JP4191882B2 - ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 - Google Patents
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- -1 Silver halide Chemical class 0.000 title claims description 260
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims description 121
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims description 121
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 72
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 157
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 81
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 69
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 59
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 37
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 24
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 21
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 20
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 20
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims description 19
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 claims description 16
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 claims description 16
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 claims description 15
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 claims description 15
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 claims description 11
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 claims description 11
- 239000002667 nucleating agent Substances 0.000 claims description 10
- KHBQMWCZKVMBLN-IDEBNGHGSA-N benzenesulfonamide Chemical group NS(=O)(=O)[13C]1=[13CH][13CH]=[13CH][13CH]=[13CH]1 KHBQMWCZKVMBLN-IDEBNGHGSA-N 0.000 claims description 7
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N phosphonic acid group Chemical group P(O)(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004422 alkyl sulphonamide group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000004421 aryl sulphonamide group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 3
- 125000003453 indazolyl group Chemical group N1N=C(C2=C1C=CC=C2)* 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 128
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 74
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 74
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 72
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 56
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 49
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 40
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 37
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 36
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 30
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 27
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 26
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 25
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000011161 development Methods 0.000 description 24
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 24
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 24
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 23
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 23
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 22
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 21
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 20
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 19
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 17
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 17
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 17
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 17
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 17
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 17
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 17
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 16
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 16
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 15
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 description 15
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 14
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 14
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 14
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 14
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 14
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 14
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 13
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 13
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 13
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 12
- 125000004149 thio group Chemical group *S* 0.000 description 12
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 11
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 11
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 11
- 229910052717 sulfur Chemical group 0.000 description 11
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 10
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 10
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 10
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 10
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000000996 L-ascorbic acids Chemical class 0.000 description 9
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 9
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 9
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 9
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 9
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 9
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 9
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical class NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 8
- 125000000717 hydrazino group Chemical group [H]N([*])N([H])[H] 0.000 description 8
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 8
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- DMSMPAJRVJJAGA-UHFFFAOYSA-N benzo[d]isothiazol-3-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NSC2=C1 DMSMPAJRVJJAGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 7
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 7
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 7
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 6
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 6
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 6
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 6
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 6
- 125000000656 azaniumyl group Chemical group [H][N+]([H])([H])[*] 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 6
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 6
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 6
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Chemical group 0.000 description 6
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical class N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 6
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 6
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 6
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 6
- URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N triacetin Chemical compound CC(=O)OCC(OC(C)=O)COC(C)=O URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 5
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 5
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 5
- 150000002473 indoazoles Chemical class 0.000 description 5
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 5
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 5
- PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-N phosphoramidic acid Chemical compound NP(O)(O)=O PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 5
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 5
- 238000011160 research Methods 0.000 description 5
- 150000003284 rhodium compounds Chemical class 0.000 description 5
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 5
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 5
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 5
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 5
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 5
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 4
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 4
- 125000006297 carbonyl amino group Chemical group [H]N([*:2])C([*:1])=O 0.000 description 4
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 4
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 description 4
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 4
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 4
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000005205 dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 4
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 4
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 4
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 4
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 4
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 4
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 125000005740 oxycarbonyl group Chemical group [*:1]OC([*:2])=O 0.000 description 4
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 4
- 229920000120 polyethyl acrylate Polymers 0.000 description 4
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 4
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 4
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 4
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 4
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- 125000005420 sulfonamido group Chemical group S(=O)(=O)(N*)* 0.000 description 4
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 4
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WURBVZBTWMNKQT-UHFFFAOYSA-N 1-(4-chlorophenoxy)-3,3-dimethyl-1-(1,2,4-triazol-1-yl)butan-2-one Chemical compound C1=NC=NN1C(C(=O)C(C)(C)C)OC1=CC=C(Cl)C=C1 WURBVZBTWMNKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 description 3
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000005237 alkyleneamino group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 3
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 3
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 3
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 3
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 239000001087 glyceryl triacetate Substances 0.000 description 3
- 235000013773 glyceryl triacetate Nutrition 0.000 description 3
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 3
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940065287 selenium compound Drugs 0.000 description 3
- 150000003343 selenium compounds Chemical class 0.000 description 3
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 3
- JHJUUEHSAZXEEO-UHFFFAOYSA-M sodium;4-dodecylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 JHJUUEHSAZXEEO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- CHLCPTJLUJHDBO-UHFFFAOYSA-M sodium;benzenesulfinate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)C1=CC=CC=C1 CHLCPTJLUJHDBO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000007962 solid dispersion Substances 0.000 description 3
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 3
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 3
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 3
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 3
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea group Chemical group NC(=S)N UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960002622 triacetin Drugs 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 239000012224 working solution Substances 0.000 description 3
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZEQIWKHCJWRNTH-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrimidine-2,4-dithione Chemical compound S=C1C=CNC(=S)N1 ZEQIWKHCJWRNTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 2,3,9,10-tetramethoxy-6,8,13,13a-tetrahydro-5H-isoquinolino[2,1-b]isoquinoline Chemical compound C1CN2CC(C(=C(OC)C=C3)OC)=C3CC2C2=C1C=C(OC)C(OC)=C2 AEQDJSLRWYMAQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical class NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWZOJDWOQYTACD-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylsulfonyl-n-[2-[(2-ethenylsulfonylacetyl)amino]ethyl]acetamide Chemical compound C=CS(=O)(=O)CC(=O)NCCNC(=O)CS(=O)(=O)C=C QWZOJDWOQYTACD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 4-methylaminophenol Chemical compound CNC1=CC=C(O)C=C1 ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDDLHHRCDSJVKV-UHFFFAOYSA-N 7028-40-2 Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O BDDLHHRCDSJVKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 2
- 239000004484 Briquette Substances 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910006074 SO2NH2 Inorganic materials 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRXWPCFZBSHSAU-UHFFFAOYSA-N [Ag].[Ag].[Te] Chemical compound [Ag].[Ag].[Te] YRXWPCFZBSHSAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N [Nitrilotris(methylene)]trisphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O YDONNITUKPKTIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 2
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 2
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 description 2
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 2
- 239000002168 alkylating agent Substances 0.000 description 2
- 229940100198 alkylating agent Drugs 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 2
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005421 aryl sulfonamido group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 2
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 2
- 150000001556 benzimidazoles Chemical class 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 2
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 2
- QDHFHIQKOVNCNC-UHFFFAOYSA-M butane-1-sulfonate Chemical compound CCCCS([O-])(=O)=O QDHFHIQKOVNCNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000005708 carbonyloxy group Chemical group [*:2]OC([*:1])=O 0.000 description 2
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N chembl1717603 Chemical compound N1=C(C)C=C(O)N2N=CN=C21 ZUIVNYGZFPOXFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N decan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCO MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OSVXSBDYLRYLIG-UHFFFAOYSA-N dioxidochlorine(.) Chemical compound O=Cl=O OSVXSBDYLRYLIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000986 disperse dye Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 2
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 2
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 2
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 2
- 229920001903 high density polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004700 high-density polyethylene Substances 0.000 description 2
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 2
- NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N iminodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CNCC(O)=O NBZBKCUXIYYUSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 150000002504 iridium compounds Chemical class 0.000 description 2
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 2
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 2
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 125000004573 morpholin-4-yl group Chemical group N1(CCOCC1)* 0.000 description 2
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- 125000003452 oxalyl group Chemical group *C(=O)C(*)=O 0.000 description 2
- 125000003355 oxamoyl group Chemical group C(C(=O)N)(=O)* 0.000 description 2
- 125000001096 oxamoylamino group Chemical group C(C(=O)N)(=O)N* 0.000 description 2
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 2
- 239000006174 pH buffer Substances 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 2
- ZJAOAACCNHFJAH-UHFFFAOYSA-N phosphonoformic acid Chemical class OC(=O)P(O)(O)=O ZJAOAACCNHFJAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000587 piperidin-1-yl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DUIOPKIIICUYRZ-UHFFFAOYSA-N semicarbazide group Chemical group NNC(=O)N DUIOPKIIICUYRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 2
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 2
- HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L sodium disulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])(=O)=O HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000004320 sodium erythorbate Substances 0.000 description 2
- 235000010352 sodium erythorbate Nutrition 0.000 description 2
- 239000000176 sodium gluconate Substances 0.000 description 2
- 235000012207 sodium gluconate Nutrition 0.000 description 2
- 229940005574 sodium gluconate Drugs 0.000 description 2
- 229940001584 sodium metabisulfite Drugs 0.000 description 2
- 235000010262 sodium metabisulphite Nutrition 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RBWSWDPRDBEWCR-RKJRWTFHSA-N sodium;(2r)-2-[(2r)-3,4-dihydroxy-5-oxo-2h-furan-2-yl]-2-hydroxyethanolate Chemical compound [Na+].[O-]C[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O RBWSWDPRDBEWCR-RKJRWTFHSA-N 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 2
