相、特に大きい光学異方性、および正の誘電率異方性を有した。この組成物を含有する本発明の液晶表示素子は、素子に必要な一般的な特性および短い応答時間を有した。この組成物は小さなセルギャップを有する素子に適しており、小さなセルギャップを有するＡＭ素子に特に適していた。
【発明の属する技術分野】
本発明は、ネマチック相および正の誘電率異方性を有する液晶組成物、並びにこの液晶組成物を含有する液晶表示素子に関する。本発明は、特に小さいセルギャップおよび短い応答時間を有する液晶表示素子、並びに大きい光学異方性を有する液晶組成物に関する。
【０００２】
本発明の液晶組成物または本発明の液晶表示素子をそれぞれ組成物または素子と表記することがある。液晶表示素子は液晶表示パネルおよび液晶表示モジュールの総称である。式（Ｉ）で表わされる化合物を化合物（Ｉ）と表記することがある。その他の式で表される化合物も同様に表記することがある。
【０００３】
【従来の技術】
液晶表示素子において、液晶の動作モードに基づいた分類は、ＰＣ（phase change）、ＴＮ（twisted nematic）、ＩＰＳ（in-plane switching）、ＳＴＮ（super twisted nematic）、ＯＣＢ（optically compensated bend）、ＥＣＢ（electrically controlled birefringence）、ＶＡ（vertical alignment）などである。素子の駆動方式に基づいた分類は、ＰＭ（passive matrix）とＡＭ（active matrix）である。ＰＭ（passive matrix）はスタティック（static）とマルチプレックス（multiplex）などに分類され、ＡＭはＴＦＴ（thin film transistor）、ＭＩＭ（metal insulator metal）などに分類される。
【０００４】
これらの素子は適切な特性を有する液晶組成物を含有する。素子の一般的な特性を向上させるため、この組成物には次の一般的な特性が必要である。
Ｎｏ．組成物の一般的な特性 素子の一般的な特性
１． 熱に安定である 寿命が長い
２． 紫外線に安定である１） 寿命が長い
３． ネマチック相の範囲が広い 使用できる温度範囲が広い
４． 粘度が低い２） 応答時間が短い
５． しきい値電圧が低い 消費電力が小さい
６． 比抵抗が大きい 電圧保持率が高い
１）製造工程で紫外線を使用できる。
２）液晶セルに組成物を注入する時間が短い。
【０００５】
ＡＭ素子に使う組成物ではＮｏ．１〜６の特性が重要である。ＰＭ素子に使う組成物ではＮｏ．１〜５の特性が重要である。これらの特性のほかに、光学異方性（Δｎ）、誘電率異方性（Δε）、弾性定数などの特性も重要である。特性における適切な値は素子のモードによって異なる。配向膜を有する液晶セルに組成物を入れたとき、配向膜の作用によって液晶分子が立ち上がる。立ち上がりの大きさがプレチルト角である。この角度は組成物の種類によっても異なる。大きなプレチルト角は液晶分子を安定に配向させる。
【０００６】
最近では素子に使われる基板を作る技術が発達したので、セルギャップ（cell gap）は小さくなる傾向にある。ＴＮモード、ＯＣＢモードなどのＡＭ素子において、セルギャップは特に小さい。セルギャップは二枚の基板における間隔であり、液晶組成物の層の厚さと同じである。ＴＮモードの素子において、セルギャップを小さくすると応答時間が短くなり、そしてリバースドメインが生じにくい。ＯＣＢモードにおいて、セルギャップを小さくするとスプレー配向からベンド配向に転移する時間（転移時間）が短くなり、そして印加電圧の変化によって液晶分子が配向を変えるのに要する時間（応答時間）が短くなる。
【０００７】
これらのモードでは光学異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）の積（Δｎ×ｄ）は一定である。したがって、セルギャップを小さくするためには、大きな光学異方性を有する組成物が必要になる。大きな光学異方性を有する組成物は、特開２００１−３０５３公報、特開２００１−３０５１公報、特開２００１−１２３１７０公報、および特開平４−２５７５３５号公報に開示されている。しかし、素子の特性を改良するために、大きな光学異方性と適切な特性とを有する新らしい組成物が常に要求されている。
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、組成物に必要な一般的な特性、ネマチック相、特に大きい光学異方性、および正の誘電率異方性を有する組成物、並びにこの組成物を含有し、素子に必要な一般的な特性および短い応答時間を有する液晶表示素子を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、これらの課題を解決するために検討した結果、次のことを見いだした。本発明の組成物は、組成物に必要な一般的な特性、ネマチック相、特に大きい光学異方性、および正の誘電率異方性を有する。この組成物を含有する液晶表示素子は、素子に必要な一般的な特性および短い応答時間を有する。この組成物は小さなセルギャップを有する素子に適しており、小さなセルギャップを有するＡＭ素子に特に適していることも見いだした。本発明の目的を達成するための態様は、項１から項５のとおりである。組成物の成分である化合物の置換基に関し、好ましい態様も述べる。
【０００９】
１． 式（Ｉ）で表される化合物群から選択された少なくとも１つの化合物からなる第一成分、および式（II−１）〜（II−８）で表される化合物群から選択された少なくとも１つの化合物からなる第二成分を含有する液晶組成物。
【００１０】
好ましいＲ1またはＲ２は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、ビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、および５−ヘキセニルである。アルキル、アルコキシおよびアルケニルの中で、好ましいＲ1またはＲ２はアルキルである。さらに好ましいアルキルはエチル、プロピルおよびペンチルである。
【００１１】
１つの１，４−フェニレンが２つのフッ素を有する場合、フッ素の位置における組み合わせは、２位と３位、２位と５位および２位と６位の３つである。これらのうち、２位と５位がフッ素である１，４−フェニレンが好ましい。２位と６位がフッ素である１，４−フェニレンも好ましい。２位と３位がフッ素である１，４−フェニレンを有する化合物は、第一成分として好ましくない。Ｘ１〜Ｘ１２においてフッ素の好ましい総数は２つから５つである。さらに好ましい総数は２つおよび３つである。
【００１２】
ｎは０、１または２である。ｎが０のとき化合物（Ｉ）は２環を有する。ｎが１のとき化合物（Ｉ）は３環を有する。ｎが２のとき化合物（Ｉ）は下記のように４環を有する。この化合物は２つのＸ５を有する。これらは独立して水素またはフッ素である。すなわち、これらは同一であってもよいし、異なってもよい。Ｘ６、Ｘ７およびＸ８についても同様に説明される。
式（II−１）〜（II−８）において、Ｒは炭素数１〜１０のアルキルであり；Ａは１，４−フェニレンまたは１，４−シクロへキシレンであり；Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は独立して水素またはフッ素であり；Ｙ１はフッ素または−ＯＣＦ３であり、そしてＹ２はフッ素または塩素であり；そしてＺは単結合または−Ｃ２Ｈ４−であり、そしてｎは０または１である。
【００１５】
好ましいＲは、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチルである。さらに好ましいＲはエチル、プロピルおよびペンチルである。式（II−１）〜式（II−８）において、Ｒの記号を複数の化合物に用いた。これらのＲの意味は同一であってもよいし、異なってもよい。Ａ、Ｘ１、Ｘ２、Ｘ３、Ｙ１、およびｎの記号も同様な意味を有する。
２． 液晶組成物の全重量に基づいて、第一成分が５〜５０重量％であり、第二成分が３０〜９５重量％である項１に記載の液晶組成物。
【００１６】
３． 式（III−１）および（III−２）で表される化合物群から選択された少なくとも１つの化合物からなる第三成分をさらに含有する項１または項２に記載の液晶組成物。
【００１７】
好ましいＲ’は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、ブトキシメチル、およびペンチルオキシメチルである。アルキルおよびアルコキシメチルの中で、好ましいＲ’はアルキルである。さらに好ましいアルキルはエチル、プロピルおよびペンチルである。
【００１８】
【００１９】
好ましいＲ１は、項１に記載したそれと同一である。１つの１，４−フェニレンが２つのフッ素を有する場合、フッ素の位置における組み合わせは、２位と３位、２位と５位および２位と６位の３つである。これらのうち、２位と５位がフッ素である１，４−フェニレンが好ましい。２位と６位がフッ素である１，４−フェニレンも好ましい。２位と３位がフッ素である１，４−フェニレンを有する化合物は、第三成分として好ましくない。Ｘ１〜Ｘ１２においてフッ素の好ましい総数は２つから５つである。さらに好ましい総数は２つおよび３つである。
【００２０】
ｎは０、１または２である。ｎが０のとき化合物（III−２）は２環を有する。ｎが１のとき化合物（III−２）は３環を有する。ｎが２のとき化合物（III−２）は４環を有する。この化合物は２つのＸ５を有する。これらは独立して水素またはフッ素である。すなわち、これらは同一であってもよいし、異なってもよい。Ｘ６、Ｘ７およびＸ８についても同様に説明される。
【００２１】
４． 液晶組成物の全重量に基づいて、第三成分が４０重量％以下である項３に記載の液晶組成物。
５． 項１〜４のいずれかに１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
【００２２】
【発明の実施の形態】
本発明は、組成物に必要な一般的な特性を有し、そして特に大きな光学異方性を有する組成物、および素子に必要な特性を有し、そして短い応答時間を有する素子である。本発明の組成物における成分である化合物の主要な特性、化合物を組成物に添加したとき組成物に生じた主要な効果、および化合物の好ましい割合を説明する。ネマチック相の上限温度およびネマチック相の下限温度をそれぞれ上限温度および下限温度と略記する。
【００２３】
第一成分は化合物（Ｉ）である。化合物（Ｉ）は、熱と紫外線に対して安定である、上限温度が比較的高い、粘度が低い、光学異方性が非常に大きい、誘電率異方性がほぼゼロである、そして比抵抗が大きいという特性を有する。この化合物は組成物において上限温度を調節する、粘度を下げる、光学異方性を特に大きくする、そして電圧保持率を上げる効果がある。この化合物を添加した組成物は配向膜によって大きなプレチルト角を生じる。
【００２４】
第二成分は、化合物（II−１）〜（II−８）である。これらの化合物は、熱と紫外線に対して安定である、光学異方性が比較的大きい、そして比抵抗が大きいという特性を有する。これらの化合物は組成物において光学異方性を調節する、そして電圧保持率を上げる効果がある。
【００２５】