- 150000003459 sulfonic acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 2
- AWDBHOZBRXWRKS-UHFFFAOYSA-N tetrapotassium;iron(6+);hexacyanide Chemical compound [K+].[K+].[K+].[K+].[Fe+6].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-].N#[C-] AWDBHOZBRXWRKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001391 thioamide group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 2
- BRWIZMBXBAOCCF-UHFFFAOYSA-N thiosemicarbazide group Chemical group NNC(=S)N BRWIZMBXBAOCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L thiosulfate(2-) Chemical compound [O-]S([S-])(=O)=O DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 2
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 2
- KWMLJOLKUYYJFJ-GASJEMHNSA-N (2xi)-D-gluco-heptonic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)C(O)=O KWMLJOLKUYYJFJ-GASJEMHNSA-N 0.000 description 1
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NXLNNXIXOYSCMB-UHFFFAOYSA-N (4-nitrophenyl) carbonochloridate Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(OC(Cl)=O)C=C1 NXLNNXIXOYSCMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSUFEOXMCRPQBB-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrafluoropropan-1-ol Chemical compound CC(F)(F)C(O)(F)F CSUFEOXMCRPQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XROXHGVTJRRDBQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydropyridazine-3,4-dithione Chemical compound S=C1C=CNNC1=S XROXHGVTJRRDBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYHIXFCITOCVKH-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethylimidazolidine-2-thione Chemical compound CN1CCN(C)C1=S FYHIXFCITOCVKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005968 1-Decanol Substances 0.000 description 1
- GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole Chemical compound SC1=NN=NN1C1=CC=CC=C1 GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHPMRMBDPINHAV-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-5-nitroindazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2N(C)N=CC2=C1 JHPMRMBDPINHAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKAVADYDPYUPRD-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrazine-2-thione Chemical compound SC1=CN=CC=N1 HKAVADYDPYUPRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQQSRZSUGBETRS-UHFFFAOYSA-N 1h-pyridazine-6-thione Chemical compound SC1=CC=CN=N1 YQQSRZSUGBETRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHWVDLFBAPQUOT-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxybutanedioic acid;dihydrate Chemical compound O.O.OC(=O)C(O)C(O)C(O)=O DHWVDLFBAPQUOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIGSPBFIOSHWQG-UHFFFAOYSA-N 2-Isopropyl-1,4-benzenediol Chemical compound CC(C)C1=CC(O)=CC=C1O HIGSPBFIOSHWQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNCSCQSQSGDGES-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]propyl-(carboxymethyl)amino]acetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)C(C)CN(CC(O)=O)CC(O)=O XNCSCQSQSGDGES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCUZVMHXDRSBKX-UHFFFAOYSA-N 2-decylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O HCUZVMHXDRSBKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006290 2-hydroxybenzyl group Chemical group [H]OC1=C(C([H])=C([H])C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- CBIQMVJKOOBTRE-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-4-(methylamino)phenol Chemical compound CNC1=CC=C(O)C(OC)=C1 CBIQMVJKOOBTRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGNSTCICFBACB-UHFFFAOYSA-N 2-octylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O QJGNSTCICFBACB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- FPEANFVVZUKNFU-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylbenzotriazole Chemical compound C1=CC=CC2=NN(S)N=C21 FPEANFVVZUKNFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWTIBPIVCKUAHK-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2-carboxyethyl)amino]propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCN(CCC(O)=O)CCC(O)=O IWTIBPIVCKUAHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWEBTVZIZWEJOO-UHFFFAOYSA-N 3-chlorosulfonylbenzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC(S(Cl)(=O)=O)=C1 XWEBTVZIZWEJOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-1-butanol Chemical compound COC(C)CCO JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropan-1-ol Chemical compound COCCCO JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGDNJFXKELMVLS-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-5-nitro-2h-indazole Chemical compound C1=CC([N+]([O-])=O)=CC2=C(C)NN=C21 ZGDNJFXKELMVLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYYSPVRERVXMLJ-UHFFFAOYSA-N 4,4-difluorocyclohexan-1-one Chemical compound FC1(F)CCC(=O)CC1 NYYSPVRERVXMLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(C)CN1C1=CC=CC=C1 SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBQSPPWTBUFLCM-UHFFFAOYSA-N 4,6-bis(sulfanyl)-1h-pyridine-2-thione Chemical compound SC=1C=C(S)NC(=S)C=1 LBQSPPWTBUFLCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYLZMEBHFVXKQK-UHFFFAOYSA-N 4-(dimethylamino)-2-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC(N(C)C)=CC=C1O PYLZMEBHFVXKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)-4-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(CO)CN1C1=CC=CC=C1 DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004801 4-cyanophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(C#N)=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- CMGDVUCDZOBDNL-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2h-benzotriazole Chemical compound CC1=CC=CC2=NNN=C12 CMGDVUCDZOBDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSEYYGFJBLWFGD-UHFFFAOYSA-N 4-methylsulfanyl-2-[(2-methylsulfanylpyridine-3-carbonyl)amino]butanoic acid Chemical compound CSCCC(C(O)=O)NC(=O)C1=CC=CN=C1SC HSEYYGFJBLWFGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFZIEYJWTOQZHA-UHFFFAOYSA-N 4-sulfanyl-1,2-dihydropyridazine-3,6-dithione Chemical compound SC1=CC(=S)C(=S)NN1 YFZIEYJWTOQZHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBLNQUAGXAZQKG-UHFFFAOYSA-N 4-sulfanyl-1h-pyridazine-6-thione Chemical compound SC=1C=NNC(=S)C=1 GBLNQUAGXAZQKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQGYCVKWCYGVBK-UHFFFAOYSA-N 5,6-diamino-1h-pyrimidine-2,4-dithione Chemical compound NC=1NC(=S)NC(=S)C=1N IQGYCVKWCYGVBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGLUKQQSWABKDH-UHFFFAOYSA-N 5-amino-1-methyl-3h-indol-2-one Chemical compound NC1=CC=C2N(C)C(=O)CC2=C1 ZGLUKQQSWABKDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDGIVSREGUOIJZ-UHFFFAOYSA-N 5-amino-3h-1,3,4-thiadiazole-2-thione Chemical compound NC1=NN=C(S)S1 GDGIVSREGUOIJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006043 5-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1H-benzotriazole Chemical compound C1=C(C)C=CC2=NNN=C21 LRUDIIUSNGCQKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1h-indazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2NN=CC2=C1 WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOCDQWRMYHJTMY-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-2h-benzotriazole Chemical compound C1=C([N+](=O)[O-])C=CC2=NNN=C21 AOCDQWRMYHJTMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIEVCKBWRWWJKE-UHFFFAOYSA-N 5-sulfanyl-1,4-dihydropyrazine-2,3-dithione Chemical compound SC1=CNC(=S)C(=S)N1 AIEVCKBWRWWJKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 5-sulfosalicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC=C1O YCPXWRQRBFJBPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPAZGLFMMUODDK-UHFFFAOYSA-N 6-nitro-1h-benzimidazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2N=CNC2=C1 XPAZGLFMMUODDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORZRMRUXSPNQQL-UHFFFAOYSA-N 6-nitro-1h-indazole Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2C=NNC2=C1 ORZRMRUXSPNQQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPTQXZVPWMFRBA-UHFFFAOYSA-N 6-nitro-2-propan-2-yl-1h-benzimidazole Chemical compound C1=C([N+]([O-])=O)C=C2NC(C(C)C)=NC2=C1 HPTQXZVPWMFRBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTWVFTHNHTUKDS-UHFFFAOYSA-N 6-sulfanyl-1h-pyrazine-2-thione Chemical compound SC1=CN=CC(=S)N1 CTWVFTHNHTUKDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVEUMXILHQDFLT-UHFFFAOYSA-N 6-sulfanyl-1h-pyridine-2-thione Chemical compound SC1=CC=CC(=S)N1 QVEUMXILHQDFLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWZBVWVFUYPZCE-UHFFFAOYSA-N 6-sulfanyl-1h-pyrimidine-2,4-dithione Chemical compound SC1=CC(S)=NC(S)=N1 RWZBVWVFUYPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BKLCQTJLGBIHJV-UHFFFAOYSA-H Br[Ir](Br)(Br)(Br)(Br)Br Chemical compound Br[Ir](Br)(Br)(Br)(Br)Br BKLCQTJLGBIHJV-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004155 Chlorine dioxide Substances 0.000 description 1
- IWHXNINOLLNFGP-ZAGWXBKKSA-N Cl.CCOc1ccc(cc1)\N=N\c1ccc(N)cc1N Chemical compound Cl.CCOc1ccc(cc1)\N=N\c1ccc(N)cc1N IWHXNINOLLNFGP-ZAGWXBKKSA-N 0.000 description 1
- ZYSSNSIOLIJYRF-UHFFFAOYSA-H Cl[Ir](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl Chemical compound Cl[Ir](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl ZYSSNSIOLIJYRF-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- HEWVMWUXTNMXST-UHFFFAOYSA-I Cl[Ir](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)N=O Chemical compound Cl[Ir](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)N=O HEWVMWUXTNMXST-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N D-isoascorbic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N 0.000 description 1
- PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N Diammonium sulfite Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])=O PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical group O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940120146 EDTMP Drugs 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- 101000619542 Homo sapiens E3 ubiquitin-protein ligase parkin Proteins 0.000 description 1
- XUJNEKJLAYXESH-REOHCLBHSA-N L-Cysteine Chemical compound SC[C@H](N)C(O)=O XUJNEKJLAYXESH-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N L-aspartic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N Magnesium ion Chemical compound [Mg+2] JLVVSXFLKOJNIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N N,N-bis{2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl}glycine Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRUZLCLJULHLEY-UHFFFAOYSA-N N-(p-hydroxyphenyl)glycine Chemical compound OC(=O)CNC1=CC=C(O)C=C1 WRUZLCLJULHLEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical group O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-L Oxalate Chemical compound [O-]C(=O)C([O-])=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000203593 Piper nigrum Species 0.000 description 1
- 235000008184 Piper nigrum Nutrition 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 229910021637 Rhenium(VI) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M Sodium bisulfite Chemical compound [Na+].OS([O-])=O DWAQJAXMDSEUJJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 1
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 1
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 1
- MNOILHPDHOHILI-UHFFFAOYSA-N Tetramethylthiourea Chemical compound CN(C)C(=S)N(C)C MNOILHPDHOHILI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- XEIPQVVAVOUIOP-UHFFFAOYSA-N [Au]=S Chemical compound [Au]=S XEIPQVVAVOUIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKJBFEQMHZICJP-UHFFFAOYSA-N acetic acid;1,3-diaminopropan-2-ol Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.NCC(O)CN CKJBFEQMHZICJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUSUZAGBORAKPY-UHFFFAOYSA-N acetic acid;n'-[2-(2-aminoethylamino)ethyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.CC(O)=O.NCCNCCNCCN RUSUZAGBORAKPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N acetone oxime Chemical compound CC(C)=NO PXAJQJMDEXJWFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004419 alkynylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011126 aluminium potassium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 150000003868 ammonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940040526 anhydrous sodium acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 229940088710 antibiotic agent Drugs 0.000 description 1
- 239000003429 antifungal agent Substances 0.000 description 1
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 235000003704 aspartic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- VTYVIFFJJXAHTG-UHFFFAOYSA-M azanium;sodium;dioxido-oxo-sulfanylidene-$l^{6}-sulfane Chemical compound [NH4+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S VTYVIFFJJXAHTG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000003899 bactericide agent Substances 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001864 baryta Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940077388 benzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M benzenesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N beta-carboxyaspartic acid Natural products OC(=O)C(N)C(C(O)=O)C(O)=O OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 235000013614 black pepper Nutrition 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001661 cadmium Chemical class 0.000 description 1
- 150000001720 carbohydrates Chemical class 0.000 description 1
- GEMCGUOJDLYZJY-UHFFFAOYSA-N carbonic acid;hydrogen peroxide;sodium Chemical compound [Na].OO.OC(O)=O GEMCGUOJDLYZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005392 carboxamide group Chemical group NC(=O)* 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002057 carboxymethyl group Chemical group [H]OC(=O)C([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 235000019398 chlorine dioxide Nutrition 0.000 description 1
- AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N chlorohydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Cl)=C1 AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 1
- CTQMJYWDVABFRZ-UHFFFAOYSA-N cloxiquine Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=C(Cl)C2=C1 CTQMJYWDVABFRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 238000001246 colloidal dispersion Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- XUJNEKJLAYXESH-UHFFFAOYSA-N cysteine Natural products SCC(N)C(O)=O XUJNEKJLAYXESH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000018417 cysteine Nutrition 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 235000013681 dietary sucrose Nutrition 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 1
- 150000004683 dihydrates Chemical class 0.000 description 1
- BBLSYMNDKUHQAG-UHFFFAOYSA-L dilithium;sulfite Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]S([O-])=O BBLSYMNDKUHQAG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 description 1
- WBZKQQHYRPRKNJ-UHFFFAOYSA-L disulfite Chemical compound [O-]S(=O)S([O-])(=O)=O WBZKQQHYRPRKNJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 235000012489 doughnuts Nutrition 0.000 description 1
- NFDRPXJGHKJRLJ-UHFFFAOYSA-N edtmp Chemical compound OP(O)(=O)CN(CP(O)(O)=O)CCN(CP(O)(O)=O)CP(O)(O)=O NFDRPXJGHKJRLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 235000010350 erythorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- DEFVIWRASFVYLL-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol bis(2-aminoethyl)tetraacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCOCCOCCN(CC(O)=O)CC(O)=O DEFVIWRASFVYLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 229940095709 flake product Drugs 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000002795 guanidino group Chemical group C(N)(=N)N* 0.000 description 1
- 239000008233 hard water Substances 0.000 description 1
- CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N helium neon Chemical compound [He].[Ne] CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 1
- 150000001469 hydantoins Chemical class 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 239000012433 hydrogen halide Substances 0.000 description 1
- 229910000039 hydrogen halide Inorganic materials 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002506 iron compounds Chemical class 0.000 description 1
- DXTCFKRAUYBHRC-UHFFFAOYSA-L iron(2+);dithiocyanate Chemical compound [Fe+2].[S-]C#N.[S-]C#N DXTCFKRAUYBHRC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 229940026239 isoascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 229940006487 lithium cation Drugs 0.000 description 1
- 229940096405 magnesium cation Drugs 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQIOSYKVBBWRRI-UHFFFAOYSA-N methylphosphonyl difluoride Chemical group CP(F)(F)=O PQIOSYKVBBWRRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004092 methylthiomethyl group Chemical group [H]C([H])([H])SC([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000000813 microbial effect Effects 0.000 description 1
- 244000005700 microbiome Species 0.000 description 1
- FYZYDBMOAUJUCG-UHFFFAOYSA-N n-(1h-indazol-5-yl)-4-nitrobenzamide Chemical compound C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1C(=O)NC1=CC=C(NN=C2)C2=C1 FYZYDBMOAUJUCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 238000010979 pH adjustment Methods 0.000 description 1