化合物（II−１）は粘度が小さい、そして誘電率異方性が非常に大きいという特性を有する。この化合物は組成物において粘度を下げる、そしてしきい値電圧を特に下げる効果がさらにある。化合物（II−２）は上限温度が高い、そして誘電率異方性が大きいという特性を有する。この化合物は組成物において上限温度を上げる、そしてしきい値電圧を下げる効果がさらにある。化合物（II−３）は上限温度が高い、そして誘電率異方性が比較的大きいという特性を有する。この化合物は組成物において上限温度を上げる、そして誘電率異方性を調節する効果がさらにある。
【００２６】
化合物（II−４）は上限温度が非常に高い、光学異方性が大きい、そして誘電率異方性が非常に大きいという特性を有する。この化合物は組成物において上限温度を特にあげる、光学異方性を大きくする、そしてしきい値電圧を特に下げる効果がさらにある。化合物（II−５）は上限温度が高い、そして誘電率異方性が比較的大きいという特性を有する。この化合物は組成物において上限温度を上げる、そしてしきい値電圧を調整する効果がさらにある。化合物（II−６）〜（II−８）は誘電率異方性が比較的高いという特性を有する。この化合物は組成物おいてしきい値電圧を調節する効果がさらにある。
【００２７】
第三成分は、化合物（III−１）または（III−２）である。これらの化合物は、熱と紫外線に安定である、光学異方性が非常に大きい、誘電率異方性がほぼゼロである、そして比抵抗が大きいという特性を有する。これらの化合物は組成物において光学異方性を特に大きくする、そして電圧保持率を上げる効果がある。この化合物を添加した組成物は配向膜によって大きなプレチルト角を生じる。化合物（III−１）は上限温度が非常に高いという特性を有する。この化合物は組成物において上限温度を特に上げる効果がさらにある。化合物（III−２）は上限温度が比較的高いという特徴を有する。この化合物は組成物において上限温度を調節する効果がさらにある。
【００２８】
組成物の成分である化合物の好ましい割合は次のとおりである。割合は組成物の全重量に基づいた重量百分率（重量％）である。第一成分である化合物（Ｉ）の好ましい割合は、光学異方性を大きくするために５％以上であり、そしてしきい値電圧を下げるために５０％以下である。さらに好ましい割合は１０％〜４０％である。第二成分である化合物（II−１）〜（II−８）の好ましい割合は、しきい値電圧を下げるために３０％以上であり、ネマチック相の下限温度をさげるために９５％以下である。さらに好ましい割合は４０％〜９５％である。第三成分である化合物（III−１）および（III−２）の好ましい割合は、ネマチック相の下限温度を下げるために４０％以下である。さらに好ましい割合は１％〜４０％である。特に好ましい割合は１％〜３０％である。
【００２９】
組成物の成分である化合物について、好ましい態様をさらに説明する。好ましい化合物（Ｉ）は下記の化合物（Ｉ−１−１）から化合物（Ｉ−１−２７）である。好ましい化合物（II）は化合物（II−１−１）から化合物（II−８−４）である。好ましい化合物（III−１）は化合物（III−１−１）から化合物（III−１−４）である。好ましい化合物（III−２）は化合物（III−２−１）から化合物（III−２−２７）である。これらの好ましい化合物において、Ｒ1およびＲ２は独立して炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり、Ｒ’は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルコキシメチルであり、Ｒは炭素数１〜１０のアルキルである。これらの化合物において、１，４−シクロヘキシレンの立体配置はシスよりもトランスが好ましい。
組成物の成分である化合物は、既知の方法によって合成できる。化合物（Ｉ）に関しては、例えば、化合物（I−１）は、特開平４−２５７５３５号公報に記載された方法によって合成できる。化合物（II−１）および（II−４）に関しては、例えば、化合物（II−１−５）および（II−４−１）は、特開平１０−２５１１８６号公報に記載された方法によって合成できる。化合物（II−２）、（II−３）および（II−５）に関しては、例えば、化合物（II−２−１）、（II−３−３）および（II−５−１）は、特開平２−２３３６２６号公報に記載された方法によって合成できる。
【００４１】
化合物（II−６）〜（II−８）に関しては、例えば、化合物（II−６−1）は、２０００年日本液晶学会討論会講演予稿集、１Ｃ１１に記載された方法によって合成できる。化合物（II−７）および（II−８−1）は、２０００年日本液晶学会討論会講演予稿集、１Ｃ１０に記載された方法によって合成できる。化合物（III-１）に関しては、例えば、化合物（III−１−１）は、特開平２−２３７９４９号公報に記載された方法によって合成できる。そのほかの化合物は、新実験化学講座（丸善株式会社）、オーガニック シンセシシーズ（Organic Syntheses, John Wiley & Sons, Inc.）、オーガニック リアクションズ（Organic Reactions, John Wiley & Sons, Inc. ）などに記載された方法によって容易に合成することができる。
【００４２】
本発明の組成物は第一成分および第二成分を含有する。この組成物は第三成分をさらに含有してもよい。この組成物は、第一成分、第二成分および第三成分とは異なる、その他の化合物をさらに含有してもよい。例えば、特性を調整する目的でその他の液晶性化合物を添加することができる。添加物を加えて特性を改善してもよい。例えば、液晶のらせん構造を誘起してねじれ角を与える目的でキラルドーパントが添加される。ＧＨ（Guest host）モードの素子に使うために二色性色素を添加してもよい。組成物は公知の方法によって調製される。例えば、成分である化合物を混合し、加熱によって互いに溶解させる。
【００４３】
本発明の組成物は、ＰＣ、ＴＮ、ＩＰＳ、ＳＴＮ、ＯＣＢ、ＥＣＢ、ＶＡなどのモードを有する素子に使用できる。この組成物は小さなセルギャップを有する素子に適している。この組成物は小さなセルギャップを有するＡＭ素子に特に適している。この組成物をマイクロカプセル化して作製したＮＣＡＰ（nematic curvilinear aligned phase）素子や、組成物中に三次元の網目状高分子を形成させたＰＤ（polymer dispersed）素子にも使用できる。ＰＤ素子の例はＰＮ（polymer network）素子である。これらの素子は、素子に必要な一般的な特性および短い応答時間を有する。
【００４４】
【実施例】
以下に、実施例により本発明を詳細に説明する。本発明はこれらの実施例によって限定されない。比較例および実施例に示した成分の割合は重量％である。比較例および実施例における化合物は、下記の表１の定義に基づいて記号により表した。 化合物の記号の後にある（１）、（２）、（３）、または（−）は、それぞれ第一成分、第二成分、第三成分、またはその他の化合物であることを示す。最後に、組成物の特性値を示した。
【００４５】
比較例１〜４の結果と実施例１〜１７の結果とを比較することによって、次のように結論する。実施例の組成物は、組成物に必要な一般的な特性、ネマチック相、特に大きい光学異方性、および正の誘電率異方性を有した。この組成物を含有した液晶表示素子は、素子に必要な一般的な特性および短い応答時間を有した。この組成物は小さなセルギャップを有する素子に適しており、小さなセルギャップを有するＡＭ素子に特に適していた。
【００４６】
特性値の測定は次の方法にしたがった。
ネマチック−等方性液体の相転移温度（ＴＮＩ；℃）：偏光顕微鏡を備えた融点測定装置のホットプレートに試料を置き、１℃／分の速度で加熱した。試料の一部がネマチック相から等方性液体に変化したときの温度を測定した。
【００４８】
ネマチック相の下限温度（ＴＣ；℃）：ネマチック相を有する試料を０℃、−１０℃、−２０℃、−３０℃、または−４０℃のフリーザー中に１０日間保管したあと、液晶相を観察した。例えば、試料が−２０℃ではネマチック相のままであり、−３０℃では結晶またはスメクチック相に変化したとき、ネマチック相の下限温度を＜−２０℃と記載した。
【００４９】
光学異方性（屈折率異方性；Δｎ；２５℃で測定）：光学異方性は、波長が５８９ｎｍの光によりアッベ屈折計を用いて測定した。
【００５０】
粘度（η；２０℃で測定；ｍＰａ・ｓ）：粘度の測定にはＥ型粘度計を用いた。
【００５１】
しきい値電圧（Ｖｔｈ；２５℃で測定；Ｖ）：二枚のガラス基板の間隔（セルギャップ）が（０．５／Δｎ）μｍであり、ツイスト角が８０゜であるノーマリーホワイトモード（normally white mode）の液晶表示素子に試料を入れた。この素子に周波数が３２Ｈｚである矩形波を印加した。印加電圧を上昇させ、素子を通過する光の透過率が９０％になったときの電圧の値を測定した。
【００５２】
電圧保持率（ＶＨＲ；％）：日本電子機械工業会規格ＥＩＡＪ ＥＤ−２５２１Ａに記載された液晶組成物および配向膜を有する素子の電圧保持率を測定する方法にしたがった。印加した電圧の波形を陰極線オシロスコープで観測し、単位周期において電圧曲線と横軸との間の面積を求めた。この値を初期値と比較して電圧保持率を算出した。測定に用いた素子はポリイミド配向膜を有し、そしてセルギャップは６μｍである。２５℃で測定した値をＶＨＲ（２５℃）、１００℃で測定した値をＶＨＲ（１００℃）と記載した。
【００５３】
紫外線に対する安定性：紫外線を照射する前の電圧保持率（ＶＨＲ；２５℃で測定）およびネマチック相の上限温度（ＴＮＩ）と、照射したあとの電圧保持率 [ＶＨＲ（ＵＶ）；２５℃で測定] およびネマチック相の上限温度 [ＴＮＩ（ＵＶ）] とを比較して安定性を判断した。測定に用いた液晶セルはポリイミド配向膜を有し、そしてセルギャップは６μｍである。このセルに液晶を注入し、光を２０分照射した。光源は超高圧水銀ランプＵＳＨ−５００Ｄ（ウシオ電機製）であり、セルと光源の間隔は２０ｃｍである。
【００５４】
応答時間（τ；２５℃で測定；ｍｓ）：セルギャップが（０．５／Δｎ）μｍ、ねじれ角が８０°の液晶セルに試料を注いだ。このセルに周波数が６０Ｈｚである矩形波（５Ｖ）を印加し、液晶が立ち上がるときの応答時間（τon）と立ち下がるときの応答時間（τoff）を測定した。応答時間はτonとτoffの和である。
【００５５】
比較例１
特開２００１−３０５３公報に開示された組成物の中で、光学異方性が最も大きい実施例３の組成物を選んだ。この組成物の成分および特性は下記のとおりである。この組成物において、光学異方性は小さく、応答時間は長い。
２−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １２．０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １３．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ）−Ｆ ５．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０．０％
２−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ ５．０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ ５．０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ ３．０％