- 239000006179 pH buffering agent Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 102000045222 parkin Human genes 0.000 description 1
- 229960003330 pentetic acid Drugs 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 1
- ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N phosphinic acid Chemical compound O[PH2]=O ACVYVLVWPXVTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical group 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical group 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 125000005543 phthalimide group Chemical class 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 229940050271 potassium alum Drugs 0.000 description 1
- GRLPQNLYRHEGIJ-UHFFFAOYSA-J potassium aluminium sulfate Chemical compound [Al+3].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O GRLPQNLYRHEGIJ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M potassium benzoate Chemical compound [K+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 XAEFZNCEHLXOMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- RWPGFSMJFRPDDP-UHFFFAOYSA-L potassium metabisulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)S([O-])(=O)=O RWPGFSMJFRPDDP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940043349 potassium metabisulfite Drugs 0.000 description 1
- 235000010263 potassium metabisulphite Nutrition 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 125000006308 propyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHMDPDGBKYUEMW-UHFFFAOYSA-N pyridine-2-thiol Chemical compound SC1=CC=CC=N1 WHMDPDGBKYUEMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGVVTMRZYROCTH-UHFFFAOYSA-N pyridine-2-thiol N-oxide Chemical compound [O-][N+]1=CC=CC=C1S FGVVTMRZYROCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIVPQCZZDVPHOJ-UHFFFAOYSA-N pyridine-3,5-dithiol Chemical compound SC1=CN=CC(S)=C1 UIVPQCZZDVPHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N pyrimidine-2-thiol Chemical compound SC1=NC=CC=N1 HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003230 pyrimidines Chemical class 0.000 description 1
- YBBJKCMMCRQZMA-UHFFFAOYSA-N pyrithione Chemical compound ON1C=CC=CC1=S YBBJKCMMCRQZMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013441 quality evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZSJYEAHAINDJI-UHFFFAOYSA-N rhodium(3+) Chemical compound [Rh+3] PZSJYEAHAINDJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 150000003304 ruthenium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 description 1
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012748 slip agent Substances 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H sodium hexametaphosphate Chemical compound [Na]OP1(=O)OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])O1 GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 235000019982 sodium hexametaphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 235000010267 sodium hydrogen sulphite Nutrition 0.000 description 1
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- PODWXQQNRWNDGD-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate pentahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.[Na+].[Na+].[O-]S([S-])(=O)=O PODWXQQNRWNDGD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WVFDILODTFJAPA-UHFFFAOYSA-M sodium;1,4-dihexoxy-1,4-dioxobutane-2-sulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCOC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCCCCCC WVFDILODTFJAPA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PISVIEQBTMLLCS-UHFFFAOYSA-M sodium;ethyl-oxido-oxo-sulfanylidene-$l^{6}-sulfane Chemical compound [Na+].CCS([O-])(=O)=S PISVIEQBTMLLCS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M sodium;hydroxymethanesulfonate Chemical compound [Na+].OCS([O-])(=O)=O UOULCEYHQNCFFH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BZHOWMPPNDKQSQ-UHFFFAOYSA-M sodium;sulfidosulfonylbenzene Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=S)C1=CC=CC=C1 BZHOWMPPNDKQSQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical class O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960004793 sucrose Drugs 0.000 description 1
- 235000000346 sugar Nutrition 0.000 description 1
- 150000008163 sugars Chemical class 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical compound [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 description 1
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003475 thallium Chemical class 0.000 description 1
- 238000009210 therapy by ultrasound Methods 0.000 description 1
- 150000004867 thiadiazoles Chemical group 0.000 description 1
- 125000001113 thiadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDMIYIVDILNBIJ-UHFFFAOYSA-N triazinane-4,5,6-trithione Chemical compound SC1=NN=NC(S)=C1S CDMIYIVDILNBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFVJLNKVUKIPPI-UHFFFAOYSA-N triphenyl(selanylidene)-$l^{5}-phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)(=[Se])C1=CC=CC=C1 ZFVJLNKVUKIPPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXYADVIJALMOEQ-UHFFFAOYSA-K tris(lactato)aluminium Chemical compound CC(O)C(=O)O[Al](OC(=O)C(C)O)OC(=O)C(C)O VXYADVIJALMOEQ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明はハロゲン化銀写真感光材料およびそれを用いた超硬調な画像形成方法に関し、特にグラフィックアーツ分野で用いられる超硬調ハロゲン化銀写真感光材料とそれを用いる写真画像形成方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
グラフィックアーツの分野においては網点画像による連続階調の画像の再生あるいは線画像の再生を良好ならしめるために、超硬調(特にγが10以上)の写真性を示す画像形成システムが必要である。
高コントラストの写真特性を得る方法としては、古くからいわゆる“伝染現像効果”を利用したリス現像方式が使用されてきたが、現像液が不安定で使いづらいという欠点を有していた。良好な保存安定性を有する処理液で現像し、超硬調な写真特性が得られる画像形成システムが要望され、その1つとして米国特許第4,166,742号、同第4,168,977号、同第4,221,857号、同第4,224,401号、同第4,243,739号、同第4,269,922号、同第4,272,606号、同第4,311,781号、同第4,332,878号、同第4,618,574号、同第4,634,661号、同第4,681,836号、同第5,650,746号等が開示されている。これらはヒドラジン誘導体を添加した表面潜像型のハロゲン化銀写真感光材料を、pH11.0〜12.3の安定なMQまたはPQ現像液で処理し、γが10を越える超硬調のネガ画像を得るシステムであり、この方法によれば超硬調で高感度の写真特性が得られ、現像液中に高濃度の亜硫酸塩を添加することができるので、現像液の空気酸化に対する安定性は従来のリス現像液に比べて飛躍的に向上する。
一方、写真製版の分野においては、印刷物の多様性、複雑性に対処するために、オリジナル再現性の良好な写真感光材料、安定な処理液、あるいは、補充の簡易化などの要望がある。
特に線画撮影工程における原稿は、写植文字、手書きの文字、イラスト、網点化された写真などが貼り込まれて作られる。したがって原稿には、濃度や線幅の異なる画像が混在し、これらの原稿を再現よく仕上げる製版カメラ、写真感光材料、あるいは、画像形成方法が強く望まれている。一方、カタログや大型ポスターの製版には、網写真の拡大(目伸し)あるいは縮小(目縮め)が広く行なわれ、網点を拡大して用いる製版では、線数が粗くなりボケた点の撮影になる。縮小では原稿よりさらに線数/インチが大きく細い点の撮影になる。従って網階調の再現性を維持するため、より一層広いラチチュードを有する画像形成方法が要求されている。
【0003】
オリジナル再現性を改良する方法として特開平3−39952号、同3−174143号などに酸化により現像抑制剤を放出するレドックス化合物を含む層とヒドラジン誘導体を含む感光性ハロゲン化銀乳剤層とを有する重層構成の超硬調ハロゲン化銀感光材料が開示されている。これによってオリジナル再現性が格段に向上する。
しかしながら、オリジナル再現性の向上はグラフィックアーツ感光材料において永久の課題であり、さらにオリジナル再現性の良好なシステムが強く望まれている。
上記のヒドラジン誘導体を添加した表面潜像型のハロゲン化銀写真感光材料をpH11.0〜12.3の現像液で処理する方法では、高濃度の亜硫酸保恒剤によって現像液の安定性を高めることを可能としたが、超硬調な写真画像を得るためには、比較的高いpH値の現像液を用いることが必要であり、そのために現像液が空気酸化されやすく多量の現像液を補充する必要があった。そこで、ヒドラジン化合物の造核現像を利用した超硬調な写真画像形成システムを、より低いpHの現像液で実現する工夫が試みられてきた。
米国特許4,269,929号(特開昭61−267759号)、米国特許4,737,452号(特開昭60−179734号)、米国特許5,104,769号、同4,798,780号、特開平1−179939号、同1−179940号、米国特許4,998,604号、同4,994,365号、特開平8−272023号には、pH11.0未満の安定な現像液を用いて超硬調な画像を得るために、高活性なヒドラジン造核剤および造核促進剤を用いる方法が開示されている。
しかしながら、上記の方法において、前述した酸化により現像抑制剤を放出するレドックス化合物を併用した場合には、オリジナル再現性という点で充分とはいえず、さらにオリジナル再現性の良好な感光材料の開発が強く望まれていた。また、近年、環境問題がクローズアップされていることもあり、さらに現像廃液を少なくするために、現像液組成により写真性の変動が小さく、かつ、オリジナル再現性変動が小さい感光材料の開発が強く望まれていた。
一方、特許第2676439号にはスルホ基を含むヒドラジン系レドックス化合物が、また特開平9−269553号にもスルホンアミド基を2つ分子内に有するヒドラジン系レドックス化合物やフェノールの部分構造を有するレドックス化合物が開示されているが、これらの化合物によっても、低いpHの現像液では、オリジナル再現性が良好で黒ポツが良好な、高感度、高コントラストなハロゲン化銀写真感光材料を得ることは出来ていない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の第一の目的は、高感度、高コントラスト(例えばγで10以上)、高い最高濃度(高Dmax)の写真特性を有し、さらに、オリジナル再現性が良好で、一層性能の高められたハロゲン化銀写真感光材料を提供することである。
本発明の第二の目的は上記目的に加えて、経時疲労により保恒剤として導入されている亜硫酸濃度が減少したりpHが変化した現像液、または大量のフィルムを処理することによりpHが変化したり臭素イオン濃度が増加した現像液で処理しても、感度、γ、Dmaxの変動が少なく、かつ、オリジナル再現性が良好なハロゲン化銀写真感光材料を提供することである。
本発明の第三の目的は、従来より低いpHの現像液を用いても、高感度、高コントラスト、高Dmaxでオリジナル再現性の高い画像を得られる、ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法を提供することである。
【0005】
【課題を達成するための手段】
本発明のこれらの目的は、以下の(1)〜(7)の手段によって達成された。
(1)下記一般式(1)で表される化合物の少なくとも1種を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
一般式(1)
【0006】
【化2】
【0007】
式中、PUGは、隣接するカルボニル基と窒素原子で結合する含窒素ヘテロ環基を表す。但し該ヘテロ環基は、その置換基として少なくとも1つのニトロ基を直接もしくは間接的に有し、かつpKa値9〜11を与え得るヘテロ環基である。phはフェニル基を表し、カルボキシ基、ホスホン酸基、リン酸基、少なくとも1つの電子吸引性基を置換基として有するアリールスルホンアミド基、アルキルスルホンアミド基、スルファモイル基、アシルスルファモイル基、カルバモイルスルファモイル基、スルホニルウレイド基、スルホニルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル基、アシルカルバモイル基、スルホニルスルファモイル基、活性メチレン基、およびこれらの塩から選択される少なくとも1つの解離性基を直接もしくは間接的に置換基として有する。Zはベンゼン環に置換可能な置換基を表し、pは0〜4の整数を表す。
(2)前記のPUGで表されるヘテロ環基が、インダゾール類の基であることを特徴とする(1)項に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
(3)前記の、ph基に直接もしくは間接的に置換される解離性基が、少なくとも1つの電子吸引性基を置換基として有するベンゼンスルホンアミド基であることを特徴とする(1)または(2)項に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
(4)前記一般式(I)で表される化合物が、バラスト基として、炭素数9以上の、アルキル基(またはアルキレン基)を部分構造として有する基を少なくとも1つ有することを特徴とする(1)〜(3)のいずれか1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
(5)少なくとも1種の造核剤を含有することを特徴とする(1)〜(4)のいずれか1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
(6)少なくとも1種の造核促進剤を含有することを特徴とする(5)項に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
(7)(1)〜(6)のいずれか1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料を、画像露光後、pH9.0〜pH11.0の現像液を用いて現像処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
【0008】
【発明の実施の形態】
次に、本発明に用いられる一般式(1)で表される化合物について詳しく説明する。
一般式(1)においてZは、ベンゼン環上に置換しうる任意の置換基を表す。
任意の置換基としては、例えばハロゲン原子(フッ素原子、クロル原子、臭素原子、または沃素原子)、アルキル基(アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えばピリジニオ基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基またはその塩、スルホニルカルバモイル基、アシルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、チオカルバモイル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)アミノ基、N−置換の含窒素ヘテロ環基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イミド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、4級のアンモニオ基、オキサモイルアミノ基、(アルキルもしくはアリール)スルホニルウレイド基、アシルウレイド基、アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メルカプト基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、(アルキルまたはアリール)スルフィニル基、スルファモイル基、アシルスルファモイル基、スルホニルスルファモイル基またはその塩、スルホ基またはその塩、リン酸アミドもしくはリン酸エステル構造を含む基、等が挙げられる。
【0009】
これら置換基は、これら置換基でさらに置換されていてもよい。
一般式(1)においてphで表されるフェニル基は、少なくとも1つの解離性基を直接もしくは間接的に置換基として有する。ここに解離性基とは、アルカリ性の現像液中において解離しうる酸性度の低いプロトンを有する基もしくは部分構造、あるいはまたその塩のことで、本発明においては、カルボキシ基(−COOH)、ホスホン酸基(−PO3H)、リン酸基(−OPO3H)、少なくとも1つの電子吸引性基を置換基として有するアリールスルホンアミド基、アルキルスルホンアミド基、スルファモイル基、アシルスルファモイル基、カルバモイルスルファモイル基、スルホニルウレイド基、スルホニルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル基、アシルカルバモイル基、スルホニルスルファモイル基、活性メチレン基、またはこれらの塩である。
従って、スルホ基(−SO3H)、メルカプト基(−SH)、含窒素ヘテロ環基に内在する−NH−基、ヒドロキシ基(−OH基)は含まれない。なお、アリールスルホンアミド基は、上記のように少なくとも1つの電子吸引性基を置換基として有するベンゼンスルホンアミド基に限られる。ここで電子吸引性基とは、ベンゼンスルホンアミド基のベンゼン環のオルト位またはパラ位の置換基についてはハメットの置換基定数σp値が正の値を取る置換基を意味し、ベンゼン環のメタ位の置換基についてはσm値が正の値を取る置換基を意味する。ここでσpが正の値を取る置換基とは具体的に、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシル基、シアノ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、ニトロ基、チオウレイド基、スルホンアミド基、イミド基、複数のハロゲン原子で置換されたアルキル基(−CF3基等)等が挙げられ、またσmが正の値を取る置換基とは、σpが正の値を取る置換基として挙げた例と同じものが挙げられる他に、アシルアミノ基、ウレイド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、アルコキシ基、アリールオキシ基等が挙げられる。これら電子吸引性基は該ベンゼン環に2つ以上置換していてもよく、また該ベンゼン環は電子吸引性基以外の任意の置換基を有していてもよい。
【0010】
解離性基が活性メチレン基を表す時、活性メチレン基とは2つまたは3つの電子吸引性基に挟まれたメチレン基もしくはメチン基を意味し、電子吸引性基とはハメットの置換基定数σpが正の値を取りうる原子団で、具体的には上述の説明の通りである。2つまたは3つの電子吸引性基は互いに結合して環状構造をとっていてもよい。
なお本発明において、解離性基の塩とは具体的に、ナトリウムカチオン、カリウムカチオン、リチウムカチオン、マグネシウムカチオン、テトラブチルアンモニウムカチオン等の、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、有機アンモニウムイオン、有機ホスホニウムイオンなどが挙げられる。
【0011】
一般式(1)においてph基が、間接的に少なくとも1つの解離性基を有する場合とは、解離性基が2価もしくはそれ以上の連結基を介して、ph基に置換されている場合を言う。ここに2価もしくはそれ以上の連結基とは、具体的に次の一般式で表される。
{(*)m−L1}n−L2−**
ここにL1はアルキレン基またはフェニレン基を表し、L2は、−O−,−N(RN)−,−S−,−C(=O)−,−SO2−,−SO−,−C(=S)−,−P(=O)−の単独、もしくはこれらの基の組み合わせからなる基を表し、RNは水素原子、一価のアルキル基または一価のアリール基を表す。*は解離性基との結合位置を示し、**は一般式(1)のph基との結合位置を示す。mは1または2、nは1または2を表す。L1またはRNで表される基は、任意の置換基を有していてもよく、具体的には一般式(1)のZで表される基について説明した置換基と同じものが挙げられる。
【0012】
一般式(1)においてph基は、置換基として、解離性基もしくは解離性基を含む置換基以外に、同時に任意の置換基を有していてもよく、ここに任意の置換基とは、具体的には一般式(1)のZで表される置換基について説明した置換基と同じものが挙げられる。
一般式(1)においてPUGで表される含窒素ヘテロ環基とは、窒素原子を有し、窒素原子を介して隣接するカルボニル基と結合する、pKa値9〜11を与える含窒素ヘテロ環基で、その置換基として少なくとも1つのニトロ基を直接もしくは間接的に有する含窒素ヘテロ環基である。
ここにpKa値とは、アセトニトリルおよび水の1:1混合溶液を溶媒として、酸−塩基規定によりpHメーターで求められるpKa値である。
一般式(1)においてPUGで表される含窒素ヘテロ環基とは、5員〜7員の、芳香族もしくは非芳香族の、単環もしくは縮環の、含窒素ヘテロ環基で、そのヘテロ環を具体的に挙げれば、ベンゾトリアゾール類、ベンズイミダゾール類、インダゾール類、フタルイミド類、コハク酸イミド類、ヒダントイン類、ウラゾール類、o-スルホベンツイミド類、イサチン類等を挙げることが出来る。
一般式(1)においてPUGで表される含窒素ヘテロ環基が、その置換基として少なくとも1つのニトロ基を間接的に有する時、ニトロ基とPUGで表される含窒素ヘテロ環基とを連結する置換基としては、少なくとも1つのアリーレン基を含む2価の連結基を表し、アルキレン基,−O−、−N(RN')−、−S−、−C(=O)−、−SO2−、−SO−、−C(=S)−、−P(=O)−の単独、もしくはこれらの基の組み合わせからなる基を含んでいてもよい。ここにRN'は水素原子、一価のアルキル基または一価のアリール基を表す。
【0013】
次に本発明に用いられる一般式(1)で表される化合物の、好ましい範囲について述べる。
一般式(1)においてZの好ましい例としては、アルキル基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、イミド基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、スルファモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。
一般式(1)においてpは、好ましくは0または1、より好ましくは0である。
一般式(1)においてph基が有する解離性基として好ましくは、カルボキシ基(−COOH)、アリールスルホンアミド基、アルキルスルホンアミド基、スルファモイル基、アシルスルファモイル基、カルバモイルスルファモイル基、スルホニルウレイド基、スルホニルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル基、アシルカルバモイル基、スルホニルスルファモイル基、活性メチレン基、またはこれらの塩である。
特に好ましくは、カルボキシ基またはその塩、アリールスルホンアミド基、スルホニルウレイド基、スルホニルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル基である。
ここでアリールスルホンアミド基は、少なくとも1つの電子吸引性基を置換基として有するベンゼンスルホンアミド基に限られるが、ここで電子吸引性基として好ましくは、ベンゼンスルホンアミド基のベンゼン環のオルト位またはパラ位の置換基については具体的に、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、スルファモイル基、ニトロ基、チオウレイド基、スルホンアミド基、イミド基、複数のハロゲン原子で置換されたアルキル基(−CF3基等)等が挙げられ、メタ位の置換基については、オルト位またはパラ位の置換基として挙げたものの他に、アシルアミノ基、ウレイド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルコキシ基、等が挙げられる。
【0014】
一般式(1)においてph基が、2価もしくはそれ以上の連結基を介して、間接的に少なくとも1つの解離性基を有する場合に、その連結基として好ましい例を挙げると、*−アルキレン基−CONH−、*−アルキレン基−NHCONH−、*−アルキレン基−SO2NH−、*−アルキレン基−NHSO2NH−、*−アルキレン基−NHCO−、*−アルキレン基−OCO−、*−フェニレン基−CONH−、*−フェニレン基−NHCONH−、*−フェニレン基−SO2NH−、*−フェニレン基−NHCO−、*−フェニレン基−NHSO2NH−、*−フェニレン基−OCO−、等が挙げられる。ここに*は解離性基との結合位置を表す。
【0015】
一般式(1)においてPUGで表されるヘテロ環基は、好ましくはpKa値9.5〜11.0の値を与えうるヘテロ環基で、さらに好ましくはpKa値9.8〜10.8の値を与えうるヘテロ環基である。
一般式(1)においてPUGで表されるヘテロ環基として好ましくは、ベンズイミダゾール類、インダゾール類、ベンゾトリアゾール類である。
一般式(1)においてPUGで表されるヘテロ環基に、ニトロ基が間接的に置換している場合には、少なくとも1つのニトロ基が置換したフェニル基が、単結合もしくは2価の連結基を介して、該ヘテロ環基に連結されていることが好ましい。その連結基としては、−NHCO−、−NHCONH−、−O−アルキレン−、−NHSO2−、−O−、−S−、−S−アルキレン−、等の連結基が好ましい。
一般式(1)においてPUGがベンゾトリアゾール類を表す時、ニトロ基は間接的に置換していることが好ましく、さらには少なくとも1つのニトロ基が置換したフェニル基が、Btr−NHCO−、Btr−NHCONH−、Btr−O−アルキレン−、Btr−NHSO2−、Btr−O−、Btr−S−、Btr−S−アルキレン−、等の連結基を介して連結されていることが好ましい。ここでBtrはベンゾトリアゾール類との置換位置を表す。
【0016】
一般式(1)においてPUGで表されるヘテロ環基としては、インダゾール類が特に好ましい。さらには1つのニトロ基と、ニトロ基以外の1つもしくは2つの電子吸引性の置換基が、同時に直接置換されたインダゾール類が特に好ましい。この場合、インダゾール類に直接置換して、pKa9〜11を与えうる、ニトロ基以外の電子吸引性の置換基とは具体的に、ハロゲン原子(塩素原子、臭素原子、フッ素原子、ヨウ素原子)、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、シアノ基、カルバモイル基、トリフルオロメチル基、カルボキシ基、スルホ基またはその塩、アシル基、ホルミル基等が挙げられる。中でも、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、カルバモイル基がより好ましく、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基が特に好ましく、アルコキシカルボニル基(特にメトキシカルボニル基)が最も好ましい。
【0017】
本発明に用いられる一般式(1)で表される化合物は、その中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基またはポリマーが組み込まれているものでもよい。特にバラスト基が含まれているものは、本発明の好ましい例の一つである。本発明においてバラスト基とは、6以上の炭素数を有する、直鎖もしくは分岐のアルキル基(またはアルキレン基)を部分構造として有する基のことで、アルコキシ基(またはアルキレンオキシ基)、アルキルアミノ基(またはアルキレンアミノ基)、アルキルチオ基(またはアルキレンチオ基)であってもよい。さらに好ましくは炭素数9以上で炭素数24以下の、直鎖もしくは分岐の、アルキル基(またはアルキレン基)を部分構造として有する基である。
バラスト基は、一般式(1)で表される化合物の何処に置換されていても良いが、好ましくはphで表される基に直接もしくは間接的に置換されていることが好ましい。
またポリマーとしては、例えば特開平1−100530号に記載のものが挙げられる。
【0018】
一般式(1)で表される化合物は、その中にカチオン性基(具体的には、4級のアンモニオ基を含む基、4級化されたリン原子を含む基、または4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基等)、エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基が含まれていてもよい。これらの基が含まれる例としては、例えば特開平7−234471号、特開平5−333466号、特開平6−19032号、特開平6−19031号、特開平5−45761号、米国特許4994365号、米国特許4988604号、特開平7−259240号、特開平7−5610号、特開平7−244348号、独特許4006032号等に記載の化合物が挙げられる。
一般式(1)で表される化合物に、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基が含まれているものは、本発明の好ましい例の一つである。一般式(1)で表される化合物に、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基が含まれる時、一般式(1)のphで表される基に、直接または間接的に置換されていることが好ましい。
【0019】
一般式(1)で表される化合物は、ハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の基が組み込まれていてもよい。かかる吸着基としては、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオ尿素基、チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基などの米国特許第4,385,108号、同4,459,347号、特開昭59−195233号、同59−200231号、同59−201045号、同59−201046号、同59−201047号、同59−201048号、同59−201049号、特開昭61−170733号、同61−270744号、同62−948号、同63−234244号、同63−234245号、同63−234246号に記載された基があげられる。またこれらハロゲン化銀への吸着基は、プレカーサー化されていてもよい。その様なプレカーサーとしては、特開平2−285344号に記載された基が挙げられる。
以下に一般式(1)で表される化合物を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0020】
【表1】
【0021】
【表2】
【0022】
【表3】
【0023】
【表4】
【0024】
【表5】
【0025】
【表6】
【0026】
本発明に用いられる化合物は公知の方法によって容易に合成することが可能である。これらの合成法は、例えば、特許第2632056号、特許第2725088号等に記載されている方法を参考にして、合成することが出来るが、以下にその具体例を記載する。
【0027】
合成例1(例示化合物1の合成)
例示化合物1は、スキーム1にしたがって合成した。
【0028】
【化3】
【0029】
1)合成中間体−1の合成
合成中間体−1は、J. Chem. Soc. Perkin I 2593(1979)に記載の方法に従って合成した。
【0030】
2)合成中間体−2の合成
合成中間体−1(450g、2.03mol)をジメチルアセトアミド4リットル、アセトニトリル4リットルとトリエチルアミン297mlの混合溶媒に溶解した。この反応溶液を0℃に冷却し、クロロギ酸−4−ニトロフェニル(430g、2.13mol)をアセトニトリル2リットルに溶かした溶液を滴下した。滴下終了後5℃で30分攪拌した後、希塩酸4.5リットルを加え反応を停止するとともに生成物を析出させた。析出した固体をろ取し、アセトニトリルと水の1対1混合液で洗浄した後、乾燥すると合成中間体−2が収量740g(収率94%)で得られた。
【0031】
3)合成中間体−5の合成
3‐クロロスルホニル安息香酸クロライド(35.4g、0.148mol)をトルエン130mlに溶解し、1‐デカノール(23.4g、0.148mol)を添加後0℃以下に冷却し、トリエチルアミン(20.6ml、0.148mol)のトルエン溶液(100ml)を滴下した。25℃で2時間反応させた後、ろ過しろ液を減圧濃縮した。ここで得られた粗生成物をヘキサンに溶解し活性炭処理を行った後、減圧濃縮し淡黄色液体の45gの合成中間体−3(収率84%)を得た。
合成中間体‐4(38.2g、0.125mol)をジメチルアセトアミド30ml、アセトニトリル60ml、ピリジン11.1mlを加え溶解した。この溶液に−5℃で合成中間体‐3(45g、0.125mol)の酢酸エチル溶液を滴下し、滴下終了後室温に昇温し1時間攪拌した。希塩酸を加え反応を停止し、酢酸エチルで抽出操作を行った。有機層を食塩水で洗浄し硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮して合成中間体‐5を非晶質で褐色の物質として得た。
【0032】
4)例示化合物1の合成
合成中間体‐5(30.3g、0.048mol)と1,5-ナフタレンジスルホン酸4水和物(17.3g、0.048mol)をアセトニトリル40mlとイソプロパノール40mlの混合溶液に溶解し、50℃で2時間過熱攪拌した。ここで得られた溶液を10℃に冷却し、ジメチルアセトアミド80mlを添加し、さらに合成中間体‐2(16.7g、0.043mol)を加えた。この反応溶液にトリエチルアミン13.4ml続いてピリジン3.5mlを滴下した後、2時間攪拌した。この反応混合物を希塩酸で処理し、酢酸エチルで抽出、濃縮操作を行い、粗生成物を得た。この粗生成物をメタノールからの再結晶により精製し、例示化合物1、(20.4g、収率50%)を得た。
【0033】
合成例2(例示化合物3の合成)
【0034】
【化4】
【0035】
1)合成中間体−6の合成
合成中間体−6はJ. Org. Chem. 44, 4609(1979)に記載の方法に従って合成した。
【0036】
2)合成中間体‐7の合成
合成例1における合成中間体‐1の代わりに合成中間体‐6を用いた他は、合成例1と全く同様の操作を行うことにより、合成中間体−7を合成することができた。
【0037】
3)例示化合物‐3の合成
合成例1における合成中間体‐2の代わりに合成中間体‐7を用いた他は、合成例1と全く同様の操作を行うことにより、例示化合物3を合成することができた。
【0038】
本発明において一般式(1)で表されるレドックス化合物は、ハロゲン化銀1モルあたり1×10-6〜5×10-2モル、より好ましくは1×10-5〜1×10-2モルの範囲内で用いられる。また、2種類以上のレドックス化合物を併用して使用することもできる。本発明において一般式(1)で表されるレドックス化合物は、適当な水混和性有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用いることができる。
また、既に良く知られている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成して用いることもできる。あるいは固体分散法として知られている方法によって、レドックス化合物の粉末を水の中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波によって分散して用いることもできる。
【0039】
本発明において一般式(1)で表されるレドックス化合物は、ハロゲン化銀乳剤層、またはその他の親水性コロイド層に添加される。また、複数のハロゲン化銀乳剤層のうちの少なくとも一層に添加しても良い。
いくつかの構成例をあげるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
構成例 1) 支持体の上に、本発明において一般式(1)で表されるレドックス化合物を含むハロゲン化銀乳剤層と保護層を有する。これらの乳剤層、又は保護層に造核剤として以下に示すヒドラジン誘導体を含んでも良い。
構成例 2) 支持体の上に、順に、第1のハロゲン化銀乳剤層と第2のハロゲン化銀乳剤層を有し、第1のハロゲン化銀乳剤層、もしくは隣接する親水性コロイド層に、該ヒドラジン誘導体を含み、第2のハロゲン化銀乳剤層、もしくは隣接する親水性コロイド層に該レドックス化合物を含む。
構成例 3) 構成例 2)で2つの乳剤層の順が逆の構成である。
構成例 2)と 3)においては、2つの感光性乳剤層の間に、ゼラチンや合成ポリマー(ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコールなど)を含む中間層を設けても良い。
構成例 4) 支持体上に、該ヒドラジン誘導体を含むハロゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層の上、もしくは、支持体とハロゲン化銀乳剤層との間に、該レドックス化合物を含む親水性コロイド層を有する。
特に好ましい構成は、構成例 2) または 3) である。
【0040】
本発明においては、少なくとも一種の造核剤を含有することが好ましい。造核剤としては、一般式(D)で表わされるヒドラジン誘導体が好ましい。
一般式(D)
【0041】
【化5】
【0042】
式中、R20は脂肪族基、芳香族基、またはヘテロ環基を表し、R10は水素原子またはブロック基を表し、G10は−CO−,−COCO−,−C(=S)−,−SO2−,−SO−,−PO(R30)−基(R30はR10に定義した基と同じ範囲内より選ばれ、R10と異なっていてもよい。),またはイミノメチレン基を表す。A10、A20はともに水素原子、あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、または置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、または置換もしくは無置換のアシル基を表す。
【0043】
一般式(D)において、R20で表わされる脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30の置換もしくは無置換の、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基である。
一般式(D)において、R20で表わされる芳香族基は単環もしくは縮合環のアリール基で、例えばベンゼン環、ナフタレン環が挙げられる。R20で表わされるヘテロ環基としては、単環または縮合環の、飽和もしくは不飽和の、芳香族または非芳香族のヘテロ環基で、例えば、ピリジン環、ピリミジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キノリン環、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、ピペリジン環、トリアジン環等が挙げられる。R20として好ましいものはアリール基であり、特に好ましくはフェニル基である。
【0044】
R20は置換されていてもよく、代表的な置換基としては例えばハロゲン原子(フッ素原子、クロル原子、臭素原子、または沃素原子)、アルキル基(アラルキル基、シクロアルキル基、活性メチン基等を含む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基(例えばピリジニオ基)、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基またはその塩、スルホニルカルバモイル基、アシルカルバモイル基、スルファモイルカルバモイル基、カルバゾイル基、オキサリル基、オキサモイル基、シアノ基、チオカルバモイル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルオキシ基、カルバモイルオキシ基、スルホニルオキシ基、アミノ基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)アミノ基、N−置換の含窒素ヘテロ環基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド基、イソチオウレイド基、イミド基、(アルコキシもしくはアリールオキシ)カルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、4級のアンモニオ基、オキサモイルアミノ基、(アルキルもしくはアリール)スルホニルウレイド基、アシルウレイド基、N−アシルスルファモイルアミノ基、ニトロ基、メルカプト基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、(アルキルまたはアリール)スルフィニル基、スルホ基またはその塩、スルファモイル基、N−アシルスルファモイル基、スルホニルスルファモイル基またはその塩、リン酸アミドもしくはリン酸エステル構造を含む基、等が挙げられる。
これら置換基は、これらの置換基でさらに置換されていてもよい。
【0045】
R20が有していてもよい置換基として好ましくは、炭素数1〜30のアルキル基(活性メチレン基を含む)、アラルキル基、ヘテロ環基、置換アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、イミド基、チオウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基(その塩を含む)、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、スルホ基(その塩を含む)、スルファモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。
【0046】
一般式(D)において、R10は水素原子またはブロック基を表すが、ブロック基とは具体的に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基またはヒドラジノ基を表す。
【0047】
R10で表わされるアルキル基として好ましくは、炭素数1〜10のアルキル基であり、例えばメチル基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基,2−カルボキシテトラフルオロエチル基,ピリジニオメチル基、ジフルオロメトキシメチル基、ジフルオロカルボキシメチル基、3−ヒドロキシプロピル基、メタンスルホンアミドメチル基、ベンゼンスルホンアミドメチル基、ヒドロキシメチル基、メトキシメチル基、メチルチオメチル基、フェニルスルホニルメチル基、o−ヒドロキシベンジル基などが挙げられる。アルケニル基として好ましくは炭素数1から10のアルケニル基であり、例えばビニル基、2,2−ジシアノビニル基、2−エトキシカルボニルビニル基、2−トリフルオロ−2−メトキシカルボニルビニル基等が挙げられる。アルキニル基として好ましくは炭素数1から10のアルキニル基であり、例えばエチニル基、2−メトキシカルボニルエチニル基等が挙げられる。アリール基としては単環もしくは縮合環のアリール基が好ましく、ベンゼン環を含むものが特に好ましい。例えばフェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、2−メタンスルホンアミドフェニル基、2−カルバモイルフェニル基、4−シアノフェニル基、2−ヒドロキシメチルフェニル基などが挙げられる。
ヘテロ環基として好ましくは、少なくとも1つの窒素、酸素、および硫黄原子を含む5〜6員の、飽和もしくは不飽和の、単環もしくは縮合環のヘテロ環基で、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基であってもよく、例えばモルホリノ基、ピペリジノ基(N−置換)、ピペラジノ基、イミダゾリル基、インダゾリル基(4−ニトロインダゾリル基等)、ピラゾリル基、トリアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、テトラゾリル基、ピリジル基、ピリジニオ基(N−メチル−3−ピリジニオ基等)、キノリニオ基、キノリル基などがある。モルホリノ基、ピペリジノ基、ピリジル基、ピリジニオ基等が特に好ましい。
【0048】
アルコキシ基としては炭素数1〜8のアルコキシ基が好ましく、例えばメトキシ基、2−ヒドロキシエトキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。アリールオキシ基としてはフェノキシ基が好ましく、アミノ基としては無置換アミノ基、及び炭素数1〜10のアルキルアミノ基、アリールアミノ基、または飽和もしくは不飽和のヘテロ環アミノ基(4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基を含む)が好ましい。アミノ基の例としては、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イルアミノ基、プロピルアミノ基、2−ヒドロキシエチルアミノ基、アニリノ基,o−ヒドロキシアニリノ基、5−ベンゾトリアゾリルアミノ基、N−ベンジル−3−ピリジニオアミノ基等が挙げられる。ヒドラジノ基としては置換もしくは無置換のヒドラジノ基、または置換もしくは無置換のフェニルヒドラジノ基(4−ベンゼンスルホンアミドフェニルヒドラジノ基など)が特に好ましい。
【0049】
R10で表される基は置換されていても良く、好ましい置換基としてはR20の置換基として例示したものがあてはまる。
【0050】
一般式(D)に於いてR10はG10−R10の部分を残余分子から***させ、−G10−R10部分の原子を含む環式構造を生成させる環化反応を生起するようなものであってもよく、その例としては、例えば特開昭63−29751号などに記載のものが挙げられる。
【0051】
一般式(D)で表されるヒドラジン誘導体は、ハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の基が組み込まれていてもよい。かかる吸着基としては、アルキルチオ基、アリールチオ基、チオ尿素基、チオアミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基などの米国特許第4,385,108号、同4,459,347号、特開昭59−195233号、同59−200231号、同59−201045号、同59−201046号、同59−201047号、同59−201048号、同59−201049号、特開昭61−170733号、同61−270744号、同62−948号、同63−234244号、同63−234245号、同63−234246号に記載された基があげられる。またこれらハロゲン化銀への吸着基は、プレカーサー化されていてもよい。その様なプレカーサーとしては、特開平2−285344号に記載された基が挙げられる。
【0052】
一般式(D)のR10またはR20はその中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用されているバラスト基またはポリマーが組み込まれているものでもよい。本発明においてバラスト基とは、6以上の炭素数を有する、直鎖もしくは分岐の、アルキル基(またはアルキレン基)、アルコキシ基(またはアルキレンオキシ基)、アルキルアミノ基(またはアルキレンアミノ基)、アルキルチオ基、あるいはこれらを部分構造として有する基を表し、さらに好ましくは炭素数7以上で炭素数24以下の、直鎖もしくは分岐の、アルキル基(またはアルキレン基)、アルコキシ基(またはアルキレンオキシ基)、アルキルアミノ基(またはアルキレンアミノ基)、アルキルチオ基、あるいはこれらを部分構造として有する基を表す。またポリマーとしては、例えば特開平1−100530号に記載のものが挙げられる。
【0053】
一般式(D)のR10またはR20は、置換基としてヒドラジノ基を複数個含んでいてもよく、この時一般式(D)で表される化合物は、ヒドラジノ基に関しての多量体を表し、具体的には例えば特開昭64-86134号、特開平4-16938号、特開平5-197091号、WO95−32452号、WO95−32453号、特開平9-179229号、特開平9-235264号、特開平9-235265号、特開平9-235266号、特開平9-235267号等に記載された化合物が挙げられる。
【0054】
一般式(D)のR10またはR20は、その中に、カチオン性基(具体的には、4級のアンモニオ基を含む基、4級化されたリン原子を含む基、または4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基等)、エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、あるいは解離性基(アルカリ性の現像液で解離しうる酸性度の低いプロトンを有する基もしくは部分構造、あるいはまたその塩を意味し、具体的には、例えばカルボキシ基/−COOH、スルホ基/−SO3H、ホスホン酸基/−PO3H、リン酸基/−OPO3H、ヒドロキシ基/−OH基、メルカプト基/−SH、−SO2NH2基、N−置換のスルホンアミド基/−SO2NH−基、−CONHSO2−基、−CONHSO2NH−基、−NHCONHSO2−基、−SO2NHSO2−基、−CONHCO−基、活性メチレン基、含窒素ヘテロ環基に内在する−NH−基、またはこれらの塩等)が含まれていてもよい。これらの基が含まれる例としては、例えば特開平7−234471号、特開平5−333466号、特開平6−19032号、特開平6−19031号、特開平5−45761号、米国特許4994365号、米国特許4988604号、特開平7−259240号、特開平7−5610号、特開平7−244348号、独特許4006032号、特開平11−7093号等に記載の化合物が挙げられる。
【0055】
一般式(D)に於いてA10、A20は水素原子、炭素数20以下のアルキルまたはアリールスルホニル基(好ましくはフェニルスルホニル基、又はハメットの置換基定数の和が−0.5以上となるように置換されたフェニルスルホニル基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイル基、又はハメットの置換基定数の和が−0.5以上となるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖、分岐、又は環状の置換もしくは無置換の脂肪族アシル基(ここに置換基としては、例えばハロゲン原子、エーテル基、スルホンアミド基、カルボンアミド基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基等が挙げられる))である。A10、A20としては水素原子が最も好ましい。
【0056】
次に本発明において、特に好ましいヒドラジン誘導体について述べる。
R20は置換フェニル基が特に好ましく、置換基としてはスルホンアミド基、アシルアミノ基、ウレイド基、カルバモイル基、チオウレイド基、イソチオウレイド基、スルファモイルアミノ基、N−アシルスルファモイルアミノ基等が特に好ましく、さらにスルホンアミド基、ウレイド基が好ましく、スルホンアミド基が最も好ましい。
一般式(D)で表されるヒドラジン誘導体は、R20またはR10に、置換基として、直接または間接的に、バラスト基、ハロゲン化銀への吸着基、4級のアンモニオ基を含む基、4級化された窒素原子を含む含窒素ヘテロ環基、エチレンオキシ基の繰り返し単位を含む基、(アルキル,アリール,またはヘテロ環)チオ基、アルカリ性の現像処理液中で解離しうる解離性基、もしくは多量体を形成しうるヒドラジノ基(−NHNH−G10−R10で表される基)の少なくとも1つが置換されていることが特に好ましい。さらには、R20の置換基として、直接または間接的に、前述の何れか1つの基を有することが好ましく、最も好ましいのは、R20がベンゼンスルホンアミド基で置換されたフェニル基を表し、そのベンゼンスルホンアミド基のベンゼン環上の置換基として、直接または間接的に、前述の何れか1つの基を有する場合である。
【0057】
R10で表わされる基のうち好ましいものは、G10が−CO−基の場合には、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、またはヘテロ環基であり、さらに好ましくは水素原子、アルキル基、置換アリール基(置換基としては電子吸引性基またはo−ヒドロキシメチル基が特に好ましい)であり、最も好ましくは水素原子またはアルキル基である。
G10が−COCO−基の場合にはアルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ基が好ましく、特に置換アミノ基、詳しくはアルキルアミノ基、アリールアミノ基、または飽和もしくは不飽和のヘテロ環アミノ基が好ましい。
またG10が−SO2−基の場合には、R10はアルキル基、アリール基または置換アミノ基が好ましい。
一般式(D)に於いてG10は好ましくは−CO−基または−COCO−基であり、特に好ましくは−CO−基である。
【0058】
次に一般式(D)で示される化合物の具体例を以下に示す。ただし、本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
【0059】
【表7】
【0060】
【表8】
【0061】
【表9】
【0062】
【表10】
【0063】
【表11】
【0064】
【表12】
【0065】
【表13】
【0066】
【表14】
【0067】
【表15】
【0068】
【表16】
【0069】
【化6】
【0070】
本発明に用いられるヒドラジン誘導体としては、上記のものの他に、下記のヒドラジン誘導体も好ましく用いられる。本発明に用いられるヒドラジン誘導体はまた、下記の特許に記載された種々の方法により、合成することができる。
【0071】
特公平6−77138号に記載の(化1)で表される化合物で、具体的には同公報3頁、4頁に記載の化合物。特公平6−93082号に記載の一般式(I)で表される化合物で、具体的には同公報8頁〜18頁に記載の1〜38の化合物。特開平6−230497号に記載の一般式(4)、一般式(5)および一般式(6)で表される化合物で、具体的には同公報25頁、26頁に記載の化合物4−1〜化合物4−10、28頁〜36頁に記載の化合物5−1〜5−42、および39頁、40頁に記載の化合物6−1〜化合物6−7。特開平6−289520号に記載の一般式(1)および一般式(2)で表される化合物で、具体的には同公報5頁〜7頁に記載の化合物1−1)〜1−17)および2−1)。特開平6−313936号に記載の(化2)および(化3)で表される化合物で、具体的には同公報6頁〜19頁に記載の化合物。特開平6−313951号に記載の(化1)で表される化合物で、具体的には同公報3頁〜5頁に記載の化合物。特開平7−5610号に記載の一般式(I)で表される化合物で、具体的には同公報5頁〜10頁に記載の化合物I−1〜I−38。特開平7−77783号に記載の一般式(II)で表される化合物で、具体的には同公報10頁〜27頁に記載の化合物II−1〜II−102。特開平7−104426号に記載の一般式(H)および一般式(Ha)で表される化合物で、具体的には同公報8頁〜15頁に記載の化合物H−1〜H−44。特開平9−22082号に記載の、ヒドラジン基の近傍にアニオン性基またはヒドラジンの水素原子と分子内水素結合を形成するノニオン性基を有することを特徴とする化合物で、特に一般式(A),一般式(B),一般式(C),一般式(D),一般式(E),一般式(F)で表される化合物で,具体的には同公報に記載の化合物N−1〜N−30。特開平9−22082号に記載の一般式(1)で表される化合物で、具体的には同公報に記載の化合物D−1〜D−55。この他、WO95−32452号、WO95−32453号、特開平9−179229号、特開平9−235264号、特開平9−235265号、特開平9−235266号、特開平9−235267号、特開平9−319019号、特開平9−319020号、特開平10−130275号、特開平11−7093号、特開平6−332096号、特開平7−209789号、特開平8−6193号、特開平8−248549号、特開平8−248550号、特開平8−262609号、特開平8−314044号、特開平8−328184号、特開平9−80667号、特開平9−127632号、特開平9−146208号、特開平9−160156号、特開平10−161260号、特開平10−221800号、特開平10−213871号、特開平10−254082号、特開平10−254088号、特開平7−120864号、特開平7−244348号、特開平7−333773号、特開平8−36232号、特開平8−36233号、特開平8−36234号、特開平8−36235号、特開平8−272022号、特開平9−22083号、特開平9−22084号、特開平9−54381号、特開平10−175946号、記載のヒドラジン誘導体。
【0072】
本発明においてヒドラジン系造核剤は、適当な水混和性有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用いることができる。
また、既によく知られている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製して用いることができる。あるいは固体分散法として知られている方法によって、ヒドラジン誘導体の粉末を水の中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波によって分散し用いることができる。
【0073】
本発明においてヒドラジン造核剤は、支持体に対してハロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層、あるいは他の親水性コロイド層のどの層に添加してもよいが、該ハロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する親水性コロイド層に添加することが好ましい。また、2種類以上のヒドラジン造核剤を併用して使用することもできる。
本発明において造核剤添加量はハロゲン化銀1モルに対し1×10-5〜1×10-2モルが好ましく、1×10-5〜5×10-3モルがより好ましく、2×10-5〜5×10-3モルが最も好ましい。
【0074】
本発明においては、感光材料中に造核促進剤を内蔵することが好ましい。本発明に用いられる造核促進剤としては、アミン誘導体、オニウム塩、ジスルフィド誘導体またはヒドロキシメチル誘導体などが挙げられる。以下にその例を列挙する。特開平7−77783号公報48頁2行〜37行に記載の化合物で、具体的には49頁〜58頁に記載の化合物A−1)〜A−73)。特開平7−84331号に記載の(化21)、(化22)および(化23)で表される化合物で、具体的には同公報6頁〜8頁に記載の化合物。特開平7−104426号に記載の一般式〔Na〕および一般式〔Nb〕で表される化合物で、具体的には同公報16頁〜20頁に記載のNa−1〜Na−22の化合物およびNb−1〜Nb−12の化合物。特開平8−272023号に記載の一般式(1)、一般式(2)、一般式(3)、一般式(4)、一般式(5)、一般式(6)および一般式(7)で表される化合物で、具体的には同明細書に記載の1−1〜1−19の化合物、2−1〜2−22の化合物、3−1〜3−36の化合物、4−1〜4−5の化合物、5−1〜5−41の化合物、6−1〜6−58の化合物、および7−1〜7−38の化合物。特開平9−297377号のp55,カラム108の8行〜p69,カラム136の44行までに記載の造核促進剤。
【0075】
本発明に用いられる造核促進剤としては、一般式(E)、(F)、(G)、または(H)で表されるオニウム塩化合物が最も好ましい。
まず、一般式(E)について、詳細に説明する。
【0076】
【化7】
【0077】
式中、R10、R20、R30はアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基を表わし、これらはさらに置換基を有していてもよく、また互いに結合して環状構造を形成していてもよい。Qは窒素原子およびリン原子を表す。
LはQ+とLに含まれる炭素原子で結合するm価の有機基を表わし、ここにmは1から4の整数を表す。Xn-はn価の対アニオンを表わし、nは1から3の整数を表す。但しR10、R20、R30またはLが、その置換基にアニオン基を有し、Q+と分子内塩を形成する場合、Xn-は必要ない。
【0078】
R10、R20、R30で表わされる基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基などの直鎖又は分枝状のアルキル基;置換もしくは無置換のベンジル基などのアラルキル基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基;フェニル基、ナフチル基、フエナントリル基などのアリール基;アリル基、ビニル基、5−ヘキセニル基、などのアルケニル基;シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基などのシクロアルケニル基;フェニルエチニル基等のアルキニル基;ピリジル基、キノリル基、フリル基、イミダゾリル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、モルホリル基、ピリミジル基、ピロリジル基などのヘテロ環基が挙げられる。
これらの基上に置換した置換基の例としては、R10、R20、R30で表わされる基の他に、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、(アルキルもしくはアリール)アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、(アルキル又はアリール)チオ基、カルボンアミド基、カルバモイル基、ウレイド基、チオウレイド基、スルホニルウレイド基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ヒドロキシル基、スルホニル基、カルボキシル基(カルボキシラートを含む)、スルホ基(スルホナートを含む)、シアノ基、オキシカルボニル基、アシル基、ヘテロ環基(4級化された窒素原子を含むヘテロ環基を含む)等が挙げられる。これら置換基はこれら置換基でさらに置換されていてもよい。
【0079】
Lで表わされる基の例としては、mが1を表す時、R10、R20、R30と同義の基が挙げられる。mが2以上の整数を表す時、LはLに含まれる炭素原子でQ+と結合するm価の連結基を表し、具体的には、アルキレン基、アリーレン基、ヘテロ環基、さらにはこれらの基と−CO−基、−O−基、−N(RN)−基、−S−基、−SO−基、−SO2−基を組みあわせて形成されるm価の連結基を表す(RNは水素原子またはR10、R20、R30と同義の基を表わし、分子内に複数のRNが存在する時、これらは同じであっても異なっていても良く、さらには互いに結合していても良い)。Lは任意の置換基を有していてもよく、その置換基としては、R10、R20、R30で表わされる基が有していてもよい置換基と同じものが挙げられる。
【0080】
Xn-で表わされる対アニオンの例としては、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなどのハロゲンイオン、アセテートイオン、オキサレートイオン、フマレートイオン、ベンゾエートイオンなどのカルボキシレートイオン、p−トルエンスルホネート、メタンスルホネート、ブタンスルホネート、ベンゼンスルホネートなどのスルホネートイオン、硫酸イオン、過塩素酸イオン、炭酸イオン、硝酸イオン等が挙げられる。
【0081】
一般式(E)において、R10、R20、R30は、好ましくは炭素数20以下の基であり、Qがリン原子を表す時、炭素数15以下のアリール基が特に好ましく、Qが窒素原子を表す時、炭素数15以下のアルキル基、アラルキル基、アリール基が特に好ましい。mは1または2が好ましく、mが1を表わす時、Lは好ましくは炭素数20以下の基であり、総炭素数15以下のアルキル基、アラルキル基、またはアリール基が特に好ましい。mが2を表わす時、Lで表わされる2価の有機基は、好ましくはアルキレン基、アリーレン基、さらにはこれらの基と−CO−基、−O−基、−N(RN)−基、−S−基、−SO2−基を組みあわせて形成される2価の基である。mが2を表わす時、LはLに含まれる炭素原子でQ+と結合する総炭素数20以下の2価の基であることが好ましい。
なおLがエチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を複数個(具体的には2〜67)含む場合も好ましい例の1つであるが、この場合、以上述べた総炭素数の好ましい範囲は、この限りではない。またmが2以上の整数を表わす時、分子内にR10、R20、R30はそれぞれ複数存在するが、その複数のR10、R20、R30はそれぞれ同じであっても異なっていても良い。
Xn-で表わされる対アニオンとしては、ハロゲンイオン、カルボキシレートイオン、スルホネートイオン、硫酸イオンが好ましく、nは1または2が好ましい。
【0082】
本発明に用いられる一般式(E)で表わされる化合物の多くのものは公知であり、試薬として市販のものである。一般的合成法としては、Qがリン原子の時、ホスフィン酸類をハロゲン化アルキル類、スルホン酸エステルなどのアルキル化剤と反応させる方法:あるいはホスホニウム塩類の対陰イオンを常法により交換する方法がある。またQが窒素原子の時、1級,2級,もしくは3級のアミノ化合物をハロゲン化アルキル類、スルホン酸エステル等のアルキル化剤と反応させる方法がある。
一般式(E)で表わされる化合物の具体例を以下に示す。但し、本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
【0083】
【化8】
【0084】
【化9】
【0085】
【化10】
【0086】
【化11】
【0087】
【化12】
【0088】
【化13】
【0089】
【化14】
【0090】
次に一般式(F)および一般式(G)について詳細に説明する。
【0091】
【化15】
【0092】
式中、A1,A2,A3,A4は4級化された窒素原子を含む、置換もしくは無置換の不飽和ヘテロ環を完成させるための有機残基を表わし、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子および水素原子を含んでもよく、更にベンゼン環が縮環してもかまわない。B,Cは二価の連結基を表し、R1、R2は置換基を表す。Xn-で表わされる対アニオンについては、一般式(E)と同じものであり、その好ましい範囲もまた同じである。
【0093】
A1,A2,A3,A4が形成する不飽和ヘテロ環の例としては、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、イミダゾール環、チアゾール環、チアジアゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾチアゾール環、ピリミジン環、ピラゾール環などを挙げることができる。特に好ましくは、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環である。
A1,A2,A3,A4が4級化された窒素原子と共に形成する不飽和ヘテロ環は、置換基を有していてもよい。この場合の置換基の例としては、一般式(E)のR10、R20、R30で表わされる基が有していてもよい置換基と同じものが挙げられる。置換基として好ましくは、ハロゲン原子(特にクロロ原子)、炭素数20以下のアリール基(特にフェニル基が好ましい)、アルキル基、カルバモイル基、(アルキルもしくはアリール)アミノ基、オキシカルボニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、(アルキルもしくはアリール)チオ基、ヒドロキシ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、スルホ基(スルホナートを含む)、カルボキシル基(カルボキシラートを含む)等が挙げられる。特に好ましくは、フェニル基、アルキルアミノ基、カルボンアミド基、クロロ原子等である。
【0094】
B、Cで表わされる2価の連結基は、アルキレン、アリーレン、アルケニレン、アルキニレン、2価のヘテロ環基、−SO2−、−SO−、−O−、−S−、−N(RN’)−、−C=O−、−P=O−を単独または組合せて構成されるものが好ましい。ただしRN’はアルキル基、アラルキル基、アリール基、水素原子を表わし、好ましくは水素原子である。B、Cで表わされる2価の連結基は任意の置換基を有していてもよい。置換基の例としては、一般式(E)のR10、R20、R30で表わされる基が有していてもよい置換基と同じものが挙げられる。B、Cの特に好ましい例として、アルキレン、アリーレン、−C=O−、−O−、−S−、−SO2−、−N(RN’)−を単独または組合せて構成されるものを挙げることができる。ここでこれらの基の組み合わせにより、結果として、エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を複数個(具体的には2〜67)持つ連結基となる場合もまた好ましい例である。或いはまた、これらの基の組み合わせによるか、もしくは置換基として、B、Cで表される基が、親水性基を含む場合もまた好ましい例の一つである。ここで親水性基とは、−CONH−基、−NHCONH−基、−SO2NH−基、−NHSO2NH−基、アミノ基、グアニジノ基、アンモニオ基、4級化された窒素原子を含むヘテロ環基、および解離性基(アルカリ性の現像液で解離しうる酸性度の低いプロトンを有する基もしくは部分構造、あるいはまたその塩を意味し、具体的には、例えばカルボキシ基/−COOH、スルホ基/−SO3H、ホスホン酸基/−PO3H、リン酸基/−OPO3H、ヒドロキシ基/−OH基、メルカプト基/−SH、−SO2NH2基、N−置換のスルホンアミド基/−SO2NH−基、−CONHSO2−基、−SO2NHSO2−基、−CONHCO−基、活性メチレン基、含窒素ヘテロ環基に内在する−NH−基、またはこれらの塩)等のことである。
【0095】
R1、R2は炭素数1〜20のアルキル基またはアラルキル基が好ましく、各々同じでも異なっていてもよい。アルキル基に置換基が置換してもよく、置換基としては、一般式(E)のR10、R20、R30で表わされる基が有していてもよい置換基と同じものが挙げられる。特に好ましくは、R1、R2は各々炭素数1〜10のアルキル基またはアラルキル基である。その好ましい置換基の例としては、カルバモイル基、オキシカルボニル基、アシル基、アリール基、スルホ基(スルホナートを含む)、カルボキシル基(カルボキシラートを含む)、ヒドロキシ基、(アルキルまたはアリール)アミノ基を挙げることができる。
【0096】
本発明に用いられる化合物は、一般によく知られた方法により容易に合成することができるが、以下の文献が参考になる。(参照、Quart.Rev., 16,163(1962).)