２−ＢＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ３．０％
３−ＢＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ４．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ８．０％
４−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １０．０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ７．０％
ＴＮＩ＝７８．７℃；ＴＣ＜−２０℃；Δｎ＝０．１３９；η＝６５．３ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．００Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９８．７％；ＶＨＲ（１００℃）＝９５．２％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．３％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝７８．０℃；τ＝６０．８ｍｓ.
【００５６】
比較例２
特開平２００１−３０５１公報に開示された組成物の中で、光学異方性が最も大きい実施例５の組成物を選んだ。この組成物の成分および特性は下記のとおりである。この組成物において光学異方性は小さく、応答時間は長い。
３−Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ ７．０％
５−Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３ ５．０％
５−Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ ５．０％
３−Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ ３．０％
３−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ５．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３ ５．０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ ５．０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ ３．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ３．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ３．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ６．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １５．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １５．０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ ６．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ ７．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ ７．０％
ＴＮＩ＝９９．４℃；ＴＣ＜−２０℃；η＝５０．１ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１６２;Ｖｔｈ＝１．３４Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９８．７％；ＶＨＲ（１００℃）＝９５．０％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．２％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝９９．０℃；τ＝２９．０ｍｓ．
【００５７】
比較例３
特開２００１−１２３１７０公報に開示された組成物の中で、光学異方性が最も大きい実施例６の組成物を選んだ。この組成物の成分および特性は下記のとおりである。この組成物において光学異方性は小さく、応答時間は長い。
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−３ ５．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ７．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ ７．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ １５．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １３．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １３．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １１．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ １１．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ ９．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ ８．０％
ＴＮＩ＝１３３．４℃；ＴＣ＜−２０℃；η＝４３．９ｍＰａ・ｓ；Δｎ＝０．１７０；Ｖｔｈ＝１．５９Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．１％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．３％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．４％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１３３．０℃；τ＝３８．４ｍｓ．
【００５８】
比較例４
特開平４−２５７５３５号公報に開示された組成物（実施例２）を調製した。この組成物の成分および特性は下記のとおりである。この組成物は、光学異方性が小さく、ＶＨＲ（１００℃）やＶＨＲ（ＵＶ）が低い。
ＺＬＩ−１５６５ ９０％
５−ＢＢ（２Ｆ，５Ｆ）Ｂ−５ １０％
ＴＮＩ＝８５．３℃；ＴＣ＜−３０℃；Δｎ＝０．１３５；η＝２０．５ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝２．３４Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝８８．５％；ＶＨＲ（１００℃）＝６２．３％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝８３．３％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝８５．０℃；τ＝３３．２ｍｓ．
【００５９】
実施例１
２−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−２ （１） ７％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） １０％
２−ＢＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−５ （１） ２％
３−ＢＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−５ （１） ３％
２−ＢＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（Ｆ）−５ （１） ２％
３−ＢＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（Ｆ）−５ （１） ３％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−５ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−５ （１） ３％
２−ＢＢ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−５ （１） ２％
３−ＢＢ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−５ （１） ３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３ （２） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ−ＯＣＦ３ （２） ３％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １５％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １３％
ＴＮＩ＝９２．９℃；ＴＣ＜−３０℃；Δｎ＝０．１９４；η＝７７．８ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．３６Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．２％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９８．７％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝９２．２℃；τ＝２６．５ｍｓ．
【００６０】
実施例２
２−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−２ （１） ７％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） １０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １３％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ２％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １５％
３−ＢＢＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＬ （２） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ５％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ５％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ４％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ４％
ＴＮＩ＝１０３．９℃；ＴＣ＜−３０℃；Δｎ＝０．１７７；η＝５１．０ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．４７Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．０％；ＶＨＲ（１００℃）＝９５．８％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９８．５％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０３．１℃；τ＝２１．８ｍｓ．
【００６１】
実施例３
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） ６％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−３ （１） ２％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（Ｆ）−３ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ−Ｆ （２） ２％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＨＢ（Ｆ）ＥＢ−ＯＣＦ３ （２） ３％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １５％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ５％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３ （２） ３％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ５％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＨＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
ＴＮＩ＝１０５．６℃；ＴＣ＜−３０℃；Δｎ＝０．１７５；η＝５２．７ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．３９Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９８．９％；ＶＨＲ（１００℃）＝９５．３％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９６．３％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０４．９℃；τ＝２４．３ｍｓ．
【００６２】
実施例４
２−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−２ （１） ２％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） ７％
２−ＢＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−５ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １３％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １５％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ８％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ６％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ７％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＨＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
ＴＮＩ＝９６．４℃；ＴＣ＜−３０℃；Δｎ＝０．１７５；η＝５３．８ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．３３Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．２％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．２％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝９６．０℃；τ＝２３．８ｍｓ．
【００６３】
実施例５
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） １０％
３−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ−３ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−３ （１） ２％
２−Ｂ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−４ （１） ２％
２−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ−５ （１） １．５％
３−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ−５ （１） １．５％
２−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−５ （１） ２％
３−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−５ （１） ２％
２−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−５ （１） １．５％
３−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−５ （１） １．５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １５％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １５％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ４％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ３％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＨＮｐｒ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＨＮｐ（Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＨＮｐＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＨＮｐ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
ＴＮＩ＝９７．０℃；ＴＣ＜−２０℃；Δｎ＝０．１７８；η＝７２．２ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．４１Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．２％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．１％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝９６．５℃；τ＝２５．５ｍｓ．
【００６４】
実施例６
２−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−２ （１） ７％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） ８％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １０％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ （２） ２５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （３） １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （３） １０％
ＴＮＩ＝１０７．５℃；ＴＣ＜−２０℃；Δｎ＝０．１７９；η＝５４．０ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．５９Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．２％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．１％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０７．０℃；τ＝２０．４ｍｓ．
【００６５】
実施例７
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） １０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２０％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ （２） ２０％
５−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ （２） １０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） １０％
３−ＨＮｐｒＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （３） １０％
７−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ） （３） ２％
５−ＢＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ （３） ２％
５−ＢＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（２Ｆ） （３） ２％
５−ＢＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（Ｆ） （３） ２％
ＴＮＩ＝９５．８℃；ＴＣ＜−３０℃；Δｎ＝０．１７６；η＝６５．８ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．１５Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９８．６％；ＶＨＲ（１００℃）＝９５．８％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９６．７％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝９５．３℃；τ＝２５．７ｍｓ．