一般式(F)及び一般式(G)の具体的化合物を以下に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0097】
【化16】
【0098】
【化17】
【0099】
【化18】
【0100】
【化19】
【0101】
【化20】
【0102】
【化21】
【0103】
次に一般式(H)について詳細に説明する。
【0104】
【化22】
【0105】
式中Zは4級化された窒素原子と共に不飽和ヘテロ環を形成しうる有機残基を表し、R3は置換基を表す。Xn-で表わされる対アニオンについては、一般式(E)と同じものであり、その好ましい範囲もまた同じである。
Zを含む含窒素不飽和ヘテロ環は、窒素原子の他に炭素原子、水素原子、酸素原子、硫黄原子を含んでもよく、さらにベンゼン環が縮環していてもよく、また置換基を有していてもよい。形成されるヘテロ環の例としては、一般式(F)および一般式(G)のA1,A2,A3,A4が形成する含窒素不飽和ヘテロ環の例と同じものが挙げられる。好ましい範囲もまた同じであり、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環が好ましい。
Zを含む含窒素不飽和ヘテロ環が置換基を有する時、その置換基の例は一般式(F)および一般式(G)のA1,A2,A3,A4が形成する含窒素不飽和ヘテロ環が有していてもよい置換基の例と同じものが挙げられ、好ましい範囲もまた同じである。
【0106】
R3は好ましくはアルキル基またはアラルキル基を表し、これらは炭素数1〜20で、置換もしくは無置換で、さらに直鎖もしくは分枝、或いは環状であってもよい。その置換基としては、一般式(F)のR1,R2で表されるアルキル基が有していてもよい置換基の例と同じものが挙げられ、好ましい範囲もまた同じであるが、特に好ましくは、カルバモイル基、オキシカルボニル基、アシル基、アリール基、スルホ基(スルホナートを含む)、カルボキシ基(カルボキシラートを含む)、(アルキルまたはアリール)アミノ基である。R3がエチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を複数個(具体的には2〜67)含む場合もまた好ましい例である。
【0107】
本発明に用いられる一般式(H)で表される化合物は、一般によく知られた方法により容易に合成することができるが、以下の文献が参考になる。(参照、Quart.Rev., 16,163(1962).)
次に本発明に用いられる一般式(H)で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0108】
【化23】
【0109】
【化24】
【0110】
【化25】
【0111】
本発明において造核促進剤は、適当な水混和性有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解して用いることができる。
また、既によく知られている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作製して用いることができる。あるいは固体分散法として知られている方法によって、造核促進剤の粉末を水の中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波によって分散し用いることができる。
【0112】
本発明において造核促進剤は、支持体に対してハロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層、あるいは他の親水性コロイド層のどの層に添加してもよいが、該ハロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する親水性コロイド層に添加することが好ましい。
本発明に用いられる造核促進剤の添加量はハロゲン化銀1モルに対し1×10-6〜2×10-2モルが好ましく、1×10-5〜2×10-2モルがより好ましく、2×10-5〜1×10-2モルが最も好ましい。また、2種類以上の造核促進剤を併用して使用することもできる。
【0113】
本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いるハロゲン化銀乳剤はハロゲン化銀として特に制限はなく、塩化銀、塩臭化銀、臭化銀、沃塩臭化銀、沃臭化銀を用いることができるが、塩化銀50モル%以上を含有する塩臭化銀、沃塩臭化銀が好ましい。ハロゲン化銀粒子の形状は、立方体、十四面体、八面体、不定型、板状いずれでも良いが、立方体が好ましい。ハロゲン化銀の平均粒径は0.1μm〜0.7μmが好ましいが、より好ましくは0.1〜0.5μmであり、{(粒径の標準偏差)/(平均粒径)}×100で表される変動係数が15%以下、より好ましくは10%以下の粒径分布の狭いものが好ましい。
ハロゲン化銀粒子は内部と表層が均一な相からなっていても異なっていても良い。また粒子内部あるいは表面にハロゲン組成の異なる局在層を有していても良い。
本発明に用いられる写真乳剤は、P. Glafkides著 Chimie et Physique Photographique (Paul Montel社刊、1967年)、G. F. Dufin著 Photographic Emulsion Chemistry (The Forcal Press刊、1966年)、V. L. Zelikman et al著 Making and Coating Photographic Emulsion (The Forcal Press刊、1964年) などに記載された方法を用いて調製することができる。
すなわち、酸性法、中性法等のいずれでもよく、又、可溶性銀塩と可溶性ハロゲン塩を反応させる方法としては、片側混合法、同時混合法、それらの組み合わせなどのいずれを用いても良い。粒子を銀イオン過剰の下において形成させる方法(いわゆる逆混合法)を用いることもできる。
【0114】
同時混合法の一つの形式としてハロゲン化銀の生成される液相中のpAgを一定に保つ方法、すなわち、いわゆるコントロールド・ダブルジェット法を用いることもできる。またアンモニア、チオエーテル、四置換チオ尿素等のいわゆるハロゲン化銀溶剤を使用して粒子形成させることが好ましい。より好ましくは四置換チオ尿素化合物であり、特開昭53−82408号、同55−77737号に記載されている。好ましいチオ尿素化合物はテトラメチルチオ尿素、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジンチオンである。ハロゲン化銀溶剤の添加量は用いる化合物の種類および目的とする粒子サイズ、ハロゲン組成により異なるが、ハロゲン化銀1モルあたり10-5〜10-2モルが好ましい。
【0115】
コントロールド・ダブルジェット法およびハロゲン化銀溶剤を使用した粒子形成方法では、結晶型が規則的で粒子サイズ分布の狭いハロゲン化銀乳剤を作るのが容易であり、本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤を作るのに有用な手段である。
また、粒子サイズを均一にするためには、英国特許第1,535,016号、特公昭48−36890号、同52−16364号に記載されているように、硝酸銀やハロゲン化アルカリの添加速度を粒子成長速度に応じて変化させる方法や、英国特許第4,242,445号、特開昭55−158124号に記載されているように水溶液の濃度を変化させる方法を用いて、臨界飽和度を越えない範囲において早く成長させることが好ましい。
【0116】
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、VIII族に属する金属を含有してもよい。特に、高コントラスト及び低カブリを達成するために、ロジウム化合物、イリジウム化合物、ルテニウム化合物などを含有することが好ましい。また、高感度化のためにはK4[Fe(CN)6]やK4[Ru(CN)6]、K3[Cr(CN)6]のごとき六シアノ化金属錯体のドープが有利に行われる。
本発明に用いられるロジウム化合物として、水溶性ロジウム化合物を用いることができる。たとえば、ハロゲン化ロジウム(III)化合物、またはロジウム錯塩で配位子としてハロゲン、アミン類、オキザラト、アコ等を持つもの、たとえば、ヘキサクロロロジウム(III) 錯塩、ペンタクロロアコロジウム錯塩、テトラクロロジアコロジウム錯塩、ヘキサブロモロジウム(III) 錯塩、ヘキサアミンロジウム(III) 錯塩、トリザラトロジウム(III) 錯塩等が挙げられる。これらのロジウム化合物は、水あるいは適当な溶媒に溶解して用いられるが、ロジウム化合物の溶液を安定化させるために一般によく行われる方法、すなわち、ハロゲン化水素水溶液(たとえば塩酸、臭酸、フッ酸等)、あるいはハロゲン化アルカリ(たとえばKCl、NaCl、KBr、NaBr等)を添加する方法を用いることができる。水溶性ロジウムを用いる代わりにハロゲン化銀調製時に、あらかじめロジウムをドープしてある別のハロゲン化銀粒子を添加して溶解させることも可能である。
【0117】
本発明に用いられるレニウム、ルテニウム、オスミニウムは特開昭63−2042号、特開平1−285941号、同2−20852号、同2−20855号等に記載された水溶性錯塩の形で添加される。特に好ましいものとして、以下の式で示される六配位錯体が挙げられる。
〔ML6 〕n-
ここでMはRu、Re、またはOsを表し、Lは配位子、nは0、1、2、3または4を表す。この場合、対イオンは重要性を持たず、アンモニウムもしくはアルカリ金属イオンが用いられる。また好ましい配位子としてはハロゲン化物配位子、シアン化物配位子、シアン酸化物配位子、ニトロシル配位子、チオニトロシル配位子等が挙げられる。以下に本発明に用いられる具体的錯体の例を示すが、本発明はこれに限定されるものではない。
【0118】
〔ReCl6〕3- 〔ReBr6〕3- 〔ReCl5(NO)〕2-
〔Re(NS)Br5〕2- 〔Re(NO)(CN)5〕2- 〔Re(O)2(CN)4〕3-
〔RuCl6〕3- 〔RuCl4(H2O)2〕1- 〔RuCl5(NO)〕2-
〔RuBr5(NS)〕2- 〔Ru(CO)3Cl3〕2-
〔Ru(CO)Cl5〕2- 〔Ru(CO)Br5〕2-
〔OsCl6〕3- 〔OsCl5(NO)〕2- 〔Os(NO)(CN)5〕2-
〔Os(NS)Br5〕2- 〔Os(CN)6〕4- 〔Os(O)2(CN)4〕4-
【0119】
これらの化合物の添加量はハロゲン化銀1モル当り1×10-9モル〜1×10-5モルの範囲が好ましく、特に好ましくは1×10-8モル〜1×10-6モルである。
本発明に用いられるイリジウム化合物としては、ヘキサクロロイリジウム、ヘキサブロモイリジウム、ヘキサアンミンイリジウム、ペンタクロロニトロシルイリジウム等が挙げられる。本発明に用いられる鉄化合物としては、ヘキサシアノ鉄(II)酸カリウム、チオシアン酸第一鉄が挙げられる。
【0120】
本発明においてハロゲン化銀乳剤は化学増感されることが好ましい。化学増感の方法としては、硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法、貴金属増感法などの知られている方法を用いることができ、単独または組み合わせて用いられる。組み合わせて使用する場合には、例えば、硫黄増感法と金増感法、硫黄増感法とセレン増感法と金増感法、硫黄増感法とテルル増感法と金増感法などが好ましい。
本発明に用いられる硫黄増感は、通常、硫黄増感剤を添加して、40℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌することにより行われる。硫黄増感剤としては公知の化合物を使用することができ、例えば、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物のほか、種々の硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾール類、ローダニン類等を用いることができる。好ましい硫黄化合物は、チオ硫酸塩、チオ尿素化合物である。硫黄増感剤の添加量は、化学熟成時のpH、温度、ハロゲン化銀粒子の大きさなどの種々の条件の下で変化するが、ハロゲン化銀1モル当り10-7〜10-2モルであり、より好ましくは10-5〜10-3モルである。
【0121】
本発明に用いられるセレン増感剤としては、公知のセレン化合物を用いることができる。すなわち、通常、不安定型および/または非不安定型セレン化合物を添加して40℃以上の高温で乳剤を一定時間攪拌することにより行われる。不安定型セレン化合物としては特公昭44−15748号、同43−13489号、特開平4−109240号、同4−324855号等に記載の化合物を用いることができる。特に特開平4−324855号中の一般式(VIII) および(IX)で示される化合物を用いることが好ましい。
【0122】
本発明に用いられるテルル増感剤は、ハロゲン化銀粒子表面または内部に、増感核になると推定されるテルル化銀を生成せしめる化合物である。ハロゲン化銀乳剤中のテルル化銀生成速度については特開平5−313284号に記載の方法で試験することができる。
具体的には、米国特許第1,623,499号、同第3,320,069号、同第3,772,031号、英国特許第235,211号、同第1,121,496号、同第1,295,462号、同第1,396,696号、カナダ特許第800,958号、特開平4−204640号、同4−271341号、同4−333043号、同5−303157号、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティー・ケミカル・コミュニケーション(J.Chem.Soc.Chem.Commun.)635(1980),ibid 1102(1979),ibid 645(1979)、ジャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティー・パーキン・トランザクション(J.Chem.Soc.Perkin.Trans.) 1,2191(1980)、S.パタイ(S.Patai) 編、ザ・ケミストリー・オブ・オーガニック・セレニウム・アンド・テルリウム・カンパウンズ(The Chemistry of Organic Serenium and Tellunium Compounds),Vol 1(1986)、同 Vol 2(1987)に記載の化合物を用いることができる。特に特開平4−324855号中の一般式(II)(III)(IV) で示される化合物が好ましい。
【0123】
本発明で用いられるセレンおよびテルル増感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学熟成条件等によって変わるが、一般にハロゲン化銀1モル当たり10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜10-3モル程度を用いる。本発明における化学増感の条件としては特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAgとしては6〜11、好ましくは7〜10であり、温度としては40〜95℃、好ましくは45〜85℃である。
本発明に用いられる貴金属増感剤としては、金、白金、パラジウム、イリジウム等が挙げられるが、特に金増感が好ましい。本発明に用いられる金増感剤としては具体的には、塩化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムオーリチオシアネート、硫化金などが挙げられ、ハロゲン化銀1モル当たり10-7〜10-2モル程度を用いることができる。
本発明に用いるハロゲン化銀乳剤にはハロゲン化銀粒子の形成または物理熟成の過程においてカドミウム塩、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩などを共存させてもよい。
本発明においては、還元増感を用いることができる。還元増感剤としては第一スズ塩、アミン類、ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用いることができる。
本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤は、欧州公開特許(EP)−293,917に示される方法により、チオスルホン酸化合物を添加してもよい。
本発明に用いられる感光材料中のハロゲン化銀乳剤は、一種だけでもよいし、二種以上(例えば、平均粒子サイズの異なるもの、ハロゲン組成の異なるもの、晶癖の異なるもの、化学増感の条件の異なるもの、感度の異なるもの)併用してもよい。中でも高コントラストを得るためには、特開平6−324426号に記載されているように、支持体に近いほど高感度な乳剤を塗布することが好ましい。
【0124】
本発明に用いられる感光性ハロゲン化銀乳剤は、増感色素によって比較的長波長の青色光、緑色光、赤色光または赤外光に分光増感されてもよいが、吸収極大波長を450nm〜600nmに有する分光増感色素によって分光増感されていることが好ましい。さらに、特開昭55−45015号に記載の一般式〔I〕の化合物、および、特開平9−160185号に記載の一般式〔I〕の化合物が好ましく、特に、特開平9−160185号に記載の一般式〔I〕の化合物が好ましい。具体的には、特開昭55−45015号に記載の(1)から(19)の化合物、特開平9−160185号に記載のI−1からI−40の化合物およびI−56からI−85の化合物などを挙げることができる。
【0125】
その他の増感色素としては、シアニン色素、メロシアニン色素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロホーラーシアニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソノール色素等を用いることができる。
本発明に使用されるその他の有用な増感色素は例えばRESEARCH DISCLOSURE Item17643IV−A項(1978年12月p.23)、同Item18341X項(1979年8月p.437)に記載もしくは引用された文献に記載されている。特に各種スキャナー、イメージセッターや製版カメラの光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素も有利に選択することができる。
例えば、A)アルゴンレーザー光源に対しては、特開昭60−162247号に記載の(I)−1から(I)−8の化合物、特開平2−48653号に記載のI−1からI−28の化合物、特開平4−330434号に記載のI−1からI−13の化合物、米国特許2,161,331号に記載のExample1からExample14の化合物、***特許936,071号記載の1から7の化合物、B)ヘリウム−ネオンレーザー光源に対しては、特開昭54−18726号に記載のI−1からI−38の化合物、特開平6−75322号に記載のI−1からI−35の化合物および特開平7−287338号に記載のI−1からI−34の化合物、C)LED光源に対しては特公昭55−39818号に記載の色素1から20、特開昭62−284343号に記載のI−1からI−37の化合物および特開平7−287338号に記載のI−1からI−34の化合物、D)半導体レーザー光源に対しては特開昭59−191032号に記載のI−1からI−12の化合物、特開昭60−80841号に記載のI−1からI−22の化合物、特開平4−335342号に記載のI−1からI−29の化合物および特開昭59−192242号に記載のI−1からI−18の化合物、E)製版カメラのタングステンおよびキセノン光源に対しては、上記記載の化合物の他に特開平9−160185号に記載のI−41からI−55の化合物およびI−86からI−97の化合物および特開平6−242547号に記載の4−Aから4−Sの化合物、5−Aから5−Qの化合物、6−Aから6−Tの化合物なども有利に選択することができる。
【0126】
これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組合せを用いてもよく、増感色素の組合せは特に、強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。
有用な増感色素、強色増感を示す色素の組合せ及び強色増感を示す物質はリサーチ・ディスクロージャ(Research Disclosure)176巻17643(1978年12月発行)第23頁IVのJ項、あるいは前述の特公昭49−25500号、同43−4933号、特開昭59−19032号、同59−192242号等に記載されている。
【0127】
本発明に用いられる増感色素は2種以上を併用してもよい。増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加せしめるには、それらを直接乳剤中に分散してもよいし、あるいは水、メタノール、エタノール、プロパノール、アセトン、メチルセルソルブ、2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール、2,2,2−トリフルオロエタノール、3−メトキシ−1−プロパノール、3−メトキシ−1−ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノール、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒の単独もしくは混合溶媒に溶解して乳剤に添加してもよい。
また、米国特許第3,469,987号明細書等に開示されているように、色素を揮発性の有機溶剤に溶解し、該溶液を水または親水性コロイド中に分散し、この分散物を乳剤中へ添加する方法、特公昭44−23389号、同44−27555号、同57−22091号等に開示されているように、色素を酸に溶解し、該溶液を乳剤中に添加したり、酸または塩基を共存させて水溶液として乳剤中へ添加する方法、米国特許第3,822,135号、同第4,006,025号明細書等に開示されているように界面活性剤を共存させて水溶液あるいはコロイド分散物としたものを乳剤中に添加する方法、特開昭53−102733号、同58−105141号に開示されているように親水性コロイド中に色素を直接分散させ、その分散物を乳剤中に添加する方法、特開昭51−74624号に開示されているように、レッドシフトさせる化合物を用いて色素を溶解し、該溶液を乳剤中へ添加する方法を用いることもできる。また、溶液に超音波を用いることもできる。
【0128】
本発明において増感色素を本発明に用いられるハロゲン化銀乳剤中に添加する時期は、これまで有用であることが認められている乳剤調製のいかなる工程中であってもよい。例えば米国特許第2,735,766号、同第3,628,960号、同第4,183,756号、同第4,225,666号、特開昭58−184142号、同60−196749号等の明細書に開示されているように、ハロゲン化銀の粒子形成工程または/および脱塩前の時期、脱銀工程中および/または脱塩後から化学熟成の開始前までの時期、特開昭58−113920号等の明細書に開示されているように、化学熟成の直前または工程中の時期、化学熟成後、塗布までの時期の乳剤が塗布される前ならばいかなる時期、工程において添加されてもよい。また、米国特許第4,225,666号、特開昭58−7629号等の明細書に開示されているように、同一化合物を単独で、または異種構造の化合物と組み合わせて、例えば粒子形成工程中と化学熟成工程中または化学熟成完了後とに分けたり、化学熟成の前または工程中と完了後とに分けるなどして分割して添加してもよく、分割して添加する化合物および化合物の組み合わせの種類を変えて添加してもよい。
【0129】
本発明において増感色素の添加量は、ハロゲン化銀粒子の形状、サイズ、ハロゲン組成、化学増感の方法と程度、カブリ防止剤の種類等により異なるが、ハロゲン化銀1モルあたり、4×10-6〜8×10-3モルで用いることができる。例えばハロゲン化銀粒子サイズが0.2〜1.3μmの場合には、ハロゲン化銀粒子の表面積1m2あたり、2×10-7〜3.5×10-6モルの添加量が好ましく、6.5×10-7〜2.0×10-6モルの添加量がより好ましい。
本発明の感光材料に用いられる各種添加剤に関しては、特に制限はなく、例えば下記箇所に記載されたものを好ましく用いることができる。
【0130】
特開平3−39948号公報第10頁右下11行目から同公報第12頁左下5行目に記載のポリヒドロキシベンゼン化合物。具体的には、同公報に記載の化合物(III)−1〜25の化合物。
特開平1−118832号公報に記載の一般式(I)で表される実質的には可視域に吸収極大を持たない化合物。具体的には、同公報に記載の化合物I−1〜I−26の化合物。
特開平2−103536号公報第17頁右下19行目から同公報18頁右上4行目に記載のかぶり防止剤。
特開平2−103536号公報第18頁左下12行目から同頁左下20行目に記載のポリマーラテックス。特開平9−179228号に記載の一般式(I)で表される活性メチレン基を有するポリマーラテックスで、具体的には同明細書に記載の化合物I−1〜I−16。特開平9−179228号に記載のコア/シェル構造を有するポリマーラテックスで、具体的には同明細書に記載の化合物P−1〜P−55。特開平7−104413号公報第14頁左1行目から同頁右30行目に記載の酸性ポリマーラテックスで、具体的には同公報15頁に記載の化合物II-1)〜II-9)。
特開平2−103536号公報第19頁左上15行目から同公報19頁右上15行目に記載のマット剤、滑り剤、可塑剤。
特開平2−103536号公報第18頁右上5行目から同頁右上17行目に記載の硬膜剤。
特開平2−103536号公報第18頁右下6行目から同公報19頁左上1行目に記載の酸基を有する化合物。
【0131】
特開平2−18542号公報第2頁左下13行目から同公報第3頁右上7行目に記載の導電性物質。具体的には、同公報第2頁右下2行目から同頁右下10行目に記載の金属酸化物、および同公報に記載の化合物P−1〜P−7の導電性高分子化合物。
特開平2−103536号公報第17頁右下1行目から同頁右上18行目に記載の水溶性染料。
特開平9−179243号記載の一般式(FA)、一般式(FA1)、一般式(FA2)、一般式(FA3)で表される固体分散染料。具体的には同公報記載の化合物F1〜F34、特開平7−152112号記載の(II−2)〜(II−24)、特開平7−152112号記載の(III−5)〜(III−18)、特開平7−152112号記載の(IV−2)〜(IV−7)。特開平2−294638号公報及び特開平5−11382号に記載の固体分散染料。
特開平2−12236号公報第9頁右上7行目から同頁右下3行目に記載の界面活性剤。特開平2−103536号公報第18頁左下4行目から同頁左下7行目に記載のPEG系界面活性剤。特開平3−39948号公報第12頁左下6行目から同公報第13頁右下5行目に記載の含弗素界面活性剤。具体的には、同公報に記載の化合物VI−1〜VI−15の化合物。
特開平2−18542号公報第3頁右下1行目から20行目に記載のバインダー。
【0132】
本発明のハロゲン化銀写真感光材料の乳剤層及び保護層を含めた親水性コロイド層の膨潤率は80〜150%の範囲が好ましく、より好ましくは90〜140%の範囲である。親水性コロイド層の膨潤率は、ハロゲン化銀写真感光材料における乳剤層及び保護層を含めた親水性コロイド層の厚み(d0)を測定し、該ハロゲン化銀写真感光材料を25℃の蒸留水に1分間浸漬し、膨潤した厚み(Δd)を測定し、膨潤率(%)=Δd÷d0×100の計算式によって求める。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料のハロゲン化銀乳剤層が塗布されている側の膜面pHは4.5〜7.5の範囲であり、好ましくは4.8〜7.0であり、特に好ましくは5.0〜6.0である。
【0133】
本発明の実施に際して用いうる支持体としては、例えばバライタ紙、ポリエチレン被覆紙、ポリプロピレン合成紙、ガラス板、セルロースアセテート、セルロースナイトレート、例えばポリエチレンテレフタレートなどのポリエステルフイルムを挙げることができる。これらの支持体は、それぞれハロゲン化銀写真感光材料の使用目的に応じて適宜選択される。
また、特開平7−234478号、及びUS558979号に記載のシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体からなる支持体も好ましく用いられる。
【0134】
以下に本発明における現像液、定着液などの処理剤および処理方法等について述べるが、言うまでもなく本発明は以下の記述および具体例に限定されるものではない。
本発明の現像処理には、公知の方法のいずれを用いることもできるし、現像処理液には公知のものを用いることができる。
【0135】
本発明に使用する現像液(以下、現像開始液および現像補充液の双方をまとめて現像液という。)に用いる現像主薬には特別な制限はないが、ジヒドロキシベンゼン類や、アスコルビン酸誘導体、ハイドロキノンモノスルホン酸塩を含むことが好ましく、単独使用でも併用でも良い。特に、ジヒドロキシベンゼン系現像主薬およびこれと超加成性を示す補助現像主薬を含有することが好ましく、ジヒドロキシベンゼン類やアスコルビン酸誘導体と1-フェニル-3-ピラゾリドン類の組み合わせ、またはジヒドロキシベンゼン類やアスコルビン酸誘導体とp-アミノフェノール類の組み合わせなどを挙げることができる。
本発明に用いる現像主薬としては、ジヒドロキシベンゼン現像主薬としてはハイドロキノン、クロロハイドロキノン、イソプロピルハイドロキノン、メチルハイドロキノンなどがあるが、特にハイドロキノンが好ましい。またアスコルビン酸誘導体現像主薬としては、アスコルビン酸およびイソアスコルビン酸とそれらの塩があるが、特にエリソルビン酸ナトリウムが素材コストの点から好ましい。
【0136】
本発明に用いる1-フェニル-3-ピラゾリドンまたはその誘導体の現像主薬としては、1-フェニル-3-ピラゾリドン、1-フェニル-4,4-ジメチル-3-ピラゾリドン、1-フェニル-4-メチル-4-ヒドロキシメチル-3-ピラゾリドンなどがある。
本発明に用いるp-アミノフェノール系現像主薬としてN-メチル−p-アミノフェノール、p-アミノフェノール、N-(β-ヒドロキシフェニル)-p-アミノフェノール、N-(4-ヒドロキシフェニル)グリシン、o−メトキシ−p−(N,N−ジメチルアミノ)フェノール、o−メトキシ−p−(N−メチルアミノ)フェノールなどがあるが、なかでもN-メチル-p-アミノフェノール、または特開平9-297377号および特開平9-297378号に記載のアミノフェノール類が好ましい。
【0137】
ジヒドロキシベンゼン系現像主薬は通常0.05モル/リットル〜0.8モル/リットルの量で用いられるのが好ましい。またジヒドロキシベンゼン類と1-フェニル-3-ピラゾリドン類もしくはp-アミノフェノール類の組み合わせを用いる場合には前者を0.05モル/リットル〜0.6モル/リットル、好ましくは0.10モル/リットル〜0.5モル/リットル、後者を0.06モル/リットル以下、好ましくは0.03モル/リットル〜0.003モル/リットルの量で用いるのが好ましい。
【0138】
アスコルビン酸誘導体現像主薬は、通常0.01モル/リットル〜0.5モル/リットルの量で用いられるのが好ましく、0.05モル/リットル〜0.3モル/リットルがより好ましい。またアスコルビン酸誘導体と1-フェニル-3-ピラゾリドン類もしくはp-アミノフェノール類の組み合わせを用いる場合にはアスコルビン酸誘導体を0.01モル/リットル〜0.5モル/リットル、1-フェニル-3-ピラゾリドン類もしくはp-アミノフェノール類を0.005モル/リットル〜0.2モル/リットルの量で用いるのが好ましい。
【0139】
本発明で感光材料を処理する際の現像液には、通常用いられる添加剤(たとえば現像主薬、アルカリ剤、pH緩衝剤、保恒剤、キレート剤等)を含有する事ができる。以下にこれらの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明で感光材料を現像処理する際の現像液に用いられる緩衝剤としては、炭酸塩、特開昭62-186259に記載のほう酸、特開昭60-93433に記載の糖類(たとえばサッカロース)、オキシム類(たとえばアセトオキシム)、フェノール類(たとえば5-スルホサリチル酸)、第3リン酸塩(たとえばナトリウム塩、カリウム塩)などが用いられ、好ましくは炭酸塩、ほう酸が用いられる。緩衝剤、特に炭酸塩の使用量は、好ましくは0.1モル/リットル以上、特に0.2〜1.5モル/リットルである。
【0140】
本発明に用いられる保恒剤としては亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなどがある。亜硫酸塩は0.2モル/リットル以上、特に0.3モル/リットル以上用いられるが、あまりに多量添加すると現像液中の銀汚れの原因になるので、上限は1.2モル/リットルとするのが望ましい。特に好ましくは、0.35〜0.7モル/リットルである。
ジヒドロキシベンゼン系現像主薬の保恒剤として、亜硫酸塩と併用して前記のアスコルビン酸誘導体を少量使用しても良い。なかでも素材コストの点からエリソルビン酸ナトリウムを用いることが好ましい。添加量はジヒドロキシベンゼン系現像主薬に対して、モル比で0.03〜0.12の範囲が好ましく、特に好ましくは0.05〜0.10の範囲である。保恒剤としてアスコルビン酸誘導体を使用する場合には現像液中にホウ素化合物を含まないことが好ましい。
【0141】
上記以外に用いられる添加剤としては、臭化ナトリウム、臭化カリウムのような現像抑制剤、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジメチルホルムアミドのような有機溶剤、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアルカノールアミン、イミダゾールまたはその誘導体等の現像促進剤、ヘテロ環メルカプト化合物(たとえば3-(5-メルカプトテトラゾール-1-イル)ベンゼンスルホン酸ナトリウム、1-フェニル-5-メルカプトテトラゾールなど)、特開昭62-212651に記載の化合物を物理現像ムラ防止剤として添加することもできる。
また、メルカプト系化合物、インダゾール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物をカブリ防止剤または黒ポツ(black pepper)防止剤として含んでも良い。具体的には、5-ニトロインダゾール、5-p-ニトロベンゾイルアミノインダゾール、1-メチル-5-ニトロインダゾール、6-ニトロインダゾール、3-メチル-5-ニトロインダゾール、5-ニトロベンゾイミダゾール、2-イソプロピル-5-ニトロベンゾイミダゾール、5-ニトロベンゾトリアゾール、4-((2-メルカプト-1,3,4-チアジアゾール-2-イル)チオ)ブタンスルホン酸ナトリウム、5-アミノ-1,3,4-チアジアゾール-2-チオール、メチルベンゾトリアゾール、5-メチルベンゾトリアゾール、2-メルカプトベンゾトリアゾールなどを挙げることができる。これらの添加剤の量は、通常現像液1リットルあたり0.01〜10ミリモルであり、より好ましくは0.1〜2ミリモルである。
【0142】
さらに本発明において現像液中には各種の有機、無機のキレート剤を単独または併用で用いることができる。
無機キレート剤としてはたとえば、テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸ナトリウムなどを用いることができる。
一方、有機キレート剤としては、主に有機カルボン酸、アミノポリカルボン酸、有機ホスホン酸、アミノホスホン酸および有機ホスホノカルボン酸を用いることができる。
有機カルボン酸としてはたとえば、アクリル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、グルコン酸、アジピン酸、ピメリン酸、アシエライン酸、セバチン酸、ノナンジカルボン酸、デカンジカルボン酸、ウンデカンジカルボン酸、マレイン酸、イタコン酸、リンゴ酸、クエン酸、酒石酸などを挙げることができる。
アミノポリカルボン酸としてはたとえば、イミノ二酢酸、ニトリロ三酢酸、ニトリロ三プロピオン酸、エチレンジアミンモノヒドロキシエチル三酢酸、エチレンジアミン四酢酸、グリコールエーテル四酢酸、1,2-ジアミノプロパン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、1,3-ジアミノ-2-プロパノール四酢酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、その他特開昭52-25632、同55-67747、同57-102624、および特公昭53-40900に記載の化合物を挙げることができる。
【0143】
有機ホスホン酸としては、たとえば米国特許3214454、同3794591および***特許公開2227369等に記載のヒドロキシアルキリデン−ジホスホン酸やリサーチ・ディスクロージャー第181巻,Item 18170(1979年5月号)等に記載の化合物が挙げられる。
アミノホスホン酸としては、たとえばアミノトリス(メチレンホスホン酸)、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸、アミノトリメチレンホスホン酸等が挙げられるが、その他上記リサーチ・ディスクロージャー18170、特開昭57-208554、同54-61125、同55-29883、同56-97347等に記載の化合物を挙げることができる。
有機ホスホノカルボン酸としては、たとえば特開昭52-102726、同53-42730、同54-121127、同55-4024、同55-4025、同55-126241、同55-65955、同55-65956および前述のリサーチ・ディスクロージャー18170等に記載の化合物を挙げることができる。
これらの有機および/または無機のキレート剤は、前述のものに限定されるものではない。また、アルカリ金属塩やアンモニウム塩の形で使用しても良い。これらのキレート剤の添加量としては、現像液1リットルあたり好ましくは、1×10-4〜1×10-1モル、より好ましくは1×10-3〜1×10-2モルである。
【0144】
さらに、現像液中に銀汚れ防止剤として、たとえば特開昭56-24347、特公昭56-46585、特公昭62-2849、特開平4-362942、特開平8-6215号に記載の化合物の他、メルカプト基を1つ以上有するトリアジン(たとえば特公平6-23830、特開平3-282457、特開平7-175178に記載の化合物)、同ピリミジン(たとえば2-メルカプトピリミジン、2,6-ジメルカプトピリミジン、2,4-ジメルカプトピリミジン、5,6-ジアミノ-2,4-ジメルカプトピリミジン、2,4,6-トリメルカプトピリミジン、特開平9-274289号記載の化合物など)、同ピリジン(たとえば2-メルカプトピリジン、2,6-ジメルカプトピリジン、3,5-ジメルカプトピリジン、2,4,6-トリメルカプトピリジン、特開平7-248587に記載の化合物など)、同ピラジン(たとえば2-メルカプトピラジン、2,6-ジメルカプトピラジン、2,3-ジメルカプトピラジン、2,3,5-トリメルカプトピラジンなど)、同ピリダジン(たとえば3-メルカプトピリダジン、3,4-ジメルカプトピリダジン、3,5-ジメルカプトピリダジン、3,4,6-トリメルカプトピリダジンなど)、特開平7-175177に記載の化合物、米国特許5457011に記載のポリオキシアルキルホスホン酸エステルなどを用いることができる。これらの銀汚れ防止剤は単独または複数の併用で用いることができ、添加量は現像液1Lあたり0.05〜10ミリモルが好ましく、0.1〜5ミリモルがより好ましい。
また、溶解助剤として特開昭61-267759記載の化合物を用いることができる。
さらに必要に応じて色調剤、界面活性剤、消泡剤、硬膜剤等を含んでも良い。
【0145】
現像液の好ましいpHは9.0〜12.0であり、特に好ましくは9.0〜11.0、さらに好ましくは9.5〜11.0の範囲である。pH調整に用いるアルカリ剤には通常の水溶性無機アルカリ金属塩(たとえば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等)を用いることができる。
現像液のカチオンとしては、ナトリウムイオンに比べてカリウムイオンの方が現像抑制をせず、またフリンジと呼ばれる黒化部のまわりのギザギザが少ない。さらに、濃縮液として保存する場合には一般にカリウム塩のほうが溶解度が高く好ましい。しかしながら、定着液においてはカリウムイオンは銀イオンと同程度に定着阻害をすることから、現像液のカリウムイオン濃度が高いと、感光材料により現像液が持ち込まれることにより定着液中のカリウムイオン濃度が高くなり、好ましくない。以上のことから現像液におけるカリウムイオンとナトリウムイオンのモル比率は20:80〜80:20の間であることが好ましい。カリウムイオンとナトリウムイオンの比率は、pH緩衝剤、pH調整剤、保恒剤、キレート剤などの対カチオンで、上記の範囲で任意に調整できる。
現像液の補充量は、感光材料1m2につき390ミリリットル以下であり、325〜30ミリリットルが好ましく、250〜120ミリリットルが最も好ましい。現像補充液は、現像開始液と同一の組成および/または濃度を有していても良いし、開始液と異なる組成および/または濃度を有していても良い。
【0146】
本発明における定着処理剤の定着剤としては、チオ硫酸アンモニウム、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸ナトリウムアンモニウムが使用できる。定着剤の使用量は適宜かえることができるが、一般には約0.7〜約3.0モル/リットルである。