【００６６】
実施例８
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） １０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ （２） ２１％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （３） １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （３） １０％
５−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ （３） ５％
ＴＮＩ＝１０７．１℃；ＴＣ＜−３０℃；Δｎ＝０．１７８；η＝５４．３ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．６０Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．２％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．１％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０６．６℃；τ＝２０．５ｍｓ．
【００６７】
実施例９
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） １０％
２−ＢＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−５ （１） ２％
２−ＢＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（Ｆ）−５ （１） ２％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−５ （１） ２％
２−ＢＢ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−５ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １３％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３ （２） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ−ＯＣＦ３ （２） ３％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １５％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １３％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （３） ６％
５−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（２Ｆ） （３） ２％
５−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（Ｆ） （３） ２％
５−ＢＢ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ （３） ２％
５−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ （３） ２％
５−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（２Ｆ） （３） ２％
５−ＢＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ） （３） ３％
ＴＮＩ＝１０１．９℃；ＴＣ＜−２０℃；Δｎ＝０．１９１；η＝８２．７ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．３９Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．２％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．１％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０１．４℃；τ＝２５．８ｍｓ．
【００６８】
実施例１０
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） １０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １３％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ２％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ６％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １２％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢＢ（Ｆ，Ｆ）−ＣＬ （２） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ５％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ５％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＨＨ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ４％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （３） ５％
５−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ） （３） ２％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ） （３） ２％
７−Ｂ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ） （３） ２％
７−Ｂ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ） （３） ２％
ＴＮＩ＝１０１．９℃；ＴＣ＜−２０℃；Δｎ＝０．１７５；η＝５８．８ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．３７Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．０％；ＶＨＲ（１００℃）＝９５．８％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９８．５％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０１．５℃；τ＝２４．６ｍｓ．
【００６９】
実施例１１
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） ６％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−３ （１） ２％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ（Ｆ）−３ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ−Ｆ （２） ２％
２−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
５−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＨＢ（Ｆ）ＥＢ−ＯＣＦ３ （２） ３％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ６％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ６％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １２％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ３％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ３％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３ （２） ３％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ５％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＨＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （３） ６％
５−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ （３） ６％
７−Ｂ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ） （３） ２％
７−Ｂ（Ｆ,Ｆ）Ｂ （３） ２％
５−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（２Ｆ） （３） ２％
５−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ） （３） ２％
ＴＮＩ＝１０７．４℃；ＴＣ＜−２０℃；Δｎ＝０．１８４；η＝６９．９ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．４５Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９８．９％；ＶＨＲ（１００℃）＝９５．３％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９６．３％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０６．９℃；τ＝２５．８ｍｓ．
【００７０】
実施例１２
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） ８％
３−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−３ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−３ （１） ２％
２−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）−４ （１） ２％
２−Ｂ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ）−４ （１） ２％
２−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ）−４ （１） ２％