本発明における定着液は、硬膜剤として作用する水溶性アルミニウム塩、水溶性クロム塩を含んでも良く、水溶性アルミニウム塩が好ましい。それにはたとえば塩化アルミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明礬、硫酸アルミニウムアンモニウム、硝酸アルミニウム、乳酸アルミニウムなどがある。これらは使用液におけるアルミニウムイオン濃度として、0.01〜0.15モル/リットルで含まれることが好ましい。
なお、定着液を濃縮液または固形剤として保存する場合、硬膜剤などを別パートとした複数のパーツで構成しても良いし、すべての成分を含む一剤型の構成としても良い。
【0147】
定着処理剤には所望により保恒剤(たとえば亜硫酸塩、重亜硫酸塩、メタ重亜硫酸塩などを0.015モル/リットル以上、好ましくは0.02モル/リットル〜0.3モル/リットル)、pH緩衝剤(たとえば酢酸、酢酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、リン酸、コハク酸、アジピン酸などを0.1モル/リットル〜1モル/リットル、好ましくは0.2モル/リットル〜0.7モル/リットル)、アルミニウム安定化能や硬水軟化能のある化合物(たとえばグルコン酸、イミノジ酢酸、5-スルホサリチル酸、グルコヘプタン酸、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸、シュウ酸、マレイン酸、グリコール酸、安息香酸、サリチル酸、タイロン、アスコルビン酸、グルタル酸、アスパラギン酸、グリシン、システイン、エチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸やこれらの誘導体およびこれらの塩、糖類、ほう酸などを0.001モル/リットル〜0.5モル/リットル、好ましくは0.005モル/リットル〜0.3モル/リットル)を含むことができる。
【0148】
このほか、特開昭62-78551に記載の化合物、pH調整剤(たとえば水酸化ナトリウム、アンモニア、硫酸など)、界面活性剤、湿潤剤、定着促進剤等も含むことができる。界面活性剤としては、たとえば硫酸化物スルフォン酸化物などのアニオン界面活性剤、ポリエチレン系界面活性剤、特開昭57-6840記載の両性界面活性剤が挙げられ、公知の消泡剤を使用することもできる。湿潤剤としては、アルカノールアミン、アルキレングリコール等がある。定着促進剤としては、特開平6-308681に記載のアルキルおよびアリル置換されたチオスルホン酸およびその塩や、特公昭45-35754、同58-122535、同58-122536記載のチオ尿素誘導体、分子内に3重結合を有するアルコール、米国特許4126459記載のチオエーテル化合物、特開昭64-4739、特開平1-4739、同1-159645および同3-101728に記載のメルカプト化合物、同4-170539に記載のメソイオン化合物、チオシアン酸塩を含むことができる。
【0149】
本発明における定着液のpHは、4.0以上、好ましくは4.5〜6.0を有する。定着液は処理により現像液が混入してpHが上昇するが、この場合、硬膜定着液では6.0以下好ましくは5.7以下であり、無硬膜定着液においては7.0以下好ましくは6.7以下である。
定着液の補充量は、感光材料1m2につき500ミリリットル以下であり、390ミリリットル以下が好ましく、320〜80ミリリットルがより好ましい。補充液は、開始液と同一の組成および/または濃度を有していても良いし、開始液と異なる組成および/または濃度を有していても良い。
定着液は電解銀回収などの公知の定着液再生方法により再生使用することができる。再生装置としては、たとえばフジハント社製Reclaim R-60(商品名)などがある。
また、活性炭などの吸着フィルターを使用して、色素などを除去することも好ましい。
【0150】
本発明における現像および定着処理剤が液剤の場合、たとえば特開昭61-73147に記載されたような、酸素透過性の低い包材で保管する事が好ましい。さらにこれらの液が濃縮液の場合、所定の濃度になるように、濃縮液1部に対して水0.2〜3部の割合で希釈して使用される。
本発明における現像処理剤及び定着処理剤は固形にしても液剤同様の結果が得られるが、以下に固形処理剤に関する記述を行う。
本発明における固形剤は、公知の形態(粉状、粒状、顆粒状、塊状、錠剤、コンパクター、ブリケット、板状、棒状、ペースト状など)が使用できる。これらの固形剤は、接触して互いに反応する成分を分離するために、水溶性のコーティング剤やフィルムで被覆しても良いし、複数の層構成にして互いに反応する成分を分離しても良く、これらを併用しても良い。
【0151】
被覆剤、造粒助剤には公知のものが使用できるが、ポリビニルピロリドン、ポリエチレングリコール、ポリスチレンスルホン酸、ビニル系化合物が好ましい。この他、特開平5-45805 カラム2の48行〜カラム3の13行目が参考にできる。
複数の層構成にする場合は、接触しても反応しない成分を互いに反応する成分の間にはさんだ構成にして錠剤やブリケット等に加工しても良いし、公知の形態の成分を同様の層構成にして包装しても良い。これらの方法は、たとえば特開昭61-259921、同4-16841、同4-78848、同5-93991等に示されている。
固形処理剤の嵩密度は、0.5〜6.0g/cm3が好ましく、特に錠剤は1.0〜5.0g/cm3が好ましく、顆粒は0.5〜1.5g/cm3が好ましい。
本発明における固形処理剤の製法は、公知のいずれの方法を用いることができる。たとえば、特開昭61-259921、特開平4-15641、特開平4-16841、同4-32837、同4-78848、同5-93991、特開平4-85533、同4-85534、同4-85535、同5-134362、同5-197070、同5-204098、同5-224361、同6-138604、同6-138605、同8-286329等を参考にすることができる。
より具体的には転動造粒法、押し出し造粒法、圧縮造粒法、解砕造粒法、撹拌造粒法、スプレードライ法、溶解凝固法、ブリケッティング法、ローラーコンパクティング法等を用いることができる。
【0152】
本発明における固形剤は、表面状態(平滑、多孔質等)や部分的に厚みを変えたり、中空状のドーナツ型にしたりして溶解性を調節することもできる。さらに、複数の造粒物に異なった溶解性を与えたり、溶解性の異なる素材の溶解度を合わせるために、複数の形状をとることも可能である。また、表面と内部で組成の異なる多層の造粒物でも良い。
固形剤の包材は、酸素および水分透過性の低い材質が好ましく、包材の形状は袋状、筒状、箱状などの公知のものが使用できる。また、特開平6-242585〜同6-242588、同6-247432、同6-247448、同6-301189、同7-5664、同7-5666〜同7-5669に開示されているような折り畳み可能な形状にすることも、廃包材の保管スペース削減のためには好ましい。これらの包材は、処理剤の取り出し口にスクリューキャップや、プルトップ、アルミシールをつけたり、包材をヒートシールしてもよいが、このほかの公知のものを使用しても良く、特に限定はしない。さらに環境保全上、廃包材をリサイクルまたはリユースすることが好ましい。
本発明において固形処理剤の溶解および補充の方法としては特に限定はなく、公知の方法を使用することができる。これらの方法としてはたとえば、撹拌機能を有する溶解装置で一定量を溶解し補充する方法、特開平9-80718に記載されているような溶解部分と完成液をストックする部分とを有する溶解装置で溶解し、ストック部から補充する方法、特開平5-119454、同6-19102、同7-261357に記載されているような自動現像機の循環系に処理剤を投入して溶解・補充する方法、溶解槽を内蔵する自動現像機で感光材料の処理に応じて処理剤を投入し溶解する方法などがあるが、このほかの公知のいずれの方法を用いることもできる。また処理剤の投入は、人手で行っても良いし、特開平9-138495に記載されているような開封機構を有する溶解装置や自動現像機で自動開封、自動投入してもよく、作業環境の点からは後者が好ましい。具体的には取り出し口を突き破る方法、はがす方法、切り取る方法、押し切る方法や、特開平6-19102、同6-95331に記載の方法などがある。
【0153】
現像、定着処理が済んだ感光材料は、ついで水洗または安定化処理される(以下特に断らない限り、安定化処理を含めて水洗といい、これらに使用する液を、水または水洗水という。)。水洗に使用される水は、水道水でもイオン交換水でも蒸留水でも安定化液でもよい。これらの補充量は、一般的には感光材料1m2あたり約17リットル〜約8リットルであるが、それ以下の補充量で行うこともできる。特に3リットル以下の補充量(0も含む。すなわち、ため水水洗)では、節水処理が可能となるのみならず、自動現像機設置の配管を不要とすることもできる。水洗を低補充量で行う場合は、特開昭63-18350、同62-287252等に記載のスクイズローラー、クロスオーバーローラーの洗浄槽を設けることがより好ましい。また、少量水洗時に問題となる公害負荷低減や、水垢防止のために種々の酸化剤(たとえばオゾン、過酸化水素、次亜塩素酸ナトリウム、活性ハロゲン、二酸化塩素、炭酸ナトリウム過酸化水素塩など)添加やフィルター濾過を組み合わせても良い。
水洗の補充量を少なくする方法として、古くより多段向流方式(たとえば2段、3段等)が知られており、水洗補充量は感光材料1m2あたり200〜50ミリリットルが好ましい。この効果は、独立多段方式(向流にせず、多段の水洗槽に個別に新液を補充する方法)でも同様に得られる。
【0154】
さらに、本発明の処理方法において水洗工程に水垢防止手段を施しても良い。水垢防止手段としては公知のものを使用することができ、特に限定はしないが、防ばい剤(いわゆる水垢防止剤)を添加する方法、通電する方法、紫外線または赤外線や遠赤外線を照射する方法、磁場をかける方法、超音波処理する方法、熱をかける方法、未使用時にタンクを空にする方法などがある。これらの水垢防止手段は、感光材料の処理に応じてなされても良いし、使用状況に関係なく一定間隔で行われても良いし、夜間など処理の行われない期間のみ施しても良い。またあらかじめ水洗水に施しておいて、これを補充しても良い。さらには、一定期間ごとに異なる水垢防止手段を行うことも、耐性菌の発生を抑える上では好ましい。
防ばい剤としては特に限定はなく公知のものが使用できる。前述の酸化剤の他たとえばグルタルアルデヒド、アミノポリカルボン酸等のキレート剤、カチオン性界面活性剤、メルカプトピリジンオキシド(たとえば2-メルカプトピリジン-N-オキシドなど)などがあり、単独使用でも複数の併用でも良い。
通電する方法としては、特開平3-224685、同3-224687、同4-16280、同4-18980などに記載の方法が使用できる。
このほか、水泡ムラ防止や汚れ転写防止のために、公知の水溶性界面活性剤や消泡剤を添加しても良い。また、感光材料から溶出した染料による汚染防止に、特開昭63-163456に記載の色素吸着剤を水洗系に設置しても良い。
【0155】
水洗工程からのオーバーフロー液の一部または全部は、特開昭60-235133に記載されているように、定着能を有する処理液に混合利用することもできる。また微生物処理(たとえば硫黄酸化菌、活性汚泥処理や微生物を活性炭やセラミック等の多孔質担体に担持させたフィルターによる処理等)や、通電や酸化剤による酸化処理をして、生物化学的酸素要求量(BOD)、化学的酸素要求量(COD)、沃素消費量等を低減してから排水したり、銀と親和性のあるポリマーを用いたフィルターやトリメルカプトトリアジン等の難溶性銀錯体を形成する化合物を添加して銀を沈降させてフィルター濾過するなどし、排水中の銀濃度を低下させることも、自然環境保全の観点から好ましい。
【0156】
また、水洗処理に続いて安定化処理する場合もあり、その例として特開平2-201357、同2-132435、同1-102553、特開昭46-44446に記載の化合物を含有した浴を感光材料の最終浴として使用しても良い。この安定浴にも必要に応じてアンモニウム化合物、Bi,Al等の金属化合物、蛍光増白剤、各種キレート剤、膜pH調節剤、硬膜剤、殺菌剤、防ばい剤、アルカノールアミンや界面活性剤を加えることもできる。
水洗、安定化浴に添加する防ばい剤等の添加剤および安定化剤は、前述の現像、定着処理剤同様に固形剤とすることもできる。
【0157】
本発明に使用する現像液、定着液、水洗水、安定化液の廃液は焼却処分することが好ましい。また、これらの廃液はたとえば特公平7-83867、US5439560等に記載されているような濃縮装置で濃縮液化または固化させてから処分することも可能である。
処理剤の補充量を低減する場合には、処理槽の開口面積を小さくして液の蒸発、空気酸化を防止することが好ましい。ローラー搬送型の自動現像機については米国特許3025779、同3545971などに記載されており、本明細書においては単にローラー搬送型自動現像機として言及する。この自現機は現像、定着、水洗および乾燥の四工程からなっており、本発明の処理方法も、他の工程(たとえば停止工程)を除外しないが、この四工程を踏襲するのが最も好ましい。さらに、現像定着間および/または定着水洗間にリンス浴を設けても良い。
【0158】
本発明の現像処理では、dry to dry で25〜160秒が好ましく、現像および定着時間が40秒以下、好ましくは6〜35秒、各液の温度は25〜50℃が好ましく、30〜40℃が好ましい。水洗の温度および時間は0〜50℃で40秒以下が好ましい。本発明の処理方法によれば、現像、定着および水洗された感光材料は水洗水を絞りきる、すなわちスクイズローラーを経て乾燥しても良い。乾燥は約40〜約100℃で行われ、乾燥時間は周囲の状態によって適宜かえられる。乾燥方法は公知のいずれの方法も用いることができ特に限定はないが、温風乾燥や、特開平4-15534、同5-2256、同5-289294に開示されているようなヒートローラー乾燥、遠赤外線による乾燥などがあり、複数の方法を併用しても良い。
【0159】
【実施例】
以下、本発明を実施例によってさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例1
<ハロゲン化銀乳剤Aの調製>
硝酸銀150gを溶解した硝酸銀水溶液500mlと、粒子形成後の銀1モル当たり2×10-7モルに相当する(NH4)2RhCl5(H2O)及び1×10-7モルに相当するK3IrCl6を含む臭化カリウム44gと塩化ナトリウム34gを溶解したハロゲン塩水溶液500mlを、2gの塩化ナトリウムと0.02gの1,3−ジメチル−2−イミダゾリチオンと0.5gのクエン酸と4mgのベンゼンチオスルホン酸ナトリウムおよび1mgのベンゼンスルフィン酸ナトリウムを1リットルに溶解した2%ゼラチン水溶液に攪拌しながら38℃で20分間ダブルジェット法により添加し、平均粒子サイズ0.21μm、塩化銀含量58モル%の塩臭化銀粒子を得ることにより核形成を行った。続いて、硝酸銀50gを溶解した硝酸銀水溶液200mlと、乳剤全体の銀1モル当たり1×10-5モルに相当するヘキサシアノ鉄(II)酸カリウムを含む臭化カリウム12gと塩化ナトリウム13gを溶解したハロゲン塩水溶液200mlを、ダブルジェット法により10分間かけて添加した。
【0160】
その後、銀1モルあたり1×10-3モルのKI溶液を加えてコンバージョンを行い、常法に従ってフロキュレーション法により水洗した。具体的には、温度を35℃に下げ、下記に示すアニオン性沈降剤−1を3g加え、硫酸を用いてハロゲン化銀が沈降するまでpHを下げた。(pH 3.2±0.2の範囲であった)次に上澄み液を約3リットル除去した(第一水洗)。さらに3リットルの蒸留水を加えてから、ハロゲン化銀が沈降するまで硫酸を加えた。再度上澄み液を3リットル除去した(第二水洗)。第二水洗と同じ操作をさらに1回繰り返し(第三水洗)て水洗・脱塩行程を終了した。水洗・脱塩後の乳剤に、銀1モルあたりゼラチン40gを加えpH5.9、pAg7.5に調整した後、さらに銀1モルあたりベンゼンチオスルホン酸ナトリウム16mgとベンゼンスルフィン酸ナトリウム4mg、チオ硫酸ナトリウム3mg、トリフェニルホスフィンセレニド4mgおよび塩化金酸8mgを加え、55℃で60分間加熱し化学増感を施した。その後、安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン150mgおよび防腐剤としてプロキセル(商品名、ICI Co.,Ltd.製)を100mgを加えた。得られた粒子は平均粒子サイズ0.20μm、変動係数10%、塩化銀含有率60モル%の沃塩臭化銀立方体粒子であった。(最終的に乳剤として、pH=5.9、pAg=7.2、電導度=37μS/m、密度=1.20×10-3kg/m3、粘度=20mPa・sとなった。)
【0161】
<乳剤Bの調製>
硝酸銀75gを溶解した硝酸銀水溶液250mlと、乳剤全体の銀1モル当たり4×10-7モルに相当する(NH4)2RhCl5(H2O)及び1×10-7モルに相当するK3IrCl6を含む臭化カリウム16gと塩化ナトリウム20gを溶解したハロゲン塩水溶液250mlを、4gの塩化ナトリウムと0.02gの1,3−ジメチル−2−イミダゾリチオンと0.5gのクエン酸と4mgのベンゼンチオスルホン酸ナトリウムおよび1mgのベンゼンスルフィン酸ナトリウムを1リットルに溶解した2%ゼラチン水溶液に攪拌しながら45℃で12分間ダブルジェット法により添加し、平均粒子サイズ0.20μm、塩化銀含量70モル%の塩臭化銀粒子を得ることにより核形成を行った。続いて、硝酸銀125gを溶解した硝酸銀水溶液400mlと、臭化カリウム26gと塩化ナトリウム34gを溶解したハロゲン塩水溶液400mlを、ダブルジェット法により20分間かけて添加した。
その後、銀1モルあたり1×10-3モルのKI溶液を加えてコンバージョンを行い、常法に従ってフロキュレーション法により水洗した。具体的な方法は、乳剤Aと同様に行った。水洗・脱塩後の乳剤に、銀1モルあたりゼラチン40gを加え、pH6.0、pAg7.5に調整し、さらに銀1モルあたりベンゼンチオスルホン酸ナトリウム7mgとベンゼンスルフィン酸ナトリウム2mg、塩化金酸8mgおよびチオ硫酸ナトリウム5mgを加え、60℃で60分間加熱し化学増感を施した。その後、安定剤として4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザインデン250mgおよび防腐剤としてプロキセル(商品名、ICI Co.,Ltd.製)を100mgを加えた。得られた粒子は平均粒子サイズ0.28μm、変動係数10%、塩化銀含有率70モル%の沃塩臭化銀立方体粒子であった。(最終的に乳剤として、pH=6.1、pAg=7.5、電導度=46μS/m、密度=1.20×10-3kg/m3、粘度=62mPa・sとなった。)
【0162】
<塗布試料の作成>
下記に示す両面が塩化ビニリデンを含む防湿層下塗りからなるポリエチレンテレフタレートフィルム支持体上に、UL層/ヒドラジン含有EM層/中間層/レドックス化合物含有EM層/保護層の構成となるように塗布して試料を作成した。
以下に各層の調製方法、塗布量および塗布方法を示す。
(UL層)
UL層としてゼラチン(防腐剤としてプロキセル(商品名、ICI Co.,Ltd.製)を含有)0.3g/m2、前記造核促進剤F−30を7.5×10-6モル/m2、ポリエチルアクリレート分散物0.25g/m2、および硬膜剤として1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)エタンを50mg/m2を塗布した。塗布液のpHは5.8に調整した。
(ヒドラジン含有EM層)
<ヒドラジン含有層乳剤塗布液の調製>
乳剤Aに増感色素として銀1モルあたり5×10-4モルの下記構造式(s−1)の化合物を加え、さらに1×10-3モルの臭化カリウム、5×10-4モルの構造式(a)で表されるメルカプト化合物、および構造式(b)で表されるメルカプト化合物、1×10-4モルの構造式(c)で表されるトリアジン化合物、ヒドラジン造核剤−AおよびBを各1×10-4モル添加した。さらに、コロイダルシリカ(日産化学製、商品名 スノーテックスC)を500mg/m2、ポリエチルアクリレートの分散物を500mg/m2塗布されるように加え、ヒドラジン含有層塗布液を調製した。溶液のpHは5.8に調整した。
【0163】
【化26】
【0164】
できあがったハロゲン化銀乳剤塗布液を銀量3.4g/m2、ゼラチン量1.6g/m2となるように塗布した。
【0165】
(中間層)
<中間層塗布液の調製>
防腐剤としてプロキセルを含むゼラチン溶液に、エタンチオスルホン酸ナトリウムを5mg/m2、下記構造式(e)で表される染料を50mg/m2、ハイドロキノンを100mg/m2、5−クロル−8−ヒドロキシキノリンを10mg/m2、ポリエチルアクリレートの分散物を100mg/m2塗布されるように添加し、中間層塗布液を調製した。溶液のpHは7.0に調整した。
中間層はゼラチン1.0g/ m2となるように塗布した。
【0166】
(レドックス化合物含有EM層)
<レドックス化合物含有層乳剤塗布液の調製>
乳剤Bを使用し、増感色素としてレドックス化合物含有層乳剤の銀1モルあたり1×10-4モルの先に示した構造式(s−1)の化合物を添加し、5×10-4モルの構造式(a)で表されるメルカプト化合物、1×10-4モルの構造式(c)で表されるトリアジン化合物を添加し、さらに下記構造式(f)で表される染料を5mg/m2、ポリエチルアクリレートの分散物を100mg/m2、硬膜剤として1,2−ビス(ビニルスルホニルアセトアミド)エタンを50mg/m2塗布されるように添加した。さらにレドックス化合物として表17に示した例示化合物または比較化合物をそれぞれ2.1×10-4mol/m2添加して、レドックス化合物含有層乳剤塗布液を調製した。液のpHは5.4に調整した。
【0167】
この時、レドックス化合物は以下のように調製した乳化物を、60℃で溶解して塗布液に添加した。
(レドックス乳化物の調製)
酢酸エチル30mlに前記のレドックス化合物を8g、p-ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを0.3g、下記構造式(P−1)、(P−2)で表されるオイルを各4g加え、60℃にて溶解し、A液とした。水170gにゼラチンを8.5g、プロキセル(商品名、ICI Co.,Ltd.製)を0.05g加え、60℃にて溶解し、B液とした。A液とB液を混合し、60℃にて高速ホモジナイザーで乳化分散を行った。乳化分散後、60℃減圧条件にて脱溶媒を行い、レドックス化合物の4wt%乳化分散物を得た。
できあがったレドックス化合物含有層乳剤塗布液は銀量0.4g/m2、ゼラチン量0.5g/m2となるように塗布した。
【0168】
(保護層)
ゼラチン0.2g/m2、平均粒子サイズ約3.5μmの不定形なSiO2マット剤50mg/m2、コロイダルシリカ(日産化学製スノーテックスC)60mg/m2、流動パラフィン50mg/m2、塗布助剤として下記構造式(g)で表されるフッ素界面活性剤1mg/m2とp−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩10mg/m2を塗布した。
尚、各層の塗布液は、下記構造式(Z)で表される増粘剤を加え、粘度調整した。
【0169】
【化27】
【0170】
またバック層は、以下に示す処方にて塗布した。
<バック層>
【0171】
【化28】
【0172】
<バック保護層>
ゼラチン 1.1g/m2
ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径2.5μm) 20mg/m2
p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩 15mg/m2
ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム塩 15mg/m2
酢酸ナトリウム 60mg/m2
防腐剤 (プロキセル) 1mg/m2
【0173】
<支持体>
二軸延伸したポリエチレンテレフタレート支持体(厚味100μm)の両面に下記組成の下塗層第1層及び第2層を塗布した。
【0174】
さらに、10質量%のKOHを加え、pH=6に調整した塗布液を乾燥温度180℃2分間で、乾燥膜厚が0.9μmになる様に塗布した。
【0175】
<下塗層第2層>
ゼラチン 1g
メチルセルロース 0.05g
化合物(j) 0.02g
C12H25O(CH2CH2O)10H 0.03g
防腐剤 (プロキセル) 3.5×10-3g
酢酸 0.2g
水を加えて 100g
この塗布液を乾燥温度170℃2分間で、乾燥膜厚が0.1μmになる様に塗布した。
【0176】
【化29】
【0177】
<塗布方法>
上記下塗層を施した支持体上に、まず乳剤面側として支持体に近い側よりUL層、ヒドラジン含有EM層、中間層、レドックス化合物含有EM層、保護層の順に5層を、35℃に保ちながらスライドビードコーター方式により硬膜剤液を加えながら同時重層塗布し、冷風セットゾーン(5℃)を通過させた後、乳剤面とは反対側に支持体に近い側よりバック層、バック保護層の順に、カーテンコーター方式により硬膜剤液を加えながら同時重層塗布し、冷風セットゾーン(5℃)した。各々のセットゾーンを通過した時点では、塗布液は充分なセット性を示した。引き続き乾燥ゾーンにて両面を同時に下記乾燥条件にて乾燥した。なお、バック面側を塗布した後、巻き取りまではローラー、その他には一切無接触の状態で搬送した。この時の塗布速度は120m/minであった。
【0178】
<乾燥条件>
セット後、水/ゼラチンの質量比が800%となるまで30℃の乾燥風で乾燥し、800〜200%を35℃30%RH(相対湿度)の乾燥風で乾燥させ、そのまま風を当て、表面温度34℃となった時点(乾燥終了と見なす)より30秒後に、48℃2%RHの空気で1分間乾燥した。この時、乾燥時間は乾燥開始〜水/ゼラチン比800%までが50秒、800〜200%までが35秒、200%〜乾燥終了までが5秒である。
【0179】
この感光材料を25℃55%RHで巻き取り、次いで同環境下で裁断し、6時間調湿したバリアー袋に、25℃50%RHで8時間調湿した後、25℃50%RHで2時間調湿してある厚紙と共に密閉し、表17に示す試料を作成した。
バリアー袋内の湿度を測定したら53%RHであった。また、得られた試料の乳剤層側の膜面pHは5.5〜5.8であった。
【0180】
評価は以下の方法で行った。
<網階調、網点品質>
得られた試料を、ステップウェッジを通して150線/インチのコンタクトスクリーングレイスキャナーネガNo.2(商品名、大日本スクリーン製造株式会社製)と乳剤面を密着させてタングステン光源で露光した。
そして下記処方の現像液(A)および定着液(B)を使用し、FG−680AG自動現像機(商品名、富士写真フイルム株式会社製)にて35℃30秒の現像時間で処理した。
【0181】
使用にあたっては、母液は上記濃縮液2部に対して水1部の割合で希釈し母液のpHは10.65であり、補充液は上記濃縮液4部に対して水3部の割合で希釈し補充液のpHは10.62であった。
【0182】
定着液(B)処方 濃縮液1リットルあたりの処方を示す。
チオ硫酸アンモニウム 360g
エチレンジアミン・四酢酸・2Na・2水塩 0.09g
チオ硫酸ナトリウム・5水塩 33.0g
メタ重亜硫酸ナトリウム 57.0g
水酸化ナトリウム 37.2g
酢酸(100%) 90.0g
酒石酸 8.7g
グルコン酸ナトリウム 5.1g
硫酸アルミニウム 25.2g
pH 4.85
使用にあたっては、上記濃縮液1部に対して水2部の割合で希釈する。使用液のpHは4.8である。
【0183】
網階調
得られた網点画像の網階調(95%の網点面積を与える露光量と5%の網点面積を与える露光量の比率を対数表示したもの)を測定した。数値が大きいほど露光のラチチュードが広く、画像の再現性が良好であることを示している。
網点品質
網点を100倍のルーペで観察し、形成された網点の品質を評価した。
「5」は網点濃度が高く、エッジシャプネス(キレ)が良好であり、「1」はコントラストが低くキレの劣る網点であることを示す。「3」は写真製版の原稿として実用しうるレベルの網点品質である。
【0184】
<実技濃度の評価>
富士写真フイルム(株)製の写植ペーパーPR−100WP(商品名)を用いて幅40μmの線の原稿を作成した。この原稿を大日本スクリーン(株)製の台紙撮りカメラ コンパニカC−690(商品名)を使用して塗布サンプルに撮影し、前記の処理条件で現像処理を行った。得られたサンプルの線が40μmになるときの黒ベタ部の濃度を実技Dmaxとした。
また、疲労液での実技濃度は前記現像液の代わりに下記疲労液を用いて処理し求めた。但し、露光量は前記現像液でサンプルの線が40μmとなる値を用いた。
疲労液の調製方法
前記現像液で、1日あたり80%黒化の富士写真フイルム製スキャナフィルムHL(商品名)を、大全サイズ(50.8cm×61cm)あたり50mlを補充しながら大全サイズ300枚処理し、これを4日間連続して行うことにより、大量のフィルムを処理することによってpHが10.2に低下し、臭素イオン濃度が増加した現像液が得られた。
【0185】
得られた結果を表17に示した。
本発明の感光材料試料(No,4〜11)は、網階調、網点品質に優れている。また、疲労液における実技濃度も高く、処理安定性が良好である。特に、例示化合物−1、2、4、5、11を使用した試料No,4〜8が優れている。
一方、比較化合物を使用した試料No,1〜3はいずれも網点品質が劣り、疲労液での実技濃度が低く実用上問題となるレベルである。
なお、感光材料試料No,1〜11は、高感度、高コントラストであり、かつ、上記疲労液によって現像しても感度、γの変動が小さかった。
【0186】
【表17】
【0187】
【化30】
【0188】
実施例2
実施例1と同様の実験を下記の固形現像液(C)および固形定着剤(D)を用いて行ったところ、実施例1と同様に本発明の構成の感光材料試料が良好な性能を示した。
【0189】
【0190】
ここで、原料形態で原末は一般的な工業製品のままで使用し、アルカリ金属塩のビーズは市販品を用いた。
原料形態がブリケットであるものは、ブリケッティングマシンを用いて加圧圧縮して板状にしたものを破砕して用いた。少量成分に関しては、各成分をブレンドしてからブリケットにした。
以上の処理剤は、10リットル分を高密度ポリエチレン製の折り畳み可能な容器に充填し、取り出し口をアルミシールで封印した。溶解および補充には特開平9−80718号、特開平9−138495号に開示されている自動開封機構を有する溶解補充装置を使用した。
【0191】
固形定着剤(D)処方
A剤(固形)
チオ硫酸アンモニウム(コンパクト) 125.0g
無水チオ硫酸ナトリウム(原末) 19.0g
メタ重亜硫酸ナトリウム(原末) 18.0g
無水酢酸ナトリウム(原末) 42.0g
B剤(液体)
エチレンジアミン・四酢酸・2Na・2水塩 0.03g
酒石酸 2.9g
グルコン酸ナトリウム 1.7g
硫酸アルミニウム 8.4g
硫酸 2.1g
水に溶かして50ミリリットルとする。
A剤、B剤を水に溶かして1リットルに調液したものを定着液(D)とした。
pHは4.8であった。
【0192】
チオ硫酸アンモニウム(コンパクト)はスプレードライ法により作成したフレーク品をローラーコンパクターで加圧圧縮し、不定形の4〜6mm程度のチップに破砕したものを用い、無水チオ硫酸ナトリウムとブレンドした。その他の原末は一般的な工業製品を使用した。
A剤、B剤とも10リットル分を高密度ポリエチレン製の折り畳み可能な容器に充填し、A剤の取り出し口はアルミシールで封印した。B剤容器の口部は、スクリューキャップで封をした。溶解および補充には特開平9−80718号、特開平9−138495号に開示されている、自動開封機構を有する溶解補充装置を使用した。
【0193】
実施例3
実施例1の現像液(A)の代わりに、下記現像液(E)を用いて実施例1と同様の実験を行ったところ、実施例1と同様に本発明の構成の感光材料試料が良好な性能を示した。
【0194】
以下に現像液(E)の濃縮液1リットルあたりの組成を示す。
使用にあたっては、上記濃縮液1部に対して水2部の割合で希釈する。使用液のpHは10.5である
【0195】
実施例4
実施例1の本発明の感光材料試料の画質を下記の方法で評価したところ、良好な性能が得られた。
【0196】
1.目伸し画質の評価
(1)原稿の作成
富士写真フイルム株式会社製モノクロスキャナーSCANART30及び専用感光材料SF−100(いずれも商品名)を使って、網点よりなる人物の透過画像及び網パーセントを段階的に変えたステップウェッジを作成した。この時スクリーン線数は150線/インチで行った。
(2)撮影
大日本スクリーン(株)製製版カメラファインズームC−880(商品名、カメラ一体型自現機LD−281Q処理)に上記原稿を目伸ばし倍率が等倍にある様にセットした後Xeランプを照射することにより評価サンプルに露光を与えた。この時原稿のステップウェッジの90%の部分が10%となるようにして露光を行った。
(3)評価
(2)の様に露光量を調節して小点側(ハイライト部)の網点%を合わせたサンプルのシャドウ部の階調再現性(網点のつぶれ難さ)を目視評価した。
【0197】
2.コピードットの評価
(1)原稿の作成
富士写真フイルム株式会社製モノクロスキャナーSCANART30及び専用感光材料SP−100WP(いずれも商品名)を使って、網パーセントを段階的に変えたステップウェッジを作成した。露光時のスクリーン線数は150線/インチで行った。
(2)撮影
大日本スクリーン(株)製製版カメラC−690(オートコンパニカ)に上記原稿および試料を所定の位置にセットし、反射原稿に光を照射し撮影した。この時、原稿上でステップウェッジの80%の部分がサンプル上で20%となるように調整して露光を行った。そして実施例1の現像液(A)および定着液(B)を使用し、FG−460A自動現像機(商品名、富士写真フイルム株式会社製)にて35℃30秒の現像時間で処理した。
(3)評価
(2)に記載の如く露光時間を調節して小点側の網点%を合わせたサンプルのシャドウ部の階調再現性(網点のつぶれ難さ)を目視評価した。
【0198】
【発明の効果】
本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、高感度、高コントラストで高い最高濃度を有し、露光のラチチュードが広くオリジナル再現性に優れる。特に、本発明のハロゲン化銀写真感光材料は、超精密画像についても良好なオリジナル再現性を有するという顕著な効果を奏する。さらに、疲労した現像液などを用いて現像しても、上記特性の変動が少なく、安定した画像が得られるという優れた効果を奏する。
このハロゲン化銀写真感光材料を用いる本発明の処理方法によれば、pH11.0以下の現像液を用いて、上記のオリジナル再現性に優れた安定な超硬調画像が実現される。
Claims (7)
- 下記一般式(1)で表される化合物の少なくとも1種を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
一般式(1)
- 前記のPUGで表されるヘテロ環基が、インダゾール類の基であることを特徴とする請求項1に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
- 前記の、ph基に直接もしくは間接的に置換される解離性基が、少なくとも1つの電子吸引性基を置換基として有するベンゼンスルホンアミド基であることを特徴とする請求項1または2に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
- 前記一般式(I)で表される化合物が、バラスト基として、炭素数9以上の、アルキル基(またはアルキレン基)を部分構造として有する基を少なくとも1つ有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
- 少なくとも1種の造核剤を含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
- 少なくとも1種の造核促進剤を含有することを特徴とする請求項5に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載のハロゲン化銀写真感光材料を、画像露光後、pH9.0〜pH11.0の現像液を用いて現像処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000245050A JP4191882B2 (ja) | 2000-08-11 | 2000-08-11 | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
US09/925,372 US6521389B2 (en) | 2000-08-11 | 2001-08-10 | Silver halide photographic light-sensitive material and processing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000245050A JP4191882B2 (ja) | 2000-08-11 | 2000-08-11 | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002055408A JP2002055408A (ja) | 2002-02-20 |
JP4191882B2 true JP4191882B2 (ja) | 2008-12-03 |
Family
ID=18735642
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000245050A Expired - Fee Related JP4191882B2 (ja) | 2000-08-11 | 2000-08-11 | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6521389B2 (ja) |
JP (1) | JP4191882B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7790006B2 (en) * | 2002-05-03 | 2010-09-07 | Rosemount Analytical Inc. | Free chlorine sensor |
DE102016113203B4 (de) * | 2016-07-18 | 2018-05-30 | Papierfabrik August Koehler Se | Wärmeempfindliches aufzeichnungsmaterial |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3023099A1 (de) * | 1979-06-21 | 1981-01-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | Verfahren zur bildung eines negativen punktbildes |
US4459347A (en) * | 1983-05-11 | 1984-07-10 | Eastman Kodak Company | Adsorbable arylhydrazides and applications thereof to silver halide photography |
US5134055A (en) | 1989-04-21 | 1992-07-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic materials |
JP2757063B2 (ja) * | 1990-05-14 | 1998-05-25 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JP2725088B2 (ja) | 1991-01-17 | 1998-03-09 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
-
2000
- 2000-08-11 JP JP2000245050A patent/JP4191882B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-08-10 US US09/925,372 patent/US6521389B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20020132179A1 (en) | 2002-09-19 |
JP2002055408A (ja) | 2002-02-20 |
US6521389B2 (en) | 2003-02-18 |
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JP2001188312A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
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A621 | Written request for application examination |
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|
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110926 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees | ||
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