２−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）ＢＢ−５ （１） ２％
２−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（２Ｆ）Ｂ−５ （１） ２％
２−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）Ｂ−５ （１） ２％
２−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ）Ｂ−５ （１） ２％
２−ＢＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−５ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ−Ｆ （２） ５％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ）−ＯＣＦ３ （２） ５％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ８％
３−ＨＮｐｒ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
５−ＨＢＢＨ−３ （３） ３％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （３） ８％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （３） ４％
５−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−２ （３） ３％
５−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）ＢＢ （３） ２％
５−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（２Ｆ）Ｂ （３） ２％
５−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）Ｂ （３） ２％
ＴＮＩ＝１０４．８℃；ＴＣ＜−２０℃；Δｎ＝０．１９０；η＝７８．６ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．４３Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９８．６％；ＶＨＲ（１００℃）＝９５．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．３％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０４．４℃；τ＝２５．７ｍｓ．
【００７１】
実施例１３
２−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−２ （１） ２％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） ７％
２−ＢＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−５ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １３％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ−Ｆ （２） ２％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １５％
３−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）Ｂ（Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ５％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ６％
３−ＨＨＢ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＨＮｐＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５ （３） ５％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ （３） ２％
ＴＮＩ＝１０７．９℃；ＴＣ＜−２０℃；Δｎ＝０．１８４；η＝６７．５ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．３８Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．２％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．２％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０７．５℃；τ＝２５．２ｍｓ．
【００７２】
実施例１４
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） １０％
３−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ−３ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−３ （１） ２％
２−Ｂ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−４ （１） ２％
２−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ−５ （１） ２％
２−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（２Ｆ）−５ （１） ２％
２−ＢＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ）−５ （１） ２％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １５％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ７．５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １５％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ６％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ４％
５−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ３％
２−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−ＮｐＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ）Ｂ （３） ２％
５−ＢＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ） （３） ２％
ＴＮＩ＝９８．９℃；ＴＣ＜−３０℃；Δｎ＝０．１８１；η＝６６．２ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．３７Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．２％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．１％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝９８．３℃；τ＝２４．５ｍｓ．
【００７３】
実施例１５
２−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−２ （１） ５％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） ８％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） １５％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １０％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ （２） １１％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ−Ｆ （２） ５％
３−Ｎｐｒ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＮｐｒＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （３） １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （３） １０％
７−Ｂ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（２Ｆ） （３） ２％
ＴＮＩ＝１０７．７℃；ＴＣ＜−２０℃；Δｎ＝０．１８５；η＝５６．２ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．５７Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．２％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．１％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０７．３℃；τ＝２０．５ｍｓ．
【００７４】
実施例１６
２−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−２ （１） ７％
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） ８％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ４％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
５−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ３％
３−Ｎｐｒ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＨＮｐｒ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−Ｎｐ（Ｆ）Ｂ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （３） １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （３） ４％
５−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ （３） ３％
５−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）Ｂ（２Ｆ） （３） ４％
７−Ｂ（２Ｆ）Ｂ（２Ｆ,５Ｆ） （３） ３％
５−ＢＢ（Ｆ,Ｆ）ＢＢ （３） ２％
５−ＢＢ（Ｆ）Ｂ（２Ｆ）Ｂ （３） ３％
ＴＮＩ＝１０１．７℃；ＴＣ＜−２０℃；Δｎ＝０．１８６；η＝７０．６ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．６６Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．２％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．１％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．１％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０１．３℃；τ＝２５．３ｍｓ．
実施例１７
３−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ−３ （１） １０％
３−ＢＢ（Ｆ，Ｆ）ＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ （２） ２０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ５％
５−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） １０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ （２） ２％
３−ＨＢＢ（Ｆ,Ｆ）−Ｆ （２） ２１％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−２ （３） １０％
５−ＨＢＢ（Ｆ）Ｂ−３ （３） １０％
５−ＢＢ（２Ｆ,５Ｆ）Ｂ （３） ５％
３−ＨＢＢ−Ｆ （−） ２％
ＴＮＩ＝１０７．９℃；ＴＣ＜−３０℃；Δｎ＝０．１７９；η＝５３．８ｍＰａ・ｓ；Ｖｔｈ＝１．６２Ｖ；ＶＨＲ（２５℃）＝９９．３％；ＶＨＲ（１００℃）＝９６．２％；ＶＨＲ（ＵＶ）＝９７．２％；ＴＮＩ（ＵＶ）＝１０７．５℃；τ＝２０．３ｍｓ．
【００７５】
【発明の効果】
本発明の組成物は、組成物に必要な一般的な特性、ネマチック相、特に大きい光学異方性、および正の誘電率異方性を有した。この組成物を含有する本発明の液晶表示素子は、素子に必要な一般的な特性および短い応答時間を有した。この組成物は小さなセルギャップを有する素子に適しており、小さなセルギャップを有するＡＭ素子に特に適していた。
Claims (5)
- 式（Ｉ）で表される化合物群から選択された少なくとも１つの化合物からなる第一成分、および式（II−１）〜（II−８）で表される化合物群から選択された少なくとも１つの化合物からなる第二成分を含有する液晶組成物。
式（Ｉ）において、Ｒ1およびＲ２は独立して炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｘ１〜Ｘ１２は独立して水素またはフッ素であり、Ｘ１〜Ｘ１２の少なくとも２つはフッ素であり、そして１つの１，４−フェニレンが２つのフッ素を有する場合、フッ素の位置は２位と５位または２位と６位であり；そしてｎは０、１または２である。
式（II−１）〜（II−８）において、Ｒは炭素数１〜１０のアルキルであり；Ａは１，４−フェニレンまたは１，４−シクロへキシレンであり；Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は独立して水素またはフッ素であり；Ｙ１はフッ素または−ＯＣＦ３であり、そしてＹ２はフッ素または塩素であり；そしてＺは単結合または−Ｃ２Ｈ４−であり、そしてｎは０または１である。 - 液晶組成物の全重量に基づいて、第一成分が５〜５０重量％であり、第二成分が３０〜９５重量％である請求項１に記載の液晶組成物。
- 式（III−１）および（III−２）で表される化合物群から選択された少なくとも１つの化合物からなる第三成分をさらに含有する請求項１または２に記載の液晶組成物。
Ｒ’は炭素数１〜１０のアルキルまたは炭素数２〜１０のアルコキシメチルであり、Ｒは炭素数１〜１０のアルキルであり；Ａは１，４−フェニレンまたは１，４−シクロへキシレンであり；そしてＸ1およびＸ２は独立して水素またはフッ素である。
Ｒ１は炭素数１〜１０のアルキル、炭素数１〜１０のアルコキシまたは炭素数２〜１０のアルケニルであり；Ｘ１〜Ｘ１２は独立して水素またはフッ素であり、Ｘ１〜Ｘ１２の少なくとも２つはフッ素であり、そして１つの１，４−フェニレンが２つのフッ素を有する場合、フッ素の位置は２位と５位または２位と６位であり；そしてｎは０、１または２である。 - 液晶組成物の全重量に基づいて、第三成分が４０重量％以下である請求項３に記載の液晶組成物。
- 請求項１〜４のいずれかに１項に記載の液晶組成物を含有する液晶表示素子。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002106625A JP4206687B2 (ja) | 2002-04-09 | 2002-04-09 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
| EP03007386A EP1352944B1 (en) | 2002-04-09 | 2003-04-02 | Liquid crystal composition and liquid crystal display |
| DE60314320T DE60314320T2 (de) | 2002-04-09 | 2003-04-02 | Flüssigkristallzusammensetzung und Flüssigkristallanzeige |
| US10/409,113 US6936312B2 (en) | 2002-04-09 | 2003-04-09 | Liquid crystal composition and liquid crystal display |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002106625A JP4206687B2 (ja) | 2002-04-09 | 2002-04-09 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003301178A JP2003301178A (ja) | 2003-10-21 |
| JP4206687B2 true JP4206687B2 (ja) | 2009-01-14 |
Family
ID=28449924
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002106625A Expired - Fee Related JP4206687B2 (ja) | 2002-04-09 | 2002-04-09 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6936312B2 (ja) |
| EP (1) | EP1352944B1 (ja) |
| JP (1) | JP4206687B2 (ja) |
| DE (1) | DE60314320T2 (ja) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2344667C (en) * | 1998-09-21 | 2008-03-25 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Nematic liquid crystal composition and liquid crystal display using the same |
| DE10211597A1 (de) * | 2002-03-15 | 2003-10-02 | Merck Patent Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Ringverbindungen |
| DE10247986A1 (de) | 2002-10-15 | 2004-04-29 | Merck Patent Gmbh | Photostabiles flüssigkristallines Medium |
| KR101208150B1 (ko) * | 2003-12-04 | 2012-12-04 | 메르크 파텐트 게엠베하 | 액정 매질 |
| EP1756247B1 (de) * | 2004-06-18 | 2008-12-03 | MERCK PATENT GmbH | Flüssigkristallines medium |
| US7732021B2 (en) | 2004-06-18 | 2010-06-08 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Liquid crystalline medium |
| ATE416243T1 (de) * | 2004-06-18 | 2008-12-15 | Merck Patent Gmbh | Flüssigkristallines medium |
| KR101195623B1 (ko) * | 2004-12-10 | 2012-10-30 | 가부시키가이샤 아데카 | 액정 조성물 |
| EP1724324B1 (de) * | 2005-05-21 | 2009-07-22 | Merck Patent GmbH | Flüssigkristallines Medium |
| JP4972889B2 (ja) * | 2005-07-22 | 2012-07-11 | Ｊｎｃ株式会社 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
| CN101351432B (zh) * | 2006-01-06 | 2011-08-31 | 智索株式会社 | 具有烯基的单氟化联三苯化合物、液晶组成物及液晶显示元件 |
| JP4915516B2 (ja) * | 2006-03-30 | 2012-04-11 | Ｊｎｃ株式会社 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
| EP1911827B1 (de) * | 2006-10-12 | 2011-09-21 | Merck Patent GmbH | Flüssigkristallines Medium |
| EP2316907A4 (en) * | 2008-08-28 | 2013-07-17 | Jnc Corp | LIQUID CRYSTAL COMPOSITION AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT |
| CN104411799A (zh) | 2012-12-27 | 2015-03-11 | Dic株式会社 | 含有氟联苯的组合物 |
| EP2837670B1 (en) | 2012-12-27 | 2017-09-27 | DIC Corporation | Fluorobiphenyl-containing composition |
| JP5500321B1 (ja) * | 2013-03-07 | 2014-05-21 | Ｄｉｃ株式会社 | 液晶組成物及びそれを使用した液晶表示素子 |
| JP5477502B1 (ja) * | 2013-08-09 | 2014-04-23 | Ｄｉｃ株式会社 | フルオロビフェニル含有組成物 |
| JPWO2015056540A1 (ja) * | 2013-10-17 | 2017-03-09 | Jnc株式会社 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
| JP7052859B1 (ja) * | 2020-12-22 | 2022-04-12 | 凸版印刷株式会社 | 調光シート |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8627107D0 (en) * | 1986-11-13 | 1986-12-10 | Secr Defence | Ferroelectric smectic liquid crystal mixtures |
| DE69024283D1 (de) * | 1989-02-17 | 1996-02-01 | Merck Patent Gmbh | Flüssigkristallmedien enthaltend fluorierte oligophenyle |
| JP2575885B2 (ja) * | 1989-08-23 | 1997-01-29 | シャープ株式会社 | 液晶組成物及びこれを含む液晶素子 |
| US5271867A (en) * | 1989-08-23 | 1993-12-21 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal composition and liquid crystal device containing the same |
| GB2240778B (en) * | 1990-02-07 | 1993-09-01 | Merck Patent Gmbh | Fluorinated terphenyls |
| JPH04257535A (ja) | 1991-02-12 | 1992-09-11 | Seiko Epson Corp | ターフェニル誘導体及びそれを含有する液晶組成物及びそれを用いた液晶表示素子 |
| GB9325438D0 (en) * | 1993-12-13 | 1994-02-16 | Secr Defence | Ferroelectric liquid crystal devices |
| CN1136067A (zh) * | 1995-02-22 | 1996-11-20 | 智索公司 | 酯衍生物、液晶组合物和液晶显示元件 |
| JP3531713B2 (ja) | 1996-11-22 | 2004-05-31 | チッソ株式会社 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
| JP4044618B2 (ja) * | 1996-11-28 | 2008-02-06 | チッソ株式会社 | フッ素置換ベンゼン誘導体、液晶組成物および液晶表示素子 |
| DE19919348B4 (de) | 1998-04-30 | 2009-11-05 | Merck Patent Gmbh | Flüssigkristallines Medium |
| JP2001003051A (ja) | 1999-04-19 | 2001-01-09 | Chisso Corp | 液晶組成物および液晶表示素子 |
| JP4534287B2 (ja) | 1999-04-19 | 2010-09-01 | チッソ株式会社 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
| JP4505898B2 (ja) | 1999-10-25 | 2010-07-21 | チッソ株式会社 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
| JP4329298B2 (ja) * | 2001-04-27 | 2009-09-09 | チッソ株式会社 | 液晶組成物及び液晶表示素子 |
-
2002
- 2002-04-09 JP JP2002106625A patent/JP4206687B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-04-02 EP EP03007386A patent/EP1352944B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-04-02 DE DE60314320T patent/DE60314320T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-04-09 US US10/409,113 patent/US6936312B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1352944A1 (en) | 2003-10-15 |
| DE60314320T2 (de) | 2008-02-07 |
| EP1352944B1 (en) | 2007-06-13 |
| US20030222244A1 (en) | 2003-12-04 |
| US6936312B2 (en) | 2005-08-30 |
| DE60314320D1 (de) | 2007-07-26 |
| JP2003301178A (ja) | 2003-10-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4206687B2 (ja) | 液晶組成物および液晶表示素子 | |
| EP1862526B1 (en) | Liquid crystal compositions and liquid crystal display device | |
| JP6186974B2 (ja) | 液晶組成物、酸化防止剤および液晶表示素子 | |
| JP6337335B2 (ja) | 液晶組成物および液晶表示素子 | |
| JP5673047B2 (ja) | 液晶化合物、液晶組成物および液晶表示素子 | |
| JPWO2014024648A1 (ja) | 液晶組成物および液晶表示素子 | |
| JP6784069B2 (ja) | 液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子 | |
| JP2012007020A (ja) | 液晶組成物および液晶表示素子 | |
| JP2006169472A (ja) | 液晶組成物および液晶表示素子 | |
| JP4972889B2 (ja) | 液晶組成物および液晶表示素子 | |
| JP2003301179A (ja) | 液晶組成物および液晶表示素子 | |
| JP5648367B2 (ja) | 液晶組成物および液晶表示素子 | |
| JP2008111113A (ja) | 液晶組成物および液晶表示素子 | |
| JP6493666B2 (ja) | ポリ（ジフルオロメチレン）鎖を有する化合物、液晶組成物および液晶表示素子 | |
| TW202045699A (zh) | 液晶組成物及其用途、以及液晶顯示元件 | |
| JP4352690B2 (ja) | 液晶組成物および液晶表示素子 | |
| JP4147901B2 (ja) | 液晶組成物および液晶表示素子 | |
| JP2004182881A (ja) | 液晶組成物および液晶表示素子 | |
| JP4962528B2 (ja) | 液晶組成物および液晶表示素子 | |
| JP4400041B2 (ja) | 液晶組成物および液晶表示素子 | |
| JP4423852B2 (ja) | 液晶組成物および液晶表示素子 | |
| JP2006193707A (ja) | 液晶組成物および液晶表示素子 | |
| JP2020172594A (ja) | 液晶組成物および液晶表示素子 | |
| TWI814958B (zh) | 液晶組成物及其用途、以及液晶顯示元件 | |
| JP5141639B2 (ja) | 液晶組成物および液晶表示素子 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041213 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080415 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080924 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081007 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4206687 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111031 Year of fee payment: 3 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111031 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111031 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121031 Year of fee payment: 4 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121031 Year of fee payment: 4 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121031 Year of fee payment: 4 |
|
| R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121031 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121031 Year of fee payment: 4 |
|
| R370 | Written measure of declining of transfer procedure |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121031 Year of fee payment: 4 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121031 Year of fee payment: 4 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131031 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |